JPH0778859A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
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- JPH0778859A JPH0778859A JP5245914A JP24591493A JPH0778859A JP H0778859 A JPH0778859 A JP H0778859A JP 5245914 A JP5245914 A JP 5245914A JP 24591493 A JP24591493 A JP 24591493A JP H0778859 A JPH0778859 A JP H0778859A
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- substrate transfer
- transfer arm
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 センタリングを行うための専用の位置決め部
や装置を不要にして、装置全体を小型化できるものであ
りながら安価に構成する。 【構成】 円弧状の外周面を有する基板Wの中央部を含
んだ裏面を載置支持する第1の基板搬送アーム19を上
下方向に移動可能に設けるとともに、基板受け渡し位置
において第1の基板搬送アーム19に支持された基板W
の外周端縁を載置支持する第2の基板搬送アーム38を
水平方向に移動可能に設け、基板受け渡し位置におい
て、第1の基板搬送アーム19に変位可能に設けた第1
の位置決めガイド18と第2の位置決めガイド39とに
より基板Wをその外周端面に当接させて位置決めし、そ
の位置決めされた基板Wを第2の基板搬送アーム38で
載置支持するように構成する。
や装置を不要にして、装置全体を小型化できるものであ
りながら安価に構成する。 【構成】 円弧状の外周面を有する基板Wの中央部を含
んだ裏面を載置支持する第1の基板搬送アーム19を上
下方向に移動可能に設けるとともに、基板受け渡し位置
において第1の基板搬送アーム19に支持された基板W
の外周端縁を載置支持する第2の基板搬送アーム38を
水平方向に移動可能に設け、基板受け渡し位置におい
て、第1の基板搬送アーム19に変位可能に設けた第1
の位置決めガイド18と第2の位置決めガイド39とに
より基板Wをその外周端面に当接させて位置決めし、そ
の位置決めされた基板Wを第2の基板搬送アーム38で
載置支持するように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板などの円弧
状の外周面を有する基板をカセットなどから取り出し、
基板表面に形成されたフォトレジスト膜やシリコン酸化
膜等の透明薄膜の厚さを光学的に測定するとか、それら
透明薄膜の他に金属薄膜等を含む各種薄膜の線幅を顕微
鏡で拡大した映像を分析することで非接触で測定すると
か、更には、容量−電圧測定法のような物性値を測定す
るといった表面評価装置や検査装置、あるいは、回転塗
布装置のような各種の処理装置などに搬送するために使
用する基板搬送装置に関する。
状の外周面を有する基板をカセットなどから取り出し、
基板表面に形成されたフォトレジスト膜やシリコン酸化
膜等の透明薄膜の厚さを光学的に測定するとか、それら
透明薄膜の他に金属薄膜等を含む各種薄膜の線幅を顕微
鏡で拡大した映像を分析することで非接触で測定すると
か、更には、容量−電圧測定法のような物性値を測定す
るといった表面評価装置や検査装置、あるいは、回転塗
布装置のような各種の処理装置などに搬送するために使
用する基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の基板搬送装置において基板を搬
送する場合、従来、例えば、実開平2−122306号
公報に開示されるように構成されている。すなわち、こ
の従来例によれば、カセットなどに収容された基板を膜
厚測定用のX−Yテーブル上のZテーブルに搬送する場
合、カセットから取り出した基板を位置決め部に一旦搬
送し、その位置決め部において、基板を当て板に当接さ
せるとともに、基板を保持部材に真空吸着によって吸着
保持させ、更に、センタリング部材などによってセンタ
リングを行った後、別の搬送機構によりZテーブルに搬
送していくように構成されている。
送する場合、従来、例えば、実開平2−122306号
公報に開示されるように構成されている。すなわち、こ
の従来例によれば、カセットなどに収容された基板を膜
厚測定用のX−Yテーブル上のZテーブルに搬送する場
合、カセットから取り出した基板を位置決め部に一旦搬
送し、その位置決め部において、基板を当て板に当接さ
せるとともに、基板を保持部材に真空吸着によって吸着
保持させ、更に、センタリング部材などによってセンタ
リングを行った後、別の搬送機構によりZテーブルに搬
送していくように構成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
では、当て板によってセンタリングを行うために、位置
決め部に搬送した基板を保持部材に受け渡し、その保持
部材により保持させて基板のセンタリングを行った後
に、保持部材から別の搬送機構に基板を受け渡して所定
の処理部に搬送するように構成しているため、搬送とは
無関係の専用の位置決め部が必要であり、装置全体が大
型化する欠点があった。
では、当て板によってセンタリングを行うために、位置
決め部に搬送した基板を保持部材に受け渡し、その保持
部材により保持させて基板のセンタリングを行った後
に、保持部材から別の搬送機構に基板を受け渡して所定
の処理部に搬送するように構成しているため、搬送とは
