JPH0784317A - 焼付方法及び装置 - Google Patents

焼付方法及び装置

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JPH0784317A
JPH0784317A JP23131393A JP23131393A JPH0784317A JP H0784317 A JPH0784317 A JP H0784317A JP 23131393 A JP23131393 A JP 23131393A JP 23131393 A JP23131393 A JP 23131393A JP H0784317 A JPH0784317 A JP H0784317A
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JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
gas
photosensitive material
exposure
original plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP23131393A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoichi Shimizu
章一 清水
Toshiaki Danbayashi
利明 段林
Makoto Nochida
真 後田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 短い作業時間でガス溜りを解消して焼きボケ
を防止する。 【構成】 ベルト式多面焼付機は、焼付台と光源と真空
室を排気する真空ポンプと真空室に空気を吹き込むコン
プレッサと制御部とを有している。制御部は、各部を制
御して、時間T1間密着露光を行わせる。このとき、真
空室内にガスが発生し、ガス溜りが生じる。発生したガ
スやガス溜まりは、続いて真空室内に空気を吹き込むこ
とによって拡散される。ガス溜りが拡散された後、再度
時間T2密着露光を行わせ、より完全な真空密着状態で
露光を行うことにより焼きボケが少ない焼き付けを行
う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感光材料及び原板を真
空密着して焼き付け処理を施す焼付方法及び装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】感光材料上に原板の画像を焼き付ける場
合、従来より焼枠または殖版機等の焼付装置が用いられ
ている。この種の焼付装置は、たとえば、実開平2─6
4934号公報に開示されているように、光源と、感光
材料及び原板を載置するシート部材を有する焼付台と、
シート部材との間で真空室を形成し得る透光部材を有す
る開閉する上枠とを備えている。
【0003】この焼付装置では、シート部材と透光部材
との間の真空室を真空ポンプ等により排気しながら真空
にすることにより感光材料と原板とを真空密着して焼き
付け処理を施しており、一般的には露光中においても真
空ポンプを稼動させて真空密着状態を保持するようにし
ている。しかし、露光中に真空ポンプを稼動させてはい
るものの、露光により発生するガスにより真空密着状態
が部分的に不完全になり、所謂焼きボケが生じるという
問題がある。
【0004】図7は、焼きボケが生じる原因を説明する
図である。図において、焼付台は、上枠に配置された透
光板5との間をパッキン14で封止して真空室Rを形成
するゴムシート13を有している。真空室R内の空気
は、ゴムシート13に設けた排気孔15より真空ポンプ
(図示せず)にて排気される。ここでは、真空室Rの排
気を行うと、原板フィルムSと感光材料Pとが真空密着
し、原板フィルムSや感光材料Pが存在しない部分のゴ
ムシート13は透光板5に密着する。続いて露光を行う
と、感光材料Pよりガスが発生する。これらのガスは真
空ポンプにより順次排気される。しかし、すでにゴムシ
ート13と透光板5とが密着した部分(図3のD点な
ど)により排気通路がふさがれ、ガスの排気が妨げられ
てガス溜りが生じ、これが焼きボケの原因となってい
る。特に原板フィルムSが複数のフイルムを貼り込んだ
貼り込み原板である場合、貼り込みによって生じる段差
にガス溜りが生じやすい。
【0005】そこで、上記問題点を解決するために、露
光工程を2回以上にわけて焼き付け処理を施す焼付方法
(以下2段階焼付方法と称す)が提案されており、例え
ば(社)発明協会発行の公開技法90−17117に開
示された技術が公知である。この技法に開示された技術
では、完全真空密着状態に達するまでに初期露光を行っ
