JPH0777813A - 自動アライメント装置 - Google Patents
自動アライメント装置Info
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- JPH0777813A JPH0777813A JP24875893A JP24875893A JPH0777813A JP H0777813 A JPH0777813 A JP H0777813A JP 24875893 A JP24875893 A JP 24875893A JP 24875893 A JP24875893 A JP 24875893A JP H0777813 A JPH0777813 A JP H0777813A
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Links
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 26
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 74
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract 1
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Landscapes
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ダイシングするウェハーを効率よく、かつ高
い精度でアライメントできる半導体ウェハーの自動アラ
イメント装置を提供する。 【構成】 ウェハー16はこの装置に搬入され右から左
へと移動する途中で、マクロカメラ20、セミマクロカ
メラ26、ミクロカメラ28という三つの異なる倍率の
カメラによって順次その画像が取り込まれ、各段階でそ
れぞれの精度に従ったアライメントがなされる。マクロ
アライメントではウェハーの全体形状についてのアライ
メントがなされ、セミマクロアライメントではカメラの
中心から最も近いグリッドをカメラの中心に一致させ、
各グリッドのアドレスを特定、ミクロアライメントでは
グリッドに対してのアライメントが行われる。このよう
に順次倍率を高めてアライメントを行うことにより、効
率的かつ正確な位置合わせが可能となる。
い精度でアライメントできる半導体ウェハーの自動アラ
イメント装置を提供する。 【構成】 ウェハー16はこの装置に搬入され右から左
へと移動する途中で、マクロカメラ20、セミマクロカ
メラ26、ミクロカメラ28という三つの異なる倍率の
カメラによって順次その画像が取り込まれ、各段階でそ
れぞれの精度に従ったアライメントがなされる。マクロ
アライメントではウェハーの全体形状についてのアライ
メントがなされ、セミマクロアライメントではカメラの
中心から最も近いグリッドをカメラの中心に一致させ、
各グリッドのアドレスを特定、ミクロアライメントでは
グリッドに対してのアライメントが行われる。このよう
に順次倍率を高めてアライメントを行うことにより、効
率的かつ正確な位置合わせが可能となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば多数の集積回路
(IC)が形成された半導体ウェハーからそれぞれのI
Cチップをダイシングする際に、半導体ウェハーを所定
の方向に自動的にアライメントするための自動アライメ
ント装置に関するものである。
(IC)が形成された半導体ウェハーからそれぞれのI
Cチップをダイシングする際に、半導体ウェハーを所定
の方向に自動的にアライメントするための自動アライメ
ント装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路技術の初期の段階では、
半導体ウェハー上のダイシング溝(加工溝)を人間が直
視してアライメントできるだけのチップ同士の間隔があ
ったが、半導体ウェハーの微細化が進むに従ってチップ
間隔及びダイシング加工可能な幅も狭まってきた。この
ためアライメントにも高い精度が要求されるようにな
り、顕微鏡などで拡大した画像を二値化し、パターン認
識ソフトなどで画像処理することが一般的となってい
る。
半導体ウェハー上のダイシング溝(加工溝)を人間が直
視してアライメントできるだけのチップ同士の間隔があ
ったが、半導体ウェハーの微細化が進むに従ってチップ
間隔及びダイシング加工可能な幅も狭まってきた。この
ためアライメントにも高い精度が要求されるようにな
り、顕微鏡などで拡大した画像を二値化し、パターン認
識ソフトなどで画像処理することが一般的となってい
る。
【0003】このように自動的にアライメントを行う装
置には次のようなものがある。一つは、まず人間が目視
でウェハーをアライメント用テーブル上で大まかに位置
合わせを行い、次に顕微鏡などでウェハーの一部を拡大
し得られた画像を処理して自動的に精密な位置合わせを
行う装置である。このような装置は、前半のおおまかか
な位置合わせが人間の手作業で行われる点で完全な自動
装置とは言えない。また別の装置では、まずウェハー全
体の画像を取り込み、ウェハーに設けられたオリエーテ
ーションフラット(オリフラ)などを利用してこの画像
を処理して大まかな位置合わせを行い、次に倍率を上げ
て細かいパターンを認識して高い精度で位置合わせを行
うものがある。このような方法及び装置の例が特開平3
