JPH0784391A - 電子写真感光体用支持体の製造方法および電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体用支持体の製造方法および電子写真感光体Info
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- JPH0784391A JPH0784391A JP23064693A JP23064693A JPH0784391A JP H0784391 A JPH0784391 A JP H0784391A JP 23064693 A JP23064693 A JP 23064693A JP 23064693 A JP23064693 A JP 23064693A JP H0784391 A JPH0784391 A JP H0784391A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】アルミニウムまたはアルミニウム合金の基板と
その上に形成された陽極酸化皮膜とからる電子写真感光
体用支持体の優れた製造方法を見いだし、その支持体を
用いて高画質の電子写真感光体を得る。 【構成】アルミニウム合金基板1aの表面を脱脂洗浄
し、陽極酸化処理を液温約18℃〜約21℃の硫酸溶液
を電解液として行って、陽極酸化皮膜1bを形成して支
持体1を製造し、その支持体1上に電荷発生層2a,電
荷輸送層2bを積層した感光層2を塗布形成して電子写
真感光体を作製する。または、アルミニウム合金基板1
aの表面を脱脂洗浄し、陽極酸化し、封孔処理を液温約
60℃〜約80℃の酢酸ニッケル溶液を用いて行い、Y
値が20μS以下の陽極酸化皮膜1bを形成して支持体
1を製造し、その支持体1を用いて上記と同様にして電
子写真感光体を製造する。
その上に形成された陽極酸化皮膜とからる電子写真感光
体用支持体の優れた製造方法を見いだし、その支持体を
用いて高画質の電子写真感光体を得る。 【構成】アルミニウム合金基板1aの表面を脱脂洗浄
し、陽極酸化処理を液温約18℃〜約21℃の硫酸溶液
を電解液として行って、陽極酸化皮膜1bを形成して支
持体1を製造し、その支持体1上に電荷発生層2a,電
荷輸送層2bを積層した感光層2を塗布形成して電子写
真感光体を作製する。または、アルミニウム合金基板1
aの表面を脱脂洗浄し、陽極酸化し、封孔処理を液温約
60℃〜約80℃の酢酸ニッケル溶液を用いて行い、Y
値が20μS以下の陽極酸化皮膜1bを形成して支持体
1を製造し、その支持体1を用いて上記と同様にして電
子写真感光体を製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、アルミニウムまたは
アルミニウム合金からなる導電性基板の表面にアルミニ
ウム陽極酸化皮膜を形成されてなる電子写真感光体用支
持体の製造方法およびその支持体を用いた有機材料から
なる感光層を備えた電子写真感光体に関する。
アルミニウム合金からなる導電性基板の表面にアルミニ
ウム陽極酸化皮膜を形成されてなる電子写真感光体用支
持体の製造方法およびその支持体を用いた有機材料から
なる感光層を備えた電子写真感光体に関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真の技術は、従来複写機の分野で
発展してきたが、最近では、レーザプリンタなど複写機
以外の装置にも応用され、従来の装置とは比較にならな
いほどの高画質,高速,静粛性により急速に普及してき
ている。これらの電子写真装置で使用される感光体は、
支持体上に感光層が設けられている。感光層の材料とし
ては、最近有機材料が多用されるようになり、層構成と
しては、図6に示すように、導電性基板11とその上に
形成された下引き層12とからなる電子写真感光体用支
持体1上に有機材料からなる電荷発生層2a,電荷輸送
層2bを順次積層した感光層2を形成した機能分離積層
型構造が一般的である。
発展してきたが、最近では、レーザプリンタなど複写機
以外の装置にも応用され、従来の装置とは比較にならな
いほどの高画質,高速,静粛性により急速に普及してき
ている。これらの電子写真装置で使用される感光体は、
支持体上に感光層が設けられている。感光層の材料とし
ては、最近有機材料が多用されるようになり、層構成と
しては、図6に示すように、導電性基板11とその上に
形成された下引き層12とからなる電子写真感光体用支
