JPH0788202A - Laser therapy equipment - Google Patents

Laser therapy equipment

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JPH0788202A
JPH0788202A JP5239841A JP23984193A JPH0788202A JP H0788202 A JPH0788202 A JP H0788202A JP 5239841 A JP5239841 A JP 5239841A JP 23984193 A JP23984193 A JP 23984193A JP H0788202 A JPH0788202 A JP H0788202A
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JP
Japan
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laser
yag laser
harmonic
yag
fundamental wave
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JP3571360B2 (en
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Harufumi Kato
治文 加藤
Takeshi Udagawa
毅 宇田川
Daiji Nishizawa
代治 西澤
Tetsuya Shiraishi
徹也 白石
Katsushi Inoue
克司 井上
Seiji Fukutomi
誠二 福冨
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IHI Corp
Japan Science and Technology Agency
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Research Development Corp of Japan
Ishikawajima Harima Heavy Industries Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 YAGレーザ基本波を発振するYAGレーザ
ー発振器28と、YAGレーザー基本波からYAGレー
ザー第2高調波を発生させるYAGレーザー第2高調波
発生器31と、YAGレーザー第2高調波及びYAGレ
ーザー基本波からYAGレーザー第3高調波を発生させ
るYAGレーザー第3高調波発生器34と、YAGレー
ザー第3高調波から光感受性物質の特性に対応する波長
のレーザー光を発生させる光パラメトリック発振器38
と、光パラメトリック発振器38により発生するレーザ
ー光及びYAGレーザー発振器28から発振されるYA
Gレーザー基本波を病巣部へ照射する内視鏡5とを備え
る。 【効果】 光感受性物質の特性に対応する波長のレーザ
ー光とYAGレーザー基本波との双方とを内視鏡5によ
って病巣部に照射させることができ、病巣部に対して効
果的な治療が行える。
(57) [Summary] [Configuration] A YAG laser oscillator 28 that oscillates a YAG laser fundamental wave, a YAG laser second harmonic generator 31 that generates a YAG laser second harmonic from the YAG laser fundamental wave, and a YAG laser first wave. 2 YAG laser 3rd harmonic generator 34 for generating YAG laser 3rd harmonic from the 2nd harmonic and YAG laser fundamental wave, and YAG laser 3rd harmonic generating laser light having a wavelength corresponding to the characteristics of the photosensitizer Optical parametric oscillator 38
And laser light generated by the optical parametric oscillator 38 and YA oscillated by the YAG laser oscillator 28.
The endoscope 5 for irradiating the lesion with the G laser fundamental wave. [Effect] Both the laser light having the wavelength corresponding to the characteristics of the photosensitizer and the YAG laser fundamental wave can be irradiated to the lesion by the endoscope 5, and the lesion can be effectively treated. .

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はレーザー治療装置に関す
るものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a laser treatment apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、医療分野においてレーザー光を利
用した種々の治療が実施されている。
2. Description of the Related Art In recent years, various treatments using laser light have been carried out in the medical field.

【0003】レーザー光を利用する治療装置には、特公
昭63−2633号公報に開示されたレーザー光パルス
を用いた癌の治療装置や、特公昭63−21031号公
報に開示された内視鏡装置がある。
As a therapeutic device using laser light, a cancer therapeutic device using a laser light pulse disclosed in Japanese Patent Publication No. 63-2633 and an endoscope disclosed in Japanese Patent Publication No. 63-21031. There is a device.

【0004】特公昭63−2633号公報におけるレー
ザーパルス光を用いた癌の治療装置は、癌組織に対して
親和性のある光感受性物質を吸収させた病巣部に、所定
の波長のレーザー光を照射して前記の癌組織を破壊する
ものである。
A cancer treatment apparatus using a laser pulse light disclosed in Japanese Patent Publication No. 63-2633 has a laser beam having a predetermined wavelength applied to a lesion site in which a photosensitizer having an affinity for cancer tissue is absorbed. Irradiation destroys the cancer tissue.

【0005】一方、特公昭63−21031号公報にお
ける内視鏡装置は、内視鏡から病巣部に対して所定の波
長のレーザー光を照射することにより生体組織の凝固、
止血、蒸散(切除、切開)を行うものである。
On the other hand, the endoscope apparatus disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 63-21031 discloses coagulation of biological tissue by irradiating a lesion with a laser beam of a predetermined wavelength.
Hemostasis and transpiration (excision, incision) are performed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、同一の
病巣部に対して前記の光感受性物質を用いた治療及び生
体組織の凝固、止血、蒸散等による治療を実施する場合
には、特公昭63−2633号公報のレーザーパルス光
を用いた癌の治療装置と特公昭63−21031号公報
の内視鏡装置との双方を用意する必要がある。
However, in the case of carrying out the treatment using the above-mentioned photosensitizer and the treatment by coagulation, hemostasis, transpiration, etc. of the living tissue on the same lesion, the Japanese Patent Publication No. 63- It is necessary to prepare both the cancer treatment apparatus using the laser pulse light disclosed in Japanese Patent No. 2633 and the endoscope apparatus disclosed in Japanese Patent Publication No. 63-21031.

【0007】また、前記のレーザーパルス光を用いた癌
の治療装置では、レーザー光の発生装置としてエキシマ
レーザー励起色素レーザーを使用しているので、励起用
レーザーの波長が308nmと短いためにレーザー媒質
としての色素の寿命が短く、またエキシマレーザー自体
についても気体媒質であるガスを頻繁に交換する必要が
あり、これに伴って共振器を構成するミラーの洗浄も必
要になる。
In the cancer treatment apparatus using the laser pulse light, since the excimer laser excitation dye laser is used as the laser light generator, the wavelength of the excitation laser is as short as 308 nm. The dye has a short life, and the excimer laser itself requires frequent replacement of the gas that is the gas medium, which requires cleaning of the mirror that constitutes the resonator.

【0008】本発明は上述した課題を解決するもので、
保守が容易で且つ光感受性物質を用いたレーザー治療と
生体組織の凝固、止血、蒸散によるレーザー治療の双方
を実施することが可能なレーザー治療装置を提供するこ
とを目的としている。
The present invention solves the above-mentioned problems.
It is an object of the present invention to provide a laser treatment apparatus that is easy to maintain and can perform both laser treatment using a photosensitizer and laser treatment by coagulation, hemostasis, and evaporation of living tissue.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の請求項1に記載したレーザー治療装置にお
いては、YAGレーザー基本波を発振するYAGレーザ
ー発振器と、該YAGレーザー発振器から発振されるY
AGレーザー基本波からYAGレーザー第2高調波を発
生させるYAGレーザー第2高調波発生器と、該YAG
レーザー第2高調波発生器により発生するYAGレーザ
ー第2高調波及び前記のYAGレーザー発振器から発振
されるYAGレーザー基本波からYAGレーザー第3高
調波を発生させるYAGレーザー第3高調波発生器と、
該YAGレーザー第3高調波発生器により発生するYA
Gレーザー第3高調波から該YAGレーザー第3高調波
とは異なる波長を有するレーザー光を発生させる光パラ
メトリック発振器とを備えている。
In order to achieve the above object, in a laser treatment apparatus according to a first aspect of the present invention, a YAG laser oscillator that oscillates a YAG laser fundamental wave, and a laser that oscillates from the YAG laser oscillator. Y
A YAG laser second harmonic generator for generating a YAG laser second harmonic from an AG laser fundamental wave, and the YAG
A YAG laser third harmonic generator that generates a YAG laser third harmonic from a YAG laser second harmonic generated by the laser second harmonic generator and the YAG laser fundamental wave oscillated from the YAG laser oscillator;
YA generated by the YAG laser third harmonic generator
And an optical parametric oscillator for generating laser light having a wavelength different from that of the YAG laser third harmonic from the G laser third harmonic.

