JPH0782042A - セラミックス製品焼成炉用支柱及び棚組構造 - Google Patents
セラミックス製品焼成炉用支柱及び棚組構造Info
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- JPH0782042A JPH0782042A JP5230254A JP23025493A JPH0782042A JP H0782042 A JPH0782042 A JP H0782042A JP 5230254 A JP5230254 A JP 5230254A JP 23025493 A JP23025493 A JP 23025493A JP H0782042 A JPH0782042 A JP H0782042A
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 38
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 32
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021431 alpha silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 強度が高く軽量化が図れ、熱交換率及び被焼
成物の充填量を向上でき、酸化劣化に対して安定性が高
いセラミックス製品用焼成炉の支柱及び棚組構造を提供
する。 【構成】 Si−SiCを含有する支柱である。平面形
状がほぼL字形をしており、両側面部3に切欠部3aを
有する。この支柱1とSi−SiCを含有する棚板とを
交互に積み上げて成る棚組構造である。
成物の充填量を向上でき、酸化劣化に対して安定性が高
いセラミックス製品用焼成炉の支柱及び棚組構造を提供
する。 【構成】 Si−SiCを含有する支柱である。平面形
状がほぼL字形をしており、両側面部3に切欠部3aを
有する。この支柱1とSi−SiCを含有する棚板とを
交互に積み上げて成る棚組構造である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックス製品焼成
炉に用いる支柱に関し、更に詳細には、被焼成物を載置
する棚板等の治具を支持する支柱及び棚組構造に関す
る。
炉に用いる支柱に関し、更に詳細には、被焼成物を載置
する棚板等の治具を支持する支柱及び棚組構造に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、セラミックス製品の焼成工程で
は、焼成炉内において、被焼成物(成形体、仮焼体等)
を棚板に載置した後、この棚板に適数の支柱を立設し、
次いで、別の棚板をこの支柱に載置して支持し、被焼成
物をこの別の棚板に載置することを繰り返すようにし
て、棚組が行われていた。そして、上記棚板を支持する
支柱としては、ムライト製のものが用いられており、ま
た、その形状としては、焼成炉内に被焼成物を少しでも
多く充填すべく、平面形状がL字形の柱状体が用いられ
ている。
は、焼成炉内において、被焼成物(成形体、仮焼体等)
を棚板に載置した後、この棚板に適数の支柱を立設し、
次いで、別の棚板をこの支柱に載置して支持し、被焼成
物をこの別の棚板に載置することを繰り返すようにし
て、棚組が行われていた。そして、上記棚板を支持する
支柱としては、ムライト製のものが用いられており、ま
た、その形状としては、焼成炉内に被焼成物を少しでも
多く充填すべく、平面形状がL字形の柱状体が用いられ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のムライト製支柱においては、ムライト自体の
強度が弱いため(4点曲げ強度で、100〜200kg
/cm2 程度)、被焼成物及び棚板の重量等に耐え得る
ように、支柱の厚みを10mm〜20mm程度にする必
要があり、その結果、支柱の体積・重量が大きくなり、
焼成炉の昇温や焼成時において熱効率が良くないという
課題があった
うな従来のムライト製支柱においては、ムライト自体の
強度が弱いため(4点曲げ強度で、100〜200kg
/cm2 程度)、被焼成物及び棚板の重量等に耐え得る
ように、支柱の厚みを10mm〜20mm程度にする必
要があり、その結果、支柱の体積・重量が大きくなり、
焼成炉の昇温や焼成時において熱効率が良くないという
課題があった
【0004】また、その厚みも、上述の如く厚くせざる
を得ないため、焼成炉に充填する被焼成物の量が少なく
なり、焼成効率が低下するという課題があった。更に、
ムライトの強度や耐酸化性が十分でないことから、支柱
が棚組の際又は焼成中において破損したり、酸化劣化し
