JPH0782252A - イミド酸エステル化合物及びｎ−ピラゾリルアミドオキシム化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】工程が簡略、安全で、かつ収率を向上させる。 【構成】一般式（Ｉ）で表わされるニトリル類と、一般
式（II）で表わされるアルコール類を反応させて、一般
式（III）で表わされるイミド酸エステル類を製造する
方法において、ニトリル類に対して０．５〜３．０当量
の塩基の存在下で反応させるイミド酸エステル類の製造
方法。前記イミド酸エステルを単離することなく、一般
式（IV）で表わされるアミノピラゾール類またはその塩
を作用させ、一般式（Ｖ）で表わされるＮ−ピラゾリル
アミジン類またはその塩とし、続いてヒドロキシルアミ
ンまたはその塩を作用させる一般式（VI）で表わされる
Ｎ−ピラゾリルアミドオキシム化合物の製造方法。 （式中、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ水素原子または置換基
を表わす。Ｒ_３は、アリール基、ヘテロ環基又は置換ア
ルキル基を表わす。Ｒ_４、はアルキル基を表わす。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀カラー写
真用カプラーとして有用な１Ｈ−ピラゾロ〔１，５−
ｂ〕〔１，２，４〕トリアゾール系化合物の合成中間体
であるイミド酸エステル類、Ｎ−ピラゾリルアミドオキ
シム化合物の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】Ｎ−ピラゾリルアミドオキシム化合物の
合成法としては、特開昭６１−１４５１６３号に記載の
方法が知られている。すなわち、ニトリル化合物を出発
原料として用い、これに塩化水素などの酸の存在下、ア
ルコールまたはフェノールを付加させることにより生成
するイミド酸エステル類またはその塩を一担単離した
後、次にアミノピラゾール類またはその塩を作用させて
Ｎ−ピラゾリルアミジン類またはその塩とした後、更に
続いてヒドロキシルアミンを作用させることによりＮ−
ピラゾリルアミドオキシム化合物を合成する方法であ
る。

【０００３】特開昭６１−１４５１６３号に記載の方法
において、合成中間体であるイミド酸エステル類または
その塩の合成法はPinner法として知られている反応であ
り、用いる酸としては、塩化水素のような酸性ガスを用
いるのが一般的である。従って実際の合成において、反
応系の塩化水素ガスの注入および過剰に使用したガスの
トラップなどの繁雑な操作が必要であった。また、イミ
ド酸エステル類またはその塩を一担単離するため晶析ロ
スによる収率の低下を伴い、生成物の溶解性の良い場合
にはその収率低下が顕著であった。更にイミド酸エステ
ル類の塩酸塩を取り出す操作は、酸性ガスの拡散等によ
り安全上に好ましくなく、強制排気設備などの特別な設
備が必要であった。

【０００４】一方、イミド酸エステル類の合成法として
は前記の方法以外に知られる方法としては、ニトリル類
とアルコール類とを塩基触媒の存在下において反応させ
る方法がJ.Org.Chem., 26, 412(1961)に記載されてい
る。すなわち、電子吸引性基の置換した芳香族または脂
肪族ニトリル類とアルコール類とをナトリウムアルコキ
サイドやシアン化カリウムなどの塩基の存在下で反応さ
せて、イミド酸エステル類を得る方法である。この反応
は平衡反応であり、その平衡定数は芳香族ニトリル類の
場合は置換基のHammett のσ値により、また脂肪族ニト
リル類の場合には置換基のTaftのσ^* の値により変動
し、その値が大きいほど平衡定数が大きく、従ってイミ
ド酸エステル類の反応生成率が高い。