−287347(特願平2−87867)、特開平4−
35845(特願平2−140049)、特開平4−3
5846(特願平2−140050)などに示されてい
る。
置には次のようなものがある。一つは、まず人間が目視
でウェハーをアライメント用テーブル上で大まかに位置
合わせを行い、次に顕微鏡などでウェハーの一部を拡大
し得られた画像を処理して自動的に精密な位置合わせを
行う装置である。このような装置は、前半のおおまかか
な位置合わせが人間の手作業で行われる点で完全な自動
装置とは言えない。また別の装置では、まずウェハー全
体の画像を取り込み、ウェハーに設けられたオリエーテ
ーションフラット(オリフラ)などを利用してこの画像
を処理して大まかな位置合わせを行い、次に倍率を上げ
て細かいパターンを認識して高い精度で位置合わせを行
うものがある。このような方法及び装置の例が特開平3
−287347(特願平2−87867)、特開平4−
35845(特願平2−140049)、特開平4−3
5846(特願平2−140050)などに示されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、例えば高い
精度のアライメントの前の大まかな位置合わせを人間が
行う装置では、完全に自動化されたものではないため、
目標となる認識位置が顕微鏡の視野内にない場合には認
識位置を探すのに時間がかかり、作業効率が悪いという
問題がある。また、顕微鏡による拡大のため視野が狭く
なり、更に種々のゴミや異物の混入、幾何模様の不良等
による影響を受け易い。このため各々のウェハーに対し
て専用的な認識ソフトプログラムを用意しなければなら
ず、汎用性に欠けるという欠点がある。
精度のアライメントの前の大まかな位置合わせを人間が
行う装置では、完全に自動化されたものではないため、
目標となる認識位置が顕微鏡の視野内にない場合には認
識位置を探すのに時間がかかり、作業効率が悪いという
問題がある。また、顕微鏡による拡大のため視野が狭く
なり、更に種々のゴミや異物の混入、幾何模様の不良等
による影響を受け易い。このため各々のウェハーに対し
て専用的な認識ソフトプログラムを用意しなければなら
ず、汎用性に欠けるという欠点がある。
【0005】また、大まかな位置合わせを自動的に行う
装置であっても、従来のものは同一の場所で大まかな位
置合わせとその後の細かい位置合わせを行っており、そ
の際のレンズの倍率の切換えなどは手作業によってい
た。また、倍率の切換えの際の焦点合わせのためにレン
ズを昇降させると、像が膨らんだりして正確な画像を得
ることができないという問題がある。更に、従来の装置
では、レンズの収差の問題なども生じる。加えて、大ま
かな位置合わせとその後の細かい位置合わせとが特に関
連付けられてはおらず、これらの各位置合わせの関連付
けは人間が手作業で行わなければならなかったため、や
はり作業効率の向上が難しいという問題があった。
装置であっても、従来のものは同一の場所で大まかな位
置合わせとその後の細かい位置合わせを行っており、そ
の際のレンズの倍率の切換えなどは手作業によってい
た。また、倍率の切換えの際の焦点合わせのためにレン
ズを昇降させると、像が膨らんだりして正確な画像を得
ることができないという問題がある。更に、従来の装置
では、レンズの収差の問題なども生じる。加えて、大ま
かな位置合わせとその後の細かい位置合わせとが特に関
連付けられてはおらず、これらの各位置合わせの関連付
けは人間が手作業で行わなければならなかったため、や
はり作業効率の向上が難しいという問題があった。
【0006】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、大まかな位置合わせから細かい位置合わせに至
るまでの作業を完全に自動化することができ、しかもそ
の位置合わせを高い精度で行うことが可能となる自動ア
ライメント装置を提供することを目的とするものであ
る。
であり、大まかな位置合わせから細かい位置合わせに至
るまでの作業を完全に自動化することができ、しかもそ
の位置合わせを高い精度で行うことが可能となる自動ア
ライメント装置を提供することを目的とするものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
めの本発明に係る自動アライメント装置は、被処理物の
画像を取り込む低倍率、中倍率、高倍率の少なくとも三
つの光学手段と、該三つの光学手段のうち低い倍率の光
学手段から高い倍率の光学手段へと順次前記被処理物を
搬送する手段と、前記被処理物が搬送される途中で前記
各光学手段によって得られた画像に基づいて前記被処理
物の位置合わせを行う制御手段とを有することを特徴と
するものである。
めの本発明に係る自動アライメント装置は、被処理物の
画像を取り込む低倍率、中倍率、高倍率の少なくとも三
つの光学手段と、該三つの光学手段のうち低い倍率の光
学手段から高い倍率の光学手段へと順次前記被処理物を
搬送する手段と、前記被処理物が搬送される途中で前記
各光学手段によって得られた画像に基づいて前記被処理
物の位置合わせを行う制御手段とを有することを特徴と
するものである。
【0008】前記制御手段は、倍率の低い光学手段によ
って得られた画像情報を参照して倍率の高い光学手段に
よる位置合わせを行うものである。
って得られた画像情報を参照して倍率の高い光学手段に
よる位置合わせを行うものである。
【0009】