て脆化することがあった。また、支柱表面と被焼成物表
面とが焼成中に固着し、得られた焼結体を焼成炉から取
り出す際に、焼結体表面や支柱表面が剥離又は破損する
という課題があった。
を得ないため、焼成炉に充填する被焼成物の量が少なく
なり、焼成効率が低下するという課題があった。更に、
ムライトの強度や耐酸化性が十分でないことから、支柱
が棚組の際又は焼成中において破損したり、酸化劣化し
て脆化することがあった。また、支柱表面と被焼成物表
面とが焼成中に固着し、得られた焼結体を焼成炉から取
り出す際に、焼結体表面や支柱表面が剥離又は破損する
という課題があった。
【0005】本発明は、このような従来技術の有する課
題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、強度が高く軽量化が図れ、熱交換率及び被焼成物の
充填量を向上でき、酸化劣化等に対して安定性が高いセ
ラミックス製品焼成炉用の支柱及び棚組構造を提供する
ことにある。
題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、強度が高く軽量化が図れ、熱交換率及び被焼成物の
充填量を向上でき、酸化劣化等に対して安定性が高いセ
ラミックス製品焼成炉用の支柱及び棚組構造を提供する
ことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意研究した結果、SiとSiCを用いるこ
とにより、上記課題が解決できることを見出し、本発明
を完成するに至った。従って、本発明のセラミックス製
品焼成炉用支柱は、セラミックス製品焼成炉に用いる支
柱において、SiとSiCを含有して成ることを特徴と
する。また、本発明のセラミックス製品の焼成棚組構造
は、SiとSiCを含有して成る支柱と、SiとSiC
を含有して成る焼成用治具とを用いることを特徴とす
る。
解決すべく鋭意研究した結果、SiとSiCを用いるこ
とにより、上記課題が解決できることを見出し、本発明
を完成するに至った。従って、本発明のセラミックス製
品焼成炉用支柱は、セラミックス製品焼成炉に用いる支
柱において、SiとSiCを含有して成ることを特徴と
する。また、本発明のセラミックス製品の焼成棚組構造
は、SiとSiCを含有して成る支柱と、SiとSiC
を含有して成る焼成用治具とを用いることを特徴とす
る。
【0007】
【作用】本発明においては、SiとSiCを含有する材
料を用いて支柱を製造することにした。SiとSiCを
含む材料は、比重が小さく、強度が高く、また、耐酸化
性等に優れ、安定性の高い材料である。これら材料のう
ち、特に、いわゆるSi−SiCはSiCを主体として
構成される耐火材粒間等に金属Siが存在する形態を有
するもので、上記性能に優れる材料であり、Si−Si
Cを用いて支柱を構成するのが好ましい。本発明におい
ては、上述の如き材料を用いるため、支柱の厚みを薄く
しつつ、焼成工程における所期の強度を維持することが
可能となる。よって、焼成炉内における支柱の占有率を
低減することができる。また、操炉時の燃費に大きな影
響を与える支柱や棚組材の体積・重量を低減できるの
で、焼成炉の昇温時や焼成時における熱効率を向上させ
ることもできる。更に、棚組の際等に支柱が破損したり
するのを防止することもできる。
料を用いて支柱を製造することにした。SiとSiCを
含む材料は、比重が小さく、強度が高く、また、耐酸化
性等に優れ、安定性の高い材料である。これら材料のう
ち、特に、いわゆるSi−SiCはSiCを主体として
構成される耐火材粒間等に金属Siが存在する形態を有
するもので、上記性能に優れる材料であり、Si−Si
Cを用いて支柱を構成するのが好ましい。本発明におい
ては、上述の如き材料を用いるため、支柱の厚みを薄く
しつつ、焼成工程における所期の強度を維持することが
可能となる。よって、焼成炉内における支柱の占有率を
低減することができる。また、操炉時の燃費に大きな影
響を与える支柱や棚組材の体積・重量を低減できるの
で、焼成炉の昇温時や焼成時における熱効率を向上させ
ることもできる。更に、棚組の際等に支柱が破損したり
するのを防止することもできる。
【0008】また、耐酸化性等に優れるところから、本
発明の支柱は脆化劣化し難く、長期に亘って繰り返し使
用できる。更に、Si−SiCは反応性に乏しく、例え
ば、棚板表面との間で固着現象を発生しない。また、焼
成中に被焼成物から釉剤やバインダー等が飛散しても、
本発明の支柱はこれらのものに対して安定性が高い。
発明の支柱は脆化劣化し難く、長期に亘って繰り返し使
用できる。更に、Si−SiCは反応性に乏しく、例え
ば、棚板表面との間で固着現象を発生しない。また、焼
成中に被焼成物から釉剤やバインダー等が飛散しても、
