JPH0780383A - Coating method and coating device - Google Patents

Coating method and coating device

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JPH0780383A
JPH0780383A JP24856593A JP24856593A JPH0780383A JP H0780383 A JPH0780383 A JP H0780383A JP 24856593 A JP24856593 A JP 24856593A JP 24856593 A JP24856593 A JP 24856593A JP H0780383 A JPH0780383 A JP H0780383A
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JP
Japan
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coating
lip
web
downstream
support
Prior art date
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Pending
Application number
JP24856593A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshiharu Numata
敏晴 沼田
Toshimi Takeuchi
敏己 竹内
Yutaka Nakama
豊 仲間
Eiten Chin
永展 陳
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明は、表面性に優れた高品位な塗布膜
を形成することができるようにしている。 【構成】 この発明は、上流側リップ24及び下流側リ
ップ25を備え、これらのリップ間に塗布液22を押出
し可能なスロット部26が形成され、上流側リップ及び
下流側リップに対向して走行するウエブ21に塗布液を
塗布する塗布装置20において、上記下流側リップに
は、ウエブに対向して塗布液に接する塗布作業面30が
形成され、この塗布作業面の下流端Oとこれに対応する
ウエブ21の位置Pとの間隙をGc とし、ウエブに塗布
した直後の湿潤状態の塗布膜厚をGhとすると、上記間
隙Gc が 0.3 <Gh /Gc ≦0.6 の範囲に設定されたものである。
(57) [Summary] [Object] The present invention is capable of forming a high-quality coating film having excellent surface properties. According to the present invention, an upstream lip 24 and a downstream lip 25 are provided, and a slot portion 26 for extruding the coating liquid 22 is formed between these lips, and the lip portion runs opposite the upstream lip and the downstream lip. In the coating device 20 for coating the coating liquid on the web 21, the coating work surface 30 facing the web and in contact with the coating liquid is formed on the downstream lip, and the downstream end O of this coating work surface and the corresponding one. If the gap between the web 21 and the position P of the web 21 is G c, and the coating film thickness in a wet state immediately after coating the web is G h , the gap G c is set to a range of 0.3 <G h / G c ≦ 0.6. It was done.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、走行する支持体に塗
布液を塗布する塗布方法及び塗布装置に係り、特に可撓
性ウエブに磁性分散液を塗布する塗布方法及び塗布装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating method and a coating device for coating a running support with a coating liquid, and more particularly to a coating method and a coating device for coating a flexible web with a magnetic dispersion liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、薄膜塗布の高速化等の要請から、
エクストルージョン型塗布装置が各方面で採用されてい
る(特開昭 58-104666号、特開昭 60-238179号、特開昭
62-117666号及び特開平2-265672号の各公報に記載の発
明)。これらのエクストルージョン型塗布装置は、ダイ
ヘッドの先端に上流側リップ及び下流側リップを備え、
これらのリップ間に塗布液(例えば磁性分散液)を押出
し可能なスロット部が形成され、上流側リップ及び下流
側リップに対向して走行する支持体(例えばウエブ)に
上記塗布液を塗布するものである。
2. Description of the Related Art In recent years, due to demands for high speed thin film coating,
Extrusion type coating devices have been adopted in various fields (JP-A-58-104666, JP-A-60-238179, JP-A-60-238179).
Inventions described in JP-A-62-117666 and JP-A-2-265672). These extrusion type coating devices are provided with an upstream lip and a downstream lip at the tip of the die head,
A slot portion capable of extruding a coating liquid (for example, a magnetic dispersion liquid) is formed between these lips, and the above coating liquid is applied to a support (for example, a web) that runs to face the upstream lip and the downstream lip. Is.