持体1上に有機材料からなる電荷発生層2a,電荷輸送
層2bを順次積層した感光層2を形成した機能分離積層
型構造が一般的である。
【0003】導電性基板11としては、通常、アルミニ
ウムまたはアルミニウム合金からなる基板が用いられ
る。下引き層12としては、ポリアミドを代表とする樹
脂系材料の塗膜を利用する場合と、アルミニウムまたは
アルミニウム合金からなる基板の表面に陽極酸化処理を
施して形成した陽極酸化皮膜を利用する場合とがある
が、高温高湿環境下における信頼性では後者の方が一般
的に優れている。
ウムまたはアルミニウム合金からなる基板が用いられ
る。下引き層12としては、ポリアミドを代表とする樹
脂系材料の塗膜を利用する場合と、アルミニウムまたは
アルミニウム合金からなる基板の表面に陽極酸化処理を
施して形成した陽極酸化皮膜を利用する場合とがある
が、高温高湿環境下における信頼性では後者の方が一般
的に優れている。
【0004】下引き層としてアルミニウム陽極酸化皮膜
を利用する場合、通常、硫酸溶液を電解液とする陽極酸
化処理方法が採られる。すなわち、導電性基板として適
当な形状,表面形状に加工されたアルミニウムまたはア
ルミニウム合金からなる基板の表面を市販の脱脂剤を用
いて脱脂し、水洗後、NaOH溶液やK0H溶液などの
アルカリ溶液でエッチングを行って表面をさらに脱脂し
て清浄にし、続いて、硫酸濃度160g/リットル〜2
00g/リットルの硫酸溶液を電解液として用い、液温
約15℃〜約18℃,電流密度3A/dm2 〜5A/d
m2 で15分〜25分陽極酸化を行う。続いて行う封孔
処理では酢酸ニッケル溶液を用いることが多く、約40
℃〜約60℃の範囲内の温度に保った酢酸ニッケル溶液
を用いて5分〜10分封孔処理を行って陽極酸化皮膜を
形成する。
を利用する場合、通常、硫酸溶液を電解液とする陽極酸
化処理方法が採られる。すなわち、導電性基板として適
当な形状,表面形状に加工されたアルミニウムまたはア
ルミニウム合金からなる基板の表面を市販の脱脂剤を用
いて脱脂し、水洗後、NaOH溶液やK0H溶液などの
アルカリ溶液でエッチングを行って表面をさらに脱脂し
て清浄にし、続いて、硫酸濃度160g/リットル〜2
00g/リットルの硫酸溶液を電解液として用い、液温
約15℃〜約18℃,電流密度3A/dm2 〜5A/d
m2 で15分〜25分陽極酸化を行う。続いて行う封孔
処理では酢酸ニッケル溶液を用いることが多く、約40
℃〜約60℃の範囲内の温度に保った酢酸ニッケル溶液
を用いて5分〜10分封孔処理を行って陽極酸化皮膜を
形成する。
【0005】このようにして形成された下引き層として
の陽極酸化皮膜上に、有機電荷発生物質を含む塗布液,
あるいは必要に応じてさらに樹脂結着剤を含む塗布液を
塗布して電荷発生層を形成し、その上に有機電荷輸送物
質を含む塗布液,あるいは必要に応じてさらに樹脂結着
剤を含む塗布液を塗布して電荷輸送層を形成して感光体
が得られる。
の陽極酸化皮膜上に、有機電荷発生物質を含む塗布液,
あるいは必要に応じてさらに樹脂結着剤を含む塗布液を
塗布して電荷発生層を形成し、その上に有機電荷輸送物
質を含む塗布液,あるいは必要に応じてさらに樹脂結着
剤を含む塗布液を塗布して電荷輸送層を形成して感光体
が得られる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
なアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる導電性
基板上に陽極酸化皮膜を形成した支持体を用いた感光体
においては、陽極酸化処理条件,封孔処理条件によって
は、皮膜から電荷発生層への電荷注入が起こり、感光体
の電位保持性能が低下し、特に高湿度環境下で「地かぶ
り」の発生が著しくなるという問題があった。また、陽
極酸化皮膜上には電荷発生層が塗布形成されるが、電荷
発生層はサブミクロンオーダーの膜厚の薄膜とすること
が要求され、陽極酸化皮膜表面性状のばらつきにより塗
布むらが生じて、得られる画像の「濃度むら」の原因と
なるという問題があった。
なアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる導電性
基板上に陽極酸化皮膜を形成した支持体を用いた感光体
においては、陽極酸化処理条件,封孔処理条件によって
は、皮膜から電荷発生層への電荷注入が起こり、感光体