無関係の専用の位置決め部が必要であり、装置全体が大
型化する欠点があった。
【0004】そこで、上述のような専用の位置決め部を
不要にして装置全体を小型化するために、特開平4−3
0549号公報に開示されるように、基板を搬送する基
板搬送装置そのものに、基板の位置決めを行う基板整合
手段を備えさせ、基板搬送装置を構成する基板載置具に
基板を載置させた状態で、基板整合手段の当接片を基板
の外縁に当接離間させることにより基板の位置決めを行
うように構成したものも提案されたが、基板搬送装置に
基板整合手段を備えさせるために、その構成が複雑化し
て高価になってしまう欠点があった。
不要にして装置全体を小型化するために、特開平4−3
0549号公報に開示されるように、基板を搬送する基
板搬送装置そのものに、基板の位置決めを行う基板整合
手段を備えさせ、基板搬送装置を構成する基板載置具に
基板を載置させた状態で、基板整合手段の当接片を基板
の外縁に当接離間させることにより基板の位置決めを行
うように構成したものも提案されたが、基板搬送装置に
基板整合手段を備えさせるために、その構成が複雑化し
て高価になってしまう欠点があった。
【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項1に係る発明の基板搬送装置
は、センタリングを行うための専用の位置決め部や装置
を不要にして、装置全体を小型化できるものでありなが
ら安価に構成できるようにすることを目的とし、また、
請求項2に係る発明の基板搬送装置は、センタリングを
行うための制御構成を簡単にできるようにすることを目
的とする。
たものであって、請求項1に係る発明の基板搬送装置
は、センタリングを行うための専用の位置決め部や装置
を不要にして、装置全体を小型化できるものでありなが
ら安価に構成できるようにすることを目的とし、また、
請求項2に係る発明の基板搬送装置は、センタリングを
行うための制御構成を簡単にできるようにすることを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の基
板搬送装置は、上述のような目的を達成するために、円
弧状の外周面を有する基板の裏面を載置支持する第1の
基板搬送アームを上下方向に移動可能に設けるととも
に、基板受け渡し位置において第1の基板搬送アームに
支持された基板の外周端縁を載置支持する第2の基板搬
送アームを水平方向に移動可能に設け、第1の基板搬送
アームに、基板の外周端面に当接する第1の位置決めガ
イドを付設するとともに、基板受け渡し位置の第2の基
板搬送アームに近接する位置に、第1の位置決めガイド
に対向して基板の外周端面に当接する第2の位置決めガ
イドを設け、かつ、第1および第2の位置決めガイドの
いずれか一方を対向方向に遠近変位可能に設け、第1お
よび第2の位置決めガイドで挟まれて位置決めされた基
板を第2の基板搬送アームで載置支持するように構成す
る。
板搬送装置は、上述のような目的を達成するために、円
弧状の外周面を有する基板の裏面を載置支持する第1の
基板搬送アームを上下方向に移動可能に設けるととも
に、基板受け渡し位置において第1の基板搬送アームに
支持された基板の外周端縁を載置支持する第2の基板搬
送アームを水平方向に移動可能に設け、第1の基板搬送
アームに、基板の外周端面に当接する第1の位置決めガ
イドを付設するとともに、基板受け渡し位置の第2の基
板搬送アームに近接する位置に、第1の位置決めガイド
に対向して基板の外周端面に当接する第2の位置決めガ
イドを設け、かつ、第1および第2の位置決めガイドの
いずれか一方を対向方向に遠近変位可能に設け、第1お
よび第2の位置決めガイドで挟まれて位置決めされた基
板を第2の基板搬送アームで載置支持するように構成す
る。
【0007】また、請求項2に係る発明の基板搬送治具
は、上述のような目的を達成するために、請求項1に記
載の第1の位置決めガイドを、第2の位置決めガイドに
対して遠近するように第1の基板搬送アームに相対移動
可能に設けて構成する。
は、上述のような目的を達成するために、請求項1に記
載の第1の位置決めガイドを、第2の位置決めガイドに
対して遠近するように第1の基板搬送アームに相対移動
可能に設けて構成する。
【0008】
【作用】請求項1に係る発明の基板搬送装置の構成によ
れば、例えば、カセットや適所から基板を取り出して適
所に基板を搬送するときに、第1の基板搬送アームから
第2の基板搬送アームに受け渡す際に、第1の基板搬送
アームに付設した第1の位置決めガイドと、基板受け渡
し位置の第2の基板搬送アームに近接する位置に付設し
た第2の位置決めガイドとによってセンタリングを行
い、その基板受け渡しに伴ってセンタリングを行った基
板を第2の基板搬送アームで適所に搬送することができ
る。
れば、例えば、カセットや適所から基板を取り出して適
所に基板を搬送するときに、第1の基板搬送アームから
第2の基板搬送アームに受け渡す際に、第1の基板搬送
アームに付設した第1の位置決めガイドと、基板受け渡
し位置の第2の基板搬送アームに近接する位置に付設し
た第2の位置決めガイドとによってセンタリングを行
い、その基板受け渡しに伴ってセンタリングを行った基
板を第2の基板搬送アームで適所に搬送することができ
る。
【0009】また、請求項2に係る発明の基板搬送装置
の構成によれば、第1の基板搬送アームに付設した第1
の位置決めガイドを、第1の基板搬送アームに対して移
動させ、第1の基板搬送アームに載置支持された基板の
外周端面に第1の位置決めガイドを当接させて基板を押
し込み、固定の第2の位置決めガイドに基板の外周端面
を当接させて基板のセンタリングを行うことができる。
の構成によれば、第1の基板搬送アームに付設した第1
の位置決めガイドを、第1の基板搬送アームに対して移