【0003】この種の塗布装置による塗布における最大
の塗布故障の一つに、スロット部を含む塗布作業面に凝
集物等の異物がトラップされた結果発生する筋むらがあ
る。このため、従来の塗布装置の開発は塗布作業面に異
物や凝集物が極力トラップされないような形状を見いだ
すことに費やされてきた。
One of the largest coating failures in coating by this type of coating apparatus is streaking that occurs as a result of foreign matter such as agglomerates being trapped on the coating work surface including the slot portion. For this reason, the development of the conventional coating device has been spent on finding a shape in which foreign substances and agglomerates are not trapped as much as possible on the coating work surface.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の塗布装置では、
上述のように、異物や凝集物を原因とする筋むらの発生
防止策が講じられているが、特に、近年、磁気記録媒体
では、表面性に優れた高品質な製品が要望されており、
上記異物や凝集物以外の原因で発生する塗布膜表面の微
小な凹凸やむらが問題となっている。
In the conventional coating apparatus,
As described above, measures have been taken to prevent streaking due to foreign matter and aggregates, but in particular, in recent years, magnetic recording media, high-quality products with excellent surface properties are required,
There is a problem of minute irregularities and irregularities on the surface of the coating film, which are caused by causes other than the above-mentioned foreign matters and agglomerates.

【0005】この発明は、上述の事情を考慮してなされ
たものであり、表面性に優れた高品位な塗布膜を形成で
きる塗布方法及び塗布装置を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a coating method and a coating apparatus capable of forming a high-quality coating film having excellent surface properties.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明に
係る塗布方法は、上流側リップ及び下流側リップを備
え、これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット
部が形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対
向して走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布方法
において、上記下流側リップのうち上記支持体と対向し
上記塗布液に接する塗布作業面の下流端とこれに対応し
た上記支持体との間隙をGc とし、上記支持体の走行速
度をVとし、上記支持体への塗布幅をWとすると、上記
塗布液の押出量Qを 0.3 Gc WV<Q≦0.6 Gc WV の範囲に調整して塗布を実施するようにしたものであ
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a coating method including an upstream lip and a downstream lip, and a slot portion capable of extruding a coating liquid is formed between these lips. In a coating method of coating the coating liquid on a support that runs opposite an upstream lip and a downstream lip, a downstream end of a coating work surface that faces the support and is in contact with the coating liquid in the downstream lip. Correspondingly, when the gap between the support and the support is G c , the traveling speed of the support is V, and the coating width on the support is W, the extrusion rate Q of the coating liquid is 0.3 G c WV < The coating is carried out by adjusting to a range of Q ≦ 0.6 G c WV.

【0007】また、請求項2に記載の発明に係る塗布装
置は、上流側リップ及び下流側リップを備え、これらの
リップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が形成さ
れ、上記上流側リップ及び下流側リップに対向して走行
する支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置において、
上記下流側リップには、上記支持体に対向して上記塗布
液に接する塗布作業面が形成され、この塗布作業面の下
流端とこれに対応する支持体との間隔をGc とし、上記
支持体に塗布した直後の湿潤状態の塗布膜厚をGh とす
ると、上記間隙Gc が 0.3 <Gh /Gc ≦0.6 の範囲に設定されたものである。
Further, the coating apparatus according to the second aspect of the present invention comprises an upstream lip and a downstream lip, and a slot portion for extruding the coating liquid is formed between these lips, and the upstream lip and In a coating device for coating the above-mentioned coating liquid on a support that runs facing the downstream lip,
A coating work surface facing the support and in contact with the coating liquid is formed on the downstream lip, and the distance between the downstream end of the coating work surface and the corresponding support is G c. The gap G c is set in the range of 0.3 <G h / G c ≦ 0.6, where G h is the coating thickness in a wet state immediately after being applied to the body.