【作用】本発明は前記の構成によって、低倍率、中倍
率、高倍率という三つの光学手段を設け、被処理物をこ
の順序で搬送してそれぞれの位置で画像情報を得て、そ
の画像情報に基づいて位置合わせを行うことにより、被
処理物の形状全体にわたる視野、中程度の視野、細かい
視野とにより徐々に精度の高い位置合わせを行うことが
でき、これにより被処理物上の特定の位置を自動的にか
つ迅速に認識でき、したがってアライメント作業の効率
化を図ることができる。
率、高倍率という三つの光学手段を設け、被処理物をこ
の順序で搬送してそれぞれの位置で画像情報を得て、そ
の画像情報に基づいて位置合わせを行うことにより、被
処理物の形状全体にわたる視野、中程度の視野、細かい
視野とにより徐々に精度の高い位置合わせを行うことが
でき、これにより被処理物上の特定の位置を自動的にか
つ迅速に認識でき、したがってアライメント作業の効率
化を図ることができる。
【0010】また、制御手段は、倍率の低い光学手段に
よって得られた画像情報を参照して倍率の高い光学手段
による位置合わせを行うことにより、倍率の低い光学手
段によって得られた情報を有効に活用して倍率の高い光
学手段による位置合わせを正確且つ効率良く行うことが
できる。
よって得られた画像情報を参照して倍率の高い光学手段
による位置合わせを行うことにより、倍率の低い光学手
段によって得られた情報を有効に活用して倍率の高い光
学手段による位置合わせを正確且つ効率良く行うことが
できる。
【0011】
【実施例】以下に図面を参照して本発明の一実施例につ
いて説明する。ここで図1は本発明を適用したダイシン
グ装置の一実施例の概略ブロック図、図2及び図3はウ
ェハーに対して行われる一連のアライメント動作を示し
たフローチャート、図4は欠損部分があるウェハーの平
面図、図5はセミマクロカメラで拡大したウェハー表面
の図、図6は図5の一部を拡大して示したウェハー表面
の図、図7はミクロカメラで拡大したウェハー表面の
図、図8及び図9はミクロアライメントの説明のための
ウェハー表面の図である。なお、以下では、ウェハー上
のチップとチップの間のダイシングが行われる部分をス
トリート、ストリートとストリートの交点をグリッドと
呼ぶ。
いて説明する。ここで図1は本発明を適用したダイシン
グ装置の一実施例の概略ブロック図、図2及び図3はウ
ェハーに対して行われる一連のアライメント動作を示し
たフローチャート、図4は欠損部分があるウェハーの平
面図、図5はセミマクロカメラで拡大したウェハー表面
の図、図6は図5の一部を拡大して示したウェハー表面
の図、図7はミクロカメラで拡大したウェハー表面の
図、図8及び図9はミクロアライメントの説明のための
ウェハー表面の図である。なお、以下では、ウェハー上
のチップとチップの間のダイシングが行われる部分をス
トリート、ストリートとストリートの交点をグリッドと
呼ぶ。
【0012】図1に示すように、このダイシング装置に
は加工テーブル11やブレード加工部48等の制御を行
う機械NC制御部10、リフトアーム18によるウェハ
ー16の本装置へ搬入を制御する搬入搬送機構制御部1
2、ウェハー16の位置を制御するアライメント制御部
14という三つの制御部が設けられている。ウェハー1
6はこの装置に搬入され、右から左へと移動する途中で
三つの異なる倍率のカメラによってその画像が取り込ま
れ、各段階でそれぞれの精度に従ったアライメントが行
われる。このアライメントによって、ダイシングの際に
おけるブレードの回転面と切断すべきストリートとを高
い精度で一致させる。上記の三つのカメラはそれぞれマ
クロカメラ、セミマクロカメラ、ミクロカメラと呼ば
れ、電子倍率はそれぞれ約1倍、約50倍、約200倍
である。これらの倍率の異なる三台のカメラは、加工テ
ーブルに沿って直線状に配置されている。なお、図1で
は便宜上、ウェハーに対して行われる作業の流れをアラ
イメント制御部14の下に示してある。
は加工テーブル11やブレード加工部48等の制御を行
う機械NC制御部10、リフトアーム18によるウェハ
ー16の本装置へ搬入を制御する搬入搬送機構制御部1
2、ウェハー16の位置を制御するアライメント制御部
14という三つの制御部が設けられている。ウェハー1
6はこの装置に搬入され、右から左へと移動する途中で
三つの異なる倍率のカメラによってその画像が取り込ま
れ、各段階でそれぞれの精度に従ったアライメントが行
われる。このアライメントによって、ダイシングの際に
おけるブレードの回転面と切断すべきストリートとを高
い精度で一致させる。上記の三つのカメラはそれぞれマ
クロカメラ、セミマクロカメラ、ミクロカメラと呼ば
れ、電子倍率はそれぞれ約1倍、約50倍、約200倍
である。これらの倍率の異なる三台のカメラは、加工テ
ーブルに沿って直線状に配置されている。なお、図1で
は便宜上、ウェハーに対して行われる作業の流れをアラ
イメント制御部14の下に示してある。
【0013】加工テーブル11はウェハー16をセミマ
クロカメラ、ミクロカメラ、そしてダイシング工程へと
搬送するとともにX軸(テーブル左右送り方向)、Y軸
(スピンドル前後送り方向)、Z軸(スピンドル上下送
り方向)の各軸方向への並進動作及びB軸(回転軸)の
回りの回転動作によってウェハーの位置合わせを行う。
クロカメラ、ミクロカメラ、そしてダイシング工程へと
搬送するとともにX軸(テーブル左右送り方向)、Y軸
(スピンドル前後送り方向)、Z軸(スピンドル上下送
