JPH0776774A - 基板保持装置 - Google Patents

基板保持装置

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Publication number
JPH0776774A
JPH0776774A JP17985193A JP17985193A JPH0776774A JP H0776774 A JPH0776774 A JP H0776774A JP 17985193 A JP17985193 A JP 17985193A JP 17985193 A JP17985193 A JP 17985193A JP H0776774 A JPH0776774 A JP H0776774A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
fluid medium
vapor pressure
vacuum
high vapor
Prior art date
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Pending
Application number
JP17985193A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasunori Ando
靖典 安東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
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Publication of JPH0776774A publication Critical patent/JPH0776774A/ja
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 流動性媒体を使用していて冷却能力が大き
く、かつ流動性媒体が漏れ出た場合に速やかな検出が可
能であり、しかも真空装置への影響の少ない基板保持装
置を提供する。 【構成】 この基板保持装置は、真空容器30内に設け
られた基板保持部24と、真空容器30に取り付けられ
た検出器26とを備えている。基板保持部24は、基板
2を支持するためのものであって冷媒8によって冷却さ
れる基板台4と、基板2の周縁部をこの基板台4に向け
て押さえ付ける基板押さえ14と、基板台4上に当該基
板台4と基板2との間に挟まれるように設けられてい
て、相対的に低蒸気圧の流動性媒体20中に相対的に高
蒸気圧の流動性媒体22を少量混入したものをフレキシ
ブルな袋18内に封入して成る冷却パッド16とを備え
ている。検出器26は、基板保持部24の冷却パッド1
6内の高蒸気圧の流動性媒体22が真空容器30内に漏
れ出たことを検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばイオン注入装
置、スパッタリング装置、ドライエッチング装置、電子
ビーム照射装置等のように、真空中または減圧された雰
囲気中で基板にイオンビーム、プラズマ、電子ビーム等
のエネルギーを有する粒子を入射させる場合に用いられ
る基板保持装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体、液晶ディスプレイ等の基板の表
面に、真空中または減圧された雰囲気中で、イオン注
入、エッチング等の処理を施す際に、イオンビームやプ
ラズマ等によって基板に投入される電力による基板の温
度上昇を抑えるために、図2に示すような基板保持装置
が提案されている。
【0003】この基板保持装置は、フレキシブルで薄い
シート10を張った基板台4上に基板2を配置し、加圧
した水、真空ポンプ油等の流動性媒体12によってこの
シート10を基板2の裏面に密着させることにより、基
板2に対する接触面積を改善し、熱抵抗の減少を図った
ものである。基板2の周縁部は基板押さえ14によって
基板台4に向けて押さえ付けられる。基板台4は、内部
に冷媒通路6を有していて、そこに外部から冷却水のよ
うな冷媒8を流すことによって冷却される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記基板保
持装置においては、基板2との接触によるシート10の
摩耗や流動性媒体12の異常な圧力上昇によってシート
10が破れる可能性があり、シート10が破れると流動
性媒体12が真空雰囲気中に多量に漏れ出すため、真空
ポンプ等の真空装置が受ける被害が大きいという問題が
ある。
【0005】しかも、流動性媒体12が雰囲気中に漏れ
出たことを検出する手段が講じられていないので、その
早期発見ができないという問題もある。
【0006】そこでこの発明は、流動性媒体を使用して
いて冷却能力が大きく、かつ流動性媒体が漏れ出た場合
に速やかな検出が可能であり、しかも真空装置への影響
の少ない基板保持装置を提供することを主たる目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の基板保持装置は、基板を支持するための
ものであって冷媒によって冷却される基板台と、基板の
縁をこの基板台に向けて押さえ付ける基板押さえと、基
板台上に当該基板台と基板との間に挟まれるように設け
られていて、相対的に低蒸気圧の流動性媒体中に相対的
に高蒸気圧の流動性媒体を少量混入したものをフレキシ