【0008】[0008]

【作用】請求項1記載の塗布方法では、塗布装置のスロ
ット部からの塗布液の押出量を 0.3 Gc WV<Q≦0.6 Gc WV の範囲に調整して塗布し、また、請求項2に記載の塗布
装置によれば、塗布装置における塗布作業面の下流端と
支持体との間隙Gc が Gh /Gc ≦0.6 に設定されたので、湿潤状態の塗布膜が塗布作業面の下
流端から離れる際に形成されるメニスカス(自由界面)
が安定化し、塗布膜の表面に乱れが生ずることがない。
更に、0.3 <Gh <Gc にすることにより、メニスカス
が3次元的に発達することがなく、3次元メニスカスに
よる縦筋むらの発生を防止することができる。これらの
ことから、表面性に優れた高品位な塗布膜を形成するこ
とができる。
According to the coating method of claim 1, the extrusion amount of the coating liquid from the slot portion of the coating device is adjusted within the range of 0.3 G c WV <Q ≦ 0.6 G c WV for coating, and the coating method according to claim 2 According to the coating device described in (1), since the gap G c between the downstream end of the coating work surface and the support in the coating device is set to G h / G c ≦ 0.6, the coating film in a wet state is not Meniscus (free interface) formed when leaving the downstream end
Is stabilized, and the surface of the coating film is not disturbed.
Further, by setting 0.3 <G h <G c , the meniscus does not develop three-dimensionally, and it is possible to prevent the generation of vertical stripe unevenness due to the three-dimensional meniscus. For these reasons, a high-quality coating film having excellent surface properties can be formed.

【0009】[0009]

【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図1は、この発明に係る塗布装置の一実施例を
示すダイヘッドの断面図である。図2は、塗布作業面の
下流端と支持体との間隙を設定する状況を示す作用図で
ある。図3は、塗装作業面の下流端と支持体との間隙を
計測するレーザ変位計をダイヘッドとともに示す断面図
である。図4(A)は、Gh /Gc の値が0.6 以上であ
るときの塗布膜を示す断面図であり、図4(B)は、G
h /Gc の値が0.3 以下であるときの塗布膜を示す斜視
図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a die head showing an embodiment of a coating apparatus according to the present invention. FIG. 2 is an operation diagram showing a situation in which the gap between the downstream end of the coating work surface and the support is set. FIG. 3 is a cross-sectional view showing, together with the die head, a laser displacement meter that measures the gap between the downstream end of the coating work surface and the support. 4A is a sectional view showing the coating film when the value of G h / G c is 0.6 or more, and FIG.
The value of h / G c is a perspective view showing a coating film when it is 0.3 or less.

【0010】図1に示す塗布装置20はエクストルージ
ョン型塗布装置であり、連続的に走行する支持体に塗布
液を塗布するものである。ここで、支持体としてはプラ
スチック、紙、布あるいは金属等の可撓性シートまたは
ウエブである。また、塗布液としては磁性分散液、感光
液、感熱分散液あるいは粘着液であり、それぞれ磁気記
録媒体、写真フィルム、感熱紙あるいは粘着テープを製
造するものである。この実施例では、支持体としてウエ
ブ21を用い、塗布液として磁性分散液22を用いて、
磁気記録媒体を製造する場合を示す。
The coating device 20 shown in FIG. 1 is an extrusion type coating device, and is for coating the coating liquid on a continuously running support. Here, the support is a flexible sheet or web of plastic, paper, cloth or metal. Further, the coating liquid is a magnetic dispersion liquid, a photosensitive liquid, a heat-sensitive dispersion liquid or an adhesive liquid, which is used to produce a magnetic recording medium, a photographic film, a thermal paper or an adhesive tape, respectively. In this example, the web 21 was used as the support, and the magnetic dispersion liquid 22 was used as the coating liquid.
The case where a magnetic recording medium is manufactured is shown.

【0011】塗布装置20はダイヘッド23を有し、こ
のダイヘッド23に上流側リップ24及び下流側リップ
25が形成される。これらの上流側リップ24及び下流
側リップ25間にスロット部26が形成され、このスロ
ット部26が液バッファ部27に連通される。上流側リ
ップ24及び下流側リップ25は、ウエブ21の幅と略
同一幅に設定される。また、スロット部26及び液バッ
ファ部27は、上流側リップ24及び下流側リップ25
の略全幅方向に延在して構成される。
The coating device 20 has a die head 23, and an upstream lip 24 and a downstream lip 25 are formed on the die head 23. A slot portion 26 is formed between the upstream lip 24 and the downstream lip 25, and the slot portion 26 communicates with the liquid buffer portion 27. The upstream lip 24 and the downstream lip 25 are set to have substantially the same width as the width of the web 21. Further, the slot portion 26 and the liquid buffer portion 27 are composed of the upstream lip 24 and the downstream lip 25.
Is formed so as to extend in substantially the entire width direction.