り方向)の各軸方向への並進動作及びB軸(回転軸)の
回りの回転動作によってウェハーの位置合わせを行う。
【0014】セミマクロカメラ26の上部に設けられた
支柱30とミクロカメラ28の上部に設けられた支柱3
2はフォーカスモータ34に連結されている。このフォ
ーカスモータ34はアライメント制御部14の制御のも
とにあり、これを駆動することによってセミマクロカメ
ラ26及びミクロカメラ28の焦点合わせを行う。セミ
マクロカメラ26とミクロカメラ28の倍率は前記した
程度であるが、おおよそセミマクロカメラは格子状の縦
横数本のストリートを写し出す程度の倍率、ミクロカメ
ラは一つのグリッドを写し出す程度の倍率である。な
お、各カメラには、各カメラに適した専用の照明装置が
設けられている。すなわち、マクロカメラ20にはウェ
ハー16を下方から照明する照明装置22が、セミマク
ロカメラ26にはリング状の光源27が、ミクロカメラ
28にはスポット照明29が、各々設けられている。
支柱30とミクロカメラ28の上部に設けられた支柱3
2はフォーカスモータ34に連結されている。このフォ
ーカスモータ34はアライメント制御部14の制御のも
とにあり、これを駆動することによってセミマクロカメ
ラ26及びミクロカメラ28の焦点合わせを行う。セミ
マクロカメラ26とミクロカメラ28の倍率は前記した
程度であるが、おおよそセミマクロカメラは格子状の縦
横数本のストリートを写し出す程度の倍率、ミクロカメ
ラは一つのグリッドを写し出す程度の倍率である。な
お、各カメラには、各カメラに適した専用の照明装置が
設けられている。すなわち、マクロカメラ20にはウェ
ハー16を下方から照明する照明装置22が、セミマク
ロカメラ26にはリング状の光源27が、ミクロカメラ
28にはスポット照明29が、各々設けられている。
【0015】NCモニタ40は操作者がウェハーの位置
を確認するためのものであり、アライメントモニタ42
は画像処理用のモニタで画像を処理したときの結果や処
理の補正値等の表示を行う。また、アライメント操作部
44はフォーカスモータ34を移動させたり、モニタに
接続されたカメラのチャンネルの切り換えスイッチ類が
設けられている。アライメント操作部44を手動で操作
することによって、マクロカメラ20、セミマクロカメ
ラ26、ミクロカメラ28の画像を切り換えてアライメ
ントモニタ42に表示させることもできる。
を確認するためのものであり、アライメントモニタ42
は画像処理用のモニタで画像を処理したときの結果や処
理の補正値等の表示を行う。また、アライメント操作部
44はフォーカスモータ34を移動させたり、モニタに
接続されたカメラのチャンネルの切り換えスイッチ類が
設けられている。アライメント操作部44を手動で操作
することによって、マクロカメラ20、セミマクロカメ
ラ26、ミクロカメラ28の画像を切り換えてアライメ
ントモニタ42に表示させることもできる。
【0016】ブレード加工部48は、ウェハーをX軸方
向及びY軸方向についてそれぞれ往復運動させてダイシ
ングを行い、ウェハーを個々のチップに切断する。
向及びY軸方向についてそれぞれ往復運動させてダイシ
ングを行い、ウェハーを個々のチップに切断する。
【0017】次に、本実施例装置の動作について図2及
び図3をも参照して説明する。被加工物(ワーク)であ
るウェハー16は、例えばウェハーカセット(図示せ
ず)から取り出され(ステップS1)、フォークのよう
な形のリフトアーム18によって下から支えられて本装
置へ搬入される。ウェハー16は、装置に搬入されると
まず前記のリフトアームによってマクロカメラ20の下
部のリフトアーム待機位置へ運ばれ、ここでマクロアラ
イメントが行われる(ステップS2)。すなわち照明装
置22によって下から光が当てられ、ウェハーの輪郭が
マクロカメラ20によって画像情報として取り込まれウ
ェハーの全体的な形状の認識がなされる。この形状認識
は、実際に取り込まれた画像と予め機械NC制御部10
の中の記憶手段に記憶されている画像情報とを比較する
ことによってなされ、ウェハーの中心、直径、及びウェ
ハーの回転方向の角度の大体の値が求められる。そして
得られた情報は機械NC制御部10の中の記憶手段に記
憶される(ステップS3)。
び図3をも参照して説明する。被加工物(ワーク)であ
るウェハー16は、例えばウェハーカセット(図示せ
ず)から取り出され(ステップS1)、フォークのよう
な形のリフトアーム18によって下から支えられて本装
置へ搬入される。ウェハー16は、装置に搬入されると
まず前記のリフトアームによってマクロカメラ20の下
部のリフトアーム待機位置へ運ばれ、ここでマクロアラ
イメントが行われる(ステップS2)。すなわち照明装
置22によって下から光が当てられ、ウェハーの輪郭が
マクロカメラ20によって画像情報として取り込まれウ
ェハーの全体的な形状の認識がなされる。この形状認識
は、実際に取り込まれた画像と予め機械NC制御部10
の中の記憶手段に記憶されている画像情報とを比較する
ことによってなされ、ウェハーの中心、直径、及びウェ
ハーの回転方向の角度の大体の値が求められる。そして
得られた情報は機械NC制御部10の中の記憶手段に記
憶される(ステップS3)。
【0018】このような方法でマクロアライメントを行
うことにより、例えば図4(A)、(B)、(C)に示
すように、一部に欠損のあるウェハー16に対してもオ
リフラが残っていれば自動的にアライメントを行うこと