【０００５】しかしながら、上記文献によると、使用さ
れる塩基は触媒量であり、いずれの合成例をみてもその
使用量はニトリル類に対して０．０１〜０．２当量の範
囲であることが記載されている。具体例として、反応温
度２５℃における異なった塩基濃度とニトリル類からイ
ミド酸エステル類への変換率との関係を、ニトリル類と
してｐ−ニトロベンズニトリルを用いた場合についての
実験結果が記載されている。それによると、ニトリル類
に対して使用する塩基の量が０．０１〜０．２当量の範
囲ではあるが、使用する塩基の量を増加させるとイミド
酸エステル類への変換率が減少する傾向にあることが述
べられており、具体例を示すとｐ−ニトロベンズニトリ
ルに対するナトリウムメトキシドの使用量が０．０５当
量のときのメチル−ｐ−ニトロベンズイミダートの反応
生成率が８０％であるのに対し、同０．１当量のときに
は８１％、同０．２当量のときには７８％となることが
記載されている。

【０００６】また、同文献に記載の合成例における反応
温度は、原料として用いるニトリル類により異なってい
るが、１０〜８０℃の範囲にある。同文献に記載の合成
例の問題点としては、化合物によってはイミド酸エステ
ル類への変換率が不充分であったり、また反応時間が長
いこと等が挙げられる。

【０００７】塩基性条件下で合成したイミド酸エステル
類を合成中間体とするＮ−ピラゾリルアミドオキシム化
合物の合成例はこれまでに報告された例は無い。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工程
が安全、簡略で収率の高いＮ−ピラゾリルアミドオキシ
ム化合物やその中間体であるイミド酸エステル化合物の
製造方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、工程が簡略
でかつ高収率で、Ｎ−ピラゾリルアミドオキシム化合物
を製造しうる方法を開発するため鋭意研究を行った。そ
の結果、合成中間体であるイミド酸エステル類またはそ
の塩の合成を、それまでの酸性条件から塩基性条件に変
更し、更に使用する出発原料のニトリル類のそれぞれの
反応性に合わせて塩基の使用量を検討したところ、塩基
の使用量をニトリル類に対して０．５〜３．０当量にす
ることで予想外にも高収率でイミド酸エステル類が生成
されることを見出した。特にこの反応を氷冷下で行うこ
とにより、生成率が顕著に向上することを見出した。更
に、これらの合成中間体を単離することなしに、Ｎ−ピ
ラゾリルアミドオキシム化合物に誘導する方法を見出
し、本発明をなすに至った。

【００１０】すなわち本発明は、一般式（Ｉ）で表わさ
れるニトリル類と一般式（II) で表わされるアルコール
類とをニトリル類に対して０．５〜３．０当量の塩基の
存在下で反応させて、一般式(III) で表わされるイミド
酸エステル類とした後、このイミド酸エステル類を単離
することなく、一般式（IV) で表わされるアミノピラゾ
ール類またはその塩を作用させ、一般式（V)で表わされ
るＮ−ピラゾリルアミジン類またはその塩とした後、続
いてヒドロキシルアミンまたはその塩を作用させること
を特徴とする一般式（VI) で表わされるＮ−ピラゾリル
アミドオキシム化合物の製造方法により達成された

【００１１】一般式（Ｉ） Ｒ₃ −ＣＮ 式中、Ｒ₃ は、アリール基、ヘテロ環基又は置換アルキ
ル基を表わす。

【００１２】一般式（II） Ｒ₄ −ＯＨ 式中、Ｒ₄ 、はアルキル基を表わす。 一般式（III)

【００１３】

【化５】

【００１４】式中、Ｒ₃ 及びＲ₄ はそれぞれ前記と同義
である。 一般式（IV）

【００１５】

【化６】

【００１６】式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ はそれぞれ水素原子ま
たは置換基を表わす。 一般式（V)

【００１７】

【化７】

【００１８】式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 及びＲ₃ はそれぞれ前記
と同義である。 一般式（VI)

【００１９】

【化８】

【００２０】式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 及びＲ₃ はそれぞれ前記
と同義である。）特に前記(1) のイミド酸エステル類を
得る反応における塩基の存在下での反応が−２０℃以上
１０℃未満である工程を設けることにより、高反応収率
が達成された。