の電位保持性能が低下し、特に高湿度環境下で「地かぶ
り」の発生が著しくなるという問題があった。また、陽
極酸化皮膜上には電荷発生層が塗布形成されるが、電荷
発生層はサブミクロンオーダーの膜厚の薄膜とすること
が要求され、陽極酸化皮膜表面性状のばらつきにより塗
布むらが生じて、得られる画像の「濃度むら」の原因と
なるという問題があった。
【0007】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、アルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる導電性基板上に、適切な電気抵抗を有しかつ表面性
状の均一な陽極酸化皮膜を下引き層として形成して前述
のような「地かぶり」や「濃度むら」を引き起こさない
良好な電子写真感光体用支持体を効率良く製造する方法
を提供することを目的とする。また、そのようにして得
られた支持体を用いることにより、高湿度環境下でも高
画質の画像が得られる電子写真感光体を得ることを目的
とする。
のであって、アルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる導電性基板上に、適切な電気抵抗を有しかつ表面性
状の均一な陽極酸化皮膜を下引き層として形成して前述
のような「地かぶり」や「濃度むら」を引き起こさない
良好な電子写真感光体用支持体を効率良く製造する方法
を提供することを目的とする。また、そのようにして得
られた支持体を用いることにより、高湿度環境下でも高
画質の画像が得られる電子写真感光体を得ることを目的
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る導電性基板の表面を約18℃から約21℃の温度範囲
内に保持した硫酸溶液を電解液として陽極酸化し陽極酸
化皮膜を形成して電子写真感光体用支持体とし、その支
持体を用いて電子写真感光体を作製することにより解決
される。
によれば、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る導電性基板の表面を約18℃から約21℃の温度範囲
内に保持した硫酸溶液を電解液として陽極酸化し陽極酸
化皮膜を形成して電子写真感光体用支持体とし、その支
持体を用いて電子写真感光体を作製することにより解決
される。
【0009】また、上記の課題は、アルミニウムまたは
アルミニウム合金からなる導電性基板の表面を陽極酸化
し、続いて約60℃から約80℃の温度範囲内に保持し
た酢酸ニッケル溶液を用いて封孔処理を行い、アドミッ
タンス値が20μS以下の陽極酸化皮膜を形成して支持
体とし、その支持体を用いて感光体を作製することによ
り解決される。
アルミニウム合金からなる導電性基板の表面を陽極酸化
し、続いて約60℃から約80℃の温度範囲内に保持し
た酢酸ニッケル溶液を用いて封孔処理を行い、アドミッ
タンス値が20μS以下の陽極酸化皮膜を形成して支持
体とし、その支持体を用いて感光体を作製することによ
り解決される。
【0010】
【作用】この発明においては、陽極酸化を液温が約18
℃から約21℃の温度範囲内に保持された硫酸溶液を電
解液として行うこととする。従来は、16℃程度以下の
液温で行われていた。低い液温で行う程、表面硬度が高
く,耐食性の良い皮膜が得られ、保護皮膜として適して
いたからである。ところが、本発明者は、感光体用支持
体の場合には、低液温で皮膜を形成した支持体では電位
保持性能が悪く、高液温で形成するほど電位保持性能が
向上するという性質があり、少なくとも約18℃以上の
液温とすることが好ましいことを見出した。一方、陽極
酸化が良好に行われるためには電解液に溶存アルミニウ
ムが含まれていることが必要とされ、1g/リットルな
いし10g/リットルのアルミニウムが溶存しているこ
とが望ましく、3g/リットルないし7g/リットルの
範囲内がより望ましい。10g/リットルを超えて多量
に含まれるとアルミニウムが皮膜表面に付着するという
不具合が発生してくるので好ましくない。ところが、液
温が約22℃以上と高くなると、陽極酸化時に電解液中
へのアルミニウムの溶解量が多くなり、溶存アルミニウ
ム量が10g/リットルを超えないようにするためには
電解液を頻繁に新しく取り替えることが必要となり、工
程管理が難しくなるという問題が生じてくる。液温を約
18℃から約21℃の範囲内とすることによりこのよう
