JPH0780379B2 - IC card - Google Patents

IC card

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JPH0780379B2
JPH0780379B2 JP61119242A JP11924286A JPH0780379B2 JP H0780379 B2 JPH0780379 B2 JP H0780379B2 JP 61119242 A JP61119242 A JP 61119242A JP 11924286 A JP11924286 A JP 11924286A JP H0780379 B2 JPH0780379 B2 JP H0780379B2
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JP
Japan
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card
chip
grinding
long side
wafer
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愛明 吉浦
翼 海野
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路(IC)を内蔵するカード状半
導体装置(以下、ICカードという)に関し、特に、ICカ
ードに内蔵されるICチップのクラック防止技術に適用し
て有効な技術に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a card-shaped semiconductor device (hereinafter referred to as an IC card) having a semiconductor integrated circuit (IC) built therein, and particularly to an IC chip built in the IC card. The present invention relates to a technology effectively applied to the crack prevention technology of.

〔従来技術〕[Prior art]

中央処理装置の入出力端末装置に着脱可能なキャシュカ
ード、電話カード等のカードが頻ぱんに使用されてい
る。このカードは、一般的に、磁気記録する磁性表面層
を設けた読出専用の不揮発性記憶機能を有するものであ
る。この種のカードは、磁性表面層の面積及び磁性体の
高密度化に限界があるので情報量が少ない。
Cards such as cash cards and telephone cards that can be attached to and detached from the input / output terminal of the central processing unit are frequently used. This card generally has a read-only nonvolatile storage function provided with a magnetic surface layer for magnetic recording. This type of card has a small amount of information because it has a limit in the area of the magnetic surface layer and the densification of the magnetic material.

これに対して、マイクロコンピュータや電気的消去型不
揮発性記憶機能等の半導体集積回路を内蔵するICカード
は、マイクロコンピュータや不揮発性記憶機能を構成す
る半導体チップを高集積化できるので、情報量を多くす
ることができる。また、ICカードは、独立に情報処理を
行えるので、中央処理装置と入力端末装置との通信処理
量が低減できる等の特徴を有している。
On the other hand, an IC card incorporating a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer or an electrically erasable non-volatile memory function can highly integrate the semiconductor chip that constitutes the microcomputer or the non-volatile memory function, so You can do a lot. Further, since the IC card can independently perform information processing, it has a feature that the communication processing amount between the central processing unit and the input terminal device can be reduced.

前記ICカードは、第9図に示すように、コア部材1の中
にICチップ2を挟んで、前記コア部材1の両面に保護カ
バー3を設けて高温プレスで熱圧着して形成したもので
ある。
As shown in FIG. 9, the IC card is formed by sandwiching an IC chip 2 in a core member 1, providing protective covers 3 on both sides of the core member 1, and thermocompression bonding with a high temperature press. is there.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、発明者は、前記ICカード技術を検討した
結果、次に示す問題点があることを見い出した。
However, as a result of examining the IC card technology, the inventor has found out the following problems.

すなわち、ICカードに使用されるICチップが比較的薄い
厚さにされることに応じて、薄い厚さを持つことが必要
とされる。ICチップは、一般的な半導体装置のそれと同
様に半導体ウエハの厚さを、最終的に得るべきICチップ
のそれと同様にする場合は、かかる半導体ウエハの機械
的強度が低下されることになり、半導体ウエハが破損し
やすくなる。
That is, the IC chip used in the IC card is required to have a small thickness in accordance with the relatively small thickness. If the IC chip has the same thickness as that of a general semiconductor device and that of the IC chip to be finally obtained, the mechanical strength of the semiconductor wafer will be lowered. The semiconductor wafer is easily damaged.

そこで、最終的に得るべきICチップにかかわらずに比較
的厚い厚さの半導体ウエハに公知の方法によって種々の
回路素子等を形成する。すなわち、半導体ウエハは、チ
ップ分割の直前まで比較的厚い厚さにされる。その後、
半導体ウエハは、その回路素子等を形成した面とは反対
の面(以下、裏面という)が例えば機械的に研削される
ことによってその厚さが薄くされ、更にその後に複数の
ICチップに分割される。
Therefore, various circuit elements and the like are formed on a semiconductor wafer having a relatively large thickness by a known method regardless of the IC chip to be finally obtained. That is, the semiconductor wafer is made relatively thick until just before chip division. afterwards,
The semiconductor wafer is thinned by, for example, mechanically grinding the surface opposite to the surface on which the circuit elements and the like are formed (hereinafter referred to as the back surface), and then a plurality of semiconductor wafers are formed.
Divided into IC chips.

ICカードは、ポケット等に入れて携帯して持ち歩くた
め、湾曲を受け、それによって曲げモーメントによる応
力が加えられることがある。
Since the IC card is carried in a pocket or the like and carried around, it may be bent, which may cause stress due to a bending moment.