【００２１】本発明において、前記一般式（Ｉ）、（I
I) 、(III) 、(IV)、(V) および(VI)で表わされる化合
物中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ およびＲ₄ について詳しく述べ
ると、

【００２２】Ｒ₁ 、Ｒ₂ は水素原子又は置換基を表わ
す。その置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、ウレイ
ド基、ウレタン基、アルコキシカルボニル基、スルホン
アミド基、スルファモイル基、スルホニル基、ヒドロキ
シル基等が挙げられる。これらの置換基は更に置換され
ることが可能な場合には、上述の置換基の少なくとも１
つで、更に置換されていてもよく、２個以上の置換基を
有する場合には同じであっても異なっていてもよい。

【００２３】Ｒ₁ 、Ｒ₂ の置換基として詳しくは、ハロ
ゲン原子（例えばフッ素、塩素、臭素）、シアノ基、ニ
トロ基、アルキル基（直鎖、分岐鎖又は環状であっても
よく、炭素数としては、好ましくは１〜３０のもの。例
えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、
ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、sec −ブチル、ｔ−ペンチ
ル、ヘキシル、ｎ−オクチル、ｔ−オクチル、ヘキサデ
シル、ベンジル）、アリール基（単環又は縮環でもよ
く、炭素数としては、好ましくは６〜３６のもの。例え
ば、フェニル、ナフチル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェ
ニル、ジクロロフェニル、２−メトキシフェニル、２，
４−ジメトキシフェニル、４−ｔ−ブチルフェニル）、
ヘテロ環基（単環もしくは縮環であってもよく、ヘテロ
原子としては酸素原子、窒素原子、イオウ原子若しくは
リン原子、環としては５員〜１０員環、炭素数としては
１〜３６のものがそれぞれ好ましい。例えば、ピラゾリ
ル、イミダゾリル、３−ピリジル、４−ピリジル、フリ
ル、１−ピラゾリル）、アルコキシ基（炭素数として
は、好ましくは１〜３０のもの。例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、２−フェノキシエ
トキシ、２−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシエト
キシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキ
シ基（例えばフェノキシ、２−メトキシフェノキシ、４
−メチルフェノキシ、２，４−ジメトキシフェノキシ、
２，６−ジメトキシフェノキシ、２，４−ジ−ｔ−アミ
ルフェノキシ、２−エトキシカルボニルフェノキシ、４
−エトキシカルボニルフェノキシ、３−メタンスルホン
アミドフェノキシ、４−シアノフェノキシ、４−メチル
スルホニルフェノキシ）、ヘテロ環オキシ基（例えば、
２−ベンズイミダゾリルオキシ）、アルキルチオ基（例
えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、ヘキサ
デシルチオ、ドデシルチオ、１−エトキシカルボニルド
デシルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチ
オ、２−エトキシカルボニルフェニルチオ、２−ブトキ
シ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、４−ドデシルオキ
シフェニルチオ、２−ピバロイルアミノフェニルチオ、
ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチ
オ）、アルキルアミノ基（例えば、ジメチルアミノ、ジ
エチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミ
ノ）、アリールアミノ基（例えば、アニリノ、３，５−
ジクロロアニリノ、２−エトキシカルボニルアニリノ、
ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（例えば、Ｎ−メ
チルアセチルアミノ、Ｎ−フェニルアセチルアミノ、Ｎ
−ブチルピバロイルアミノ、Ｎ−メチルテトラデカノイ
ルアミノ、Ｎ−ブチルテトラデカノイルアミノ）、ウレ
イド基（例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ′−トリエチルウレイ
ド）、ウレタン基（例えば、Ｎ−メチルフェニルウレタ
ン、Ｎ−ブチル−フェニルウレタン、Ｎ−オクチルエチ
ルウレタン）、アルコキシカルボニル基（例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、ドデシルオキシ
カルボニル）、スルホンアミド基（例えば、メタンスル
ホンアミド、エタンスルホンアミド、ヘキサデカンスル
ホンアミド、Ｎ−メチルオクタンスルホンアミド、ｐ−
トルエンスルホンアミド）、スルファモイル基（例え
ば、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−ブチルスルファモ
イル、Ｎ，Ｎ−ジオクチルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホ
ニル、エチルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、フ
ェニルスルホニル）、ヒドロキシル基等が挙げられる。