な問題を解消することができる。電解液の硫酸濃度は1
60g/リットルないし200g/リットルの範囲内が
好適である。
℃から約21℃の温度範囲内に保持された硫酸溶液を電
解液として行うこととする。従来は、16℃程度以下の
液温で行われていた。低い液温で行う程、表面硬度が高
く,耐食性の良い皮膜が得られ、保護皮膜として適して
いたからである。ところが、本発明者は、感光体用支持
体の場合には、低液温で皮膜を形成した支持体では電位
保持性能が悪く、高液温で形成するほど電位保持性能が
向上するという性質があり、少なくとも約18℃以上の
液温とすることが好ましいことを見出した。一方、陽極
酸化が良好に行われるためには電解液に溶存アルミニウ
ムが含まれていることが必要とされ、1g/リットルな
いし10g/リットルのアルミニウムが溶存しているこ
とが望ましく、3g/リットルないし7g/リットルの
範囲内がより望ましい。10g/リットルを超えて多量
に含まれるとアルミニウムが皮膜表面に付着するという
不具合が発生してくるので好ましくない。ところが、液
温が約22℃以上と高くなると、陽極酸化時に電解液中
へのアルミニウムの溶解量が多くなり、溶存アルミニウ
ム量が10g/リットルを超えないようにするためには
電解液を頻繁に新しく取り替えることが必要となり、工
程管理が難しくなるという問題が生じてくる。液温を約
18℃から約21℃の範囲内とすることによりこのよう
な問題を解消することができる。電解液の硫酸濃度は1
60g/リットルないし200g/リットルの範囲内が
好適である。
【0011】また、封孔処理は、液温約60℃から約8
0℃の範囲内に保持された酢酸ニッケル溶液を用いて行
う。液温が約60℃を超えると、封孔の程度を示すアド
ミッタンス値が20μS以下と良好な封孔度が得られ、
そのような支持体を用いることにより電位保持性能が高
い感光体を得ることができる。また、高い液温で封孔処
理するほど陽極酸化皮膜の表面は均質となり、そのよう
な支持体を用いることにより「濃度むら」の少ない画像
の感光体を得ることができる。一方、あまり高温となる
と工程管理,液管理が難しくなるので、液温は約60℃
から約80℃の範囲内とすればよい。封孔処理液の酢酸
ニッケル濃度は約6g/リットルが好適であり、処理時
間は5分〜10分が好ましく、より好ましくは8分〜1
0分である。
0℃の範囲内に保持された酢酸ニッケル溶液を用いて行
う。液温が約60℃を超えると、封孔の程度を示すアド
ミッタンス値が20μS以下と良好な封孔度が得られ、
そのような支持体を用いることにより電位保持性能が高
い感光体を得ることができる。また、高い液温で封孔処
理するほど陽極酸化皮膜の表面は均質となり、そのよう
な支持体を用いることにより「濃度むら」の少ない画像
の感光体を得ることができる。一方、あまり高温となる
と工程管理,液管理が難しくなるので、液温は約60℃
から約80℃の範囲内とすればよい。封孔処理液の酢酸
ニッケル濃度は約6g/リットルが好適であり、処理時
間は5分〜10分が好ましく、より好ましくは8分〜1
0分である。
【0012】
【実施例】以下、この発明の実施例について説明する。
図1は、この発明に係わる感光体の一実施例の模式的断
面図で、導電性基板としてのアルミニウム合金基板1a
上に下引き層としての陽極酸化皮膜1bが設けられた支
持体1上に有機材料の塗布膜からなる電荷発生層2a,
電荷輸送層2bが順次積層された感光層2が設けらた構
成のものである。
図1は、この発明に係わる感光体の一実施例の模式的断
面図で、導電性基板としてのアルミニウム合金基板1a
上に下引き層としての陽極酸化皮膜1bが設けられた支
持体1上に有機材料の塗布膜からなる電荷発生層2a,
電荷輸送層2bが順次積層された感光層2が設けらた構
成のものである。
【0013】実施例1 アルミニウム合金(JIS 6063材)からなる導電
性基板を、脱脂剤(日本パーカーラィジィング(株)
製;ファインクリーナー315)を用いて液温50℃で
脱脂を行い、水洗して脱脂剤を除去する。続いて、濃度
15%の硝酸溶液を用いるエッチングによりさらに充分
に脱脂洗浄を行い、純水洗浄を行って表面を清浄にし
た。この基板に、陽極酸化処理を行う。電解液は濃度1
50g/リットルの硫酸溶液を用い、電解液中の溶存ア
ルミニウムの量は3g/リットル〜7g/リットルとし
た。液温を15℃,20℃,22℃と変え、約5A/d