て、初期に大量に発生するガスを排気しやすいようにし
ており、初期露光で発生したガスを十分排気した後に本
露光を行っている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前記2段階焼付方法
は、ある程度焼きボケ解消効果を有するものの完全なも
のではない。すなわち、真空ポンプが接続された排気孔
付近では排気力が強いため、2段階焼付方法を実施して
も図7で示すような空気の流れを止めるD点が生じる可
能性が高い。従って、2段階焼付方法を用いる場合、初
期露光と本露光とのインターバルを大きくとるなどして
ガスの排気を完全に行うことが考えられるが、初期露光
と本露光とのインターバルを大きくとると作業時間が増
大するという別の問題が生じる。
【0007】本発明の目的は、作業時間を増大させるこ
となくガスの発生による焼きボケの発生を抑えることに
ある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明に係る焼付方法
は、感光材料及び原板を真空密着して感光材料に原板の
画像を焼き付ける方法であって、第1真空密着工程と第
1露光工程と気体吹き込み工程と第2真空密着工程と第
2露光工程とを含んでいる。第1真空密着工程では、感
光材料及び原板を真空密着する。第1露光工程では、第
1真空密着工程で真空密着された感光材料及び原板を露
光する。気体吹き込み工程では、真空密着を解除した
後、感光材料及び原板に気体を吹き込む。第2真空密着
工程では、気体吹き込み工程の後、感光材料及び原板を
再度真空密着する。第2露光工程では、第2真空密着工
程で真空密着された感光材料及び原板を再度露光する。
【0009】本発明に係る焼付装置は、感光材料及び原
板を真空密着して感光材料に原板の画像を焼き付ける装
置であって、第1真空密着手段と第1露光手段と気体吹
き込み手段と第2真空密着手段と第2露光手段とを備え
ている。第1真空密着手段は、感光材料及び原板を真空
密着する。第1露光手段は、第1真空密着手段で真空密
着された感光材料及び原板を露光する。気体吹き込み手
段は、真空密着を解除した後、感光材料及び原板に気体
を吹き込む。第2露光手段は、気体吹き込み後、感光材
料及び原板を再度真空密着する。第2露光手段は、第2
真空密着手段で真空密着された感光材料及び原板を再度
露光する。
【0010】
【作用】本発明に係る焼付方法及び装置では、感光材料
と原板とが真空密着され、初期露光が行われる。初期露
光が行われると、これにともなって、感光材料からガス
が多量に発生する。発生したガスがガス溜りを形成して
も、気体が吹き込まれ、ガス溜りは拡散される。したが
って、排気通路を確保することができる。そして、気体
吹き込み後に感光材料及び原板を再度真空密着して露光
を行う。
【0011】ここでは、多量にガスを発生する初期露光
期間を本露光と分離して設け、かつ本露光前に気体を吹
き込んでガス溜りを解消するようにしたので、作業時間
を増大させることなく本露光時の真空密着をより完全に
することができ、ガスの発生による焼きボケが生じにく
い。
【0012】
【実施例】図1は、本発明の一実施例による真空密着式
焼付装置を示している。この焼付装置は、原板フィルム
を原板搬送用ベルトで位置決めするようにしたベルト搬
送式多面焼付機である。焼付機は、機枠本体1と、機枠
本体1の上面に昇降自在に設けられた焼付台2と、焼付
台2に対して開閉可能に設けられた上枠3と、上枠3の
上方に配置された焼付用光源8とを備えている。上枠3
は、縁枠4と、縁枠4の下面に配置された透光板5とを
備えている。透光板5の上面には、巻出し式マスク装置
(図示せず)が配置されており、透光板5の下面の周囲
には、パッキン14が配置されている。
【0013】焼付台2には、焼付台2に対してX及びY
方向に移動可能な原板搬送用ベルト6が配置されてい
る。この原板搬送用ベルト6で、焼付台2上に位置決め
載置したPS板等の感光材料Pに対して、原板フィルム
Sを順次位置決めして多面焼き付けする。原板搬送用ベ
ルト6は、図2に示すように、焼付台2の左右に配置さ
れた1対のプーリ10,10に、板厚0.2mm程度の
無端帯板を巻き架け、焼付台2を取り巻くように設けら
れている。
【0014】上枠3は、図1及び図3に示すように、そ
の左右両端中央に設けられたエアシリンダ7によって開
閉可能になっており、全開姿勢Eと半開姿勢Fと閉姿勢
Gとの間で切り換えられ得る。全開姿勢Eでは、感光材
料Pや原板フィルムSの交換を行う。半開姿勢Fでは、
原板搬送用ベルト6を作動して原板フィルムSを、X及
びY方向に移動させ、所定位置に原板フィルムSを移動
させる。また閉姿勢Gでは、原板フィルムSと感光材料