ができる。なお、以下の説明では、オリフラのあるウェ
ハーの場合、このオリフラの方向がX軸に一致するよう
に位置合わせを行うものとする。
うことにより、例えば図4(A)、(B)、(C)に示
すように、一部に欠損のあるウェハー16に対してもオ
リフラが残っていれば自動的にアライメントを行うこと
ができる。なお、以下の説明では、オリフラのあるウェ
ハーの場合、このオリフラの方向がX軸に一致するよう
に位置合わせを行うものとする。
【0019】マクロアライメントを経たウェハー16は
リフトアームによって加工テーブル11上に載置される
(ステップS4)。この加工テーブル11に沿った位置
にはセミマクロカメラ26及びミクロカメラ28が設け
られており、それぞれの位置で順次セミマクロアライメ
ント、ミクロアライメントが行われる。
リフトアームによって加工テーブル11上に載置される
(ステップS4)。この加工テーブル11に沿った位置
にはセミマクロカメラ26及びミクロカメラ28が設け
られており、それぞれの位置で順次セミマクロアライメ
ント、ミクロアライメントが行われる。
【0020】ウェハーが加工テーブル11上に載置され
ると、まず、マクロアライメントの段階で得られた情報
をもとにテーブルを微動させることによって大まかな位
置合わせが行われる。続いてウェハーはセミマクロカメ
ラ26の下部に移動され(ステップS5)、ここでリン
グ状の光源27から光を照射される。そしてセミマクロ
カメラ26によって得られた画像を処理してセミマクロ
アライメントが行われる。この画像処理も、セミマクロ
カメラによって得られた画像と予め登録されている画像
との比較によってなされ、そしてここで得られたデータ
は機械NC制御部10へ記憶される(ステップS6)。
図5はウェハー16の平面図であり、このうち破線50
で囲まれた領域がセミマクロカメラで得られる大体の領
域である。図6は図5の破線で囲まれた領域を拡大して
示した図である。図5及び図6において、格子状に示し
たそれぞれの正方形はウェハー16上に形成されたIC
チップ38であり、チップとチップの間はダイシングさ
れるストリート39となる。
ると、まず、マクロアライメントの段階で得られた情報
をもとにテーブルを微動させることによって大まかな位
置合わせが行われる。続いてウェハーはセミマクロカメ
ラ26の下部に移動され(ステップS5)、ここでリン
グ状の光源27から光を照射される。そしてセミマクロ
カメラ26によって得られた画像を処理してセミマクロ
アライメントが行われる。この画像処理も、セミマクロ
カメラによって得られた画像と予め登録されている画像
との比較によってなされ、そしてここで得られたデータ
は機械NC制御部10へ記憶される(ステップS6)。
図5はウェハー16の平面図であり、このうち破線50
で囲まれた領域がセミマクロカメラで得られる大体の領
域である。図6は図5の破線で囲まれた領域を拡大して
示した図である。図5及び図6において、格子状に示し
たそれぞれの正方形はウェハー16上に形成されたIC
チップ38であり、チップとチップの間はダイシングさ
れるストリート39となる。
【0021】ウェハー上にはICチップ38が規則正し
い配列で形成されているので、セミマクロカメラによっ
て拡大された画像は、図6に示すように同一の幾何学模
様の繰り返しとなる。そこでストリートとストリートの
交点であるグリッド37(図7参照)を特徴点としてア
ドレスポイントを設定し、このグリッド37を区別する
ことによってウェハー上の位置を指定する。そして、カ
メラの中心から最も近いグリッドをカメラの中心に一致
させ、これをウェハー16の原点(0,0)として記憶
する。各グリッドの位置はそれぞれのグリッドとの相対
的な位置関係としてわかればよいので、この原点はウェ
ハーの中心と必ずしも一致する必要はない。ウェハー上
のチップの寸法からグリッドのピッチも予め分かってい
るので、ウェハー上の原点が決まれば、ウェハー上の全
てのグリッドにそれぞれの座標を割りつけることができ
る。そして、何処か特定のグリッドにカメラの中心を移
動させたいときはそのグリッドの座標を入力すればよ
い。
い配列で形成されているので、セミマクロカメラによっ
て拡大された画像は、図6に示すように同一の幾何学模
様の繰り返しとなる。そこでストリートとストリートの
交点であるグリッド37(図7参照)を特徴点としてア
ドレスポイントを設定し、このグリッド37を区別する
ことによってウェハー上の位置を指定する。そして、カ
メラの中心から最も近いグリッドをカメラの中心に一致
させ、これをウェハー16の原点(0,0)として記憶
する。各グリッドの位置はそれぞれのグリッドとの相対
的な位置関係としてわかればよいので、この原点はウェ
ハーの中心と必ずしも一致する必要はない。ウェハー上
のチップの寸法からグリッドのピッチも予め分かってい
るので、ウェハー上の原点が決まれば、ウェハー上の全
てのグリッドにそれぞれの座標を割りつけることができ
る。そして、何処か特定のグリッドにカメラの中心を移
動させたいときはそのグリッドの座標を入力すればよ
い。
【0022】従来は、加工テーブル上には高倍率のカメ
ラが一つだけ設けられ、大まかな位置合わせは人間が手
作業で行った上でこの高倍率のカメラによるアライメン
トが行われていた。このような方法では、高倍率のカメ
ラによるアライメントが行えるようになるまでの人間が
行う作業に時間がかかり作業効率が悪かったが、本実施