m2 で24分間陽極酸化処理を行い、純水で洗浄した。
続いて、濃度6g/リットルの酢酸ニッケル溶液を用
い、液温70℃で8.5分間封孔処理を行い、純水で洗
浄し、乾燥して、感光体用の支持体とした。
性基板を、脱脂剤(日本パーカーラィジィング(株)
製;ファインクリーナー315)を用いて液温50℃で
脱脂を行い、水洗して脱脂剤を除去する。続いて、濃度
15%の硝酸溶液を用いるエッチングによりさらに充分
に脱脂洗浄を行い、純水洗浄を行って表面を清浄にし
た。この基板に、陽極酸化処理を行う。電解液は濃度1
50g/リットルの硫酸溶液を用い、電解液中の溶存ア
ルミニウムの量は3g/リットル〜7g/リットルとし
た。液温を15℃,20℃,22℃と変え、約5A/d
m2 で24分間陽極酸化処理を行い、純水で洗浄した。
続いて、濃度6g/リットルの酢酸ニッケル溶液を用
い、液温70℃で8.5分間封孔処理を行い、純水で洗
浄し、乾燥して、感光体用の支持体とした。
【0014】このようにして得られた3種類の支持体上
に、それぞれ、X型無金属フタロシアニンと塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体を1対1の比率で分散,溶解した塗
布液を塗布して膜厚0.2μmの電荷発生層を形成し、
続いてポリカーボネート樹脂とヒドラゾン系材料を1対
1の比率で溶解した塗布液を塗布して膜厚20μmの電
荷輸送層を形成して、図1に示した構成の感光体を作製
した。
に、それぞれ、X型無金属フタロシアニンと塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体を1対1の比率で分散,溶解した塗
布液を塗布して膜厚0.2μmの電荷発生層を形成し、
続いてポリカーボネート樹脂とヒドラゾン系材料を1対
1の比率で溶解した塗布液を塗布して膜厚20μmの電
荷輸送層を形成して、図1に示した構成の感光体を作製
した。
【0015】これらの感光体について、帯電5秒後の電
位保持率VK5(%)および波長780nmの単色光を露
光したときの半減衰露光量E1/2 (μJ/cm2 )を測
定した。陽極酸化時の液温をパラメータとして、VK5と
E1/2 との関係を図2に示す。図2に見られるように、
半減衰露光量E1/2 が同じ場合、陽極酸化時の液温が高
いほど電位保持率は高くなっている。また、これらの感
光体についてそれぞれ画像出しを行ったところ、陽極酸
化時の液温が高いほど「地かぶり」は減少した。
位保持率VK5(%)および波長780nmの単色光を露
光したときの半減衰露光量E1/2 (μJ/cm2 )を測
定した。陽極酸化時の液温をパラメータとして、VK5と
E1/2 との関係を図2に示す。図2に見られるように、
半減衰露光量E1/2 が同じ場合、陽極酸化時の液温が高
いほど電位保持率は高くなっている。また、これらの感
光体についてそれぞれ画像出しを行ったところ、陽極酸
化時の液温が高いほど「地かぶり」は減少した。
【0016】しかしながら、陽極酸化時の液温が高くな
るにつれて基板からのアルミニウムの溶解量が多くな
り、処理時間とともに電解液中の溶存アルミニウムの量
が増えてきて10g/リットルを超え、皮膜表面にアル
ミニウムが析出してくる不具合が発生してくる。液温2
2℃ではアルミニウムの溶解量が多く、溶存アルミニウ
ム量を10g/リットル以下に抑えるためには電解液を
頻繁に新しくしなければならなくなり、工程管理が困難
であった。
るにつれて基板からのアルミニウムの溶解量が多くな
り、処理時間とともに電解液中の溶存アルミニウムの量
が増えてきて10g/リットルを超え、皮膜表面にアル
ミニウムが析出してくる不具合が発生してくる。液温2
2℃ではアルミニウムの溶解量が多く、溶存アルミニウ
ム量を10g/リットル以下に抑えるためには電解液を
頻繁に新しくしなければならなくなり、工程管理が困難
であった。
【0017】以上の結果より、陽極酸化時の液温は約1
8℃から約21℃の範囲内が望ましいことが判る。 実施例2 アルミニウム合金(JIS 6063材)からなる導電
性基板を、脱脂剤(奥野製薬(株)製;アルクリーン1
60)を用いて脱脂を行い、水洗して脱脂剤を除去す
る。続いて、濃度15%の硝酸溶液を用いるエッチング
によりさらに充分に脱脂洗浄を行い、純水洗浄を行って
表面を清浄にした。この基板に、実施例1における陽極
酸化の液温を20℃一定としたこと以外は、実施例1と