【0010】また、同様に、本発明の請求項2に記載し
たレーザー治療装置においては、YAGレーザー基本波
を発振するYAGレーザー発振器と、該YAGレーザー
発振器から発振されるYAGレーザー基本波からYAG
レーザー第2高調波を発生させるYAGレーザー第2高
調波発生器と、該YAGレーザー第2高調波発生器によ
り発生するYAGレーザー第2高調波及び前記のYAG
レーザー発振器から発振されるYAGレーザー基本波か
らチタンサファイアレーザー基本波を発生させるチタン
サファイアレーザー発生装置とを備えている。
Similarly, in the laser treatment apparatus according to the second aspect of the present invention, a YAG laser oscillator that oscillates a YAG laser fundamental wave, and a YAG laser fundamental wave that oscillates from the YAG laser oscillator are used.
YAG laser second harmonic generator for generating laser second harmonic, YAG laser second harmonic generated by the YAG laser second harmonic generator, and the YAG
And a titanium sapphire laser generator that generates a titanium sapphire laser fundamental wave from a YAG laser fundamental wave oscillated from a laser oscillator.

【0011】[0011]

【作用】本発明の請求項1に記載したレーザー治療装置
においては、YAGレーザー第2高調波発生器によりY
AGレーザー基本波からYAGレーザー第2高調波を発
生させ、YAGレーザー第3高調波発生器によりYAG
レーザー基本波とYAGレーザー第2高調波からYAG
レーザー第3高調波を発生させる。
In the laser treatment apparatus according to the first aspect of the present invention, the YAG laser second harmonic generator is used for Y
The YAG laser second harmonic is generated from the AG laser fundamental wave, and the YAG laser third harmonic generator is used to generate YAG laser second harmonic.
Laser fundamental wave and YAG laser second harmonic to YAG
Generates laser third harmonic.

【0012】更に、光パラメトリック発振器によってY
AGレーザー第3高調波から光感受性物質の特性に対応
する波長のレーザー光を発生させ、この光パラメトリッ
ク発振器により発生したレーザー光を光感受性物質を吸
収させた病巣部に照射して該病巣部の治療を行う。
Further, the optical parametric oscillator is used for Y
A laser beam having a wavelength corresponding to the characteristics of the photosensitizer is generated from the AG laser third harmonic, and the laser light generated by the optical parametric oscillator is applied to the lesion part where the photosensitizer is absorbed to irradiate the lesion part. Give treatment.

【0013】また、YAGレーザー発振器から発振され
るYAGレーザー基本波を病巣部に照射して該病巣部の
治療を行う。
Also, the YAG laser fundamental wave oscillated from the YAG laser oscillator is applied to the lesion to treat the lesion.

【0014】本発明の請求項2に記載したレーザー治療
装置においては、YAGレーザー第2高調波発生器によ
りYAGレーザー基本波からYAGレーザー第2高調波
を発生させる。
In the laser treatment apparatus according to the second aspect of the present invention, the YAG laser second harmonic is generated from the YAG laser fundamental wave by the YAG laser second harmonic generator.

【0015】更に、チタンサファイアレーザー発生装置
によりYAGレーザー基本波とYAGレーザー第2高調
波から光感受性物質の特性に対応する波長のチタンサフ
ァイアレーザー基本波を発生させ、このチタンサファイ
アレーザー基本波を光感受性物質を吸収させた病巣部に
照射して該病巣部の治療を行う。
Furthermore, a titanium sapphire laser fundamental wave is generated from the YAG laser fundamental wave and the second harmonic of the YAG laser by a titanium sapphire laser generator, and the titanium sapphire laser fundamental wave is emitted as a light. Irradiation is performed on the lesion where the sensitive substance is absorbed to treat the lesion.

【0016】また、YAGレーザー発振器から発振され
るYAGレーザー基本波を病巣部に照射して該病巣部の
治療を行う。
Further, a YAG laser fundamental wave oscillated from a YAG laser oscillator is applied to the lesion to treat the lesion.

【0017】[0017]

【実施例】以下本発明の実施例を図面を参照しつつ説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】図1及び図2は本発明のレーザー治療装置
の第1の実施例を示すものであり、本実施例は本発明の
請求項1に対応する。
1 and 2 show a first embodiment of the laser treatment apparatus according to the present invention, and this embodiment corresponds to claim 1 of the present invention.

【0019】1は固体レーザー発生装置であり、該固体
レーザー発生装置1は、所定波長のレーザー光を発生さ
せるYAGレーザー発生部2と、該YAGレーザー発生
部2において発生するレーザー光により異なる波長のレ
ーザー光を発生させる光パラメトリック発振部3とから
構成されている。
Reference numeral 1 denotes a solid-state laser generator. The solid-state laser generator 1 has a YAG laser generator 2 for generating a laser beam having a predetermined wavelength and a laser beam generated by the YAG laser generator 2 having a different wavelength. The optical parametric oscillator 3 generates a laser beam.

【0020】前記の固体レーザー発生装置1には、YA
Gレーザー発生部2へ冷却水を供給して該YAGレーザ
ー発生部2の温度上昇を抑制するための冷却水供給管4
が接続されている。
The solid-state laser generator 1 has a YA
Cooling water supply pipe 4 for supplying cooling water to the G laser generating section 2 and suppressing a temperature rise of the YAG laser generating section 2.
Are connected.

【0021】5は内視鏡であり、該内視鏡5は病巣部6
の観察及び治療に用いるものである。
Reference numeral 5 denotes an endoscope, and the endoscope 5 has a lesion portion 6
It is used for the observation and treatment of.

【0022】内視鏡5は、照明用キセノンランプ7が発
する光を病巣部6へ導き該病巣部6を照明するための照
明用光ファイバー8と、病巣部6を観察するための観察
用光ファイバー9と、前記の固体レーザー発生装置1に
おいて発生するレーザー光を病巣部6に照射するための
照射用光ファイバー10,11とを備えている。
The endoscope 5 guides the light emitted from the illumination xenon lamp 7 to the lesion area 6 and illuminates the lesion area 6, and the observation optical fiber 9 for observing the lesion area 6. And irradiation optical fibers 10 and 11 for irradiating the lesion 6 with laser light generated in the solid-state laser generator 1.

【0023】更に、前記の内視鏡5には、照明用光ファ
イバー8、観察用光ファイバー9、照射用光ファイバー
10,11の各先端部へ洗浄水、洗浄エアーを送給して
照明用光ファイバー8、観察用光ファイバー9、照射用
光ファイバー10,11の各線端部を洗浄するための洗
浄水供給管12と洗浄エアー供給管13とが接続される
とともに、洗浄水供給管12と洗浄エアー供給管13に
より供給された水及びエアーを排出するための排水排気
管14が接続できるようになっている。
Further, in the endoscope 5, cleaning water and cleaning air are fed to the respective tip portions of the illumination optical fiber 8, the observation optical fiber 9, and the irradiation optical fibers 10 and 11, and the illumination optical fiber 8 is supplied. A cleaning water supply pipe 12 and a cleaning air supply pipe 13 for cleaning the respective line ends of the observation optical fiber 9 and the irradiation optical fibers 10 and 11 are connected, and by the cleaning water supply pipe 12 and the cleaning air supply pipe 13. A drainage exhaust pipe 14 for discharging the supplied water and air can be connected.