Pとを密着し、焼き付けする。
【0015】原板フィルムSは、図2に示すように、そ
の前端辺(図の左端辺)が原板搬送用ベルト6に接着テ
ープ12で止められ、焼付台2上に位置決め載置された
感光材料Pに対してX及びY方向に位置決めされる。こ
のとき、焼付台2が少し下降して、原板搬送用ベルト6
と原板フィルムSとの間に相対移動可能な間隙を形成す
るようになっている。この間隙を通して、焼付台2の前
縁に配置されたエアノズル9よりエアが噴出し、原板フ
ィルムSの後端辺が垂れ下がって感光材料Pに接触する
のを防止する。
【0016】焼付台2は、図4に示すように、ベーステ
ーブル11と、ベーステーブル11にその周囲が固定さ
れたゴムシート13とを有している。ゴムシート13上
には、感光材料Pが載置され、透光板5とゴムシート1
1とパッキン14とによって囲まれた空間により真空室
R1が構成される。真空室R1は、電磁弁V1を介して
コンプレッサーCと真空ポンプP1と大気とに選択的に
連通される。また、ゴムシート13とベーステーブル1
1との隙間により予備真空室R2が構成される。予備真
空室R2は、電磁弁V2を介して真空ポンプP2と大気
とに選択的に連通される。
【0017】焼付装置は、図5に示すような制御部20
を有している。制御部20は、CPU,RAM,ROM
等からなるマイクロコンピューター及び各種駆動回路等
を含んでいる。制御部20には、光源8、真空ポンプP
1,P2、コンプレッサーC、電磁弁V1,V2、原板
搬送用ベルト6及びエアシリンダ7が接続されている。
また、制御部20には、各種の入力のための入力設定部
21、設定結果等を記憶するメモリ部22及び他の入出
力部も接続されている。
【0018】次に、制御部20の制御動作を、図6に示
す制御フローチャートに従って説明する。まず動作開始
前に操作者は露光前の準備を行う。すなわち、感光材料
Pをゴムシート13上に位置決めして載置し、原板フィ
ルムSを接着テープ12で原稿搬送用ベルト6に止め
る。準備が終了し、電源が投入されると、まずステップ
S1では、初期設定が行われる。ここでは、露光時間や
原板フィルムSの移動手順が初期値にセットされる。ま
た、電磁弁V1,V2が大気開放側に連通される。さら
に、上枠3を全開姿勢Eにする。次にステップS2で
は、露光時間T1,T2(後述)や原板フィルムの移動
手順等の各種の設定処理が指定されたか否かを判断す
る。各種の設定処理が指定されなかった場合はステップ
S3に移行する。ステップS3では、焼付開始が指令さ
れるのを待つ。焼付開始が指令されるまではステップS
2に戻る。また、各種設定処理が指定されるとステップ
S4に移行し、各種設定処理を実行する。この設定結果
はメモリ部22に記憶される。
【0019】焼付開始が指令されるとステップS5に移
行する。ステップS5では、エアシリンダ7により上枠
3を半開姿勢Fにする。ステップS6では、原板搬送用
ベルト6を制御して原板フィルムSを最初の露光位置に
移動させる。ステップS7では、上枠3を閉姿勢Gにす
る。ステップS8では、電磁弁V2を真空ポンプP2側
に切り換えて真空ポンプP2を予備真空室R2に接続
し、真空ポンプP2を稼働させて予備真空室R2の排気
を開始する。ステップS8で開始した排気によって、ゴ
ムシート13は、ベーステーブル11に密着する。所定
の遅れ時間をおいてから、ステップS9では、電磁弁V
1を真空ポンプP1側に切り換えて真空ポンプP1を真
空室R1に接続し、真空ポンプP2を稼働させて真空室
R1の排気を開始する。ステップS10では、電磁弁V
2を大気開放側に切り換えて、予備真空室R2を大気開
放する。この大気開放によって、図4に示すようにゴム
シート13が均一に透光板5側に密着し、感光材料Pと
原板フィルムSも良好に密着する。そして、必要により
真空ポンプP2を停止させる。なお、この予備真空室R
2を用いた真空密着については米国特許第448481
3号公報や実開平2−64934号公報などで公知のた
め、詳しくは省略する。
【0020】真空密着が終了すると、ステップS11に
おいて所定の時間T1のみ露光を行う(以後これを第1
露光と称す)。この第1露光では、特に初期露光時に多
量のガスが発生しやすいという事実から、時間T1があ
らかじめ定められている。すなわち、露光によって感光
材料から多量のガスが発生する状態が一定以下に弱まる
までの時間をT1とする。この時間T1は実験によりあ
らかじめ求められ、感光材料の種類やサイズ等によって
異なるが、通常の全体露光時間の10〜50%程度を割
りあてればよい。なお、時間T1は直接その時間を設定
してもよいし、全体露光時間に対する第1露光時間の比
率として設定してもよい。