同様にして陽極酸化を行った。続いて、濃度6g/リッ
トルの酢酸ニッケル溶液を用い、液温を40℃,50
℃,60℃,70℃,80℃と変えて8.5分間封孔処
理を行い、純水で洗浄し、乾燥して、封孔処理液温の異
なる5種類の感光体用の支持体を作製した。
8℃から約21℃の範囲内が望ましいことが判る。 実施例2 アルミニウム合金(JIS 6063材)からなる導電
性基板を、脱脂剤(奥野製薬(株)製;アルクリーン1
60)を用いて脱脂を行い、水洗して脱脂剤を除去す
る。続いて、濃度15%の硝酸溶液を用いるエッチング
によりさらに充分に脱脂洗浄を行い、純水洗浄を行って
表面を清浄にした。この基板に、実施例1における陽極
酸化の液温を20℃一定としたこと以外は、実施例1と
同様にして陽極酸化を行った。続いて、濃度6g/リッ
トルの酢酸ニッケル溶液を用い、液温を40℃,50
℃,60℃,70℃,80℃と変えて8.5分間封孔処
理を行い、純水で洗浄し、乾燥して、封孔処理液温の異
なる5種類の感光体用の支持体を作製した。
【0018】このようにして得られた5種類の支持体上
に、それぞれ、実施例1と同様にして電荷発生層および
電荷輸送層を形成して、図1に示した構成の感光体を作
製した。これらの感光体について、帯電5秒後の電位保
持率VK5(%),波長780nmの単色光を露光したと
きの半減衰露光量E1/2 (μJ/cm2 )および波長7
80nmの単色光を10μJ/cm2 露光したときの残
留電位Vr (V)をそれぞれ測定した。封孔処理時の液
温をパラメータとして、VK5とE1/2 との関係を図3
に、Vr とE1/2 との関係を図4に示す。
に、それぞれ、実施例1と同様にして電荷発生層および
電荷輸送層を形成して、図1に示した構成の感光体を作
製した。これらの感光体について、帯電5秒後の電位保
持率VK5(%),波長780nmの単色光を露光したと
きの半減衰露光量E1/2 (μJ/cm2 )および波長7
80nmの単色光を10μJ/cm2 露光したときの残
留電位Vr (V)をそれぞれ測定した。封孔処理時の液
温をパラメータとして、VK5とE1/2 との関係を図3
に、Vr とE1/2 との関係を図4に示す。
【0019】図3および図4に見られるように、半減衰
露光量E1/2 が同じ場合、封孔処理時の液温が高いほど
電位保持率VK5は高くなり、また、残留電位Vr も低く
なっている。これらの感光体について画像出しを行った
ところ、封孔処理時の液温が高いほど「地かぶり」は減
少した。また、これらの感光体で得られた画像について
「濃度むら」不良の発生率を調べたところ、表1に示す
結果が得られ、封孔処理時の液温が高いほど不良の発生
率が低いことが判った。表1には、各感光体の感光体表
面内の色の色差(明度)を示すL値のばらつきの評価結
果を併せて示してある。封孔処理液温が高くなるにつれ
て陽極酸化皮膜表面がより均質でばらつきが少なくな
り、感光層がよりむらなく塗布形成され、その結果、L
値のばらつきを示すσは小さくなっている。L値のばら
つきと画像の「濃度むら」不良の発生率とよく一致して
いる。
露光量E1/2 が同じ場合、封孔処理時の液温が高いほど
電位保持率VK5は高くなり、また、残留電位Vr も低く
なっている。これらの感光体について画像出しを行った
ところ、封孔処理時の液温が高いほど「地かぶり」は減
少した。また、これらの感光体で得られた画像について
「濃度むら」不良の発生率を調べたところ、表1に示す
結果が得られ、封孔処理時の液温が高いほど不良の発生
率が低いことが判った。表1には、各感光体の感光体表
面内の色の色差(明度)を示すL値のばらつきの評価結
果を併せて示してある。封孔処理液温が高くなるにつれ
て陽極酸化皮膜表面がより均質でばらつきが少なくな
り、感光層がよりむらなく塗布形成され、その結果、L
値のばらつきを示すσは小さくなっている。L値のばら
つきと画像の「濃度むら」不良の発生率とよく一致して
いる。
【0020】
【表1】
【0021】また、これらの支持体の陽極酸化皮膜の封
孔度をフィッシャー社製の非破壊式アルマイト封孔度試
験装置アノテストで評価した。その結果を図5に示す。
図5(a)は陽極酸化皮膜のアドミッタンスYと封孔処
理液温との関係を示す線図,図5(b)は陽極酸化皮膜
のロスファクターd(皮膜の抵抗Rと容量Xc との比)
と封孔処理液温との関係を示す線図である。図5におい
て、○印は試験液注入後2分の時の値,●印は試験液注