本発明の支柱はこれらのものに対して安定性が高い。
【0009】一方、本発明の棚組構造は、上記SiとS
iCを含有する支柱の外に、SiとSiCを含有する棚
板等の治具を組み合わせて成るものである。従って、本
発明の棚組構造によれば、支柱のみならず、棚板につい
ても軽量化等を図ることができため、支柱の利点と治具
の利点とが相俟って、一層良好な被焼成物充填量の増大
等という作用効果を奏することができる。
iCを含有する支柱の外に、SiとSiCを含有する棚
板等の治具を組み合わせて成るものである。従って、本
発明の棚組構造によれば、支柱のみならず、棚板につい
ても軽量化等を図ることができため、支柱の利点と治具
の利点とが相俟って、一層良好な被焼成物充填量の増大
等という作用効果を奏することができる。
【0010】以下、本発明の支柱について詳細に説明す
る。本発明の支柱は、SiとSiCを含有して構成され
ているが、その形状は特に限定されるものではなく、円
筒状、角筒状、円柱状、角柱状等が例示できる。但し、
通常、焼成炉内の空間が直方体状であるか又は棚板の形
状が矩形であることが多いので、被焼成物を多く充填す
るため、平面形状がL字形の柱状体を使用するのが好ま
しい。また、このL字形支柱の側面に、1又は2以上の
切欠及び/又は孔部を設けることにより、焼成炉内ガス
の流通を円滑に行うことができ、得られる焼結体特性の
均一化が図れるので、このような切欠等を設けるのが好
ましい。
る。本発明の支柱は、SiとSiCを含有して構成され
ているが、その形状は特に限定されるものではなく、円
筒状、角筒状、円柱状、角柱状等が例示できる。但し、
通常、焼成炉内の空間が直方体状であるか又は棚板の形
状が矩形であることが多いので、被焼成物を多く充填す
るため、平面形状がL字形の柱状体を使用するのが好ま
しい。また、このL字形支柱の側面に、1又は2以上の
切欠及び/又は孔部を設けることにより、焼成炉内ガス
の流通を円滑に行うことができ、得られる焼結体特性の
均一化が図れるので、このような切欠等を設けるのが好
ましい。
【0011】ここで、本発明の支柱の厚みは、この支柱
の形状、充填する被焼成物の重量、使用する棚板の重量
及び寸法等により適宜変更することができるが、通常は
3〜10mm程度とするのが好ましく、代表的に棚板
が、25〜80cm×25〜80cm×5〜15mm
(厚み)の場合には、約3〜5mmとするのが好まし
い。なお、従来のムライト製L字形支柱では、上記寸法
の棚板に対し、その厚みを約10〜20mmとする必要
があり、本発明の支柱によれば、その厚みを1/2〜1
/6程度に低減することができる。
の形状、充填する被焼成物の重量、使用する棚板の重量
及び寸法等により適宜変更することができるが、通常は
3〜10mm程度とするのが好ましく、代表的に棚板
が、25〜80cm×25〜80cm×5〜15mm
(厚み)の場合には、約3〜5mmとするのが好まし
い。なお、従来のムライト製L字形支柱では、上記寸法
の棚板に対し、その厚みを約10〜20mmとする必要
があり、本発明の支柱によれば、その厚みを1/2〜1
/6程度に低減することができる。
【0012】次に、本発明の支柱のうち、Si−SiC
を含有する支柱の製造方法の一例について説明する。こ
の支柱の製造方法としては、まず、所定量のC粉末、S
iC粉末、バインダー、水又は有機溶媒を混練し、成形
して所望形状の成形体を得る。次いで、この成形体を、
金属Si雰囲気下、減圧の不活性ガス又は真空中に置
き、成形体中に金属Siを含浸させる方法を挙げること
ができる。
を含有する支柱の製造方法の一例について説明する。こ
の支柱の製造方法としては、まず、所定量のC粉末、S
iC粉末、バインダー、水又は有機溶媒を混練し、成形
して所望形状の成形体を得る。次いで、この成形体を、
金属Si雰囲気下、減圧の不活性ガス又は真空中に置
き、成形体中に金属Siを含浸させる方法を挙げること
ができる。
【0013】また、上記支柱の他の製造方法としては、
グラファイトシートやカーボンシートを、金属Siを充
填したルツボ等の中に配置し、加熱して金属Siを溶融
させ、キャピラリ効果を利用して、上記シートを構成す
るCとSiとを反応させてSiCを生成するとともに、
過剰のSiを残存させる方法が挙げられる。
グラファイトシートやカーボンシートを、金属Siを充
填したルツボ等の中に配置し、加熱して金属Siを溶融
させ、キャピラリ効果を利用して、上記シートを構成す
るCとSiとを反応させてSiCを生成するとともに、
過剰のSiを残存させる方法が挙げられる。
【0014】なお、上記の製造方法においては、予め支
柱の所望形状を付与しているが、例えば、L字形の支柱
を製造する場合には、Si−SiC製の板体を2個作製