【００２４】Ｒ₁ の置換基としてはアルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ
基、ウレイド基、ウレタン基、アルコキシカルボニル
基、スルホンアミド基、ヒドロキシル基が好ましく、Ｒ
₁ としてはアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基の場合、本発明の効果が大きく、より好ましい。

【００２５】Ｒ₂ の置換基としてはハロゲン原子、ピラ
ゾリル環と窒素原子で結合するヘテロ環基、アルコキシ
カルボニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテ
ロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基が好ま
しく、Ｒ₂ としては水素原子、ハロゲン原子、ピラゾリ
ル環と窒素原子で結合するヘテロ環基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基がより好ましく、
特に、水素原子が好ましい。

【００２６】Ｒ₃ のアリール基とは、置換又は無置換の
アリール基を表わし、炭素数としては６〜３６のものが
好ましく、アリール基を有してもよい置換基としては、
前記Ｒ₁ の置換基が挙げられ、該シアノ基の連結した位
置に対して３位、４位及び５位への置換が好ましい。Ｒ
₃ のアリール基としては、フェニル、３，４−ジクロロ
フェニル、３，５−ジクロロフェニル、３−ニトロフェ
ニル、４−ニトロフェニル、３−トリフルオロメチルフ
ェニル、３，５−ジニトロフェニル、３−ニトロ−４−
メチルフェニル、３−ニトロ−４−ｔ−ブチルフェニ
ル、３−ニトロ−４−メトキシフェニル、４−シアノフ
ェニルなどが挙げられる。

【００２７】Ｒ₃ のヘテロ環基とは、単環もしくは縮環
であってもよく、ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素
原子、イオウ原子もしくはリン原子が挙げられ、員数と
しては５〜１０員環のものが好ましく、炭素数１〜３６
のものが好ましく、無置換でも置換されていてもよく、
その置換基としては、Ｒ₁ の置換基が挙げられる。Ｒ₃
のヘテロ環基としては、３−ピリジル、４−ピリジル、
５−ニトロ−３−ピリジルなどが挙げられる。

【００２８】Ｒ₃ の置換アルキル基とは、炭素原子数１
〜５０の直鎖又は分岐鎖の置換されたアルキル基を表わ
し、置換アルキル基の置換基としては、前記置換基Ｒ₁
で説明した置換アルキル基の置換基と同義であり、２個
以上の置換基を有していてもよく、その場合には、それ
らの置換基は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ₃
の置換アルキル基としては、クロロメチル、１−クロロ
エチル、２−シアノエチル、Ｎ−フタルイミドメチル、
１−メチル−Ｎ−フタルイミドエチルなどが挙げられ
る。

【００２９】Ｒ₃ のアリール基、ヘテロ環基及び置換ア
ルキル基は、Ｒ₃ 自体が電子吸引性基になるように電子
吸引性基で置換されていることが好ましい。

【００３０】本発明においてＲ₃ がアリール基のとき本
発明の効果が大きく、電子吸引性の置換基を有するアリ
ール基が最も効果が大きい。

【００３１】Ｒ₄ のアルキル基とは、炭素数が１から６
の直鎖または分岐鎖の無置換アルキル基を表わし、好ま
しくは炭素数１から４、更に好ましく炭素数１から２で
あり、Ｒ₄ 基由来のアルコールとしては具体的にメタノ
ール、エタノールである。前記一般式(III) で表わされ
るイミド酸エステル化合物の代表的具体例を以下に示す
が、本発明はこれによって限定されるものではない。