【0024】15は画像表示装置であり、該画像表示装
置15は病巣部6の観察に用いるものである。
Reference numeral 15 is an image display device, and the image display device 15 is used for observing the lesion 6.

【0025】画像表示装置15は、前記の観察用光ファ
イバー9を介して病巣部6の撮影を行うカラーテレビカ
メラ16と、該カラーテレビカメラ16より出力される
画像信号17を画像処理信号18に変換する画像処理部
19と、前記の画像処理信号18に基づき病巣部6の実
写画像を映像表示するテレビモニター20と、前記の画
像処理信号18を記録し且つ記録した画像処理信号18
を画像処理部19を介してテレビモニター20へ送り、
病巣部6の実写画像をテレビモニター20により再生映
像表示させ得るビデオテープレコーダー等の記録再生装
置21とを備えている。
The image display device 15 converts a color television camera 16 for taking an image of the lesion 6 through the observation optical fiber 9 and an image signal 17 output from the color television camera 16 into an image processing signal 18. An image processing unit 19, a television monitor 20 for displaying an actual image of the lesion 6 based on the image processing signal 18, and an image processing signal 18 for recording and recording the image processing signal 18.
To the TV monitor 20 via the image processing unit 19,
A recording / reproducing device 21 such as a video tape recorder capable of displaying a reproduced image of a photographed image of the lesion 6 on a television monitor 20 is provided.

【0026】22は操作パネルであり、該操作パネル2
2は、取扱い者が入力操作を行うことにより、前記の固
体レーザー発生装置1、画像表示装置15、照明用キセ
ノンランプ7を作動させるための指令信号23を出力す
るようになっている。
Reference numeral 22 denotes an operation panel, and the operation panel 2
2 is designed to output a command signal 23 for operating the solid-state laser generator 1, the image display device 15, and the illumination xenon lamp 7 when the operator performs an input operation.

【0027】24は制御装置であり、該制御装置24は
前記の指令信号23に基づき、固体レーザー発生装置1
を作動させるための作動信号25をYAGレーザー発生
部2へ、また、画像表示装置15を作動させるための作
動信号26を画像処理部19へ、更に、照明用キセノン
ランプ7に点灯指令信号27を出力するようになってい
る。
Reference numeral 24 is a control device, which controls the solid-state laser generator 1 based on the command signal 23.
To the YAG laser generation unit 2, an operation signal 26 to operate the image display device 15 to the image processing unit 19, and a lighting command signal 27 to the xenon lamp 7 for illumination. It is designed to output.

【0028】以下、前記の固体レーザー発生装置1のY
AGレーザー発生部2の構成を図2より説明する。
Hereinafter, Y of the solid-state laser generator 1 will be described.
The configuration of the AG laser generator 2 will be described with reference to FIG.

【0029】28は波長1064nmのレーザー光(Y
AGレーザー基本波)を発振するYAGレーザー発振器
であり、該YAGレーザー発振器28は、Qスイッチ印
加電圧調整装置29により図5に示す如く電圧をON−
OFFして尖頭値の高い極短パルスレーザー光を発生さ
せるQスイッチパルス発振を行うことと、図6に示す如
く常時電圧をかけてパルス幅の長いパルスレーザー光を
発生させるノーマルパルス発振を行うことができるよう
になっている。
28 is a laser beam (Y
This is a YAG laser oscillator that oscillates a fundamental wave of an AG laser. The YAG laser oscillator 28 turns on a voltage by a Q switch applied voltage adjusting device 29 as shown in FIG.
Performing Q-switch pulse oscillation to generate an extremely short pulse laser beam with a high peak value when turned OFF, and performing normal pulse oscillation to generate a pulse laser beam with a long pulse width by constantly applying a voltage as shown in FIG. Is able to.

【0030】30は全反射ミラーであり、該全反射ミラ
ー30は、前記のYAGレーザー発振器28により発振
されるYAGレーザー基本波の光路に位置し得られるよ
うに設けられている。
Reference numeral 30 denotes a total reflection mirror, and the total reflection mirror 30 is provided so that it can be located on the optical path of the YAG laser fundamental wave oscillated by the YAG laser oscillator 28.

【0031】この全反射ミラー30をYAGレーザー基
本波の光路に位置させ、前記のYAGレーザー発振器2
8よりノーマルパルスのYAGレーザー基本波(図6参
照)を発振させると、全反射ミラー30によって反射す
るYAGレーザー基本波が前記の内視鏡5の照射用光フ
ァイバー11(図1参照)へ導かれるようになってい
る。
The total reflection mirror 30 is positioned in the optical path of the YAG laser fundamental wave, and the YAG laser oscillator 2
When a normal pulse YAG laser fundamental wave (see FIG. 6) is oscillated from 8, the YAG laser fundamental wave reflected by the total reflection mirror 30 is guided to the irradiation optical fiber 11 (see FIG. 1) of the endoscope 5. It is like this.

【0032】31はYAGレーザー第2高調波発生器で
あり、該YAGレーザー第2高調波発生器31は、前記
のYAGレーザー発振器28が発振するYAGレーザー
基本波から、 1/λ2=1/λ1+1/λ1…(1) (λ1:YAGレーザー基本波、λ2:YAGレーザー第
2高調波)の関係(第2高調波発生)によって波長53
2nmのレーザー光(YAGレーザー第2高調波)を発
生させるようになっている。
Reference numeral 31 is a YAG laser second harmonic generator, and the YAG laser second harmonic generator 31 is 1 / λ 2 = 1 / from the YAG laser fundamental wave oscillated by the YAG laser oscillator 28. λ 1 + 1 / λ 1 (1) (λ 1 : YAG laser fundamental wave, λ 2 : YAG laser second harmonic) relationship (second harmonic generation) causes a wavelength 53
A laser beam of 2 nm (second harmonic of YAG laser) is generated.

【0033】32は全反射ミラーであり、該全反射ミラ
ー32は、前記のYAGレーザー第2高調波発生器31
において発生するYAGレーザー第2高調波とYAGレ
ーザー第2高調波発生器31においてYAGレーザー第
2高調波に変換されなかった残りのYAGレーザー基本
波の双方を反射するようになっている。
Reference numeral 32 is a total reflection mirror, and the total reflection mirror 32 is the YAG laser second harmonic generator 31.
The second harmonic of YAG laser generated in the second harmonic and the second harmonic of YAG laser generated by the second harmonic generator 31 of YAG laser are both reflected.

【0034】33は全反射ミラーであり、該全反射ミラ
ー33は、前記の全反射ミラー32からのYAGレーザ
ー基本波とYAGレーザー第2高調波の双方を反射する
ようになっている。
Reference numeral 33 is a total reflection mirror, and the total reflection mirror 33 is adapted to reflect both the YAG laser fundamental wave and the YAG laser second harmonic wave from the total reflection mirror 32.

【0035】34はYAGレーザー第3高調波発生器で
あり、該YAGレーザー第3高調波発生器34は、前記
の全反射ミラー33により反射するYAGレーザー基本
波とYAGレーザー第2高調波とから、 1/λ3=1/λ1+1/λ2…(2) (λ1:YAGレーザー基本波、λ2:YAGレーザー第
2高調波、λ3:YAGレーザー第3高調波)の関係
(第3高調波発生)によって波長355nmのレーザー
光(YAGレーザー第3高調波)を発生させるようにな
っている。
Reference numeral 34 denotes a YAG laser third harmonic generator. The YAG laser third harmonic generator 34 includes a YAG laser fundamental wave and a YAG laser second harmonic reflected by the total reflection mirror 33. , 1 / λ 3 = 1 / λ 1 + 1 / λ 2 (2) (λ 1 : YAG laser fundamental wave, λ 2 : YAG laser second harmonic, λ 3 : YAG laser third harmonic) ( Laser light having a wavelength of 355 nm (YAG laser third harmonic) is generated by the third harmonic generation).

