JPH0780237A - 排ガスの除害方法及び除害剤 - Google Patents
排ガスの除害方法及び除害剤Info
- Publication number
- JPH0780237A JPH0780237A JP5228818A JP22881893A JPH0780237A JP H0780237 A JPH0780237 A JP H0780237A JP 5228818 A JP5228818 A JP 5228818A JP 22881893 A JP22881893 A JP 22881893A JP H0780237 A JPH0780237 A JP H0780237A
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- JP
- Japan
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- exhaust gas
- aqueous solution
- agent
- harmful
- volatile inorganic
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- Pending
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- Treating Waste Gases (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有害成分として揮発性無機水素化物，揮発性
無機ハロゲン化物，有機金属化合物を含む排ガスを、効
率良く安全に除害することができる方法及び除害剤を提
供する。 【構成】 排ガス、特に有害成分として揮発性無機水素
化物，揮発性無機ハロゲン化物，有機金属化合物を含む
排ガスを、二価の銅イオンを含む水溶液を主成分とした
除害剤に接触させる。
無機ハロゲン化物，有機金属化合物を含む排ガスを、効
率良く安全に除害することができる方法及び除害剤を提
供する。 【構成】 排ガス、特に有害成分として揮発性無機水素
化物，揮発性無機ハロゲン化物，有機金属化合物を含む
排ガスを、二価の銅イオンを含む水溶液を主成分とした
除害剤に接触させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、排ガスの除害方法及び
除害剤に関し、特に、有害成分として揮発性無機水素化
物，揮発性無機ハロゲン化物，有機金属化合物を含む排
ガス、例えばアルシン，ホスフィン等を含む排ガスの除
害方法及びこれに用いる除害剤に関する。
除害剤に関し、特に、有害成分として揮発性無機水素化
物，揮発性無機ハロゲン化物，有機金属化合物を含む排
ガス、例えばアルシン，ホスフィン等を含む排ガスの除
害方法及びこれに用いる除害剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体工業の進歩に伴い、半導体製造工
場等で使用される材料ガスも多様化し、揮発性無機水素
化物，揮発性無機ハロゲン化物，有機金属化合物等の毒
性や可燃性を有する有害物質が使われるようになってき
ている。したがって、半導体製造工程からは、これらの
有害物質を含む排ガスが排出されるが、これらのガス
は、毒性や可燃性を有しており有害なので、排ガスを大
気放出する前に無害化する必要があり、従来から種々の
除害方法及び除害剤が提案されている。
場等で使用される材料ガスも多様化し、揮発性無機水素
化物，揮発性無機ハロゲン化物，有機金属化合物等の毒
性や可燃性を有する有害物質が使われるようになってき
ている。したがって、半導体製造工程からは、これらの
有害物質を含む排ガスが排出されるが、これらのガス
は、毒性や可燃性を有しており有害なので、排ガスを大
気放出する前に無害化する必要があり、従来から種々の
除害方法及び除害剤が提案されている。
【０００３】このうち、除害剤として水溶液を用いた除
害方法としては、例えば、過マンガン酸塩や次亜塩素酸
塩等の酸化剤を溶解させた水溶液と上記有害成分を含む
排ガスとを、スクラバーや噴霧装置で接触させて除害す
る方法が行われていた。
害方法としては、例えば、過マンガン酸塩や次亜塩素酸
塩等の酸化剤を溶解させた水溶液と上記有害成分を含む
排ガスとを、スクラバーや噴霧装置で接触させて除害す
る方法が行われていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、過マン
ガン酸塩は水に対する溶解度が小さく、例えば、過マン
ガン酸塩としてよく使われる過マンガン酸カリウムは、
２０℃における溶解度が、水１００ｇに対して６．３４
ｇと小さく、大量の水を必要とし、装置が大型になるだ
けでなく、除害効果を維持するためには、溶液を短時間
で交換しなければならず手間がかかるという不都合があ