し、これら2個の板体を接合させることにより、L字形
の支柱を製造することもできる。また、この接合に使用
する接合剤としては、特に限定されるものではないが、
C粉末とSiC粉末との混合物を例示できる。
柱の所望形状を付与しているが、例えば、L字形の支柱
を製造する場合には、Si−SiC製の板体を2個作製
し、これら2個の板体を接合させることにより、L字形
の支柱を製造することもできる。また、この接合に使用
する接合剤としては、特に限定されるものではないが、
C粉末とSiC粉末との混合物を例示できる。
【0015】次に、本発明の棚組構造について説明す
る。本発明の棚組構造においては、SiとSiCを含有
する支柱と、SiとSiCを含有する棚板とを交互に積
み重ねて使用する。即ち、例えば、焼成炉内の底部に支
柱を4本立設し、この支柱の頂部により棚板の4隅が支
持されるように、棚板を支柱頂部に載置する。そして、
棚板に被焼成物を載置した後、上記と同様にして、棚板
の4隅に別の支柱を立設し、この支柱頂部に別の棚板を
載置するということを繰り返し、棚組を完了する。な
お、この棚組構造において、使用する支柱の数は、棚板
の形状等により適宜変更することができる。
る。本発明の棚組構造においては、SiとSiCを含有
する支柱と、SiとSiCを含有する棚板とを交互に積
み重ねて使用する。即ち、例えば、焼成炉内の底部に支
柱を4本立設し、この支柱の頂部により棚板の4隅が支
持されるように、棚板を支柱頂部に載置する。そして、
棚板に被焼成物を載置した後、上記と同様にして、棚板
の4隅に別の支柱を立設し、この支柱頂部に別の棚板を
載置するということを繰り返し、棚組を完了する。な
お、この棚組構造において、使用する支柱の数は、棚板
の形状等により適宜変更することができる。
【0016】本発明の棚組構造においては、SiとSi
C、好ましくは、Si−SiC含有棚板を使用するた
め、棚板の厚みを、代表的には、25〜50cm×25
〜50cm×5mm(厚み)程度に薄くすることがで
き、また、上述の如く、この棚板及び支柱の双方とも、
耐酸化性等に優れるため、焼成炉内に充填する被焼成物
の量を一層向上でき、また、支柱と棚板との固着を確実
に回避でき、熱効率や焼成効率も一層向上させることが
できることになる。
C、好ましくは、Si−SiC含有棚板を使用するた
め、棚板の厚みを、代表的には、25〜50cm×25
〜50cm×5mm(厚み)程度に薄くすることがで
き、また、上述の如く、この棚板及び支柱の双方とも、
耐酸化性等に優れるため、焼成炉内に充填する被焼成物
の量を一層向上でき、また、支柱と棚板との固着を確実
に回避でき、熱効率や焼成効率も一層向上させることが
できることになる。
【0017】
【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。図1は、本発明の支柱の一実施例を示す斜視図であ
る。同図において、支柱1は、その平面形状がほぼL字
形をなしている。また、支柱1の両側面部3には、切欠
部3aが設けられており、この3aにより、焼成炉内の
ガスの流通を円滑に行うことができ、得られる焼結体の
特性を均一にすることができる。
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。図1は、本発明の支柱の一実施例を示す斜視図であ
る。同図において、支柱1は、その平面形状がほぼL字
形をなしている。また、支柱1の両側面部3には、切欠
部3aが設けられており、この3aにより、焼成炉内の
ガスの流通を円滑に行うことができ、得られる焼結体の
特性を均一にすることができる。
【0018】なお、本実施例において、切欠部3aは1
つの側面部3につき1個設けられているが、2個以上と
してもよい。また、切欠部3aの代わりに、1又は2以
上の孔部(図示せず)を側面部3に設けてもよく、更
に、切欠部3aと孔部とを併設してもよい。
つの側面部3につき1個設けられているが、2個以上と
してもよい。また、切欠部3aの代わりに、1又は2以
上の孔部(図示せず)を側面部3に設けてもよく、更
に、切欠部3aと孔部とを併設してもよい。
【0019】(実施例1)30重量部のα−SiC粉末
(平均粒径100μm)、40重量部のα−SiC粉末
(平均粒径30μm)、30重量部のα−SiC(平均
粒径1μm)を混合した。得られた混合物100重量部
に対し、5重量部のC粉末(平均粒径3μm)、5重量
部のバインダー(メチルセルロース)及び3重量部の水
分を加えてプリミックスを作成した。次いで、このプリ
ミックスを、金型を用い2000kgf/cm2 の圧力
で加圧して50×50×5mm(厚み)の成形体を得
た。得られた成形体を真空中で金属Siに接触させなが