【0012】液バッファ部27は液供給系の塗布液供給
ポンプ28に接続され、この塗布液供給ポンプ28から
の磁性分散液22を、塗布幅方向において塗布量が均一
となるように分配させ、スロット部26へ供給する。こ
こで、ウエブ21は、図示しないガイドローラ等に案内
されて、上記上流側リップ24及び下流側リップ25に
対向し、背面が支持されることなく走行する。この走行
するウエブ21に、塗布装置20の上記スロット部26
から磁性分散液22が、スロット部26の全幅方向に均
一に押出されて塗布され、ウエブ21の幅方向に均一な
塗布膜29が形成される。
The liquid buffer unit 27 is connected to a coating liquid supply pump 28 of a liquid supply system, and the magnetic dispersion liquid 22 from the coating liquid supply pump 28 is distributed so that the coating amount becomes uniform in the coating width direction. Supply to the slot portion 26. Here, the web 21 is guided by a guide roller or the like (not shown), faces the upstream lip 24 and the downstream lip 25, and runs without supporting the back surface. The slot portion 26 of the coating device 20 is attached to the running web 21.
The magnetic dispersion liquid 22 is uniformly extruded and applied in the entire width direction of the slot portion 26 to form a uniform coating film 29 in the width direction of the web 21.

【0013】上記下流側リップ25の先端面で、ウエブ
21に対向し磁性分散液22と接する面は、塗布に寄与
する塗布作業面30である。この塗布作業面30は、ウ
エブ21側に凸に湾曲して構成され、スロット部26か
ら押出された湿潤状態の磁性分散液22をウエブ21に
押付けて塗布させ、塗布膜29を形成する。
A surface of the tip end of the downstream lip 25 facing the web 21 and in contact with the magnetic dispersion liquid 22 is a coating work surface 30 that contributes to coating. The coating work surface 30 is formed so as to be convexly curved toward the web 21 side, and the wet magnetic dispersion liquid 22 extruded from the slot portion 26 is pressed against the web 21 to be coated to form a coating film 29.

【0014】ここで、塗布直後の湿潤状態にある塗布膜
29の膜厚をGh とすると、塗布作業面30の下流端O
と、この下流端Oに対応するウエブ21上の位置Pとの
間隙Gc は 0.3 <Gh /Gc ≦0.6 …(1) に設定される。この間隙Gc は、図2に示すように、ダ
イヘッド23の下流側のウエブ21とダイヘッド23と
の相対位置を変更することによって所望の寸法に設定さ
れる。Gh /Gc の値が0.6 よりも大きいと、図4
(A)に示すように、湿潤状態の磁性分散液22が下流
側リップ25における塗布作業面30の下流端Oから離
れる際に形成されるメニスカス(自由界面)が不安定と
なるため、塗布膜29の表面が乱れてしまう。一方、G
h /Gc の値が0.3 以下の値になると、図4(B)に示
すように、上記メニスカスの曲率が大きくなって、この
メニスカスが塗布作業面30とウエブ21との間に入り
込んで3次元的に発達し、この結果、ウエブ21の走行
方向に沿って3次元ピッチに合った縦筋むらが発生して
しまう。これらの理由から、Gh /Gc の値が式 (1)の
範囲に設定される。
Assuming that the thickness of the coating film 29 in a wet state immediately after coating is G h , the downstream end O of the coating work surface 30 is O.
And the gap G c between the downstream end O and the position P on the web 21 corresponding to the downstream end O is set to 0.3 <G h / G c ≦ 0.6 (1). As shown in FIG. 2, this gap G c is set to a desired dimension by changing the relative position between the web 21 and the die head 23 on the downstream side of the die head 23. If the value of G h / G c is larger than 0.6, then FIG.
As shown in (A), since the meniscus (free interface) formed when the magnetic dispersion liquid 22 in a wet state separates from the downstream end O of the coating work surface 30 on the downstream lip 25 becomes unstable, the coating film The surface of 29 is disturbed. On the other hand, G
When the value of h / G c becomes 0.3 or less, the curvature of the meniscus becomes large as shown in FIG. 4 (B), and the meniscus enters between the coating work surface 30 and the web 21 and becomes 3 Dimensionally develops, and as a result, vertical stripe unevenness matching the three-dimensional pitch occurs along the running direction of the web 21. For these reasons, the value of G h / G c is set within the range of equation (1).