入後80分の時の値である。
孔度をフィッシャー社製の非破壊式アルマイト封孔度試
験装置アノテストで評価した。その結果を図5に示す。
図5(a)は陽極酸化皮膜のアドミッタンスYと封孔処
理液温との関係を示す線図,図5(b)は陽極酸化皮膜
のロスファクターd(皮膜の抵抗Rと容量Xc との比)
と封孔処理液温との関係を示す線図である。図5におい
て、○印は試験液注入後2分の時の値,●印は試験液注
入後80分の時の値である。
【0022】図5(a)よりアドミッタンスYは封孔処
理液温60℃以上においては20μS以下であり試験液
注入後経過時間による変動も少なく良好な封孔度を示し
ている。また、図5(b)のロスファクターdも封孔処
理液温60℃以上では小さく同様に封孔度が良いことを
示している。なお、上述の各例においては、導電性基板
としてアルミニウム合金6063を用いたが、これに限
定されるものではなく、純アルミニウム,6000系合
金,3000系合金など切削性,強度,硬さなどを考慮
して適宜選択使用できる。
理液温60℃以上においては20μS以下であり試験液
注入後経過時間による変動も少なく良好な封孔度を示し
ている。また、図5(b)のロスファクターdも封孔処
理液温60℃以上では小さく同様に封孔度が良いことを
示している。なお、上述の各例においては、導電性基板
としてアルミニウム合金6063を用いたが、これに限
定されるものではなく、純アルミニウム,6000系合
金,3000系合金など切削性,強度,硬さなどを考慮
して適宜選択使用できる。
【0023】また、陽極酸化処理の前に行う脱脂洗浄に
おいて、通常行われているKOHやNaOHなどのアル
カリエッチングに代えて硝酸エッチングを行っている。
これにより導電性基板表面のエッチピットの発生が少な
くなり、「黒点」欠陥の少ない画像の得られる感光体が
得られた。
おいて、通常行われているKOHやNaOHなどのアル
カリエッチングに代えて硝酸エッチングを行っている。
これにより導電性基板表面のエッチピットの発生が少な
くなり、「黒点」欠陥の少ない画像の得られる感光体が
得られた。
【0024】
【発明の効果】この発明によれば、アルミニウムまたは
アルミニウム合金からなる基板の表面に約18℃から約
21℃の温度範囲内に保持した硫酸溶液を電解液として
陽極酸化処理を行うこととする。または、アルミニウム
またはアルミニウム合金からなる導電性基板の表面を陽
極酸化し、続いて約60℃から約80℃の温度範囲内に
保持した酢酸ニッケル溶液を用いて封孔処理を行い、封
孔度を示すアドミッタンス値が20μS以下の陽極酸化
皮膜を形成することとする。このような製造方法を採る
ことにより、アルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる導電性基板上に、適切な電気抵抗を有しかつ表面性
状の均一な陽極酸化皮膜を下引き層として形成すること
ができ、このようにして得られた支持体上に、有機材料
からなる電荷発生層,電荷輸送層を順次塗布形成して感
光層を形成することにより、高湿度環境下でも「地かぶ
り」の発生が少なく、また、「濃度むら」の発生も少な
く、優れた画質の画像が得られる電子写真感光体を得る
ことができる。
アルミニウム合金からなる基板の表面に約18℃から約
21℃の温度範囲内に保持した硫酸溶液を電解液として
陽極酸化処理を行うこととする。または、アルミニウム
またはアルミニウム合金からなる導電性基板の表面を陽
極酸化し、続いて約60℃から約80℃の温度範囲内に
保持した酢酸ニッケル溶液を用いて封孔処理を行い、封
孔度を示すアドミッタンス値が20μS以下の陽極酸化
皮膜を形成することとする。このような製造方法を採る
ことにより、アルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる導電性基板上に、適切な電気抵抗を有しかつ表面性
状の均一な陽極酸化皮膜を下引き層として形成すること
ができ、このようにして得られた支持体上に、有機材料
からなる電荷発生層,電荷輸送層を順次塗布形成して感
光層を形成することにより、高湿度環境下でも「地かぶ
り」の発生が少なく、また、「濃度むら」の発生も少な
く、優れた画質の画像が得られる電子写真感光体を得る
ことができる。
【図1】この発明に係わる感光体の一実施例の模式的断
面図
面図
【図2】陽極酸化液温をパラメータとして、電位保持率