動させ、第1の基板搬送アームに載置支持された基板の
外周端面に第1の位置決めガイドを当接させて基板を押
し込み、固定の第2の位置決めガイドに基板の外周端面
を当接させて基板のセンタリングを行うことができる。
【0010】
<実施例>次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
【0011】図1は、本発明に係る基板搬送装置を適用
した、電気的特性を測定する装置の平面図、図2は図1
の側面図であり、台1上に、カセット載置部2、基板搬
送装置3、および、電気的特性を測定する測定ステージ
4が設けられている。
した、電気的特性を測定する装置の平面図、図2は図1
の側面図であり、台1上に、カセット載置部2、基板搬
送装置3、および、電気的特性を測定する測定ステージ
4が設けられている。
【0012】カセット載置部2は、図3の要部の一部切
欠拡大側面図、および、図4の要部の一部切欠拡大平面
図それぞれに示すように、それぞれオリエンテーション
フラットを有する複数個の基板Wを上下方向に多段状に
収納したカセット5を載置して構成されている。カセッ
ト5は、上下方向に所定間隔を隔てて基板嵌入溝6を形
成した溝形成部材7を対向状態で連結して構成され、か
つ、溝形成部材7,7それぞれの奥側に基板Wの外周端
面と当接するテーパ面Fが付設されている。なお、図3
および図4それぞれにおいては、後述する第2の基板搬
送装置9は省略している。
欠拡大側面図、および、図4の要部の一部切欠拡大平面
図それぞれに示すように、それぞれオリエンテーション
フラットを有する複数個の基板Wを上下方向に多段状に
収納したカセット5を載置して構成されている。カセッ
ト5は、上下方向に所定間隔を隔てて基板嵌入溝6を形
成した溝形成部材7を対向状態で連結して構成され、か
つ、溝形成部材7,7それぞれの奥側に基板Wの外周端
面と当接するテーパ面Fが付設されている。なお、図3
および図4それぞれにおいては、後述する第2の基板搬
送装置9は省略している。
【0013】前記基板搬送装置3は、図5の要部の斜視
図に示すように、基板Wをカセット5とカセット載置部
2の下方の基板受け渡し位置とにわたって搬送する第1
の基板搬送装置8と、基板受け渡し位置と測定ステージ
4とにわたって基板Wを搬送する第2の基板搬送装置9
とから構成されている。
図に示すように、基板Wをカセット5とカセット載置部
2の下方の基板受け渡し位置とにわたって搬送する第1
の基板搬送装置8と、基板受け渡し位置と測定ステージ
4とにわたって基板Wを搬送する第2の基板搬送装置9
とから構成されている。
【0014】第1の基板搬送装置8は、第1の電動モー
タ10により正逆転されるネジ軸11と一対の第1のガ
イド12,12とによって昇降可能に設けられた第1の
支持体13に、正逆転可能な第2の電動モータ14によ
って往復移動される第1のワイヤー15と第2のガイド
16とによって水平方向に移動可能に第2の支持体17
が設けられ、その第2の支持体17の先端側に、基板W
の外周端面に当接する円弧面18aを有する第1の位置
決めガイド18と基板Wの中央部を含んだ裏面を真空吸
着によって載置支持する第1の基板搬送アーム19とを
設けて構成されている。
タ10により正逆転されるネジ軸11と一対の第1のガ
イド12,12とによって昇降可能に設けられた第1の
支持体13に、正逆転可能な第2の電動モータ14によ
って往復移動される第1のワイヤー15と第2のガイド
16とによって水平方向に移動可能に第2の支持体17
が設けられ、その第2の支持体17の先端側に、基板W
の外周端面に当接する円弧面18aを有する第1の位置
決めガイド18と基板Wの中央部を含んだ裏面を真空吸
着によって載置支持する第1の基板搬送アーム19とを
設けて構成されている。
【0015】図6の要部の分解斜視図に示すように、第
2の支持体17の先端側に支持ブラケット20が取り付
けられるとともに、その支持ブラケット20に取付プレ
ート21が取り付けられ、取付プレート21の下側に固
定ガイド体22aとバネ受け22bとが取り付けられる
とともに、取付プレート21の上側に、真空吸着孔23
を形成した第1の基板搬送アーム19が取り付けられて
いる。図示しないが、真空吸着孔23には、第1の基板
搬送アーム19、取付プレート21、支持ブラケット2
0および第2の支持体17を通じて真空吸引源が接続さ
れている。
2の支持体17の先端側に支持ブラケット20が取り付
けられるとともに、その支持ブラケット20に取付プレ
ート21が取り付けられ、取付プレート21の下側に固
定ガイド体22aとバネ受け22bとが取り付けられる
とともに、取付プレート21の上側に、真空吸着孔23
を形成した第1の基板搬送アーム19が取り付けられて
いる。図示しないが、真空吸着孔23には、第1の基板
搬送アーム19、取付プレート21、支持ブラケット2
0および第2の支持体17を通じて真空吸引源が接続さ
れている。
【0016】固定ガイド体22aに対して摺動可能に可
動体24が設けられ、その可動体24とバネ受け22b
との間に圧縮コイルスプリング25,25が介装される
とともに、可動体24に設けた突起26を取付プレート
21に形成した長穴27内に嵌入することにより可動体
24の移動範囲が規制されている。可動体24に、第1
の基板搬送アーム19の上方に位置する状態で前記第1
の位置決めガイド18が取り付けられている。上述の圧
縮コイルスプリング25,25に代えて引っ張りスプリ
ングを用いても良い。第1の位置決めガイド18は、第
1の基板搬送アーム19の上方側において、真空吸着孔
23の位置よりも基部側に位置し、圧縮コイルスプリン
グ25の作用により第1の基板搬送アーム19の先端側
方向に付勢されている。
