JPH07822A - スーパーアシッド触媒の二酸化硫黄再生 - Google Patents
スーパーアシッド触媒の二酸化硫黄再生Info
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Abstract
成された固体ス−パ−アシッド触媒の再生方法の提供で
ある。 【構成】 この方法はその触媒をおよそ450℃の温度
に加熱し、そしてこの触媒を酸素又は空気と二酸化硫黄
を含むガス流と接触させることを含んでいる。再生工程
は現場で実施できる。
Description
−アシッド(超強酸)触媒を加熱し、その加熱された触
媒を空気及び二酸化硫黄を含んでいるガス流に暴露する
ことによって、使用済み固体ス−パ−アシッド触媒を再
生する方法に関する。この方法は特に硫酸化され(サル
フェ−テッド)及び焼成された固体ス−パ−アシッド触
媒の再生への用途を有している。
体ス−パ−アシッド触媒を再生する能力は、触媒研究の
重要な目標である。ホルスタイン等の米国特許4,918,04
1及びホルスタイン等の米国特許4,956,519に開示される
ような固体ス−パ−アシッド触媒はノルマルアルカン類
をアルキル化及び異性化し、自動車燃料用の高オクタン
価配合成分及び/又は貴重な化学中間体を製造するのに
有用である。
された量の酸素を含有する気体蒸気中で触媒を加熱する
ことを含んでいる。再生温度は使用済み触媒上に沈着し
た炭素質沈着物を焼却除去するに十分高いが、触媒自体
を溶融させたり又はその他物理的損傷を与えたりしない
ために十分低い温度に維持される。
酸化炭素の発生と反比例する。酸素濃度は触媒再生の間
制限されるので、ガス流中に一酸化炭素が形成される。
一酸化炭素は触媒の硫酸基又は金属オキシド類を還元し
得る。これらの基は触媒の活性部位であると信じられる
ので、それらのCOによる還元は触媒の活性を減少させ
る。一酸化炭素よりも二酸化炭素をより多く生じ、従っ
て触媒の種々の位置の還元を最少にする高温は触媒を物
理的に痛めるか又は反応容器を痛め得る。
の問題を空気と二酸化硫黄を含んでいるガス流中で触媒
を加熱することによって解決する。二酸化硫黄はガス流
中で一酸化炭素によって還元されたかもしれない触媒上
のサルフェ−ト位置を再活性化する役目をする二酸化硫
黄(SO2)及び三酸化硫黄(SO3)の平衡混合物を形
成すると信じられる。ガス流中の二酸化硫黄の存在は従
って慣用方法よりもかなりより低い温度で再生反応が行
われることを可能にし、触媒の損傷を最小限にする。
特に硫酸化され焼成された固体ス−パ−アシッド触媒の
再生のための方法を含んでいる。この技術分野では、触
媒を徐々に350〜450℃に不活性雰囲気中で、例え
ば窒素ガス中で加熱し、0.5〜1.0%O2の濃度で
不活性雰囲気に対し空気又はO2を加え、そして次にO2
濃度がおよそ21%になるまでガス流中に空気又はO2
含量を徐々に増加させることによって触媒を再生するこ
とが知られている。これらの予備処理段階は触媒上の炭
素質沈着物を焼き去ると信じられる。本発明の方法は上
に概略を述べた予備処理段階に対し、所望濃度まで酸素
に富んだガス流に対しSO2を導入する段階を加えるも
のである。好ましくはこの最終段階は、加熱された触媒
を酸素とおよそ10%の二酸化硫黄を含むガス流に暴露
しつつおよそ450℃でおよそ1気圧の圧力で実施され
る。この再生方法は現場で実施できる。
素からなる第一のクラスからの元素のオキシド又はヒド
ロキシド、(2)第V、第VI又は第VII族金属からなる
第二のクラスからの金属のオキシド又はヒドロキシド、
及び(3)第VIII族金属のオキシド又はヒドロキシドを
含んでいる硫酸化され焼成された固体ス−パ−アシッド
触媒の再生の為に特に適している。特にこの方法は第VI
族元素がジルコニウムである触媒、即ち硫酸化され及び
焼成された固体ス−パ−アシッドジルコニア触媒の再生
に有用である。
元される硫酸化触媒の再生は、慣用の再生技術によって