例のように高倍率のミクロカメラによる最終的なアライ
メントまでにマクロカメラ、セミマクロカメラによって
予め大まかな位置合わせを行っておくことによって作業
効率を向上させることができる。
ラが一つだけ設けられ、大まかな位置合わせは人間が手
作業で行った上でこの高倍率のカメラによるアライメン
トが行われていた。このような方法では、高倍率のカメ
ラによるアライメントが行えるようになるまでの人間が
行う作業に時間がかかり作業効率が悪かったが、本実施
例のように高倍率のミクロカメラによる最終的なアライ
メントまでにマクロカメラ、セミマクロカメラによって
予め大まかな位置合わせを行っておくことによって作業
効率を向上させることができる。
【0023】セミマクロアライメントが完了すると、ウ
ェハー16は加工テーブル11によりミクロアライメン
ト位置に移送され(ステップS7)、スポット照明29
によってウェハー16に光が照射される。そして先ず、
X軸方向におけるミクロアライメントを行う(ステップ
S8)。このミクロアライメントは特定のグリッド37
を決め、このグリッドに対して行う。この特定のグリッ
ドは、予めプログラムされており、外部から指定する。
この特定のグリッドとして前記の原点からできるだけ遠
いものを選ぶことにより誤差率が拡大されるが、このよ
うなグリッドに対して補正を行うことによってより高い
精度のアライメントが可能となる。なお、画像の中心と
補正する際の機械の回転中心とは必ずしも一致しないの
で、画像処理の際に数学的な演算を行って機械の回転中
心の回りにどの程度ウェハー16を回転するかを同時に
算出する。
ェハー16は加工テーブル11によりミクロアライメン
ト位置に移送され(ステップS7)、スポット照明29
によってウェハー16に光が照射される。そして先ず、
X軸方向におけるミクロアライメントを行う(ステップ
S8)。このミクロアライメントは特定のグリッド37
を決め、このグリッドに対して行う。この特定のグリッ
ドは、予めプログラムされており、外部から指定する。
この特定のグリッドとして前記の原点からできるだけ遠
いものを選ぶことにより誤差率が拡大されるが、このよ
うなグリッドに対して補正を行うことによってより高い
精度のアライメントが可能となる。なお、画像の中心と
補正する際の機械の回転中心とは必ずしも一致しないの
で、画像処理の際に数学的な演算を行って機械の回転中
心の回りにどの程度ウェハー16を回転するかを同時に
算出する。
【0024】ところで、ミクロアライメントの方法に
は、単一のグリッドのみを用いて行うモードと複数のグ
リッドを用いて行うモードとがある。単一のグリッドを
用いるモードでは、図7に示すように、特定のグリッド
を指定してそのグリッドにカメラの原点を移動したとき
に現実に得られる画像と、予め登録されている画像とを
比較してずれを求めてアライメントを行う。なお図7で
は、ストリートがX軸及びY軸との平行からずれた状態
を誇張して示している。
は、単一のグリッドのみを用いて行うモードと複数のグ
リッドを用いて行うモードとがある。単一のグリッドを
用いるモードでは、図7に示すように、特定のグリッド
を指定してそのグリッドにカメラの原点を移動したとき
に現実に得られる画像と、予め登録されている画像とを
比較してずれを求めてアライメントを行う。なお図7で
は、ストリートがX軸及びY軸との平行からずれた状態
を誇張して示している。
【0025】複数のグリッドを用いてミクロアライメン
トを行うモードでは、図8に示すようにまず同一ストリ
ートX座標上にある二つのグリッドA、Bを指定する。
図8でXA 、XB はセミマクロアライメントにおける画
像の中心を原点Oとしたときの特定グリッドA、Bの座
標である。そして図9(A)、(B)において特定グリ
ッドA、Bをミクロカメラで拡大したときの実際のグリ
ッドとその特定座標位置との画像座標におけるずれをそ
れぞれXa 、Xb とする。そしてこのXa 、Xb に基づ
いてミクロアライメントを行う。これによりX軸方向に
おけるアライメントは終了する。なお、複数のグリッド
を用いてミクロアライメントを行うことにより、単一の
グリッドのみを用いてアライメントを行う場合に比べて
より正確なアライメントを行うことができる。
トを行うモードでは、図8に示すようにまず同一ストリ
ートX座標上にある二つのグリッドA、Bを指定する。
図8でXA 、XB はセミマクロアライメントにおける画
像の中心を原点Oとしたときの特定グリッドA、Bの座
標である。そして図9(A)、(B)において特定グリ
ッドA、Bをミクロカメラで拡大したときの実際のグリ
ッドとその特定座標位置との画像座標におけるずれをそ
れぞれXa 、Xb とする。そしてこのXa 、Xb に基づ
いてミクロアライメントを行う。これによりX軸方向に
おけるアライメントは終了する。なお、複数のグリッド
を用いてミクロアライメントを行うことにより、単一の
グリッドのみを用いてアライメントを行う場合に比べて
より正確なアライメントを行うことができる。
【0026】これが完了するとウェハーを90度回転し
(ステップS9)、Y軸についても、ミクロアライメン
ト位置に移動して(ステップS10)ミクロアライメン
トを行う(ステップS11)。
(ステップS9)、Y軸についても、ミクロアライメン
ト位置に移動して(ステップS10)ミクロアライメン
トを行う(ステップS11)。
【0027】以上のような作業が終了したら、アライメ