【0036】35はダイクロイックミラーであり、該ダ
イクロイックミラー35は、前記のYAGレーザー第3
高調波発生器34により発生するYAGレーザー第3高
調波のみ反射し且つYAGレーザー第3高調波発生器3
4により変換されなかった残りのYAGレーザー基本波
とYAGレーザー第2高調波とを透過させるようになっ
ている。
Reference numeral 35 is a dichroic mirror, and the dichroic mirror 35 is the third YAG laser
Only the YAG laser third harmonic generated by the harmonic generator 34 is reflected and the YAG laser third harmonic generator 3
The remaining YAG laser fundamental wave that has not been converted by 4 and the YAG laser second harmonic wave are transmitted.

【0037】36はビームダンパーであり、該ビームダ
ンパー36は、前記のダイクロイックミラー35を透過
するYAGレーザー基本波とYAGレーザー第2高調波
とを遮断するようになっている。
Reference numeral 36 is a beam damper, and the beam damper 36 blocks the YAG laser fundamental wave and the YAG laser second harmonic wave which pass through the dichroic mirror 35.

【0038】37は全反射ミラーであり、該全反射ミラ
ー37は、前記ダイクロイックミラー35によって反射
するYAGレーザー第3高調波を反射するようになって
いる。
Reference numeral 37 is a total reflection mirror, and the total reflection mirror 37 reflects the third harmonic of the YAG laser reflected by the dichroic mirror 35.

【0039】次に、光パラメトリック発振部3の構成を
説明する。
Next, the structure of the optical parametric oscillator 3 will be described.

【0040】38は光パラメトリック発振器であり、該
光パラメトリック発振器38は、BBO結晶等の非線形
光学結晶39と、該非線形光学結晶39を介して対峙す
るエンドミラー(共振器ミラー)40並びにフロントミ
ラー(共振器ミラー)41とを有している。
Reference numeral 38 denotes an optical parametric oscillator. The optical parametric oscillator 38 includes a nonlinear optical crystal 39 such as a BBO crystal, an end mirror (resonator mirror) 40 and a front mirror (which face each other through the nonlinear optical crystal 39). Resonator mirror) 41.

【0041】光パラメトリック発振器38は、前記の全
反射ミラー37によって反射されるYAGレーザー第3
高調波から、 1/λp=1/λs+1/λi…(3) (λp:励起光波=YAGレーザー第3高調波、λs:シ
グナル光波、λi:アイドラ光波)の関係(光パラメト
リック発振)によってシグナル光とアイドラ光とを発生
させるようになっている。
The optical parametric oscillator 38 is the third YAG laser reflected by the total reflection mirror 37.
From the harmonics, 1 / λp = 1 / λs + 1 / λi (3) (λp: excitation light wave = YAG laser third harmonic, λs: signal light wave, λi: idler light wave) And idler light.

【0042】上記の光パラメトリック発振器38におい
ては、励起光波λpが決れば非線形光学結晶39の角度
によって、シグナル光波λsとアイドラ光波λiが定まる
ようになっている。
In the above optical parametric oscillator 38, if the excitation light wave λp is determined, the signal light wave λs and the idler light wave λi are determined according to the angle of the nonlinear optical crystal 39.

【0043】42はプリズムであり、該プリズム42
は、光パラメトリック発振器38により発生するシグナ
ル光及びアイドラ光と光パラメトリック発振器38によ
って変換されなかった励起光(YAGレーザー第3高調
波)とを各波長ごとに分離するようになっている。
Reference numeral 42 is a prism, and the prism 42
Is configured to separate the signal light and the idler light generated by the optical parametric oscillator 38 from the excitation light (YAG laser third harmonic) that has not been converted by the optical parametric oscillator 38 for each wavelength.

【0044】これら分離されたレーザー光のうち、シグ
ナル光が前記の内視鏡5の照射用光ファイバー10(図
1参照)へ導かれるようになっている。
Of these separated laser lights, the signal light is guided to the irradiation optical fiber 10 of the endoscope 5 (see FIG. 1).

【0045】以下、本実施例の作動を説明する。The operation of this embodiment will be described below.

【0046】病巣部6の治療を行う際には、癌組織に対
して親和性を有する光感受性物質であるヘマトポルフィ
リン誘導体(HPD)を、患者の血管へ注入することに
より、予め病巣部6へ吸収させておく。
When the lesion 6 is treated, a hematoporphyrin derivative (HPD), which is a photosensitizer having an affinity for cancer tissue, is injected into the patient's blood vessel to advance the lesion 6 in advance. Absorb.

【0047】上記ヘマトポルフィリン誘導体は、癌組織
に対しては特異的に吸収されるが、正常な生体組織には
ほとんど吸収されない。
The hematoporphyrin derivative is specifically absorbed by cancer tissues, but hardly absorbed by normal living tissues.

【0048】ヘマトポルフィリン誘導体を吸収した病巣
部6に、波長630nmのレーザー光を照射すると、該
レーザー光は、ヘマトポルフィリン誘導体を吸収した癌
組織を破壊し、一方、ヘマトポルフィリン誘導体をほと
んど吸収していない正常な生体組織に対しては影響を与
えない。
When the lesion 6 having absorbed the hematoporphyrin derivative was irradiated with laser light having a wavelength of 630 nm, the laser light destroyed the cancer tissue having absorbed the hematoporphyrin derivative, while almost absorbing the hematoporphyrin derivative. No effect on normal living tissue.

【0049】病巣部6にヘマトポルフィリン誘導体を吸
収させたならば、内視鏡5をその先端部が病巣部6と略
対峙するように位置させる。
After the hematoporphyrin derivative is absorbed in the lesion area 6, the endoscope 5 is positioned so that the distal end portion thereof substantially faces the lesion area 6.

【0050】一方、図2に示す非線形光学結晶39の角
度を前記の式(3)におけるシグナル光波λsが630
nmになるように設定しておく。
On the other hand, if the angle of the nonlinear optical crystal 39 shown in FIG.
It is set to be nm.

【0051】この状態で、操作パネル22を操作するこ
とにより、該操作パネル22から画像表示装置15、照
明用キセノンランプ7を作動させるための指令信号23
を制御装置24に出力させ、該制御装置24から画像処
理部19へ作動信号26を、また、照明用キセノンラン
プ7へ点灯指令信号27を出力させて、照明用キセノン
ランプ7が発する光により病巣部6を照明するととも
に、カラーテレビカメラ16が撮影した病巣部6の実写
画像をテレビモニター20に映像表示し、病巣部6の観
察を行う。
By operating the operation panel 22 in this state, a command signal 23 for operating the image display device 15 and the illumination xenon lamp 7 from the operation panel 22.
Is output to the control device 24, and the control device 24 outputs an operation signal 26 to the image processing unit 19 and also outputs a lighting command signal 27 to the illumination xenon lamp 7 so that the lesion is generated by the light emitted from the illumination xenon lamp 7. The portion 6 is illuminated, and a real image of the lesion 6 captured by the color television camera 16 is displayed on the television monitor 20 to observe the lesion 6.