り、次亜塩素酸塩は、爆発性があり安全対策を必要とす
るという不都合がある。
ガン酸塩は水に対する溶解度が小さく、例えば、過マン
ガン酸塩としてよく使われる過マンガン酸カリウムは、
２０℃における溶解度が、水１００ｇに対して６．３４
ｇと小さく、大量の水を必要とし、装置が大型になるだ
けでなく、除害効果を維持するためには、溶液を短時間
で交換しなければならず手間がかかるという不都合があ
り、次亜塩素酸塩は、爆発性があり安全対策を必要とす
るという不都合がある。
【０００５】このように、酸化剤の水溶液に有害成分を
含む排ガスを接触させて除害する従来の方法は、実用上
不都合な点が多かった。
含む排ガスを接触させて除害する従来の方法は、実用上
不都合な点が多かった。
【０００６】そこで本発明者らは、効率よくかつ安全に
有害成分を除害することができる方法及び除害剤を得る
ために鋭意研究を行った。その結果、二価の銅イオンを
含む水溶液が上記有害成分の除害に著しい効果を有して
いることを知見した。しかも、二価の銅イオンを含む水
溶液は、安全で、かつ、溶解度が大きいことに着目し
た。
有害成分を除害することができる方法及び除害剤を得る
ために鋭意研究を行った。その結果、二価の銅イオンを
含む水溶液が上記有害成分の除害に著しい効果を有して
いることを知見した。しかも、二価の銅イオンを含む水
溶液は、安全で、かつ、溶解度が大きいことに着目し
た。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の排ガ
スの除害方法は、排ガス、特に有害成分として揮発性無
機水素化物，揮発性無機ハロゲン化物，有機金属化合物
を含む排ガスを、二価の銅イオンを含む水溶液と接触さ
せることを特徴とするものであり、また、本発明の排ガ
スの除害剤は、二価の銅イオンを含む水溶液を主成分と
することを特徴としている。
スの除害方法は、排ガス、特に有害成分として揮発性無
機水素化物，揮発性無機ハロゲン化物，有機金属化合物
を含む排ガスを、二価の銅イオンを含む水溶液と接触さ
せることを特徴とするものであり、また、本発明の排ガ
スの除害剤は、二価の銅イオンを含む水溶液を主成分と
することを特徴としている。
【０００８】本発明は、有害成分として、シラン，アル
シン，ホスフィン等の揮発性無機水素化物、ジクロルシ
ラン，トリクロルシラン，塩化水素等の揮発性無機ハロ
ゲン化水素化物、アルキルシラン，アルコキシシラン等
の有機金属化合物をいずれか少なくとも一種を含む排ガ
ス、すなわち、半導体工業における排ガスの除害に特に
適したものである。
シン，ホスフィン等の揮発性無機水素化物、ジクロルシ
ラン，トリクロルシラン，塩化水素等の揮発性無機ハロ
ゲン化水素化物、アルキルシラン，アルコキシシラン等
の有機金属化合物をいずれか少なくとも一種を含む排ガ
ス、すなわち、半導体工業における排ガスの除害に特に
適したものである。
【０００９】本発明は、上記のような有害成分を含む排
ガスを、除害剤である二価の銅イオンを含む水溶液に接
触させて除害するものであるが、有害成分と除害剤との
接触形態は特に限定されるものではなく、二価の銅イオ
ンを含む水溶液中に排ガスをバブリングする方法，スク
ラバーや噴霧装置で気液接触させる方法、あるいは、該
水溶液をケイソウ土やシリカゲル等の担体に含浸担持さ
せたものを充填した充填筒に排ガスを通す方法等によっ
て行うことができる。
ガスを、除害剤である二価の銅イオンを含む水溶液に接
触させて除害するものであるが、有害成分と除害剤との
接触形態は特に限定されるものではなく、二価の銅イオ
ンを含む水溶液中に排ガスをバブリングする方法，スク
ラバーや噴霧装置で気液接触させる方法、あるいは、該
水溶液をケイソウ土やシリカゲル等の担体に含浸担持さ
せたものを充填した充填筒に排ガスを通す方法等によっ
て行うことができる。
【００１０】除害剤としての二価の銅イオンを含む水溶
液とは、硫酸銅水溶液，硝酸銅水溶液，塩化銅水溶液，
臭化銅水溶液等の種々の銅の化合物の水溶液を含み、一
般に、二価の銅イオンを発生する任意の水溶液を用いる
ことでができる。また、上記水溶液には、必要に応じて
各種物質を添加することができ、例えば、各種の酸，ア
ルカリ，塩類を添加してｐＨ調整を行ったりすることも
できる。
液とは、硫酸銅水溶液，硝酸銅水溶液，塩化銅水溶液，
臭化銅水溶液等の種々の銅の化合物の水溶液を含み、一
般に、二価の銅イオンを発生する任意の水溶液を用いる
ことでができる。また、上記水溶液には、必要に応じて
各種物質を添加することができ、例えば、各種の酸，ア
ルカリ，塩類を添加してｐＨ調整を行ったりすることも
できる。
【００１１】本発明の除害剤は、爆発性等がなく安全
で、しかも２０℃における溶解度は、下記に示すように
前記過マンガン酸カリウムに比べて遥かに大きい。この
ため、水量を少なくすることができるとともに、除害効