【００３２】

【化９】

【００３３】

【化１０】

【００３４】前記一般式（VI) で表わされる化合物の代
表的具体例を以下に示すが、本発明はこれらによって限
定されるものではない。

【００３５】

【化１１】

【００３６】

【化１２】

【００３７】

【化１３】

【００３８】

【化１４】

【００３９】

【化１５】

【００４０】

【化１６】

【００４１】

【化１７】

【００４２】

【化１８】

【００４３】本発明の方法は、下記の反応工程式で表わ
すことができる。反応工程式

【００４４】

【化１９】

【００４５】（式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₄ は前記と同じ意味をも
つ。）上記反応工程式に従い本発明を詳細に説明する。

【００４６】一般式（Ｉ）で表わされるニトリル類と一
般式（II）で表わされるアルコール類とを塩基の存在下
で反応させて一般式(III) で表わされるイミド酸エステ
ル類とする反応で、本発明に用いることができる塩基と
しては、単体のアルカリ金属またはアルカリ土類金属
（リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウムな
ど）、金属水素化物（水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなど）、金属アルコキサイド（ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシド
など）等が挙げられるが、金属アルコキシドが好まし
く、最も好ましいのはナトリウムメトキシドおよびナト
リウムエトキシドである。ニトリル類と上記塩基とのモ
ル比は１：０．５〜１：３．０、好ましくは１：０．５
〜１：２．０、最も好ましくは１：０．８〜１：１．５
の範囲である。

【００４７】一般式(III) で表わされるイミド酸エステ
ル類の合成において、使用される溶媒としては低級アル
コール類が好ましく、最も好ましいのはメタノールおよ
びエタノールであり、その使用量は一般式（Ｉ）で表わ
されるニトリル類１重量部当り０．５〜５００重量部、
好ましくは１〜５０重量部の割合で使用される。この場
合、一般式（II）で表わされるアルコール類および塩基
として金属アルコキシドを用いる場合にはその炭素鎖長
と同一のものを反応溶媒として用いるのが好ましい。

【００４８】一般式(III) で表わされるイミド酸エステ
ル類の合成における反応温度は−２０℃〜５０℃で行え
るが、３０℃以下が好ましく、より好ましいのは１０℃
未満であり、５℃以下が特に好ましい。下限としては−
１０℃以上が好ましい。本発明においては、前述のよう
にこのイミド酸エステル類の反応を１０℃未満で行う工
程を有していることが好ましく、この低温反応は、反応
初期から終了点まで維持して行うことが好ましく、ある
程度、室温付近で反応させ、途中からこの低温状態で反
応させることでも、その室温付近での反応収率に比べて
収率を向上させることができる。

【００４９】この反応における反応時間は、化合物種や
反応温度によって異なるが、好ましくは３０分〜１２時
間、より好ましくは２時間〜１０時間程度で行うことが
できる。

【００５０】この反応終了後、酸を用いて中和を行う
が、用いる酸として好ましいのは酢酸、硫酸、リン酸、
トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸等である。

【００５１】一般式（V)で表わされるＮ−ピラゾリルア
ミジン類またはその塩の合成において、上記の方法で得
た一般式(III) で表わされるイミド酸エステル類は単離
することなく、一般式（IV) で表わされるアミノピラゾ
ール類またはその塩との反応を行う。イミド酸エステル
類とアミノピラゾール類またはその塩とのモル比は１：
０．８〜１：５であり、好ましくは１：０．８〜１：
１．２である。反応溶媒としては、前記イミド酸エステ
ル類の合成に用いた溶媒をそのまま使用することができ
る。反応温度は０〜４０℃で行うことができるが、好ま
しくは２０〜３０℃である。この反応における反応時間
も、化合物種や反応温度等により異なるが、好ましくは
３０分〜５時間、より好ましくは１時間〜４時間程度で
行うことができる。