動体24が設けられ、その可動体24とバネ受け22b
との間に圧縮コイルスプリング25,25が介装される
とともに、可動体24に設けた突起26を取付プレート
21に形成した長穴27内に嵌入することにより可動体
24の移動範囲が規制されている。可動体24に、第1
の基板搬送アーム19の上方に位置する状態で前記第1
の位置決めガイド18が取り付けられている。上述の圧
縮コイルスプリング25,25に代えて引っ張りスプリ
ングを用いても良い。第1の位置決めガイド18は、第
1の基板搬送アーム19の上方側において、真空吸着孔
23の位置よりも基部側に位置し、圧縮コイルスプリン
グ25の作用により第1の基板搬送アーム19の先端側
方向に付勢されている。
【0017】圧縮コイルスプリング25,25は、第1
の位置決めガイド18で基板Wの外周端面を押圧する際
において、第2の支持体17による第1の位置決めガイ
ド18の押圧方向への移動量の変動を吸収し、また、個
々の基板Wの外形寸法のばらつきによって基板Wに無理
な力をかけることがないように過大な押圧力を吸収する
ように作用する。
の位置決めガイド18で基板Wの外周端面を押圧する際
において、第2の支持体17による第1の位置決めガイ
ド18の押圧方向への移動量の変動を吸収し、また、個
々の基板Wの外形寸法のばらつきによって基板Wに無理
な力をかけることがないように過大な押圧力を吸収する
ように作用する。
【0018】一方、第2の基板搬送装置9は、図7の斜
視図に示すように、第3の支持体28に、正逆転可能な
第3の電動モータ29によって往復移動される第2のワ
イヤー30と第3のガイド31とによって水平方向に移
動可能に第4の支持体32が設けられ、その第4の支持
体32に、第4の電動モータ33によって回転される偏
芯カム34によって回転される回転体(カムフォロワ)
35と第4のガイド36とによって所定量だけ昇降可能
に第5の支持体37が設けられ、その第5の支持体37
に、基板Wの外周縁を真空吸着によって載置支持する円
弧状の第2の基板搬送アーム38が取り付けられてい
る。第2の基板搬送アーム38は、その先端に、半円の
円弧状であって搬送されるべき基板Wの外周に沿う形状
の吸着部38aを備えており、基板Wの中央部を含んだ
部分で支持する第1の基板搬送アーム19との間で基板
Wを受け渡しする場合に、両方のアームがぶつかること
がないように構成されている。
視図に示すように、第3の支持体28に、正逆転可能な
第3の電動モータ29によって往復移動される第2のワ
イヤー30と第3のガイド31とによって水平方向に移
動可能に第4の支持体32が設けられ、その第4の支持
体32に、第4の電動モータ33によって回転される偏
芯カム34によって回転される回転体(カムフォロワ)
35と第4のガイド36とによって所定量だけ昇降可能
に第5の支持体37が設けられ、その第5の支持体37
に、基板Wの外周縁を真空吸着によって載置支持する円
弧状の第2の基板搬送アーム38が取り付けられてい
る。第2の基板搬送アーム38は、その先端に、半円の
円弧状であって搬送されるべき基板Wの外周に沿う形状
の吸着部38aを備えており、基板Wの中央部を含んだ
部分で支持する第1の基板搬送アーム19との間で基板
Wを受け渡しする場合に、両方のアームがぶつかること
がないように構成されている。
【0019】基板受け渡し位置は、前述のようにカセッ
ト載置部2の下方位置に設定され、前記カセット載置部
2のカセット載置台2aの下面に、基板受け渡し位置の
第2の基板搬送アーム38に近接する位置(詳細は後述
する)に、第1の位置決めガイド18に対向して基板W
の外周端面に当接する円弧面39aを有する第2の位置
決めガイド39が取り付け固定されている。
ト載置部2の下方位置に設定され、前記カセット載置部
2のカセット載置台2aの下面に、基板受け渡し位置の
第2の基板搬送アーム38に近接する位置(詳細は後述
する)に、第1の位置決めガイド18に対向して基板W
の外周端面に当接する円弧面39aを有する第2の位置
決めガイド39が取り付け固定されている。
【0020】次に、上記基板搬送装置による基板Wの搬
送動作について説明する。先ず、図8の(a)の平面図
に示すように(図3および図4参照)、カセット5から
基板Wを取り出すときには、第1の基板搬送アーム19
を所定の高さまで上昇させた後に水平方向に移動させて
カセット5内に突入させ、第1の位置決めガイド18を
基板Wの外周端面に当接させて押圧力を付与し、基板W
の他方の外周端面を溝形成部材7,7のテーパ面Fに押
圧することにより、その3箇所が接触するように溝形成
部材7,7に対して基板Wを変位し、自ずとセンタリン
グ位置になるように基板Wの位置を調整する。このと
き、第1の位置決めガイド18は、基板Wとの当接と第
1の基板搬送アーム19の前進により、圧縮コイルスプ
リング25を圧縮する方向に変位する。
送動作について説明する。先ず、図8の(a)の平面図
に示すように(図3および図4参照)、カセット5から
基板Wを取り出すときには、第1の基板搬送アーム19
を所定の高さまで上昇させた後に水平方向に移動させて
カセット5内に突入させ、第1の位置決めガイド18を
基板Wの外周端面に当接させて押圧力を付与し、基板W
の他方の外周端面を溝形成部材7,7のテーパ面Fに押
圧することにより、その3箇所が接触するように溝形成
部材7,7に対して基板Wを変位し、自ずとセンタリン
グ位置になるように基板Wの位置を調整する。このと
き、第1の位置決めガイド18は、基板Wとの当接と第
1の基板搬送アーム19の前進により、圧縮コイルスプ
リング25を圧縮する方向に変位する。
【0021】その後に、図8の(b)の平面図に示すよ
うに、第1の位置決めガイド18が基板Wの外周端面か
ら離間するように第1の基板搬送アーム19をカセット