上述のように、ICチップは、その厚さが比較的薄い厚さ
にされるので、機械応力に対する強度が小さい。このた
め、上述のような力によって容易にICチップにクラック
が生じ、その結果としてICカードが使用不可能となる。
As described above, since the IC chip has a relatively small thickness, it has low strength against mechanical stress. Therefore, the above-mentioned force easily causes a crack in the IC chip, and as a result, the IC card becomes unusable.

本発明の目的は、ICカードにおいて、ICチップにクラッ
クが生じるのを低減もしくは防止することができる技術
を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a technique capable of reducing or preventing the occurrence of cracks in IC chips in IC cards.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
The following is a brief description of the outline of the typical inventions among the inventions disclosed in the present application.

すなわち、絶縁性の可撓性を有するコア部材の中に長方
形の半導体チップを埋込み、コア部材の両面に絶縁性の
可撓性を有する保護カバーを設けて成るICカードであっ
て、前記半導体チップのウエハの裏面の研削(グライン
ド)方向がその長辺に実質的に平行となるようにされて
成るものである。
That is, an IC card in which a rectangular semiconductor chip is embedded in an insulating flexible core member, and an insulating flexible protective cover is provided on both surfaces of the core member. The back surface of the wafer has a grinding (grinding) direction substantially parallel to its long side.

〔作用〕[Action]

前記した手段によれば、ICチップのウエハの裏面の研削
(グラインド)方向がその長辺と平行となるようにされ
てなることにより、曲げ応力に対して強いICカードを得
ることができる。
According to the above-mentioned means, since the grinding (grinding) direction of the back surface of the IC chip wafer is parallel to its long side, an IC card that is strong against bending stress can be obtained.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下、本発明の一実施例を図面を用いて具体的に説明す
る。
An embodiment of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

なお、全図において、同一機能を有するものは同一符号
を付け、その繰り返しの説明は省略する。
In all the drawings, those having the same function are designated by the same reference numeral, and repeated description thereof will be omitted.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、本発明の一実施例のICカードの概略構成を示
す平面図、 第2図は、第1図のII−II切断線で切った断面図、 第3図は、本実施例の原理を説明するための図である。
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of an IC card according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II of FIG. 1, and FIG. It is a figure for explaining the principle of.

第4図は、本発明の一実施例のICチップの概略構成を示
す模写図である。
FIG. 4 is a copy diagram showing a schematic configuration of an IC chip according to an embodiment of the present invention.

本実施例のICカードは、第1図及び第2図に示すよう
に、例えば、塩化ビニール等から成る絶縁性の可撓性を
有するコア部材の間に、例えば、シリコン基板を用いた
ICチップ2を埋め込んで、前記コア部材1の両面に、例
えば、塩化ビニール等から成る絶縁性の可撓性を有する
保護カバー3で覆って高温プレス等で熱圧着されて形成
される。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the IC card of this embodiment uses, for example, a silicon substrate between core members having insulation flexibility such as vinyl chloride.
The IC chip 2 is embedded, and both surfaces of the core member 1 are covered with a protective cover 3 made of vinyl chloride or the like and having insulating flexibility, and thermocompression bonded by a high temperature press or the like.

ここで、前記ICカードの曲げに対する強度を検討する。Here, the bending strength of the IC card will be examined.

ここで、ICチップ2は、次のようにして得られる。Here, the IC chip 2 is obtained as follows.

先ず、公知の集積回路形成技術によってその表面にMOSF
ETのような回路素子、配線、電極等が形成された比較的
厚い厚さの半導体ウエハが準備される。かかる半導体ウ
エハが、次に研削における試料テーブルに、真空吸着の
ような方法によって固定される。この状態において、回
転研削ディスクもしくは試料テーブルが移動され、その
結果として半導体ウエハは、その裏面が機械研削されて
その厚さが薄くされる。
First, a MOSF is formed on the surface of the surface by a known integrated circuit forming technique.
A relatively thick semiconductor wafer on which circuit elements such as ET, wiring, electrodes, etc. are formed is prepared. Such a semiconductor wafer is then fixed to a sample table for grinding by a method such as vacuum adsorption. In this state, the rotary grinding disk or the sample table is moved, and as a result, the back surface of the semiconductor wafer is mechanically ground to reduce its thickness.

特に制限されないが、研削装置は、比較的大きい砥粒が
使用された研削ディスクと比較的小さい砥粒が使用され
た研削ディスクのような複数個の研削ディスクを備え
る。これによって、早い速度の研削が可能にされ、ま
た、半導体ウエハ裏面に残る機械歪が小さくされる。
Although not particularly limited, the grinding device includes a plurality of grinding disks such as a grinding disk in which relatively large abrasive particles are used and a grinding disk in which relatively small abrasive particles are used. This enables high speed grinding and reduces the mechanical strain remaining on the back surface of the semiconductor wafer.