【0021】ステップS11において第1露光が終了す
ると、ステップS12では電磁弁V1をコンプレッサー
C側に切り換えて真空室R1の排気を停止するとともに
コンプレッサーCによって真空室R1に空気を吹き込
む。なお、コンプレッサーCをあらかじめ稼動させてお
くことは言うまでもない。ここでは、たとえば、1〜4
kgf/cm2 の圧力で、約 0.3〜0.5sec程度の時間だけ空
気の吹き込みを行う。この空気の吹き込みにより真空室
R1内でガス溜りが生じていても、これを解消できる。
つまり、ゴムシート13と透光板5とが密着して真空排
気のための排気通路がない状態であっても、上記空気吹
き込みの圧力により排気通路が生じ、ガス溜りが拡散す
ることになる。
【0022】ステップS13では、空気吹き込み後、電
磁弁V1を真空ポンプP1側に切り換えて真空室R1と
真空ポンプP1とを連通させて、真空室R1の排気を再
度開始する。ここでは、ステップS10の空気吹き込み
により排気通路が生じた後に再度排気をするので、真空
室R1内のガスが効率よく排気される。所定の遅れ時間
後、ステップS14で所定の時間T2露光が行われる
(以後これを第2露光と称す)。なお、第1露光の時間
T1と第2露光の時間T2の合計が全体露光時間とな
る。従って第2露光の時間T2は、全体露光時間から第
1露光の時間T1を引いて設定すればよい。
【0023】第2露光が終了すると、ステップS15に
て電磁弁V1を大気開放側に切り換えて真空室R1の排
気を停止して大気開放する。ステップS16では、全て
の焼付位置での焼付が終了したか否かを判断する。全て
の焼付が終了していないと判断した場合は、ステップS
5に戻り、上枠3を半開姿勢Fにした後、ステップS6
で次の焼付位置に原板フィルムSを移動して以降の動作
を繰り返す。全ての焼付が終了したと判断するとステッ
プS17に移行し、上枠3を全開姿勢Eにした後にステ
ップS2に戻る。なお、作業終了にともなって必要によ
り全ての真空ポンプP1、P2及びコンプレッサーCを
停止させてもよい。 〔他の実施例〕上記実施例では、コンプレッサーCによ
って真空室R1内にエアーを吹き込んだが、コンプレッ
サーCを使用せずに大気開放によりエアーを吹き込んで
もよい。この場合、電磁弁V1を大気開放側に切り換え
る以外に、直接上枠3を半開姿勢Fに開けて、真空室内
R1に空気を吹き込ませることもできる。
【0024】
【発明の効果】本発明に係る焼付方法では、空気の吹き
込みによってガス溜りが解消されるため、短い作業時間
でガスを排気でき、ガスの発生による焼きボケを防止で
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例によるベルト式多面焼付機の
斜視図。
【図2】焼付台の平面図。
【図3】多面焼付機の側面図。
【図4】焼付台の断面部分図。
【図5】多面焼付機の制御ブロック図。
【図6】制御部の制御フローチャート。
【図7】ガス溜りを説明する焼付台の断面部分図。
【符号の説明】
2 焼付台 5 透光板 8 光源 20 制御部 P1,P2 真空ポンプ V1,V2 電磁弁 C コンプレッサ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】感光材料及び原板を真空密着して前記感光
    材料に前記原板の画像を焼き付ける焼付方法であって、 前記感光材料及び前記原板を真空密着する第1真空密着
    工程と、 前記第1真空密着工程で真空密着された前記感光材料及
    び前記原板を露光する第1露光工程と、 真空密着を解除した後、前記感光材料及び前記原板に気
    体を吹き込む気体吹き込み工程と、 前記気体吹き込み工程の後、前記感光材料及び前記原板
    を再度真空密着する第2真空密着工程と、 前記第2真空密着工程で真空密着された前記感光材料及
    び前記原板を再度露光する第2露光工程と、を含む焼付
    方法。
  2. 【請求項2】感光材料及び原板を真空密着して前記感光
    材料に前記原板の画像を焼き付ける焼付装置であって、 前記感光材料及び前記原板を真空密着する第1真空密着
    手段と、 前記第1真空密着手段で真空密着された前記感光材料及
    び前記原板を露光する第1露光手段と、 真空密着を解除した後、前記感光材料及び前記原板に気
    体を吹き込む気体吹き込み手段と、 前記気体吹き込み後、前記感光材料及び前記原板を再度
    真空密着する第2真空密着手段と、 前記第2真空密着手段で真空密着された前記感光材料及
    び前記原板を再度露光する第2露光手段と、を備えた焼
    付装置。
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