果を長時間維持することができる。
で、しかも２０℃における溶解度は、下記に示すように
前記過マンガン酸カリウムに比べて遥かに大きい。この
ため、水量を少なくすることができるとともに、除害効
果を長時間維持することができる。
【００１２】 硫酸銅（ＣｕＳＯ4 ） ２３ｇ／１００ｇＨ2 Ｏ 硝酸銅（Ｃｕ（ＮＯ3 ）2 ） ６０ 〃 塩化銅（ＣｕＣｌ2 ） ７６ 〃 臭化銅（ＣｕＢｒ2 ） １２２ 〃
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例及び比較例を説明す
る。 実施例１ 除害剤として、水１００ｇに対し硫酸銅を２０ｇの割合
で溶解した硫酸銅水溶液を１５リットル調製した。この
除害剤を、ラヒシリングを高さ７００ｍｍに充填した内
径２００ｍｍの充填筒の上部からスプレーで毎分５リッ
トルの割合で供給し循環させた。
る。 実施例１ 除害剤として、水１００ｇに対し硫酸銅を２０ｇの割合
で溶解した硫酸銅水溶液を１５リットル調製した。この
除害剤を、ラヒシリングを高さ７００ｍｍに充填した内
径２００ｍｍの充填筒の上部からスプレーで毎分５リッ
トルの割合で供給し循環させた。
【００１４】そして、充填筒の下部から、有害成分含有
ガスとしてシラン1 ％を含む窒素ガスを、毎分５リット
ルの割合で導入し、充填筒上部からの排出ガス中のシラ
ン濃度を検知器（日本酸素製ＡＤ−１０）で分析した。
その結果、シラン濃度は許容濃度の５ｐｐｍ以下であっ
た。また、ガスの供給を開始してから約１００時間後に
排出ガス中のシラン濃度が５ｐｐｍを超えた。
ガスとしてシラン1 ％を含む窒素ガスを、毎分５リット
ルの割合で導入し、充填筒上部からの排出ガス中のシラ
ン濃度を検知器（日本酸素製ＡＤ−１０）で分析した。
その結果、シラン濃度は許容濃度の５ｐｐｍ以下であっ
た。また、ガスの供給を開始してから約１００時間後に
排出ガス中のシラン濃度が５ｐｐｍを超えた。
【００１５】実施例２ 除害剤として、水１００ｇに対し塩化銅を４０ｇの割合
で溶解した塩化銅水溶液を使用した以外は、実施例１と
同様に操作を行った。その結果、排出ガス中のシラン濃
度は、ガスの供給を開始してから約２３０時間後に５ｐ
ｐｍを超えた。
で溶解した塩化銅水溶液を使用した以外は、実施例１と
同様に操作を行った。その結果、排出ガス中のシラン濃
度は、ガスの供給を開始してから約２３０時間後に５ｐ
ｐｍを超えた。
【００１６】実施例３ 除害剤として、水１００ｇに対し硝酸銅を４０ｇの割合
で溶解した硝酸銅水溶液を使用した以外は、実施例１と
同様に操作を行った。その結果、排出ガス中のシラン濃
度は、ガスの供給を開始してから約１６０時間後に５ｐ
ｐｍを超えた。
で溶解した硝酸銅水溶液を使用した以外は、実施例１と
同様に操作を行った。その結果、排出ガス中のシラン濃
度は、ガスの供給を開始してから約１６０時間後に５ｐ
ｐｍを超えた。
【００１７】比較例１ 除害剤として、水１００ｇに対し過マンガン酸カリウム
を６ｇの割合で溶解した過マンガン酸カリウム水溶液を
使用した以外は、実施例１と同様に操作を行った。その
結果、排出ガス中のシラン濃度は、ガスの供給を開始し
てから約３０時間後に５ｐｐｍを超えた。
を６ｇの割合で溶解した過マンガン酸カリウム水溶液を
使用した以外は、実施例１と同様に操作を行った。その
結果、排出ガス中のシラン濃度は、ガスの供給を開始し
てから約３０時間後に５ｐｐｍを超えた。
【００１８】実施例４ 実施例１において、有害成分含有ガスとして、アルシン
１％，ホスフィン１％，シラン１％を含む窒素ガスを使
用した以外は、実施例１と同様に操作を行った。その結
果、排出ガス中の全ての有害成分の濃度は、いずれも許
容濃度（アルシン：０．０５ｐｐｍ、ホスフィン：０．
３ｐｐｍ、シラン：５ｐｐｍ）以下であった。
１％，ホスフィン１％，シラン１％を含む窒素ガスを使
用した以外は、実施例１と同様に操作を行った。その結
果、排出ガス中の全ての有害成分の濃度は、いずれも許
容濃度（アルシン：０．０５ｐｐｍ、ホスフィン：０．
３ｐｐｍ、シラン：５ｐｐｍ）以下であった。
【００１９】実施例５ 実施例１において、有害成分含有ガスとして、窒素ガス
中にジクロルシランを１％含むガスを使用した以外は、
実施例１と同様に操作を行った。その結果、ガスの供給
を開始してから約５０時間後に、排出ガス中のジクロル
シランの濃度が５ｐｐｍを超えた。
中にジクロルシランを１％含むガスを使用した以外は、
実施例１と同様に操作を行った。その結果、ガスの供給
を開始してから約５０時間後に、排出ガス中のジクロル
シランの濃度が５ｐｐｍを超えた。
【００２０】実施例６ 実施例１において、有害成分含有ガスとして、窒素ガス
中にターシャリーブチルアルシンを１％含むガスを使用
した以外は、実施例１と同様に操作を行った。その結
果、ガスの供給を開始してから約９０時間後に、排出ガ