半導体ウエハは、その後、ダイシング装置の試料テーブ
ル上に移され、ダイシングによって、複数のICチップに
分割される。
After that, the semiconductor wafer is transferred onto a sample table of a dicing device and divided into a plurality of IC chips by dicing.

なお、半導体ウエハの厚さは、化学的研削によって減少
される場合がある。すなわち、この場合、半導体ウエハ
は、例えばワックスのような耐食接着材によってその表
面側が試料台に接着され、次に、その裏面がエッチング
液によってエッチングされる。この場合、半導体ウエハ
の裏面側には、実質的に機械歪は与えられない。しかし
ながら、その場合、研削速度が比較的遅い点及び接着が
良好でないと、表面側の配線層などがエッチング液によ
って損傷されてしまうことを注意する必要がある。
Note that the thickness of the semiconductor wafer may be reduced by chemical grinding. That is, in this case, the front surface side of the semiconductor wafer is adhered to the sample table by a corrosion resistant adhesive such as wax, and then the back surface thereof is etched by the etching solution. In this case, substantially no mechanical strain is applied to the back surface side of the semiconductor wafer. However, in that case, it should be noted that the wiring layer on the front surface side is damaged by the etching solution unless the grinding speed is relatively slow and the adhesion is not good.

長方形のICチップ2の場合、第3図に示すように、X方
向の曲げf(x)とY方向のf(y)とを比較して見る
と、y>xの時、x方向(短辺方向)の方が曲げに対し
て強い。そこで、本実施例では強度の高いICチップ2の
短辺方向を、大きな曲げの力が作用するICカードの長辺
方向に配設することによってICカードの強度を向上させ
ることができる。
In the case of the rectangular IC chip 2, as shown in FIG. 3, comparing bending f (x) in the X direction and f (y) in the Y direction, when y> x, the x direction (short The side direction is stronger against bending. Therefore, in this embodiment, the strength of the IC card can be improved by arranging the short side direction of the IC chip 2 having high strength in the long side direction of the IC card to which a large bending force acts.

第5図及び第6図は、本実施例に係るICチップを得るべ
きウエハの構造を示す平面図であり、第5図は、ウエハ
の裏面の研削方向がオリエンテーション・フラット(or
ientation flat)とほぼ平行になされたものである。第
6図は、ウエハの裏面の研削方向がオリエンテーション
・フラットに対して垂直になされたものである。
5 and 6 are plan views showing the structure of the wafer from which the IC chip according to this embodiment is to be obtained. In FIG. 5, the back surface of the wafer is ground in the orientation flat (or
ientation flat) is almost parallel to. In FIG. 6, the back surface of the wafer is ground in a direction perpendicular to the orientation flat.

第7図は、第5図に示すウエハの中からA,Bの形状に切
出したものにおける研削ステップ数、すなわち所定の厚
さにするまでの同一研削装置に通す回数と抗折破断強度
の関係を示す実験特性図であり、それぞれA,Bの研削方
向にされた半導体チップの抗折破断強度特性を示したも
のである。第7図に従うと、研削方向が、長辺と実質的
に平行にされた方が抗折破断強度が大きいことが明らで
ある。
Fig. 7 shows the relationship between the number of grinding steps, that is, the number of passing through the same grinding machine until a predetermined thickness is obtained, and the transverse rupture strength of the wafers cut into A and B shapes from the wafer shown in Fig. 5. FIG. 3 is an experimental characteristic diagram showing the above, and shows the transverse rupture strength characteristics of the semiconductor chips in the grinding directions A and B, respectively. According to FIG. 7, it is clear that the bending fracture strength is greater when the grinding direction is substantially parallel to the long side.

第8図は、第6図に示すような研削方向にされたウエ
ハ、すなわち、第5図の場合のそれに対し、研削方向が
ほぼ90゜変更されたウエハにおける研削砥粒とICチップ
の抗折破断強度との関係を示す実験特性図である。
FIG. 8 shows the bending resistance of the abrasive grains and the IC chip in the wafer in the grinding direction shown in FIG. 6, that is, in the case of the wafer in FIG. It is an experimental characteristic figure which shows the relationship with breaking strength.

第5図及び第6図の半導体ウエハは、その結晶面、オリ
エンテーションフラットの方向等が互いに同じにされて
いる。第5図乃至第8図から明らかなように、抗折破断
強度の相対的関係は、半導体ウエハの結晶方向に実質的
に関係ないと理解されてよい。
The semiconductor wafers of FIGS. 5 and 6 have the same crystal plane, orientation flat direction, and the like. As is clear from FIGS. 5 to 8, it can be understood that the relative relationship of the bending strength is not substantially related to the crystal orientation of the semiconductor wafer.