【００５２】上記方法で得た一般式（V)で表わされるＮ
−ピラゾリルアミジン類またはその塩は単離してもよい
が、反応工程の簡略化の観点から、単離せずにヒドロキ
シルアミンまたはその塩との反応を行い、一般式（VI）
で表わされるアミドオキシム化合物に誘導する方法を用
いることが好ましい。一般式（V)で表わされる化合物
が、Ｎ−ピラゾリルアミジン類のフリー体の場合は、ヒ
ドロキシルアミンの塩酸塩との反応を行い、Ｎ−ピラゾ
リルアミジン類の酸性塩の場合にはヒドロキシルアミン
のフリー体との反応を行う。ヒドロキシルアミンの塩酸
塩を添加する方法としては粉末をそのまま添加する方
法、水またはメタノールに溶解したものを滴下する方法
を用いることが好ましい。Ｎ−ピラゾリルアミジン類ま
たはその塩とヒドロキシルアミンまたはその塩のモル比
は１：１〜１：５であり、好ましくは１：１．５〜１：
２．５である。反応温度は０〜７０℃で行えるが、好ま
しくは２０〜５０℃である。この反応における反応時間
も化合物種や反応温度により異なるが、好ましくは３０
分〜５時間、より好ましくは１時間〜４時間程度で行う
ことができる。

【００５３】一般式（VI）で表わされるＮ−ピラゾリル
アミドオキシム化合物は、反応液に水を加えるなどの方
法により、簡単に結晶化するので容易に単離することが
できるが、結晶化しない場合には抽出操作などを行う必
要がある。

【００５４】

【実施例】次に本発明の具体例の一部を示すが、本発明
はこれらによって限定されるものではない。 実施例１（例示化合物Ｍ−１の合成） ｐ−ニトロベンズニトリル３０ｇ（０．２０３モル）に
メタノール１５０mlを添加した。室温で攪拌下、ナトリ
ウムメトキサイドの２８％メタノール溶液４２．７ml
（０．２１２モル）を滴下した。室温で１時間攪拌した
後、−５℃〜３℃の温度で７時間攪拌を行った。このと
きｐ−ニトロベンズイミド酸メチルの生成率を高速液体
クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用いて定量した結
果、生成率は相対面積比で９７．３％であった。

【００５５】上記反応に続いて０〜５℃で攪拌下に酢酸
２４．３ml（０．４２６モル）を滴下した。反応の温度
を室温として３−ｔ−ブチル−５−アミノピラゾール２
９．６ｇ（０．２１３モル）をメタノール１００mlに溶
解した溶液を滴下した。室温で２時間攪拌を行った後、
ヒドロキシルアミン２８．１ｇ（０．４０４モル）を粉
末のまま添加した。反応温度を４０℃として３時間攪拌
を行った。反応液に水５００mlを加え２時間攪拌を行っ
た。析出した結晶を濾取して、メタノール−水（１：
４）の混合溶媒で洗浄して乾燥した。４８．２ｇ（７
８．５％）の例示化合物Ｍ−１を得た。融点は１７２〜
１７３℃であった。

【００５６】実施例２（例示化合物Ｍ−２の合成） ３，５−ジニトロベンズニトリル５５ｇ（０．２８５モ
ル）にメタノール２８０mlを加え水冷下で攪拌した。ナ
トリウムメトキサイドの２８％メタノール溶液５７．２
ml（０．２８５モル）を滴下した。室温で３時間、０〜
５℃で２時間攪拌した後酢酸３２．５ml（０．５７モ
ル）を滴下した。室温で１０分間攪拌した後、３−ｔ−
ブチル−５−アミノピラゾール３９．７ｇ（０．２８５
モル）を粉末のまま添加した。室温で３時間攪拌を行っ
た後、ヒドロキシルアミンの塩酸塩３９．６ｇ（０．５
７モル）をメタノール４００mlに溶解した溶液を滴下し
た。５０℃に加熱して２時間攪拌を行った。水冷して室
温とした後、水１リットルを加え析出した結晶を濾取し
た。７９．９ｇ（８０．５％）の例示化合物Ｍ−２を得
た。融点は２０９〜２１１℃であった。