5から抜き出す方向に僅かだけ移動させてから、第1の
基板搬送アーム19が吸引動作を行いつつ僅かだけ上昇
して真空吸着を行って基板Wを載置支持し、しかる後
に、第1の基板搬送アーム19を後退させて基板Wをカ
セット5から抜き出す。
うに、第1の位置決めガイド18が基板Wの外周端面か
ら離間するように第1の基板搬送アーム19をカセット
5から抜き出す方向に僅かだけ移動させてから、第1の
基板搬送アーム19が吸引動作を行いつつ僅かだけ上昇
して真空吸着を行って基板Wを載置支持し、しかる後
に、第1の基板搬送アーム19を後退させて基板Wをカ
セット5から抜き出す。
【0022】次いで、図9の(a)の平面図、および、
図9の(b)の一部切欠側面図に示すように、第1の基
板搬送アーム19を第2の基板搬送アーム38の上面付
近の基板受け渡し位置に下降させ、第1の基板搬送アー
ム19による吸着を解除してから更に僅かだけ下降させ
て基板Wを第2の基板搬送アーム38に載置支持させ
る。基板Wは、この時点で第1の基板搬送アーム19の
吸着面から離れ、第2の基板搬送アーム38に移載され
る。
図9の(b)の一部切欠側面図に示すように、第1の基
板搬送アーム19を第2の基板搬送アーム38の上面付
近の基板受け渡し位置に下降させ、第1の基板搬送アー
ム19による吸着を解除してから更に僅かだけ下降させ
て基板Wを第2の基板搬送アーム38に載置支持させ
る。基板Wは、この時点で第1の基板搬送アーム19の
吸着面から離れ、第2の基板搬送アーム38に移載され
る。
【0023】その後、図10の(a)の平面図、およ
び、図10の(b)の一部切欠側面図に示すように、第
1の基板搬送アーム19を第2の基板搬送アーム38側
に移動させ、第1の位置決めガイド18で基板Wの外周
端面を押圧し、基板Wを第2の位置決めガイド39に当
接させ、第1および第2の位置決めガイド18,39で
挟んで位置決めし、基板Wのセンタリングを行う。
び、図10の(b)の一部切欠側面図に示すように、第
1の基板搬送アーム19を第2の基板搬送アーム38側
に移動させ、第1の位置決めガイド18で基板Wの外周
端面を押圧し、基板Wを第2の位置決めガイド39に当
接させ、第1および第2の位置決めガイド18,39で
挟んで位置決めし、基板Wのセンタリングを行う。
【0024】そして、かかる状態で第2の基板搬送アー
ム38が吸引動作を行って基板Wを吸着し、しかる後、
図11の(a)の平面図、および、図11の(b)の一
部切欠側面図に示すように、第1の基板搬送アーム19
を第2の基板搬送アーム38よりも下方の待機位置に下
降させて、基板Wの第1の基板搬送アーム19から第2
の基板搬送アーム38への受け渡し移載を完了する。
ム38が吸引動作を行って基板Wを吸着し、しかる後、
図11の(a)の平面図、および、図11の(b)の一
部切欠側面図に示すように、第1の基板搬送アーム19
を第2の基板搬送アーム38よりも下方の待機位置に下
降させて、基板Wの第1の基板搬送アーム19から第2
の基板搬送アーム38への受け渡し移載を完了する。
【0025】そして、図12の(a)の平面図、およ
び、図12の(b)の一部切欠側面図に示すように、位
置決めされた状態の基板Wを載置支持した第2の基板搬
送アーム38を測定ステージ4側に移動させ、開口40
を通じて処理室41内に搬入して基板Wを測定ステージ
4上まで搬送し、測定ステージ4の吸着を開始するとと
もに第2の基板搬送アーム38による吸着を解除してか
ら第2の基板搬送アーム38を下降し、基板Wを測定ス
テージ4上に載置する。
び、図12の(b)の一部切欠側面図に示すように、位
置決めされた状態の基板Wを載置支持した第2の基板搬
送アーム38を測定ステージ4側に移動させ、開口40
を通じて処理室41内に搬入して基板Wを測定ステージ
4上まで搬送し、測定ステージ4の吸着を開始するとと
もに第2の基板搬送アーム38による吸着を解除してか
ら第2の基板搬送アーム38を下降し、基板Wを測定ス
テージ4上に載置する。
【0026】その後、図示しないが、第2の基板搬送ア
ーム38を後退させて処理室41外の待機位置まで移動
させるとともに、ドア42によって開口40を閉じ、所
定の測定処理を行う。処理の終了後には、前述の場合と
逆の手順によって処理済み基板をカセット5の所定の位
置に戻すことになる。
ーム38を後退させて処理室41外の待機位置まで移動
させるとともに、ドア42によって開口40を閉じ、所
定の測定処理を行う。処理の終了後には、前述の場合と
逆の手順によって処理済み基板をカセット5の所定の位
置に戻すことになる。
【0027】なお、本実施例において、第1の基板搬送
アーム19から第2の基板搬送アーム38に基板Wを移
載するときの第1の基板搬送アーム19の下降距離は、
移載後に第1の基板搬送アーム19を第2の位置決めガ
イド39側に移動させたときに、その第2の位置決めガ
イド39と第1の位置決めガイド18との間で基板Wを
挟むことができるだけの距離である。また、第2の位置
決めガイド39は、基板Wが第2の基板搬送アーム38
に載置された状態で、基板Wが第1の位置決めガイド1
8に押し込まれたときに基板Wの外周端面が第2の位置
決めガイド39に当接するように、第2の基板搬送アー
ム38よりも若干高い位置に設けられている。
アーム19から第2の基板搬送アーム38に基板Wを移
載するときの第1の基板搬送アーム19の下降距離は、
移載後に第1の基板搬送アーム19を第2の位置決めガ
イド39側に移動させたときに、その第2の位置決めガ
イド39と第1の位置決めガイド18との間で基板Wを
挟むことができるだけの距離である。また、第2の位置
決めガイド39は、基板Wが第2の基板搬送アーム38
に載置された状態で、基板Wが第1の位置決めガイド1