ス中のターシャリーブチルアルシンの濃度が０．０５ｐ
ｐｍを超えた。
中にターシャリーブチルアルシンを１％含むガスを使用
した以外は、実施例１と同様に操作を行った。その結
果、ガスの供給を開始してから約９０時間後に、排出ガ
ス中のターシャリーブチルアルシンの濃度が０．０５ｐ
ｐｍを超えた。
【００２１】実施例７ 水１０００ｇに硝酸銅を３００ｇを溶解した硝酸銅水溶
液をケイソウ土１Ｋｇに含浸させて担持させた。これを
内径４３ｍｍの充填筒に、高さ３００ｍｍに充填したと
ころ、充填量は３００ｇであった。
液をケイソウ土１Ｋｇに含浸させて担持させた。これを
内径４３ｍｍの充填筒に、高さ３００ｍｍに充填したと
ころ、充填量は３００ｇであった。
【００２２】そして、充填塔の上部から、アルシン1 ％
を含む窒素ガスを毎分８７リットルの割合で導入し、充
填筒下部から排出されるガス中のアルシンの濃度を測定
した結果、０．０５ｐｐｍ以下であった。
を含む窒素ガスを毎分８７リットルの割合で導入し、充
填筒下部から排出されるガス中のアルシンの濃度を測定
した結果、０．０５ｐｐｍ以下であった。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明方法によれ
ば、排ガス中に含まれる揮発性水素化物，揮発性ハロゲ
ン化物，有機金属化合物をはじめとする有害成分を効果
的に除害することができ、しかも、本発明の除害剤は、
次亜塩素酸塩のような危険がなく、さらに、従来の過マ
ンガン酸塩水溶液による方法に比べて、同じ水量におけ
る除害容量が大きいので、除害剤の長寿命化や装置の小
型化を図れる。
ば、排ガス中に含まれる揮発性水素化物，揮発性ハロゲ
ン化物，有機金属化合物をはじめとする有害成分を効果
的に除害することができ、しかも、本発明の除害剤は、
次亜塩素酸塩のような危険がなく、さらに、従来の過マ
ンガン酸塩水溶液による方法に比べて、同じ水量におけ
る除害容量が大きいので、除害剤の長寿命化や装置の小
型化を図れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/14 １０２ 53/46 53/68 53/64 Ｂ０１Ｄ 53/34 １３４ Ｃ １３６ Ｚ
Claims (2)
- 【請求項１】 排ガスを二価の銅イオンを含む水溶液と
接触させることを特徴とする排ガスの除害方法。 - 【請求項２】 二価の銅イオンを含む水溶液を主成分と
することを特徴とする排ガスの除害剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5228818A JPH0780237A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 排ガスの除害方法及び除害剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5228818A JPH0780237A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 排ガスの除害方法及び除害剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0780237A true JPH0780237A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=16882346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5228818A Pending JPH0780237A (ja) | 1993-09-14 | 1993-09-14 | 排ガスの除害方法及び除害剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0780237A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008050249A (ja) * | 2006-05-19 | 2008-03-06 | Air Products & Chemicals Inc | ルイス気体／液体系を製造しその系からルイス気体を回収する接触法 |
-
1993
- 1993-09-14 JP JP5228818A patent/JPH0780237A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008050249A (ja) * | 2006-05-19 | 2008-03-06 | Air Products & Chemicals Inc | ルイス気体／液体系を製造しその系からルイス気体を回収する接触法 |
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