ブルな袋内に封入して成る冷却パッドとを有し、真空容
器内に設けられた基板保持部と、この基板保持部の冷却
パッド内の相対的に高蒸気圧の流動性媒体が真空容器内
に漏れ出たことを検出する検出器とを備えることを特徴
とする。
【0008】
【作用】流動性媒体をフレキシブルな袋内に封入した冷
却パッドを基板台と基板との間に挟み込むことにより、
冷却パッド内の流動性媒体は等方的な圧力になるように
自由に変形する。その結果、冷却パッドは基板の面内で
一様な厚みとなり、均一な冷却能力を得ることができ
る。しかも、冷却パッドの表面は、基板や基板台の凹凸
に応じた変形をするので、基板面および基板台面に対す
る接触面積が大きく、従って非常に大きい冷却能力が得
られる。
【0009】また、万一、冷却パッドの袋が破損して流
動性媒体が真空容器内に漏れ出た場合、高蒸気圧の流動
性媒体が気化して雰囲気中に拡散するので、それを検出
器によって速やかに検出することができる。
【0010】しかも、高蒸気圧の流動性媒体は少量しか
混入していないので、漏れ出るものの殆どは低蒸気圧の
流動性媒体であり、これが真空容器内に漏れても、真空
装置への影響は殆どない。なぜなら、低蒸気圧の流動性
媒体は、真空雰囲気中に漏れ出ても飛散せずに漏れ出た
場所に止まっているからである。
【0011】
【実施例】図1は、この発明の一実施例に係る基板保持
装置を示す断面図である。この基板保持装置は、図示し
ない真空ポンプによって真空排気される真空容器30内
に設けられた基板保持部24と、真空容器30に取り付
けられた検出器26とを備えている。
【0012】基板保持部24は、前述したような基板2
を支持するための基板台4と、基板2の縁を基板台4に
向けて押さえ付ける基板押さえ14と、基板4上に、当
該基板台4と押さえ付けられた基板2との間に挟まれる
ように設けられた冷却パッド16とを備えている。
【0013】基板台4は、内部に冷媒通路6を有してい
て、そこに外部から冷却水、代替フロン等の冷媒8を流
すことによって冷却される。
【0014】基板台4は、この実施例では基板2を1枚
保持するものであるが、大きなディスク状であってその
周縁部に複数枚の基板2を保持するようなもの等でも良
い。
【0015】基板押さえ14は、この実施例では環状を
していて基板2の周縁部を押さえ付けるものであるが、
基板2の縁を複数個所で押さえ付けるもの等でも良い。
【0016】冷却パッド16は、相対的に低蒸気圧の流
動性媒体20中に相対的に高蒸気圧の流動性媒体22を
少量混入したものをフレキシブルな袋18内に封入した
ものである。
【0017】低蒸気圧の流動性媒体20には、シリコー
ングリースを主成分とする真空用グリースを用いるのが
好ましい。真空用グリースは、蒸気圧が低く、真空雰囲
気中に入れても蒸発せず、従って雰囲気の真空度低下を
もたらさないグリースである。
【0018】高蒸気圧の流動性媒体22は、例えば水
素、窒素、希ガス(例えばヘリウム)等の気体でも良い
し、エチルアルコール、水等の液体でも良い。
【0019】低蒸気圧の流動性媒体20中に混入する高
蒸気圧の流動性媒体22の量は、検出器26によって検
出できる範囲でできるだけ少量にするのが好ましい。こ
れは、高蒸気圧の流動性媒体22の漏れによる真空装置
や基板2への影響をできる限り少なくするためである。
【0020】袋18は、例えばフッ素樹脂フィルム、ポ
リイミドフィルム等から成るフレキシブルなシートを袋
状に密閉することによって作られている。
【0021】冷却パッド16は、基板台4上でずれない
ように、接着剤等を用いて基板台4上に固定しておくの
が好ましい。
【0022】検出器26は、冷却パッド16内の高蒸気
圧の流動性媒体22が真空容器30内に漏れ出たことを
検出するものであり、この実施例では、真空容器30内
のガス分子の分圧を測定する四重極質量分析器を用いて
いる。
【0023】上記基板保持部24においては、流動性媒
体20、22をフレキシブルな袋18内に封入した冷却
パッド16を基板台4と基板2との間に挟み込むことに
より、冷却パッド16内の流動性媒体20、22は等方
的な圧力になるように自由に変形する。その結果、冷却
パッド16は基板2の面内で一様な厚みとなり、均一な
冷却能力を得ることができる。しかも、冷却パッド16
の表面は、基板2や基板台4の凹凸に応じた変形をする
ので、基板面および基板台面に対する接触面積が大き
く、従って非常に大きい冷却能力が得られる。
【0024】また、万一、冷却パッド16の袋18が破
損して流動性媒体20、22が真空容器30内に漏れ出
た場合、高蒸気圧の流動性媒体22が気化して雰囲気中
に拡散するので、それを検出器26によって速やかに検
出することができる。
【0025】しかも、高蒸気圧の流動性媒体22は少量
しか混入していないので、漏れ出るものの殆どは低蒸気
圧の流動性媒体20であり、これが真空容器30内に漏
れても、真空ポンプ等の真空装置や基板2への影響は殆
どない。なぜなら、低蒸気圧の流動性媒体20は、真空
雰囲気中に漏れ出ても飛散せずに漏れ出た場所に止まっ
ているからである。
【0026】この基板保持装置によれば、上記のように
大きな冷却能力を得ることができるので、半導体、液晶
ディスプレイ等の基板表面に、イオン注入、エッチング
等の処理を施す際に、イオンビームやプラズマによって
基板に投入される電力による基板の温度上昇を効果的に
抑えることができる。その結果、従来の半導体処理プロ
セスで使用される種々の処理プロセスを、高い処理速度