8に押し込まれたときに基板Wの外周端面が第2の位置
決めガイド39に当接するように、第2の基板搬送アー
ム38よりも若干高い位置に設けられている。
【0028】また、上記実施例では第2の位置決めガイ
ド39と第2の基板搬送アーム38とを独立して設け、
第2の位置決めガイド39が固定状態のまま第2の基板
搬送アーム38のみが移動するようにしている。このた
め、例えば、第2の位置決めガイドを第2の基板搬送ア
ームに付設した場合のように、センタリング後第2の基
板搬送アームが基板Wを測定ステージ4等に搬送して載
置した後、測定ステージ4等から退避するために下降す
る際に、第2の位置決めガイドの円弧面で基板Wの外周
端面が擦れるというようなことを防ぐことができる。
ド39と第2の基板搬送アーム38とを独立して設け、
第2の位置決めガイド39が固定状態のまま第2の基板
搬送アーム38のみが移動するようにしている。このた
め、例えば、第2の位置決めガイドを第2の基板搬送ア
ームに付設した場合のように、センタリング後第2の基
板搬送アームが基板Wを測定ステージ4等に搬送して載
置した後、測定ステージ4等から退避するために下降す
る際に、第2の位置決めガイドの円弧面で基板Wの外周
端面が擦れるというようなことを防ぐことができる。
【0029】上記実施例では、第1および第2の基板搬
送アーム19,38それぞれを、真空吸着によって基板
Wを載置支持するように構成しているが、本発明として
は、真空吸着によらずに、静電気によって吸着保持する
いわゆる静電チャック構成を用いるとか、あるいは、吸
着によらずに、単に載置するなど、各種の載置支持構成
を採用できる。
送アーム19,38それぞれを、真空吸着によって基板
Wを載置支持するように構成しているが、本発明として
は、真空吸着によらずに、静電気によって吸着保持する
いわゆる静電チャック構成を用いるとか、あるいは、吸
着によらずに、単に載置するなど、各種の載置支持構成
を採用できる。
【0030】上記実施例では、第1の基板搬送アーム1
9に、それと相対変位可能に第1の位置決めガイド18
を設け、一方、カセット載置部2の下方に固定状態で第
2の位置決めガイド39を設けているが、本発明として
は、第1の位置決めガイド18を第1の基板搬送アーム
19に固定状態で設け、一方、カセット載置部2の下方
位置に第2の位置決めガイド39をその円弧面が第1の
位置決めガイド18の進行方向に沿って変位可能に設け
るとともに、第1の位置決めガイド18および基板Wに
よって押されたときに第2の位置決めガイド39が後退
変位可能なスペースを確保するように構成しても良い。
9に、それと相対変位可能に第1の位置決めガイド18
を設け、一方、カセット載置部2の下方に固定状態で第
2の位置決めガイド39を設けているが、本発明として
は、第1の位置決めガイド18を第1の基板搬送アーム
19に固定状態で設け、一方、カセット載置部2の下方
位置に第2の位置決めガイド39をその円弧面が第1の
位置決めガイド18の進行方向に沿って変位可能に設け
るとともに、第1の位置決めガイド18および基板Wに
よって押されたときに第2の位置決めガイド39が後退
変位可能なスペースを確保するように構成しても良い。
【0031】上記実施例では、第2の基板搬送アーム3
8を、第1の位置決めガイド18による押圧方向と対向
する方向に移動するように構成しているが、その対向方
向に直交する水平方向など、第2の基板搬送アーム38
による基板Wの搬送移動方向は、いづれの方向であって
も良い。
8を、第1の位置決めガイド18による押圧方向と対向
する方向に移動するように構成しているが、その対向方
向に直交する水平方向など、第2の基板搬送アーム38
による基板Wの搬送移動方向は、いづれの方向であって
も良い。
【0032】本実施例では、第1の基板搬送アーム19
は基板Wの中央部を含んだ裏面を載置支持するようにし
ているが、基板Wの中心部を外れた箇所を載置支持する
ものでも良く、要するに、基板Wの外周縁を載置支持す
る第2の基板搬送アーム38と干渉しない位置で基板W
を載置支持できるように構成するものであれば良い。
は基板Wの中央部を含んだ裏面を載置支持するようにし
ているが、基板Wの中心部を外れた箇所を載置支持する
ものでも良く、要するに、基板Wの外周縁を載置支持す
る第2の基板搬送アーム38と干渉しない位置で基板W
を載置支持できるように構成するものであれば良い。
【0033】本発明は、上述のようにオリエンテーショ
ンフラットを有する基板Wの搬送に限らず、例えば、ノ
ッチを有する基板など、要するに、円弧状の外周面を有
する基板を搬送する場合に適用できる。
ンフラットを有する基板Wの搬送に限らず、例えば、ノ
ッチを有する基板など、要するに、円弧状の外周面を有
する基板を搬送する場合に適用できる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る発
明の基板搬送装置によれば、例えば、カセットや適所か
ら基板を取り出して適所に基板を搬送するときに、第1
の基板搬送アームから第2の基板搬送アームへの受け渡
しにおいて、第1の基板搬送アームに付設した第1の位
置決めガイドと、基板受け渡し位置の第2の基板搬送ア
ームに近接する位置に設けた第2の位置決めガイドとに
よってセンタリングを行うから、専用の位置決め部が不
用で装置全体を小型化できながら、第1または第2の基
板搬送アームにセンタリングを行うための位置決め装置
を備えさせるといった複雑な構成を採用せずに済み、安
価に構成できるようになった。
明の基板搬送装置によれば、例えば、カセットや適所か
ら基板を取り出して適所に基板を搬送するときに、第1
の基板搬送アームから第2の基板搬送アームへの受け渡
しにおいて、第1の基板搬送アームに付設した第1の位