【0052】次いで、操作パネル22を操作することに
より、該操作パネル22から固体レーザー発生装置1を
作動させるための指令信号23を制御装置24へ出力さ
せ、該制御装置24からYAGレーザー発生部2へ作動
信号25を出力させる。
Then, by operating the operation panel 22, a command signal 23 for operating the solid-state laser generator 1 is output from the operation panel 22 to the controller 24, and the controller 24 causes the YAG laser generator 2 to operate. To output the operation signal 25.

【0053】YAGレーザー発生部2にQスイッチパル
ス発振(図5参照)を指示する作動信号25が入力され
ると、図2に示すYAGレーザー発振器28が作動し、
該YAGレーザー発振器28から波長1064nmのQ
スイッチパルスレーザー光(YAGレーザー基本波)が
発振され、YAGレーザー第2高調波発生器31によっ
て、前記の式(1)の関係によりYAGレーザー基本波
から波長532nmのYAGレーザー第2高調波が発生
する。
When the operation signal 25 instructing the Q switch pulse oscillation (see FIG. 5) is input to the YAG laser generator 2, the YAG laser oscillator 28 shown in FIG.
From the YAG laser oscillator 28, Q of wavelength 1064 nm
The switch pulse laser light (YAG laser fundamental wave) is oscillated, and the YAG laser second harmonic generator 31 generates a YAG laser second harmonic wave having a wavelength of 532 nm from the YAG laser fundamental wave according to the relationship of the above-mentioned formula (1). To do.

【0054】このYAGレーザー第2高調波及びYAG
レーザー第2高調波発生器31により変換されずに残っ
たYAGレーザー基本波は、全反射ミラー32,33を
経てYAGレーザー第3高調波発生器34に入射し、該
YAGレーザ第3高調波発生器34によって、前記の式
(2)の関係によりYAGレーザー基本波とYAGレー
ザー第2高調波とから波長355nmのYAGレーザー
第3高調波が発生する。
This YAG laser second harmonic and YAG
The YAG laser fundamental wave remaining without being converted by the laser second harmonic generator 31 enters the YAG laser third harmonic generator 34 via the total reflection mirrors 32 and 33, and the YAG laser third harmonic generator is generated. The YAG laser third harmonic having a wavelength of 355 nm is generated from the YAG laser fundamental wave and the YAG laser second harmonic by the device 34 according to the relationship of the above equation (2).

【0055】このYAGレーザー第3高調波とYAGレ
ーザー第3高調波発生器34により変換されずに残った
YAGレーザー基本波及びYAGレーザー第2高調波
は、ダイクロイックミラー35に入射し、該ダイクロイ
ックミラー35によりYAGレーザー第3高調波が反射
されて光パラメトリック発振器38に入射するととも
に、YAGレーザー基本波とYAGレーザー第2高調波
がダイクロイックミラー35を透過してビームダンパー
36に遮断される。
The YAG laser fundamental wave and the YAG laser second harmonic that have not been converted by the YAG laser third harmonic and the YAG laser third harmonic generator 34 are incident on the dichroic mirror 35 and the dichroic mirror 35. The third harmonic of the YAG laser is reflected by 35 and enters the optical parametric oscillator 38, and the fundamental wave of the YAG laser and the second harmonic of the YAG laser pass through the dichroic mirror 35 and are blocked by the beam damper 36.

【0056】光パラメトリック発振器38にYAGレー
ザー第3高調波が入射すると、前記の式(3)の関係に
よって、YAGレーザー第3高調波から、波長630n
mのレーザー光(シグナル光)と波長813nmのレー
ザー光(アイドラ光)とが発生する。
When the third harmonic of the YAG laser is incident on the optical parametric oscillator 38, the wavelength of 630n is obtained from the third harmonic of the YAG laser according to the relation of the above equation (3).
m laser light (signal light) and a laser light having a wavelength of 813 nm (idler light) are generated.

【0057】この波長630nmのレーザー光と、波長
813nmのレーザー光及び光パラメトリック発振器3
8により変換されずに残ったYAGレーザー第3高調波
(励起光)は、プリズム42に入射して各波長ごとに分
離される。
The laser light of wavelength 630 nm, the laser light of wavelength 813 nm and the optical parametric oscillator 3
The third harmonic wave (excitation light) of the YAG laser that remains without being converted by 8 is incident on the prism 42 and separated for each wavelength.

【0058】これら分離されたレーザー光のうち、波長
630nmのレーザー光が前記の内視鏡5の照射用光フ
ァイバー10(図1参照)へ導かれ、該照射用光ファイ
バー10を介して病巣部6へ照射され、波長630nm
のレーザー光によってヘマトポルフィリン誘導体を吸収
した癌組織が破壊される。
Of these separated laser beams, the laser beam having a wavelength of 630 nm is guided to the irradiation optical fiber 10 (see FIG. 1) of the endoscope 5 and to the lesion 6 via the irradiation optical fiber 10. Irradiated, wavelength 630nm
The laser light destroys the cancer tissue that has absorbed the hematoporphyrin derivative.

【0059】上述した癌治療においては、光感受性物質
にヘマトポルフィリン誘導体を用いたが、ヘマトポルフ
ィリン誘導体以外の他の光感受性物質を用いる場合に
は、光パラメトリック発振器38の非線形光学結晶39
の角度を適宜調整することによって、光パラメトリック
発振器より発振されるレーザー光の波長を光感受性物質
の特性に対応させるようにすればよい。
In the above-mentioned cancer treatment, the hematoporphyrin derivative was used as the photosensitizer, but when a photosensitizer other than the hematoporphyrin derivative is used, the nonlinear optical crystal 39 of the optical parametric oscillator 38 is used.
The wavelength of the laser light oscillated by the optical parametric oscillator may be made to correspond to the characteristics of the photosensitive substance by appropriately adjusting the angle of.

【0060】一方、病巣部6に対して生体組織の凝固、
止血、蒸散(切除、切開)等の治療を行う際には、全反
射ミラー30をYAGレーザー発振器28により発振さ
れるYAGレーザー基本波の光路に位置させる。
On the other hand, coagulation of living tissue with respect to the lesion site 6,
When performing treatment such as hemostasis, transpiration (ablation, incision), the total reflection mirror 30 is positioned in the optical path of the YAG laser fundamental wave oscillated by the YAG laser oscillator 28.

【0061】このようにYAGレーザー基本波の光路に
全反射ミラー30を位置させ、YAGレーザー発生部2
にノーマルパルス発振(図6参照)を指示する作動信号
25が入力されると、YAGレーザー発振器28から発
振される波長1064nmのノーマルパルスレーザー光
(YAGレーザー基本波)が内視鏡5の照射用光ファイ
バー11(図1参照)へ導かれ、波長1064nmのノ
ーマルパルスレーザー光を病巣部6へ照射され、生体組
織の凝固、止血、蒸散(切除、切開)等を行うことがで
きる。
Thus, the total reflection mirror 30 is positioned in the optical path of the YAG laser fundamental wave, and the YAG laser generator 2
When the operation signal 25 instructing normal pulse oscillation (see FIG. 6) is input to the endoscope 5, normal pulse laser light (YAG laser fundamental wave) having a wavelength of 1064 nm emitted from the YAG laser oscillator 28 is used for irradiating the endoscope 5. It is guided to the optical fiber 11 (see FIG. 1) and irradiated with the normal pulse laser light having a wavelength of 1064 nm to the lesion site 6, and coagulation, hemostasis, evaporation (ablation, incision) and the like of living tissue can be performed.