ら1600℃で2時間保持し、緻密なSi−SiC焼結
体を得た。
(平均粒径100μm)、40重量部のα−SiC粉末
(平均粒径30μm)、30重量部のα−SiC(平均
粒径1μm)を混合した。得られた混合物100重量部
に対し、5重量部のC粉末(平均粒径3μm)、5重量
部のバインダー(メチルセルロース)及び3重量部の水
分を加えてプリミックスを作成した。次いで、このプリ
ミックスを、金型を用い2000kgf/cm2 の圧力
で加圧して50×50×5mm(厚み)の成形体を得
た。得られた成形体を真空中で金属Siに接触させなが
ら1600℃で2時間保持し、緻密なSi−SiC焼結
体を得た。
【0020】得られた焼結体から、3×4×40mmの
試験片を切り出し、JIS R 1601に準拠して4
点曲げ強度を測定した。この結果、この試験片の4点が
曲げ強度は、2400kgf/cm2 であった。
試験片を切り出し、JIS R 1601に準拠して4
点曲げ強度を測定した。この結果、この試験片の4点が
曲げ強度は、2400kgf/cm2 であった。
【0021】(比較例1)試験片をムライトで作成した
以外は、実施例1と同様の操作を行った。この結果、4
点曲げ強度は、250kgf/cm2 であった。
以外は、実施例1と同様の操作を行った。この結果、4
点曲げ強度は、250kgf/cm2 であった。
【0022】(実施例2)実施例1で得られた成形体か
ら、50×25×5mm(厚み)と、50×25×5m
m(厚み)の板体を切り出し、更に、それぞれ長手辺の
一部に、底辺15mm×高さ30mmの2等辺三角形状
の切欠きを設けた。これら両板体をカーボン(C)と炭
化珪素(SiC)との混合ペーストを用いて接合し、次
いで、実施例1に示す条件で焼成し、図1に示すような
支柱を4本得た。得られた支柱を焼成炉内の四隅に立設
し、この上に400×350×10mm(厚み)のSi
C質棚板を載置した。次いで、この棚板に、1個当たり
の重量が150g、体積が400のコップ状成形体を9
個載置した。
ら、50×25×5mm(厚み)と、50×25×5m
m(厚み)の板体を切り出し、更に、それぞれ長手辺の
一部に、底辺15mm×高さ30mmの2等辺三角形状
の切欠きを設けた。これら両板体をカーボン(C)と炭
化珪素(SiC)との混合ペーストを用いて接合し、次
いで、実施例1に示す条件で焼成し、図1に示すような
支柱を4本得た。得られた支柱を焼成炉内の四隅に立設
し、この上に400×350×10mm(厚み)のSi
C質棚板を載置した。次いで、この棚板に、1個当たり
の重量が150g、体積が400のコップ状成形体を9
個載置した。
【0023】このように、支柱と棚板を用いて、10段
重ねに構成し、棚組を行った。次いで、焼成炉を昇温
し、1250℃で3時間の焼成を10回繰り返した。こ
の際、支柱の形状変化や、棚板との固着の有無、得られ
た焼結体の外観等を検査し、得られた結果を表1に示
す。
重ねに構成し、棚組を行った。次いで、焼成炉を昇温
し、1250℃で3時間の焼成を10回繰り返した。こ
の際、支柱の形状変化や、棚板との固着の有無、得られ
た焼結体の外観等を検査し、得られた結果を表1に示
す。
【0024】(比較例2)支柱をムライトで作成した
(一体型)以外は、実施例2と同様の操作を繰り返し、
得られた結果を表1に示す。
(一体型)以外は、実施例2と同様の操作を繰り返し、
得られた結果を表1に示す。
【0025】(実施例3)実施例1において、プリミッ
クスを、押出ダイの形状が、厚さ5mm、1辺が50m
mのL字形をなす押出成形機を用い、40kg/cm2
の圧力で押出成形した。次いで、得られた成形体に上記
と同様にして切欠部を設け、1600℃で2時間焼成し
て、全体形状が実施例2の支柱と同様の支柱を得た。そ
して、実施例2と同様の棚組で焼成を行い、得られた結
果を表1に示す。
クスを、押出ダイの形状が、厚さ5mm、1辺が50m
mのL字形をなす押出成形機を用い、40kg/cm2
の圧力で押出成形した。次いで、得られた成形体に上記
と同様にして切欠部を設け、1600℃で2時間焼成し
て、全体形状が実施例2の支柱と同様の支柱を得た。そ
して、実施例2と同様の棚組で焼成を行い、得られた結
果を表1に示す。
【0026】(実施例4)400×350×5mm(厚
み)のSi−SiC製棚板を用いた以外は、実施例2と
同様の操作を行い、得られた結果を表1に示す。
み)のSi−SiC製棚板を用いた以外は、実施例2と
同様の操作を行い、得られた結果を表1に示す。
【0027】
【表1】
【0028】表1から明らかなように、本発明の支柱及
び棚組構造によれば、支柱と棚板との固着がなく、従っ
て、棚板から支柱を取り外す際にカケ等の破損も発生せ