生じるサルフェ−ト基と金属オキシドの還元を伴うので
問題が多かった。本発明の目標は、触媒の存在するサル
フェ−ト基及び金属オキシド類を別個に再酸化する必要
なしに、又は触媒を再サルフェ−ト化する必要なしに単
一操作で、硫酸化触媒、特に硫酸化され焼成された固体
ス−パ−アシッド触媒を再生することである。
媒を350〜450℃に徐々に加熱し、0.5〜1.0
%O2の濃度まで不活性雰囲気に対し空気又はO2を加
え、そして次にO2濃度がおよそ21%になるまでガス
流中の空気又はO 2含量を徐々に増加させる標準の技術
から出発する。使用済み触媒から炭素質沈着物を除去す
るためのこれらの予備処理段階に加えて、本発明は空気
又は分子状酸素と二酸化硫黄とを含んでいるガス流の存
在下で使用済み触媒を加熱する段階を含んでいる。ガス
流中の二酸化硫黄の濃度は1〜20容量%の範囲、好ま
しくはおよそ10容量%であるべきである。二酸化硫黄
自体を直接ガス流に導入できる。
ム、硫化水素、メルカプタン類、三酸化硫黄、元素状硫
黄及び他の適当な硫黄含有試薬はガス流中の二酸化硫黄
の供給源として役立ち得る。これらの化合物はこの再生
工程の温度及び圧力パラメ−タ−下で再生ガス流に導入
されたときSO2に変換される。適当な硫黄含有試薬が
使用された時には、ガス流中におよそ10%のSO2の
濃度を生じるのに必要な十分量が要求される。
00〜750℃、好ましくは425〜475℃の範囲、
より好ましくはおよそ450℃で少なくとも1気圧の圧
力で維持されるべきである。この工程の条件は0.5〜
24時間、好ましくは4〜6時間、より好ましくはおよ
そ4時間維持されるべきである。この時間の間に触媒
は、空気又はO2及び1〜20%の二酸化硫黄、好まし
くはおよそ10%のSO2を含んでいる再生ガスと接触
される。
反応温度のために、この方法は優先的に現場で実施でき
る。このことは触媒を取除いて次に触媒を再生後反応容
器に再装填する必要をなくする利点を有している。
分かった触媒には硫酸化触媒、特に硫酸化され焼成され
た固体ス−パ−アシッド触媒が含まれる。この種の触媒
はホルスタイン等の米国特許4,918,041及びホルスタイ
ン等の米国特許4,956,519に記載され、これらの両方と
も参照により本明細書に入れられる。
素からなる第一のクラスからの元素のオキシド又はヒド
ロキシド、(2)第V、第VI又は第VII族金属からなる
第二のクラスからの金属のオキシド又はヒドロキシド、
及び(3)第VIII族金属のオキシド又はヒドロキシドの
混合物を含んでいる硫酸化され焼成された固体ス−パ−
アシッド触媒の再生の為に特に適している。
この方法は第VI族元素がジルコニウムである触媒、即ち
硫酸化され焼成された固体ス−パ−アシッドジルコニア
触媒の再生に特に有用であることが示されている。次の
実施例は本発明を説明する。
化ジルコニウムに、硝酸鉄、硝酸マンガン及び硫酸アン
モニウムの混合物を含浸させ、そして次に組成物を72
5℃で焼成することによって造られた。この触媒をホル
スタリン等の米国特許4,918,041及びホルスタイン等の
米国特許4,956,519に実質的に記載されるようにして造
った。
は、触媒を装填した反応容器中に於いてこのス−パ−ア
シッドジルコニア触媒によって触媒される。n-ブタン
のイソブタンへの変換が35%未満に落ちるまで、又は
n-ブタンとイソブタンの適当な混合物の臨界温度を反
応温度が越えるまで、温度を増加させながら反応器で反
応を行った。異性化反応は30℃と135℃の間の温度
で実施された。
を含有している窒素ガス流を触媒に通すことによって触
媒を再生した。窒素ガス流中で使用したO2の濃度は
0.5〜20%の範囲であり、触媒の温度によって制御
された。触媒試料は再生の前と後で実験室反応器中で試
験した。
ルについて報告された。6回の再生サイクルが酸素ガス
流で守備よく完了した。しかしながら第7回目のサイク
ルの後、ス−パ−アシッドジルコニア触媒は上記のよう
に450℃では再生できなかったが、明らかにこれは触