このようにICチップ2の研削(グラインダ)方向(研削
跡線)がその長辺と平行となるように、ICチップ2を研
削することによって得られる強度の高いICチップ2を用
いることによってICカードの強度を高めることができ
る。加えて、本実施例はICチップ2の長辺がICカードの
長辺方向に対して垂直になるように配設したものであ
る。
Thus, by using the IC chip 2 having high strength obtained by grinding the IC chip 2 so that the grinding (grinding) direction (grinding trace) of the IC chip 2 is parallel to the long side of the IC card 2. The strength of can be increased. In addition, this embodiment is arranged so that the long side of the IC chip 2 is perpendicular to the long side direction of the IC card.

このように、ICカードの曲げの力が一番かかるICカード
の長辺方向に、ICチップ2Aの長辺を垂直に配設したこと
により、前記曲げの力は、ICチップ2Aの曲げに強い短辺
側に加わるので、ICチップ2にクラックが発生するのを
さらに低減もしくは防止することができる。
Thus, by arranging the long side of the IC chip 2A vertically in the long side direction of the IC card where the bending force of the IC card is most applied, the bending force is strong against the bending of the IC chip 2A. Since the short side is added, it is possible to further reduce or prevent the occurrence of cracks in the IC chip 2.

以上、本発明を実施例にもとずき具体的に説明したが、
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変形可能であること
はいうまでもない。
The present invention has been specifically described above based on the embodiments.
It is needless to say that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment and can be variously modified without departing from the scope of the invention.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。
The following is a brief description of an effect obtained by the representative one of the inventions disclosed in the present application.

すなわち、ICチップの研削(グラインド)方向(研削跡
線)がその長辺と平行となるようにすることにより、IC
カードのY方向の曲げの力に対してICチップの抗折破断
強度が強くなるので、ICチップにクラックを発生するの
を低減もしくは防止することができる。
That is, by making the grinding (grinding) direction (grinding trace) of the IC chip parallel to the long side of the IC chip,
Since the bending strength of the IC chip is increased against the bending force of the card in the Y direction, the generation of cracks in the IC chip can be reduced or prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は、本発明の一実施例のICカードの概略構成を示
す平面図、 第2図は、第1図のII−II切断線で切った断面図、 第3図は、本実施例の原理を説明するための図である。 第4図は、本発明の一実施例のICチップの概略構成を示
す模写図、 第5図及び第6図は、本実施例に係るICチップのウエハ
の構造を示す平面図、 第7図は、第5図又は第6図に示すウエハの中からA,B
の形状に切出したものにおける研削ステップと抗折破断
強度の関係を示す実験特性図、 第8図は、第5図又は第6図に示すウエハにおける研削
砥粒とICチップの抗折破断強度の関係を示す実験特性
図、 第9図は、ICカードの一例の概略構成を示す図である。 図中、1……コア部材、2,2A,2B……ICチップ、3……
保護カバーである。
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of an IC card according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II of FIG. 1, and FIG. It is a figure for explaining the principle of. FIG. 4 is a copy diagram showing a schematic structure of an IC chip according to an embodiment of the present invention, FIGS. 5 and 6 are plan views showing a structure of a wafer of the IC chip according to this embodiment, and FIG. Is A or B from the wafer shown in FIG. 5 or FIG.
Fig. 8 is an experimental characteristic diagram showing the relationship between the grinding step and the bending rupture strength in the shape cut out in Fig. 8, and Fig. 8 shows the bending rupture strength of the grinding abrasive grains and IC chips in the wafer shown in Fig. 5 or Fig. 6. FIG. 9 is an experimental characteristic diagram showing the relationship, and FIG. 9 is a diagram showing a schematic configuration of an example of an IC card. In the figure, 1 ... Core member, 2, 2A, 2B ... IC chip, 3 ...
It is a protective cover.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】コア部材の間に、裏面が研削されてなる長
方形の半導体チップが埋め込まれたICカードであって、
前記半導体チップの裏面の研削方向が該半導体チップの
長辺方向と実質的に平行となるように研削されているこ
とを特徴とするICカード。
1. An IC card in which a rectangular semiconductor chip whose back surface is ground is embedded between core members.
An IC card, wherein the back surface of the semiconductor chip is ground so that the grinding direction is substantially parallel to the long side direction of the semiconductor chip.
【請求項2】前記半導体チップは、その長辺がICカード
の長辺に対して垂直方向となるように配設してなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のICカード。
2. The IC card according to claim 1, wherein the semiconductor chip is arranged so that its long side is perpendicular to the long side of the IC card. .
【請求項3】前記コア部材の両面が塩化ビニール等から
なる保護カバーによって覆われていることを特徴とする
特許請求の範囲第1項又は第2項に記載のICカード。
3. The IC card according to claim 1, wherein both surfaces of the core member are covered with a protective cover made of vinyl chloride or the like.
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