【0015】下流側リップ25の塗布作業面30とウエ
ブ21との間隙Gc は、図3に示すレーザ変位計31に
より測定され確認される。つまり、磁性分散液22の非
塗布時には、ウエブ21が塗布装置20における下流側
リップ25の塗布作業面30上を摺接するので、上記レ
ーザ変位計31による塗布作業面30の下流端Oとウエ
ブ21上の位置Pとの塗布時における間隙Gc の測定
は、塗布時と非塗布時とにおいて、ウエブ21とレーザ
変位計31との距離をそれぞれ計測し、これらの距離の
差から求められる。
The gap G c between the coating work surface 30 of the downstream lip 25 and the web 21 is measured and confirmed by a laser displacement meter 31 shown in FIG. That is, when the magnetic dispersion liquid 22 is not coated, the web 21 slides on the coating work surface 30 of the downstream lip 25 of the coating device 20, so that the downstream end O of the coating work surface 30 by the laser displacement meter 31 and the web 21. The gap G c at the time of coating with the upper position P can be obtained by measuring the distance between the web 21 and the laser displacement meter 31 at the time of coating and at the time of non-coating, and calculating from the difference between these distances.

【0016】上記湿潤状態の塗布膜厚Gh は、スロット
部26から押出された磁性分散液22が乾燥等により目
減りすることなく、均一なシート状に形成されたときの
塗布膜29の理論膜厚である。このため、この湿潤状態
の塗布膜厚Gh は、ウエブ21に塗布された塗布膜が下
流側リップ25から離反し、未だ塗布膜内に速度勾配が
ある場合や、揮発成分を含む塗布液の場合には、測定さ
れる実際の塗布膜厚の値と若干異なる。この湿潤状態の
塗布膜厚Gh の値は、塗布液供給ポンプ28の流量(つ
まりスロット部26からの押出し流量)をQとし、ウエ
ブ21の走行速度をVとし、ウエブ21の塗布幅をWと
すると、 Gh =Q/W・V …(2) によって算出され、設定される。
The coating film thickness G h in the wet state is the theoretical film of the coating film 29 when the magnetic dispersion liquid 22 extruded from the slot portion 26 is formed into a uniform sheet shape without being reduced due to drying or the like. It is thick. Therefore, the coating film thickness G h in the wet state is such that the coating film coated on the web 21 separates from the downstream lip 25 and there is still a velocity gradient in the coating film, or the coating liquid containing the volatile component In some cases, the actual coating film thickness is slightly different from the measured value. The value of the coating film thickness G h in this wet state is Q where the flow rate of the coating liquid supply pump 28 (that is, the extrusion flow rate from the slot portion 26) is V, the traveling speed of the web 21 is V, and the coating width of the web 21 is W. Then, G h = Q / W · V (2) is calculated and set.

【0017】従って、式(1) 及び式(2) から、塗布液供
給ポンプ28のポンプ流量Qを 0.3 Gc ・W・V<Q≦0.6 Gc ・W・V なる範囲に設定して、磁性分散液22をウエブ21に塗
布する。
Therefore, from the equations (1) and (2), the pump flow rate Q of the coating liquid supply pump 28 is set in the range of 0.3 G c · W · V <Q ≦ 0.6 G c · W · V, The magnetic dispersion liquid 22 is applied to the web 21.