【0062】図3及び図4は本発明のレーザー治療装置
の第2の実施例を示すものであり、本実施例は本発明の
請求項2に対応する。
3 and 4 show a second embodiment of the laser treatment apparatus according to the present invention, and this embodiment corresponds to claim 2 of the present invention.

【0063】本実施例は、前述した第1の実施例におけ
る光パラメトリック発振を利用した固体レーザー発生装
置1を、チタンサファイアレーザーを用いた固体レーザ
ー発生装置43に置換した構成を有し、図中、図1及び
図2と同一の符号を付した部分は同一物を表している。
This embodiment has a structure in which the solid-state laser generator 1 using the optical parametric oscillation in the first embodiment described above is replaced with a solid-state laser generator 43 using a titanium sapphire laser. 1 and 2, the parts denoted by the same reference numerals represent the same parts.

【0064】固体レーザー発生装置43は、所定波長の
レーザー光を発生させるYAGレーザー発生部44と、
該YAGレーザー発生部44において発生するレーザー
光により異なる波長のレーザー光を発生させるチタンサ
ファイアレーザー発生部45とから構成されている。
The solid-state laser generator 43 includes a YAG laser generator 44 for generating laser light having a predetermined wavelength,
It is composed of a titanium sapphire laser generating unit 45 which generates laser light of different wavelengths by the laser light generated in the YAG laser generating unit 44.

【0065】固体レーザー発生装置43には、YAGレ
ーザー発生部44へ冷却水を供給して該YAGレーザー
発生部44の温度上昇を抑制するための冷却水供給管4
が接続されている。
The solid-state laser generator 43 supplies cooling water to the YAG laser generator 44 to suppress the temperature rise of the YAG laser generator 44.
Are connected.

【0066】以下、前記の固体レーザー発生装置43の
YAGレーザー発生部44の構成を図4より説明する。
The structure of the YAG laser generator 44 of the solid-state laser generator 43 will be described below with reference to FIG.

【0067】YAGレーザー発生部44は、図2に示す
YAGレーザー発生部2と同様に、Qスイッチ印加電圧
調整装置29により図5に示す如く電圧をON−OFF
して尖頭値の高い極短パルスレーザー光を発生させるQ
スイッチパルス発振を行い且つ図6に示す如く常時電圧
をかけてパルス幅の長いパルスレーザー光を発生させる
ノーマルパルス発振を行う励起用のYAGレーザー発振
器28と、該YAGレーザー発振器28により発振され
るYAGレーザー基本波の光路に位置し得られるように
設けた全反射ミラー30と、YAGレーザー発振器28
が発振するYAGレーザー基本波から、前記の式(1)
の関係によって波長532nmのレーザー光(YAGレ
ーザー第2高調波)を発生するYAGレーザー第2高調
波発生器31と、該YAGレーザ第2高調波発生器31
においてYAGレーザー第2高調波を反射し且つYAG
レーザー第2高調波発生器31においてYAGレーザー
第2高調波に変換されなかった残りのYAGレーザー基
本波を透過させるダイクロイックミラー59と、該ダイ
クロイックミラー59を透過するYAGレーザー基本波
を遮断するビームダンパー60とを備えている。
As with the YAG laser generating section 2 shown in FIG. 2, the YAG laser generating section 44 turns on and off the voltage as shown in FIG. 5 by the Q switch applied voltage adjusting device 29.
Q to generate ultra-short pulsed laser light with high peak value
A YAG laser oscillator 28 for excitation that performs switch pulse oscillation and normal pulse oscillation that generates a pulse laser beam having a long pulse width by constantly applying a voltage as shown in FIG. 6, and a YAG oscillator oscillated by the YAG laser oscillator 28. A total reflection mirror 30 provided so as to be positioned in the optical path of the laser fundamental wave, and a YAG laser oscillator 28.
From the YAG laser fundamental wave oscillated by
And a YAG laser second harmonic generator 31 for generating laser light (YAG laser second harmonic) having a wavelength of 532 nm according to
The second harmonic of the YAG laser at
A dichroic mirror 59 that transmits the remaining YAG laser fundamental wave that has not been converted into the YAG laser second harmonic in the laser second harmonic generator 31, and a beam damper that blocks the YAG laser fundamental wave that passes through the dichroic mirror 59. And 60.

【0068】前記の全反射ミラー30をYAGレーザー
基本波の光路に位置させ、YAGレーザー発振器28よ
りノーマルパルスのYAGレーザー基本波(図6参照)
を発振させると、全反射ミラー30によって反射するY
AGレーザー基本波が内視鏡5の照射用光ファイバー1
1(図1参照)へ導かれるようになっている。
The total reflection mirror 30 is located in the optical path of the YAG laser fundamental wave, and the YAG laser oscillator 28 produces a normal pulse YAG laser fundamental wave (see FIG. 6).
Is reflected by the total reflection mirror 30,
An optical fiber 1 for irradiating the endoscope 5 with the AG laser fundamental wave
1 (see FIG. 1).

【0069】46はハーフミラーであり、該ハーフミラ
ー46は、前記のダイクロイックミラー59により反射
されるYAGレーザー第2高調波の一部を反射するよう
になっている。
Reference numeral 46 is a half mirror, and the half mirror 46 is adapted to reflect a part of the second harmonic of the YAG laser reflected by the dichroic mirror 59.

【0070】47はレンズであり、該レンズ47は、前
記のハーフミラー46を透過するYAGレーザー第2高
調波を収束させるようになっている。
Reference numeral 47 is a lens, and the lens 47 is adapted to converge the second harmonic of the YAG laser transmitted through the half mirror 46.

【0071】48は全反射ミラーであり、該全反射ミラ
ー48は、前記のハーフミラー46により反射するYA
Gレーザー第2高調波を反射するようになっている。
Reference numeral 48 is a total reflection mirror, and the total reflection mirror 48 reflects the YA reflected by the half mirror 46.
It is designed to reflect the G laser second harmonic.

【0072】49はレンズであり、該レンズ49は前記
の全反射ミラー48により反射するYAGレーザー第2
高調波を収束させるようになっている。
Reference numeral 49 is a lens, and the lens 49 is a second YAG laser which is reflected by the total reflection mirror 48.
It is designed to converge harmonics.

【0073】次に、チタンサファイアレーザー発生部4
5の構造を説明する。
Next, the titanium sapphire laser generator 4
The structure of No. 5 will be described.

【0074】50はチタンサファイアレーザー発生装置
であり、該チタンサファイアレーザー発生装置50は、
発振用チタンサファイアレーザーロッド51と、複屈折
フィルター等の波長同調素子(波長選択素子)52と、
共振器を構成するフロントミラー53及びエンドミラー
54と、増幅用チタンサファイアレーザーロッド55と
を備えている。
50 is a titanium sapphire laser generator, and the titanium sapphire laser generator 50 is
A titanium sapphire laser rod 51 for oscillation, a wavelength tuning element (wavelength selecting element) 52 such as a birefringent filter,
It includes a front mirror 53 and an end mirror 54 that form a resonator, and a titanium sapphire laser rod 55 for amplification.

【0075】発振用チタンサファイアレーザーロッド5
1はYAGレーザー第2高調波から波長670〜110
0nmの波長成分の光を発生するものである。
Titanium sapphire laser rod 5 for oscillation
1 is the wavelength of 670 to 110 from the second harmonic of the YAG laser
It emits light having a wavelength component of 0 nm.