と半減衰露光量との関係を示す線図
と半減衰露光量との関係を示す線図
【図3】封孔処理液温をパラメータとして、電位保持率
と半減衰露光量との関係を示す線図
と半減衰露光量との関係を示す線図
【図4】封孔処理液温をパラメータとして、残留電位と
半減衰露光量との関係を示す線図
半減衰露光量との関係を示す線図
【図5】封孔処理液温と封孔度との関係を示す線図で、
図5(a)は封孔処理液温と陽極酸化皮膜のY値との関
係を示す線図、図5(b)は封孔処理液温と陽極酸化皮
膜のd値との関係を示す線図
図5(a)は封孔処理液温と陽極酸化皮膜のY値との関
係を示す線図、図5(b)は封孔処理液温と陽極酸化皮
膜のd値との関係を示す線図
【図6】従来の感光体の一例の模式的断面図
1 支持体 1a アルミニウム合金基板 1b 陽極酸化皮膜 2 感光層 2a 電荷発生層 2b 電荷輸送層 11 導電性基板 12 下引き層
Claims (3)
- 【請求項1】アルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる導電性基板の表面を約18℃から約21℃の温度範
囲内に保持した硫酸溶液を電解液として陽極酸化してア
ルミニウム陽極酸化皮膜を形成することを特徴する電子
写真感光体用支持体の製造方法。 - 【請求項2】アルミニウムまたはアルミニウム合金から
なる導電性基板の表面を陽極酸化し、続いて約60℃か
ら約80℃の温度範囲内に保持した酢酸ニッケル溶液を
用いて封孔処理を行い、封孔度を示すアドミッタンス値
が20μS以下の陽極酸化皮膜を形成することを特徴と
する電子写真感光体用支持体の製造方法。 - 【請求項3】請求項1または2記載の方法で製造された
支持体を用いたことを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23064693A JPH0784391A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 電子写真感光体用支持体の製造方法および電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23064693A JPH0784391A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 電子写真感光体用支持体の製造方法および電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0784391A true JPH0784391A (ja) | 1995-03-31 |
Family
ID=16911058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23064693A Pending JPH0784391A (ja) | 1993-09-17 | 1993-09-17 | 電子写真感光体用支持体の製造方法および電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0784391A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07295266A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Nec Corp | 電子写真用感光体 |
| US6051357A (en) * | 1996-11-19 | 2000-04-18 | Nec Corporation | Photoconductor for electrophotography |
-
1993
- 1993-09-17 JP JP23064693A patent/JPH0784391A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07295266A (ja) * | 1994-04-26 | 1995-11-10 | Nec Corp | 電子写真用感光体 |
| US6051357A (en) * | 1996-11-19 | 2000-04-18 | Nec Corporation | Photoconductor for electrophotography |
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