【0018】次に、実験例を示す。実験例では、塗布液
をシェアレート1×102sec-1において1ポアズで擬塑性
を示す磁性分散液を用い、湿潤状態の塗布膜厚Gh をG
h =15μm とし、ウエブ21をポリエチレンテレフタレ
ート(PET)フィルムとし、このウエブ21の走行速
度(塗布速度)VをV=100m/min として、塗布作業面
30の下流端Oとウエブ21の位置Pとの間隙Gc をG
c =75μm 、60μm 、50μm 、45μm 、30μm 、25μm
、20μm の各場合について塗布を実施する。
Next, an experimental example will be shown. In the experimental example, a magnetic dispersion liquid that exhibits pseudoplasticity at 1 poise at a share rate of 1 × 10 2 sec −1 is used, and the wet coating film thickness G h is G
h = 15 μm, the web 21 is a polyethylene terephthalate (PET) film, the traveling speed (coating speed) V of this web 21 is V = 100 m / min, and the downstream end O of the coating work surface 30 and the position P of the web 21 are The gap G c of
c = 75 μm, 60 μm, 50 μm, 45 μm, 30 μm, 25 μm
, 20 μm in each case.

【0019】この実験例では、表1に示すように、Gh
/Gc の値が式 (1)の範囲にある時に、塗布膜29の表
面に凹凸やむらがなく、表面性が優れた高品位の塗布膜
29となっている。
In this experimental example, as shown in Table 1, G h
When the value of / G c is within the range of the formula (1), there is no unevenness or unevenness on the surface of the coating film 29, and the high-quality coating film 29 having excellent surface properties is obtained.

【0020】[0020]

【表1】 [Table 1]

【0021】上述の実験例でも明らかなように、上記実
施例によれば、塗布装置20における下流側リップ25
の塗布作業面30の下流端Oとウエブ21の位置Pとの
間隙Gc が 0.3 <Gh /Gc ≦0.6 に設定され、即ち、塗布装置20の塗布液供給ポンプ2
8におけるポンプ流量Qが 0.3 Gc WV<Q≦0.6 Gc WV に設定されたことから、湿潤状態の塗布膜29が下流側
リップ25の塗布作業面30の下流端Oから離れる際に
形成されるメニスカスが安定化し、塗布膜29の表面に
乱れが生ずることがない。更に、このメニスカスが必要
以上に大きくならないことから、メニスカスが下流側リ
ップ25の塗布作業面30とウエブ21との間に入り込
んで、塗布膜29の塗布幅方向に発達することがなく、
メニスカスによる縦筋むらの発生も防止できる。これら
のことから、表面性に優れた高品位な塗布膜29を形成
することができる。
As is apparent from the above-mentioned experimental example, according to the above-described embodiment, the downstream lip 25 of the coating device 20 is provided.
The gap G c between the downstream end O of the coating work surface 30 and the position P of the web 21 is set to 0.3 <G h / G c ≦ 0.6, that is, the coating liquid supply pump 2 of the coating apparatus 20.
Since the pump flow rate Q in No. 8 is set to 0.3 G c WV <Q ≦ 0.6 G c WV, the wet coating film 29 is formed when the downstream lip 25 is separated from the downstream end O of the coating work surface 30. The meniscus is stabilized and the surface of the coating film 29 is not disturbed. Further, since this meniscus does not become larger than necessary, the meniscus does not enter between the coating work surface 30 of the downstream lip 25 and the web 21 and does not develop in the coating width direction of the coating film 29.
It is also possible to prevent the occurrence of vertical streak unevenness due to the meniscus. For these reasons, it is possible to form a high-quality coating film 29 having excellent surface properties.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上のように、この発明に係る塗布方法
及び塗布装置によれば、表面性に優れた高品位な塗布膜
を形成することができる。
As described above, according to the coating method and coating apparatus of the present invention, a high-quality coating film having excellent surface properties can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、この発明に係る塗布装置の一実施例を
示すダイヘッドの断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a die head showing an embodiment of a coating apparatus according to the present invention.