【0076】この発振用チタンサファイアレーザーロッ
ド51には、ダイクロイックミラー56によって前記の
レンズ47により収束するYAGレーザー第2高調波が
入射するようになっている。
A dichroic mirror 56 allows the second harmonic of the YAG laser converged by the lens 47 to enter the titanium sapphire laser rod 51 for oscillation.

【0077】上記のダイクロイックミラー56は、YA
Gレーザー第2高調波以外の波長の光を透過させるよう
になっている。
The above dichroic mirror 56 is YA
Light having a wavelength other than the second harmonic of the G laser is transmitted.

【0078】波長同調素子52は、発振用チタンサファ
イアレーザーロッド51によって発生する波長670〜
1100nmの波長成分を有する光のうちの特定波長の
光のみをよく透過させる特性を有し、発振用チタンサフ
ァイアレーザーロッド51により発生する波長670〜
1100nmの波長成分を有する光を共振させるフロン
トミラー53及びエンドミラー54の間に配置されてい
る。
The wavelength tuning element 52 has a wavelength of 670 to 670 generated by the titanium sapphire laser rod 51 for oscillation.
A wavelength of 670 to 670 generated by the titanium sapphire laser rod 51 for oscillation, which has a characteristic of allowing only a specific wavelength of light having a wavelength component of 1100 nm to pass through well.
It is arranged between the front mirror 53 and the end mirror 54 that resonate the light having the wavelength component of 1100 nm.

【0079】増幅用チタンサファイアレーザーロッド5
5は前記の波長同調素子52を透過し且つフロントミラ
ー53及びエンドミラー54によって共振してフロント
ミラー53より射出される波長670〜1100nm間
の任意波長のチタンサファイアレーザー基本波を増幅す
るものである。
Titanium Sapphire Laser Rod 5 for Amplification
Reference numeral 5 is for amplifying a titanium sapphire laser fundamental wave having an arbitrary wavelength between 670 and 1100 nm which is transmitted from the wavelength tuning element 52 and resonates with the front mirror 53 and the end mirror 54 and is emitted from the front mirror 53. .

【0080】この増幅用チタンサファイアレーザーロッ
ド55には、ダイクロイックミラー57によって前記の
レンズ49により収束するYAGレーザー第2高調波が
励起光として入射し且つ増幅すべきフロントミラー53
より射出される波長670〜1100nm間の任意波長
のチタンサファイアレーザー基本波が入射するようにな
っている。
The titanium sapphire laser rod 55 for amplification receives the second harmonic of the YAG laser converged by the lens 49 by the dichroic mirror 57 as excitation light and is a front mirror 53 to be amplified.
A titanium sapphire laser fundamental wave having an arbitrary wavelength between 670 and 1100 nm is emitted.

【0081】上記のダイクロイックミラー57は、YA
Gレーザー第2高調波以外の波長の光を透過させるよう
になっている。
The above dichroic mirror 57 is YA
Light having a wavelength other than the second harmonic of the G laser is transmitted.

【0082】58はプリズムであり、該プリズム58
は、上記構成を有するチタンサファイアレーザー発生装
置50の増幅用チタンサファイアレーザーロッド55か
ら射出される波長670〜1100nm間の任意波長の
チタンサファイアレーザー基本波とYAGレーザー第2
高調波とを各波長ごとに分離するようになっている。
Reference numeral 58 is a prism, and the prism 58
Is a titanium sapphire laser fundamental wave having an arbitrary wavelength between 670 and 1100 nm emitted from the titanium sapphire laser rod 55 for amplification of the titanium sapphire laser generator 50 having the above-mentioned configuration and the YAG laser second.
The harmonics are separated for each wavelength.

【0083】これら分離されたレーザー光のうち、チタ
ンサファイアレーザー基本波が内視鏡5の照射用光ファ
イバー10(図3参照)へ導かれるようになっている。
Of these separated laser lights, the titanium sapphire laser fundamental wave is guided to the irradiation optical fiber 10 of the endoscope 5 (see FIG. 3).

【0084】なお、本実施例においては、制御装置24
から固体レーザー発生装置43を作動させるための作動
信号25がYAGレーザー発生部44へ出力されるよう
になっている。
In this embodiment, the control device 24
The operation signal 25 for operating the solid-state laser generator 43 is output to the YAG laser generator 44.

【0085】以下、本実施例の作動を説明する。The operation of this embodiment will be described below.

【0086】病巣部6の治療を行う際には、癌組織に対
して親和性を有する光感受性物質を、患者の血管へ注入
することにより、予め病巣部6へ吸収させておく。
When the lesion 6 is treated, a photosensitizer having an affinity for the cancer tissue is injected into the blood vessel of the patient so as to be absorbed in the lesion 6 in advance.

【0087】一方、図4に示す波長同調素子52の光学
的特性を、病巣部6に吸収させた光感受性物質に適合す
る波長の光が透過するように設定しておく。
On the other hand, the optical characteristics of the wavelength tuning element 52 shown in FIG. 4 are set so that light having a wavelength suitable for the photosensitizing substance absorbed by the lesion 6 is transmitted.

【0088】この状態で、操作パネル22を操作するこ
とにより、図1及び図2に示す先に述べたレーザー治療
装置と同様に、照明用キセノンランプ7が発する光によ
り病巣部6を照明するとともに、カラーテレビカメラ1
6が撮影した病巣部6の実写画像をテレビモニター20
に映像表示し、病巣部6の観察を行う。
By operating the operation panel 22 in this state, the lesion 6 is illuminated by the light emitted from the xenon lamp 7 for illumination as in the laser treatment apparatus shown in FIGS. 1 and 2. , Color TV camera 1
The live-view image of the lesion 6 captured by 6 is displayed on the TV monitor 20.
An image is displayed on the screen and the lesion 6 is observed.

【0089】次いで、操作パネル22を操作することに
より、該操作パネル22から固体レーザー発生装置43
を作動させるための指令信号23を制御装置24へ出力
させ、該制御装置24からYAGレーザー発生部44へ
作動信号25を出力させる。
Then, by operating the operation panel 22, the solid-state laser generator 43 is operated from the operation panel 22.
A command signal 23 for operating the control signal is output to the control device 24, and the control device 24 outputs the operation signal 25 to the YAG laser generator 44.

【0090】YAGレーザー発生部44に作動信号25
が入力されると、図4に示すYAGレーザー発振器28
が作動し、該YAGレーザー発振器28から波長106
4nmのQスイッチパルスレーザー光(YAGレーザー
基本波)が発振され、YAGレーザー第2高調波発生器
31によって、前記の式(1)の関係によりYAGレー
ザー基本波から波長532nmのYAGレーザー第2高
調波が発生する。
The operation signal 25 is sent to the YAG laser generator 44.
Is input, the YAG laser oscillator 28 shown in FIG.
Is activated, and the wavelength 106 from the YAG laser oscillator 28 is activated.
A 4 nm Q-switched pulsed laser light (YAG laser fundamental wave) is oscillated, and the YAG laser second harmonic generator 31 causes the YAG laser second harmonic to have a wavelength of 532 nm from the YAG laser fundamental wave according to the above-described formula (1). Waves are generated.

【0091】このYAGレーザー第2高調波は、ダイク
ロイックミラー59を経てハーフミラー46に入射す
る。
The second harmonic of the YAG laser enters the half mirror 46 via the dichroic mirror 59.