媒のサルフェ−ト基又は金属オキシド基の還元により、
触媒が損傷を受けたためである。450℃を越える温度
がこの触媒をN2/O2ガス流で再生するのに必要とされ
ることがそのあと測定された。
中でさらに分析した。再生ガスとして空気を用いて45
0℃から750℃の範囲の温度で再生を実施した。これ
らの再生の結果は空気+10%SO2を使用する本発明
の方法によって得られた結果と比較される。これらの結
果の全ては図に説明される。
活性を測定し、そしてその活性を新たな触媒のものと比
較することによって評価した。触媒活性は毎時液空間速
度2(LHSV=2)に於ける異性化反応温度75℃で
生じたイソブタン(iC4)の平均重量%と定義され
た。触媒異性化活性の所望水準は31重量%イソブタン
又はそれ以上である。
含んでいるガス流で450℃で4時間再生することによ
って、上に定義される通りの目標(31重量%)を越え
る活性を有する触媒を生じた。二酸化硫黄で再生したス
−パ−アシッドジルコニア触媒は、LHSV=2で異性
化反応温度75℃に於ける4時間内に、およそ35重量
%の異性化率を有していた。SO2なしでは、O2のみに
よる再生は受入れられる再生の程度に近づく為に、6時
間にわたって725℃もの温度を要した。
び750℃)、そのような温度に於いて6時間にわたっ
て再生が実施された時に、触媒の消失した異性化活性に
よって証拠付けられるように、触媒は損傷を受ける。4
50℃に於いては、O2のみによる再生は4〜6時間
後、たったおよそ13重量%のイソブタン異性化しか生
じなかった。
り優れた再生効果を明らかに示している。O2再生ガス
流におよそ10%SO2を加えることは、より短時間
で、そしてずっと低い温度で、より大きな再生を生じ
た。より効率的な再生方法であることに加えて、SO2
再生は、この方法のより低い温度要求の為に、現場での
再生ができる利点を与える。725℃に於ける温度で
は、再生は外部キルン中で実施されねばならず、触媒は
その後反応器に装填されなければならない。
は、また、75℃以外の温度で再生触媒が異性化反応中
で使用された時にも明らかである。表に示されるように
SO 2再生ス−パ−アシッドジルコニア触媒は30℃、
45℃、60℃及び75℃の異性化温度でのO2処理さ
れた新たな触媒よりもより大きな活性を有している。9
0℃ではO2処理の新たな触媒とSO2再生触媒の活性水
準は比肩しうるものであった。
ブタン%で表わした触媒異性化活性、横軸を、触媒の再
生時間、とし、目標値と、10%のSO2を含むガス流を
用いて450℃で再生した本発明の触媒、及びSO2を含ま
ないガス流で種々の再生温度で再生した触媒についての
それぞれの値を示しているグラフである。
Claims (31)
- 【請求項1】 硫酸基と炭素質沈着物を含有している使
用済み触媒の再生方法に於いて、 (a)該触媒を加熱し、そして (b)該触媒を(1)空気又は酸素及び、(2)硫黄含
有試薬を含んでいるガス流と該触媒の還元された硫酸基
を硫酸基に再酸化するのに十分な反応条件下で接触させ
る以上の段階を含んでいる方法。 - 【請求項2】 該触媒が固体ス−パ−アシッド異性化触
媒を含んでいる請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 該触媒が固体ス−パ−アシッドアルキル
化触媒を含んでいる請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 該触媒が (a)第III族又は第IV族元素からなる第一のクラスか
らの元素のオキシド又はヒドロキシド; (b)第V族、第VI族又は第VII族金属からなる第二の
クラスからの金属のオキシド又はヒドロキシド;及び (c)第VIII族金属のオキシド又はヒドロキシドの硫酸
化及び焼成された混合物を含んでいる請求項1に記載の
方法。 - 【請求項5】 該第一のクラスからの該元素がジルコニ