【図2】図2は、塗布作業面の下流端と支持体との間隙
を設定する状況を示す作用図である。
FIG. 2 is an operation diagram showing a situation in which a gap between a downstream end of a coating work surface and a support is set.

【図3】図3は、塗装作業面の下流端と支持体との間隙
を計測するレーザ変位計をダイヘッドとともに示す断面
図である。
FIG. 3 is a sectional view showing, together with a die head, a laser displacement meter that measures a gap between a downstream end of a coating work surface and a support.

【図4】図4(A)は、Gh /Gc の値が0.6 以上であ
るときの塗布膜を示す断面図であり、図4(B)は、G
h /Gc の値が0.3 以下であるときの塗布膜を示す斜視
図である。
FIG. 4 (A) is a cross-sectional view showing a coating film when the value of G h / G c is 0.6 or more, and FIG. 4 (B) shows G
The value of h / G c is a perspective view showing a coating film when it is 0.3 or less.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 塗布装置 21 ウエブ 22 磁性分散液 23 上流側リップ 25 下流側リップ 26 スロット部 28 塗布液供給ポンプ 29 塗布膜 30 塗布作業面 Gh 湿潤状態の塗布膜厚 Gc 塗布作業面の下流端とウエブのP位置との間隙 Q ポンプ流量 V 塗布速度 W 塗布幅10 Coating Device 21 Web 22 Magnetic Dispersion Liquid 23 Upstream Lip 25 Downstream Lip 26 Slot Section 28 Coating Liquid Supply Pump 29 Coating Film 30 Coating Work Surface G h Wet Coating Thickness G c Downstream End of Coating Work Surface and Web Gap with P position Q Pump flow rate V Coating speed W Coating width

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 陳 永展 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Ei Chen Chen 2606 Akabane, Kaigamachi, Haga-gun, Tochigi Kao Stock Association In-house

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 上流側リップ及び下流側リップを備え、
これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が
形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対向し
て走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布方法にお
いて、 上記下流側リップのうち上記支持体と対向し上記塗布液
に接する塗布作業面の下流端とこれに対応した上記支持
体との間隙をGc とし、上記支持体の走行速度をVと
し、上記支持体への塗布幅をWとすると、上記塗布液の
押出量Qを 0.3 Gc WV<Q≦0.6 Gc WV の範囲に調整して塗布を実施することを特徴とする塗布
方法。
1. An upstream lip and a downstream lip are provided,
In the coating method in which a slot portion capable of extruding the coating liquid is formed between these lips, and the coating liquid is applied to a support that runs facing the upstream lip and the downstream lip, The gap between the downstream end of the coating work surface facing the support and in contact with the coating solution and the corresponding support is G c , the traveling speed of the support is V, and the coating width on the support Where W is W, the extrusion amount Q of the coating solution is adjusted to a range of 0.3 G c WV <Q ≦ 0.6 G c WV, and the coating is performed.
【請求項2】 上流側リップ及び下流側リップを備え、
これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が
形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対向し
て走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置にお
いて、 上記下流側リップには、上記支持体に対向して上記塗布
液に接する塗布作業面が形成され、この塗布作業面の下
流端とこれに対応する支持体との間隙をGc とし、上記
支持体に塗布した直後の湿潤状態の塗布膜厚をGh とす
ると、上記間隙Gc が 0.3 <Gh /Gc ≦0.6 の範囲に設定されたことを特徴とする塗布装置。
2. An upstream lip and a downstream lip are provided,
In a coating device in which a slot portion capable of extruding a coating liquid is formed between these lips, and the coating liquid is coated on a support body that faces the upstream lip and the downstream lip, the downstream lip is A coating work surface facing the support and in contact with the coating liquid is formed, and the gap between the downstream end of the coating work surface and the corresponding support is G c, and immediately after coating on the support. The coating apparatus is characterized in that the gap G c is set in a range of 0.3 <G h / G c ≦ 0.6, where G h is a coating thickness in a wet state.
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