【００５７】実施例３（例示化合物Ｍ−３の合成） ３−ニトロベンズニトリル１０ｇ（０．０６８モル）に
メタノール５０mlを加えて結晶を溶解させた。室温で攪
拌下ナトリウムメトキサイドの２８％メタノール溶液１
３．７ml（０．０６８モル）を滴下した。−５〜０℃で
３時間攪拌を行った。このとき、ｍ−ニトロベンズイミ
ド酸メチルの生成率をＨＰＬＣを用いて定量したところ
相対面積比で９７．２％であった。

【００５８】上記反応に続いて酢酸７．８ml（０．１３
６モル）を滴下した。室温で１０分間攪拌した後、３−
（２，６−ジメトキシフェノキシ）−５−アミノピラゾ
ール１６．０ｇ（０．０６８モル）を粉末のまま添加し
た。室温で３時間攪拌を行った後、ヒドロキシルアミン
塩酸塩９．４ｇ（０．１３６モル）をメタノール１００
mlに溶解した溶液を滴下した。反応温度を４０℃として
３時間攪拌を行った。水冷して室温とした後水３００ml
を添加し、析出した結晶を濾取して２１．８ｇ（８０．
９％）の例示化合物Ｍ−３を得た。融点は１２９〜１３
０℃であった。

【００５９】実施例４（例示化合物Ｍ−２１の合成） ４−メチル−３−ニトロベンズニトリル５０ｇ（０．３
０８モル）にメタノール２８０mlを添加した。室温で攪
拌しながらナトリウムメトキサイドの２８％メタノール
溶液６２ml（０．３０８モル）を滴下した後、室温で４
時間攪拌した。このときの４−メチル−３−ニトロベン
ズイミド酸メチルの生成率をＨＰＬＣの相対面積比で定
量したところ８１．８％であった。

【００６０】さらに、−５〜０℃で４時間攪拌を継続
し、上記と同様の方法で定量した反応生成率は９２．０
％に上昇した

【００６１】続いて−５℃〜０℃で攪拌しながら酢酸２
５．３ml（０．６１９モル）を滴下した。反応温度を室
温とし、３−ｔ−ブチル−５−アミノピラゾール４２．
９ｇ（０．３０８モル）の粉末を添加した後、室温で２
時間攪拌した。続いてヒドロキシルアミン塩酸塩４２．
０ｇ（０．６１９モル）をメタノール１３０mlに溶解し
た溶液を添加した後、反応温度を４０として３時間攪拌
を行った。反応液を水冷して室温とした後、７００mlの
水を加えて攪拌し、析出した結晶を濾取し、メタノール
／水＝１／１．５の混合溶液で洗浄した。６０．８ｇ
（６２．２％）の例示化合物Ｍ−２１を得た。融点は１
９４〜１９６℃であった。

【００６２】実施例５（例示化合物Ｍ−５の合成） ４−ｔ−ブチル−３−ニトロベンズニトリル７０ｇ
（０．３４３モル）にメタノール３５０mlを加えた。室
温で攪拌しながらナトリウムメトキサイドの２８％メタ
ノール溶液７５．９ml（０．３７７モル）を滴下した
後、室温で３時間攪拌を行った。

【００６３】反応液を室温で攪拌下、酢酸４３．１ml
（０．７５５モル）を滴下した。次に、３−ｔ−ブチル
−５−アミノピラゾール５０．１ｇ（０．３６モル）の
粉末を添加し、室温で３時間攪拌を行った。続いてヒド
ロキシルアミン塩酸塩４８ｇ（０．６９１モル）をメタ
ノール６００mlに溶解した溶液を添加した後、反応温度
を５０℃として２時間攪拌した。反応液を冷却し、１．
５リットルの水を添加したところハルツ状の物質が析出
した。析出したハルツ状の物質を酢酸エチル５００mlに
溶解し、食塩水で水洗した。酢酸エチル層を無水芒硝で
乾燥した後、芒硝を除去し酢酸エチルを減圧留去した。
濃縮物をアセトニトリル３００mlに溶解した後、氷冷す
ることにより結晶が析出した。結晶を濾取して６８．９
ｇ（５５．９％）の例示化合物Ｍ−５を得た。融点は２
３７〜２３８℃であった。