ウムである請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 該試薬が二酸化硫黄、硫酸アンモニウ
ム、硫化水素、三酸化硫黄、メルカプタン類、及び元素
状硫黄からなる群から選択される請求項1に記載の方
法。 - 【請求項7】 該試薬が二酸化硫黄である請求項6に記
載の方法。 - 【請求項8】 試薬濃度が該ガス流中の二酸化硫黄濃度
1〜20容量%を生じるのに十分な濃度である請求項1
に記載の方法。 - 【請求項9】 該濃度がおよそ10%である請求項8に
記載の方法。 - 【請求項10】 該再生条件が400〜750℃の範囲
の温度及び少なくとも1気圧の圧力を含んでいる請求項
1に記載の方法。 - 【請求項11】 該温度が425〜475℃の範囲であ
る請求項10に記載の方法。 - 【請求項12】 該温度がおよそ450℃である請求項
11に記載の方法。 - 【請求項13】 該反応条件が0.5〜25時間維持さ
れる請求項1に記載の方法。 - 【請求項14】 該条件が4〜6時間維持される請求項
13に記載の方法。 - 【請求項15】 該条件がおよそ4時間維持される請求
項14に記載の方法。 - 【請求項16】 該再生方法が現場で実施される請求項
1に記載の方法。 - 【請求項17】 該触媒を該触媒から該炭素質沈着物を
除去するために予備処理条件にかけることをさらに含ん
でいる請求項1に記載の方法。 - 【請求項18】 該予備処理条件が不活性雰囲気中で該
触媒を350〜450℃に加熱し、そして酸素濃度がお
よそ21%まで該不活性雰囲気に徐々に空気又は酸素を
加えることを含んでいる請求項17に記載の方法。 - 【請求項19】 使用済み触媒を400〜750℃の範
囲の温度に1気圧に等しいか1気圧よりも大きな圧力で
加熱し、そして該触媒を(1)空気又はO2及び(2)
二酸化硫黄を含んでいるガス流と接触させることを含ん
でいる使用済み触媒を再生する方法に於いて、該触媒が (a)第III族又は第IV族元素からなる第一のクラスか
らの元素のオキシド又はヒドロキシド; (b)第V族、第VI族又は第VII族金属からなる第二の
クラスからの金属のオキシド又はヒドロキシド;及び (c)第VIII族金属のオキシド又はヒドロキシドの混合
物を含む硫酸化されそして焼成された固体ス−パ−アシ
ッドを含んでいる方法。 - 【請求項20】 該温度が425〜475℃の範囲であ
る請求項19に記載の方法。 - 【請求項21】 該温度がおよそ450℃である請求項
20に記載の方法。 - 【請求項22】 該ガス流中の二酸化硫黄の容量濃度が
1〜20%である請求項19に記載の方法。 - 【請求項23】 二酸化硫黄の該濃度がおよそ10%で
ある請求項22に記載の方法。 - 【請求項24】 該二酸化硫黄が、該ガス流中で、硫酸
アンモニウム、硫化水素、メルカプタン類、三酸化硫
黄、及び元素状硫黄からなる群から選択される硫黄含有
試薬から発生される請求項19に記載の方法。 - 【請求項25】 該硫黄含有試薬の濃度が、該ガス流中
の二酸化硫黄濃度およそ10%を生じるのに十分な濃度
である請求項24に記載の方法。 - 【請求項26】 該再生工程条件が0.5〜24時間維
持される請求項19に記載の方法。 - 【請求項27】 該再生工程条件が4〜6時間維持され
る請求項26に記載の方法。 - 【請求項28】 該再生工程条件がおよそ4時間維持さ
れる請求項27に記載の方法。 - 【請求項29】 該再生工程が現場で実施される請求項
19に記載の方法。 - 【請求項30】 該触媒を該触媒から炭素質沈着物を除
去するために予備処理条件にかける段階をさらに含んで
いる請求項19に記載の方法。 - 【請求項31】 該予備処理条件が該触媒を不活性雰囲
気下で350〜450℃に加熱し、そして酸素濃度がお
よそ21%になるまで該不活性雰囲気に空気又は酸素を
徐々に加えることを含む請求項30に記載の方法。
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