ず、長期間安定して使用できる耐久性の高い焼成炉用の
支柱及び棚組構造が提供される。
び棚組構造によれば、支柱と棚板との固着がなく、従っ
て、棚板から支柱を取り外す際にカケ等の破損も発生せ
ず、長期間安定して使用できる耐久性の高い焼成炉用の
支柱及び棚組構造が提供される。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
SiとSiCを用いることとしたため、強度が高く軽量
化が図れ、熱交換率及び被焼成物の充填量を向上でき、
酸化劣化等に対して安定性が高いセラミックス製品焼成
炉用の支柱及び棚組構造を提供することができる。
SiとSiCを用いることとしたため、強度が高く軽量
化が図れ、熱交換率及び被焼成物の充填量を向上でき、
酸化劣化等に対して安定性が高いセラミックス製品焼成
炉用の支柱及び棚組構造を提供することができる。
【図1】本発明の支柱の一実施例を示す斜視図である。
1 支柱、3 側面部、3a 切欠部
Claims (6)
- 【請求項1】 セラミックス製品焼成炉に用いる支柱に
おいて、SiとSiCを含有して成ることを特徴とする
セラミックス製品焼成炉用支柱。 - 【請求項2】 Si−SiCを含有して成ることを特徴
とする請求項1記載の支柱。 - 【請求項3】 平面形状がL字形をなし、その側面に1
又は2以上の切欠部を有することを特徴とする請求項1
又は2記載の支柱。 - 【請求項4】 平面形状がL字形をなし、その側面に1
又は2以上の孔部を有することを特徴とする請求項1又
は2記載の支柱。 - 【請求項5】 請求項1記載の支柱と、SiとSiCを
含有して成る焼成用治具とを用いて成ることを特徴とす
るセラミックス製品の焼成棚組構造。 - 【請求項6】 Si−SiCを含有する支柱と、Si−
SiCを含有して成る焼成用治具とを用いて成ることを
特徴とする請求項5記載の棚組構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5230254A JPH0782042A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | セラミックス製品焼成炉用支柱及び棚組構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5230254A JPH0782042A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | セラミックス製品焼成炉用支柱及び棚組構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0782042A true JPH0782042A (ja) | 1995-03-28 |
Family
ID=16904929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5230254A Pending JPH0782042A (ja) | 1993-09-16 | 1993-09-16 | セラミックス製品焼成炉用支柱及び棚組構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782042A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5560070A (en) * | 1978-10-24 | 1980-05-06 | Nippon Steel Corp | Silicon carbide refractories |
| JPS6311589A (ja) * | 1986-07-01 | 1988-01-19 | イビデン株式会社 | 耐熱性治具及びその製造方法 |
| JPS6432000U (ja) * | 1987-08-17 | 1989-02-28 |
-
1993
- 1993-09-16 JP JP5230254A patent/JPH0782042A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5560070A (en) * | 1978-10-24 | 1980-05-06 | Nippon Steel Corp | Silicon carbide refractories |
| JPS6311589A (ja) * | 1986-07-01 | 1988-01-19 | イビデン株式会社 | 耐熱性治具及びその製造方法 |
| JPS6432000U (ja) * | 1987-08-17 | 1989-02-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010724 |