【００６４】本発明によると、Ｎ−ピラゾリルアミドオ
キシム化合物の製造を行うにあたり、その前駆体である
イミド酸エステル類の合成を従来用いられていた酸性条
件から塩基性条件とすることで、操作上および安全上に
おいて取扱いに注意を要する酸性ガスを用いることによ
り必要であった繁雑な操作を簡略化することが可能とな
った。

【００６５】更に、ニトリル類に対して０．０５〜０．
２当量の触媒量の塩基を使用する従来のイミド酸エステ
ル類の合成法から、使用する塩基をニトリル類に対して
０．５〜３．０当量とすること、特に反応を低温、好ま
しくは氷冷下で行う方法により、従来の触媒量の塩基の
使用ではその使用量を増やすとイミド酸エステル類の生
成率が低下するという知見をくつがえし、イミド酸エス
テル類の生成率を特異的に大幅に向上させることができ
た。

【００６６】また、本発明はイミド酸エステル類を単離
することなしにＮ−ピラゾリルアミドオキシム化合物に
誘導する方法を見出したことにより、従来行っていたイ
ミド酸エステル類またはその塩を取り出す操作を省略す
ることができ、取り出しに伴う晶析ロスが全くなくトー
タル収率が向上した。以上述べたように本発明は、従来
より知られているＮ−ピラゾリルアミドオキシム化合物
の製造方法に比べてワンポット化が進み、操作の簡略化
および収率向上の効果により大巾なコストダウンが可能
である。

【００６７】

【発明の効果】本発明により、安全、簡略な操作にて高
収率にイミド酸エステル類、Ｎ−ピラゾリルアミドオキ
シム化合物を得ることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 213/82 401/12 ２３１

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表わされるニトリル類
   と、一般式（II) で表わされるアルコール類を反応させ
   て、一般式(III) で表わされるイミド酸エステル類を製
   造する方法において、ニトリル類に対して０．５〜３．
   ０当量の塩基の存在下で反応させることを特徴とするイ
   ミド酸エステル類の製造方法。 一般式（Ｉ） Ｒ₃ −ＣＮ （式中、Ｒ₃ は、アリール基、ヘテロ環基又は置換アル
   キル基を表わす。） 一般式（II） Ｒ₄ −ＯＨ （式中、Ｒ₄ 、はアルキル基を表わす。） 一般式（III) 【化１】 （式中、Ｒ₃ 及びＲ₄ はそれぞれ前記と同義である。）
2. 【請求項２】 前記イミド酸エステルを単離することな
   く、一般式（IV）で表わされるアミノピラゾール類また
   はその塩を作用させ、一般式（V)で表わされるＮ−ピラ
   ゾリルアミジン類またはその塩とし、続いてヒドロキシ
   ルアミンまたはその塩を作用させることを特徴とする一
   般式（VI）で表わされるＮ−ピラゾリルアミドオキシム
   化合物の製造方法。 一般式（IV） 【化２】 （式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ はそれぞれ水素原子または置換基
   を表わす。） 一般式（V) 【化３】 （式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 及びＲ₃ はそれぞれ前記と同義であ
   る。） 一般式（VI) 【化４】 （式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 及びＲ₃ はそれぞれ前記と同義であ
   る。）
3. 【請求項３】 前記イミド酸エステル類を得る反応が−
   ２０℃以上１０℃未満で行う工程を有することを特徴と
   する請求項１又は２記載の製造方法。