ントで得られたデータを機械NC制御部10に記憶する
とともに、ブレード加工部48へも送る。そしてダイシ
ングの工程へ移行し、切断するラインをブレードの面に
一致させて、ウェハーを往復運動させてダイシングを実
行する(ステップS12)。このダイシングはX軸方
向、Y軸方向に分けて行われ、それぞれをチャンネル1
(CH−1)、チャンネル2(CH−2)とする。そし
てまずチャンネル2についてのダイシングを行い、次に
チャンネル2についてダイシングを行う(ステップS1
3)。ダイシングが終了したらクリーナーを通過させて
装置から取り出し(ステップS14)、一つのウェハー
についての一連の作業を終了する。
ントで得られたデータを機械NC制御部10に記憶する
とともに、ブレード加工部48へも送る。そしてダイシ
ングの工程へ移行し、切断するラインをブレードの面に
一致させて、ウェハーを往復運動させてダイシングを実
行する(ステップS12)。このダイシングはX軸方
向、Y軸方向に分けて行われ、それぞれをチャンネル1
(CH−1)、チャンネル2(CH−2)とする。そし
てまずチャンネル2についてのダイシングを行い、次に
チャンネル2についてダイシングを行う(ステップS1
3)。ダイシングが終了したらクリーナーを通過させて
装置から取り出し(ステップS14)、一つのウェハー
についての一連の作業を終了する。
【0028】更に、ウェハーカセット内に別のウェハー
が残っている場合には、次のウェハーに対して同様の作
業を行う(ステップS15)。そして一つのカセットの
ウェハーに対する作業が終了したら、予め設定した数の
カセットが終了するまで同様の作業を繰り返す(ステッ
プS16)。
が残っている場合には、次のウェハーに対して同様の作
業を行う(ステップS15)。そして一つのカセットの
ウェハーに対する作業が終了したら、予め設定した数の
カセットが終了するまで同様の作業を繰り返す(ステッ
プS16)。
【0029】上記の本実施例によれば、低倍率、中倍
率、高倍率の各倍率のカメラを用いて、自動的に位置合
わせを行うことができるので、従来の装置に比べてゴミ
や異物の混入を防ぐことができ、各倍率のカメラによる
特徴により、幾何模様の不良等による影響を受け難くな
る。
率、高倍率の各倍率のカメラを用いて、自動的に位置合
わせを行うことができるので、従来の装置に比べてゴミ
や異物の混入を防ぐことができ、各倍率のカメラによる
特徴により、幾何模様の不良等による影響を受け難くな
る。
【0030】なお、本発明は上記の実施例に限定される
ものではなく、その要旨の範囲内において種々の変形が
可能である。例えば、上記の実施例では、本実施例装置
によって位置合わせを行った後に、ダイシングを行う場
合について説明したが、ダイシングに限られるものでは
なく、他の処理を行ってもよい。また、各カメラの倍率
は約1倍、約50倍、約200倍に限られるものではな
く、被処理物に応じて最適な倍率を設定することができ
るし、カメラの数は3台以上であってもよい。さらに、
上記の実施例では、被処理物が半導体ウェハーである場
合について説明したが、被処理物は半導体ウェハーに限
られるものではない。
ものではなく、その要旨の範囲内において種々の変形が
可能である。例えば、上記の実施例では、本実施例装置
によって位置合わせを行った後に、ダイシングを行う場
合について説明したが、ダイシングに限られるものでは
なく、他の処理を行ってもよい。また、各カメラの倍率
は約1倍、約50倍、約200倍に限られるものではな
く、被処理物に応じて最適な倍率を設定することができ
るし、カメラの数は3台以上であってもよい。さらに、
上記の実施例では、被処理物が半導体ウェハーである場
合について説明したが、被処理物は半導体ウェハーに限
られるものではない。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、低
倍率、中倍率、高倍率の各倍率の光学手段によって得ら
れた画像に基づいて被処理物の位置合わせを行うので、
被処理物上の特定位置の認識が正確かつ効率的になさ
れ、また、これらの手順を自動化することによって作業
効率の向上が可能となり、更に低倍率から高倍率へと自
動で順次移行することができるので、ゴミや異物の混
入、幾何模様の不良等による影響を受けにくい自動アラ
イメント装置を提供することができる。
倍率、中倍率、高倍率の各倍率の光学手段によって得ら
れた画像に基づいて被処理物の位置合わせを行うので、
被処理物上の特定位置の認識が正確かつ効率的になさ
れ、また、これらの手順を自動化することによって作業
効率の向上が可能となり、更に低倍率から高倍率へと自
動で順次移行することができるので、ゴミや異物の混
入、幾何模様の不良等による影響を受けにくい自動アラ
イメント装置を提供することができる。
【図1】本発明を適用したダイシング装置の一実施例の
概略ブロック図である。
概略ブロック図である。
【図2】ウェハーに対して行われる一連のアライメント
動作を示したフローチャートである。
動作を示したフローチャートである。
【図3】ウェハーに対して行われる一連のアライメント
動作を示したフローチャートである。
動作を示したフローチャートである。
【図4】欠損部分があるウェハーの平面図である。
【図5】セミマクロカメラで拡大したウェハー表面の図
である。
である。
【図6】図5の一部を拡大して示したウェハー表面の図
である。
である。