置決めガイドと、基板受け渡し位置の第2の基板搬送ア
ームに近接する位置に設けた第2の位置決めガイドとに
よってセンタリングを行うから、専用の位置決め部が不
用で装置全体を小型化できながら、第1または第2の基
板搬送アームにセンタリングを行うための位置決め装置
を備えさせるといった複雑な構成を採用せずに済み、安
価に構成できるようになった。
【0035】また、例えば、第1の位置決めガイドを第
1の基板搬送アームに対して相対移動できるように構成
し、その第1の位置決めガイドによって基板をカセット
の奥側に押圧して基板のセンタリングを行い、それを第
1の基板搬送アームだけで測定ステージなどに搬送しよ
うとする場合であると、第1の位置決めガイドによる押
圧作用を解除するために、測定ステージの近くや処理室
内にガイドローラなどのカム機構が必要になってパーテ
ィクルの問題が発生するが、請求項1に係る発明の基板
搬送装置によれば、第1および第2の位置決めガイドに
よって位置決めした基板を第2の基板搬送アームに受け
渡すから、上述のようなカム機構を不用にでき、パーテ
ィクル発生の問題を回避できる。
1の基板搬送アームに対して相対移動できるように構成
し、その第1の位置決めガイドによって基板をカセット
の奥側に押圧して基板のセンタリングを行い、それを第
1の基板搬送アームだけで測定ステージなどに搬送しよ
うとする場合であると、第1の位置決めガイドによる押
圧作用を解除するために、測定ステージの近くや処理室
内にガイドローラなどのカム機構が必要になってパーテ
ィクルの問題が発生するが、請求項1に係る発明の基板
搬送装置によれば、第1および第2の位置決めガイドに
よって位置決めした基板を第2の基板搬送アームに受け
渡すから、上述のようなカム機構を不用にでき、パーテ
ィクル発生の問題を回避できる。
【0036】また、請求項2に係る発明の基板搬送装置
によれば、第1の基板搬送アームに付設した第1の位置
決めガイドを、第1の基板搬送アームに対して移動さ
せ、基板の外周端面に当接させて押し込み、固定の第2
の位置決めガイドに基板の外周端面を当接させて基板の
センタリングを行うから、第2の基板搬送アームを基板
受け渡しに際して停止するときに第2の位置決めガイド
を基準とした位置に停止させれば良く、例えば、第1の
位置決めガイドを固定にして第2の位置決めガイドを移
動可能に設ける場合であると、第2の位置決めガイドの
移動に追随して第2の基板搬送アームを移動させるなど
といった制御動作を行わせなければならないのに比べ、
センタリングを行うための制御構成を簡単にできる。
によれば、第1の基板搬送アームに付設した第1の位置
決めガイドを、第1の基板搬送アームに対して移動さ
せ、基板の外周端面に当接させて押し込み、固定の第2
の位置決めガイドに基板の外周端面を当接させて基板の
センタリングを行うから、第2の基板搬送アームを基板
受け渡しに際して停止するときに第2の位置決めガイド
を基準とした位置に停止させれば良く、例えば、第1の
位置決めガイドを固定にして第2の位置決めガイドを移
動可能に設ける場合であると、第2の位置決めガイドの
移動に追随して第2の基板搬送アームを移動させるなど
といった制御動作を行わせなければならないのに比べ、
センタリングを行うための制御構成を簡単にできる。
【図1】本発明に係る基板搬送装置を用いた、電気的特
性を測定する装置の平面図である。
性を測定する装置の平面図である。
【図2】図1の側面図である。
【図3】要部の一部切欠拡大側面図である。
【図4】要部の一部切欠拡大平面図である。
【図5】基板搬送装置の斜視図である。
【図6】要部の分解斜視図である。
【図7】第2の基板搬送装置の斜視図である。
【図8】搬送動作を説明する要部の平面図である。
【図9】(a)は、搬送動作を説明する要部の平面図、
(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図である。
(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図である。
【図10】(a)は、搬送動作を説明する要部の平面
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
【図11】(a)は、搬送動作を説明する要部の平面
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
【図12】(a)は、搬送動作を説明する要部の平面
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
図、(b)は、搬送動作を説明する一部切欠側面図であ
る。
18…第1の位置決めガイド 19…第1の基板搬送アーム 38…第2の基板搬送アーム 39…第2の位置決めガイド W…基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027 21/66 L 7630−4M (72)発明者 中谷 郁祥 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 今岡 康浩 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内
Claims (2)
- 【請求項1】 円弧状の外周面を有する基板の裏面を載
置支持する第1の基板搬送アームを上下方向に移動可能
に設けるとともに、基板受け渡し位置において前記第1
の基板搬送アームに支持された前記基板の外周端縁を載
置支持する第2の基板搬送アームを水平方向に移動可能
に設け、前記第1の基板搬送アームに、前記基板の外周
端面に当接する第1の位置決めガイドを付設するととも
に、基板受け渡し位置の前記第2の基板搬送アームに近