の下で使用することができる。
【0027】例えば、イオン注入時のイオン電流密度を
上げることによる注入時間の短縮が可能になる。また、
基板の温度上昇を抑えることで、レジストの使用が可能
であり、また、イオン注入部の不要な多結晶化を抑制す
ることができる。また、高速のエッチングのためにプラ
ズマ密度を増加させることもできる。基板の温度上昇が
大きいと、レジストの使用ができず、そのためにメタル
をレジストの代わりに用いると、イオン注入の前工程お
よび後工程を変えなければならず、また素子の構造も変
えなければならないが、この基板保持装置を用いればレ
ジストの使用が可能であるので、そのような前後工程や
素子構造を変えることなく処理能力の向上を図ることが
できる。
【0028】次に、実験例を二つ説明する。
【0029】(実験例1)冷却パッド16として、フッ
素樹脂フィルム製の袋18内に、低蒸気圧の流動性媒体
20としてシリコーングリースを主成分とする真空用グ
リースを、高蒸気圧の流動性媒体22としてヘリウムガ
スをそれぞれ封入したものを用いた。また、検出器26
として四重極質量分析器を用いた。正常時に真空容器3
0内の全圧が5×10-7Torrであり、そのときの四
重極質量分析器で測定したヘリウムの分圧が1×10
-10 Torr(検出限界)以下であったのに対して、袋
18が破損したときのヘリウムの分圧は、破損状況によ
り、10-7Torr〜10-4Torr程度の範囲で検出
することができた。また、漏れ出たヘリウムによる真空
装置への影響はなかった。
【0030】(実験例2)冷却パッド16として、フッ
素樹脂フィルム製の袋18内に、低蒸気圧の流動性媒体
20としてシリコーングリースを主成分とする真空用グ
リースを、高蒸気圧の流動性媒体22としてエチルアル
コールをそれぞれ封入したものを用いた。また、検出器
26として四重極質量分析器を用いた。正常時に真空容
器30内の全圧が5×10-7Torrであり、そのとき
の四重極質量分析器で測定した炭化水素の分圧が1×1
-8Torr台であったのに対して、袋18が破損した
ときの炭化水素の分圧は、破損状況により、10-6To
rr〜10-3Torr程度の範囲で検出することができ
た。また、漏れ出たエチルアルコールによる真空装置へ
の影響はなかった。
【0031】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、流動性
媒体をフレキシブルな袋内に封入した冷却パッドを基板
台と基板との間に介在させるようにしており、冷却パッ
ド内の流動性媒体は等方的な圧力になるように自由に変
性するので、冷却パッドは基板の面内で一様な厚みとな
り、均一な冷却能力を得ることができる。しかも、冷却
パッドの表面は、基板や基板台の凹凸に応じた変形をす
るので、基板面および基板台面に対する接触面積が大き
く、従って非常に大きい冷却能力が得られる。
【0032】また、万一、冷却パッドの袋が破損して流
動性媒体が真空容器内に漏れ出た場合、高蒸気圧の流動
性媒体が気化して雰囲気中に拡散するので、それを検出
器によって速やかに検出することができる。
【0033】しかも、高蒸気圧の流動性媒体は少量しか
混入していないので、漏れ出るものの殆どは低蒸気圧の
流動性媒体であり、それが真空容器内に漏れても、飛散
さずに漏れ出た場所に止まっているので、真空装置への
影響は殆どない。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係る基板保持装置を示す
断面図である。
【図2】従来の基板保持装置の一例を示す断面図であ
る。
【符号の説明】
2 基板 4 基板台 8 冷媒 14 基板押さえ 16 冷却パッド 18 袋 20 低蒸気圧の流動性媒体 22 高蒸気圧の流動性媒体 24 基板保持部 26 検出器 30 真空容器

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を支持するためのものであって冷媒
    によって冷却される基板台と、基板の縁をこの基板台に
    向けて押さえ付ける基板押さえと、基板台上に当該基板
    台と基板との間に挟まれるように設けられていて、相対
    的に低蒸気圧の流動性媒体中に相対的に高蒸気圧の流動
    性媒体を少量混入したものをフレキシブルな袋内に封入
    して成る冷却パッドとを有し、真空容器内に設けられた
    基板保持部と、この基板保持部の冷却パッド内の相対的
    に高蒸気圧の流動性媒体が真空容器内に漏れ出たことを
    検出する検出器とを備えることを特徴とする基板保持装
    置。
JP17985193A 1993-06-24 1993-06-24 基板保持装置 Pending JPH0776774A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008032627A1 (en) 2006-09-11 2008-03-20 Ulvac, Inc. Dry etching method
WO2019183023A1 (en) * 2018-03-19 2019-09-26 Tokyo Electron Limited Substrate holding apparatus and method for shape metrology

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