【図7】ミクロカメラで拡大したウェハー表面の図であ
る。
る。
【図8】ミクロアライメントの説明のためのウェハー表
面の図である。
面の図である。
【図9】ミクロアライメントの説明のための図8を拡大
したウェハー表面の図である。
したウェハー表面の図である。
10 機械NC制御部 11 加工テーブル 12 搬送機構制御部 14 アライメント制御部 16 ウェハー 18 リフトアーム 20 マクロカメラ 26 セミマクロカメラ 28 ミクロカメラ 34 フォーカスモータ 38 ICチップ 48 ブレード加工部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/301 H01L 21/78 Q (72)発明者 吉田 元夫 神奈川県厚木市上依知3009番地 株式会社 岡本工作機械製作所厚木工場内 (72)発明者 藤原 孝洋 静岡県浜松市大島町348 ジャパン・イ ー・エム株式会社内 (72)発明者 内山 英治 静岡県浜松市大島町348 ジャパン・イ ー・エム株式会社内
Claims (6)
- 【請求項1】 被処理物の画像を取り込む低倍率、中倍
率、高倍率の少なくとも三つの光学手段と、該三つの光
学手段のうち低い倍率の光学手段から高い倍率の光学手
段へと順次前記被処理物を搬送する手段と、前記被処理
物が搬送される途中で前記各光学手段によって得られた
画像に基づいて前記被処理物の位置合わせを行う制御手
段とを有することを特徴とする自動アライメント装置。 - 【請求項2】 前記制御手段は、倍率の低い光学手段に
よって得られた画像情報を参照して倍率の高い光学手段
による位置合わせを行うものである請求項1記載の自動
アライメント装置。 - 【請求項3】 前記制御手段は、記憶手段に記憶された
前記被処理物の画像情報をも参照して前記被処理物の位
置合わせを行うものである請求項1又は2記載の自動ア
ライメント装置。 - 【請求項4】 前記低倍率、前記中倍率及び前記高倍率
の光学手段の電子倍率はそれぞれ約1倍、約50倍、約
200倍である請求項1、2又は3記載の自動アライメ
ント装置。 - 【請求項5】 前記被処理物は半導体ウェハーである請
求項1、2、3又は4記載の自動アライメント装置。 - 【請求項6】 前記低倍率の光学手段による位置合わせ
では、半導体ウェハーの全体形状についての位置合わせ
を行い、前記中倍率の光学手段による位置合わせでは、
前記光学手段の中心から最も近いグリッドをカメラの中
心に一致させ、且つ各グリッドのアドレスを特定し、前
記高倍率の光学手段による位置合わせでは、グリッドに
ついての位置合わせを行う請求項5記載の自動アライメ
ント装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24875893A JPH0777813A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 自動アライメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24875893A JPH0777813A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 自動アライメント装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0777813A true JPH0777813A (ja) | 1995-03-20 |
Family
ID=17182945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24875893A Pending JPH0777813A (ja) | 1993-09-08 | 1993-09-08 | 自動アライメント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0777813A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107860700A (zh) * | 2017-12-12 | 2018-03-30 | 东北大学 | 页岩细微观结构精确定位与定量研究的装置及方法 |
| KR20230103872A (ko) * | 2021-12-31 | 2023-07-07 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
-
1993
- 1993-09-08 JP JP24875893A patent/JPH0777813A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107860700A (zh) * | 2017-12-12 | 2018-03-30 | 东北大学 | 页岩细微观结构精确定位与定量研究的装置及方法 |
| CN107860700B (zh) * | 2017-12-12 | 2024-04-12 | 东北大学 | 页岩细微观结构精确定位与定量研究的装置及方法 |
| KR20230103872A (ko) * | 2021-12-31 | 2023-07-07 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
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