接する位置に、前記第1の位置決めガイドに対向して前
記基板の外周端面に当接する第2の位置決めガイドを設
け、かつ、前記第1および第2の位置決めガイドのいず
れか一方を対向方向に遠近変位可能に設け、前記第1お
よび第2の位置決めガイドで挟まれて位置決めされた前
記基板を前記第2の基板搬送アームで載置支持するよう
に構成したことを特徴とする基板搬送装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の第1の位置決めガイド
を、前記第2の位置決めガイドに対して遠近するように
第1の基板搬送アームに相対移動可能に設けてある基板
搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5245914A JP2901469B2 (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5245914A JP2901469B2 (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0778859A true JPH0778859A (ja) | 1995-03-20 |
| JP2901469B2 JP2901469B2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=17140717
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5245914A Expired - Fee Related JP2901469B2 (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2901469B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002217261A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-08-02 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 |
| WO2009107550A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | タツモ株式会社 | 搬送ロボット |
| JP2010541201A (ja) * | 2007-09-22 | 2010-12-24 | ダイナミック マイクロシステムズ セミコンダクター イクイップメント ゲーエムベーハー | 複数のウェハを取り扱う能力を備えた受渡し機構 |
| KR101115934B1 (ko) * | 2005-07-25 | 2012-02-13 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판의 반송 장치 |
| JP2012196768A (ja) * | 2012-07-25 | 2012-10-18 | Yaskawa Electric Corp | ハンドリングシステムおよびハンドリング方法 |
| WO2024105732A1 (ja) * | 2022-11-14 | 2024-05-23 | 株式会社日立ハイテク | ウェーハ搬送ロボット |
-
1993
- 1993-09-06 JP JP5245914A patent/JP2901469B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002217261A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-08-02 | Tokyo Electron Ltd | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 |
| KR101115934B1 (ko) * | 2005-07-25 | 2012-02-13 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판의 반송 장치 |
| JP2010541201A (ja) * | 2007-09-22 | 2010-12-24 | ダイナミック マイクロシステムズ セミコンダクター イクイップメント ゲーエムベーハー | 複数のウェハを取り扱う能力を備えた受渡し機構 |
| WO2009107550A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | タツモ株式会社 | 搬送ロボット |
| JP2009206264A (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-10 | Tatsumo Kk | 搬送ロボット |
| US8459928B2 (en) | 2008-02-27 | 2013-06-11 | Tazmo Co., Ltd. | Conveyor robot |
| JP2012196768A (ja) * | 2012-07-25 | 2012-10-18 | Yaskawa Electric Corp | ハンドリングシステムおよびハンドリング方法 |
| WO2024105732A1 (ja) * | 2022-11-14 | 2024-05-23 | 株式会社日立ハイテク | ウェーハ搬送ロボット |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2901469B2 (ja) | 1999-06-07 |
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