【0092】ハーフミラー46に入射するレーザー光の
うち、YAGレーザー第2高調波の一部はハーフミラー
46を透過したうえレンズ47により収束し、更にダイ
クロイックミラー56を経て発振用チタンサファイアレ
ーザーロッド51に入射し、該発振用チタンサファイア
レーザーロッド51により波長670〜1100nmの
波長成分を有する光が発生する。
Of the laser light incident on the half mirror 46, part of the second harmonic of the YAG laser passes through the half mirror 46 and is converged by the lens 47, and further passes through the dichroic mirror 56 to oscillate a titanium sapphire laser rod 51. And the titanium sapphire laser rod 51 for oscillation generates light having a wavelength component of 670 to 1100 nm.

【0093】この波長670〜1100nmの波長成分
を有する光は、特定波長の光のみが波長同調素子52を
透過してフロントミラー53及びエンドミラー54によ
り構成される共振器によって共振し、フロントミラー5
3より光感受性物質に適合する波長のチタンサファイア
レーザー基本波が射出される。
Of the light having the wavelength component of 670 to 1100 nm, only the light of a specific wavelength passes through the wavelength tuning element 52 and resonates by the resonator constituted by the front mirror 53 and the end mirror 54, and the front mirror 5
A fundamental wave of titanium sapphire laser having a wavelength suitable for the photosensitizer is emitted from 3.

【0094】上記のチタンサファイアレーザー基本波は
増幅用チタンサファイアレーザーロッド55に入射す
る。
The titanium sapphire laser fundamental wave described above enters the titanium sapphire laser rod 55 for amplification.

【0095】一方、ハーフミラー46に入射するYAG
レーザー第2高調波は、ハーフミラー46、全反射ミラ
ー48を経てレンズ49により収束し、更にダイクロイ
ックミラー57を経て増幅用チタンサファイアレーザー
ロッド55に入射する。
On the other hand, YAG incident on the half mirror 46
The second harmonic of the laser passes through the half mirror 46 and the total reflection mirror 48, is converged by the lens 49, and further enters the amplification titanium sapphire laser rod 55 through the dichroic mirror 57.

【0096】上記のYAGレーザー第2高調波によって
増幅用チタンサファイアレーザーロッド55が励起さ
れ、該増幅用チタンサファイアレーザーロッド55に入
射する前記のチタンサファイアレーザー基本波が増幅さ
れる。
The titanium sapphire laser rod 55 for amplification is excited by the second harmonic of the YAG laser, and the titanium sapphire laser fundamental wave incident on the titanium sapphire laser rod 55 for amplification is amplified.

【0097】この増幅用チタンサファイアレーザーロッ
ド55から射出されるチタンサファイアレーザー基本波
とYAGレーザー第2高調波は、プリズム58に入射し
て各波長ごとに分離される。
The titanium sapphire laser fundamental wave and the YAG laser second harmonic emitted from the amplifying titanium sapphire laser rod 55 enter the prism 58 and are separated for each wavelength.

【0098】これら分離されたレーザー光のうち、チタ
ンサファイアレーザー基本波が内視鏡5の照射用光ファ
イバー10(図3参照)へ導かれ、該照射用光ファイバ
ー10を介して病巣部6へ照射され、チタンサファイア
レーザー基本波によって光感受性物質を吸収した癌組織
が破壊される。
Of these separated laser beams, the titanium sapphire laser fundamental wave is guided to the irradiation optical fiber 10 (see FIG. 3) of the endoscope 5 and is irradiated to the lesion 6 via the irradiation optical fiber 10. , Titanium sapphire laser fundamental wave destroys the cancer tissue which has absorbed the photosensitizer.

【0099】一方、病巣部6に対して生体組織の凝固、
止血、蒸散(切除、切開)等の治療を行う際には、全反
射ミラー30をYAGレーザー発振器28により発振さ
れるYAGレーザー基本波の光路に位置させる。
On the other hand, the coagulation of the living tissue with respect to the lesion area 6,
When performing treatment such as hemostasis, transpiration (ablation, incision), the total reflection mirror 30 is positioned in the optical path of the YAG laser fundamental wave oscillated by the YAG laser oscillator 28.

【0100】このようにYAGレーザー基本波の光路に
全反射ミラー30を位置させ、YAGレーザー発生部2
にノーマルパルス発振(図6参照)を指示する作動信号
25が入力されると、YAGレーザー発振器28から発
振される波長1064nmのノーマルパルスレーザー光
(YAGレーザー基本波)が内視鏡5の照射用光ファイ
バー11(図1参照)へ導かれ、波長1064nmのノ
ーマルパルスレーザー光を病巣部6へ照射され、生体組
織の凝固、止血、蒸散(切除、切開)等を行うことがで
きる。
In this way, the total reflection mirror 30 is positioned in the optical path of the YAG laser fundamental wave, and the YAG laser generator 2
When the operation signal 25 instructing normal pulse oscillation (see FIG. 6) is input to the endoscope 5, normal pulse laser light (YAG laser fundamental wave) having a wavelength of 1064 nm emitted from the YAG laser oscillator 28 is used for irradiating the endoscope 5. It is guided to the optical fiber 11 (see FIG. 1) and irradiated with the normal pulse laser light having a wavelength of 1064 nm to the lesion site 6, and coagulation, hemostasis, evaporation (ablation, incision) and the like of living tissue can be performed.

【0101】なお、本発明のレーザー治療装置は、上述
の実施例にのみ限定されるものではなく、光パラメトリ
ック発振器あるいはチタンサファイアレーザー発生装置
から出力されるレーザー光とYAGレーザー発振器から
出力されるYAGレーザー基本波とをそれぞれ別箇の内
視鏡を用いて病巣部に照射させるように構成すること、
内視鏡を使わずに直接光ファイバーを体内に入れて病巣
部に照射させるように構成すること、その他、本発明の
要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得るこ
とは勿論である。
The laser treatment apparatus of the present invention is not limited to the above-described embodiment, but laser light output from an optical parametric oscillator or titanium sapphire laser generator and YAG laser output from a YAG laser oscillator. The laser fundamental wave is configured to irradiate the lesion with separate endoscopes,
It is needless to say that the optical fiber is directly inserted into the body to irradiate the lesion without using an endoscope, and other various changes can be made without departing from the scope of the present invention.

【0102】[0102]

【発明の効果】以上述べたように、本発明のレーザー治
療装置によれば、下記のような種々の優れた効果を奏し
得る。
As described above, according to the laser treatment apparatus of the present invention, various excellent effects as described below can be obtained.

【0103】(1)本発明の請求項1に記載したレーザ
ー治療装置では、YAGレーザー発振器、YAGレーザ
ー第2高調波発生器、YAGレーザー第3高調波発生
器、光パラメトリック発振器によって発生する光感受性
物質の特性に対応する波長のレーザー光と、前記YAG
レーザー発振器により発生するYAGレーザー基本波と
の双方を、病巣部に照射して該病巣部の治療を行うこと
ができるので、病巣部に対して効果的な治療を行うこと
が可能となるとともに、治療スペースの有効活用を図る
ことができる。
(1) In the laser treatment apparatus according to claim 1 of the present invention, the photosensitivity generated by the YAG laser oscillator, the YAG laser second harmonic generator, the YAG laser third harmonic generator, and the optical parametric oscillator. Laser light having a wavelength corresponding to the characteristics of the substance, and the YAG
Both the YAG laser fundamental wave generated by the laser oscillator can be applied to the lesion to treat the lesion, so that it is possible to effectively treat the lesion. It is possible to effectively utilize the treatment space.

【0104】(2)本発明の請求項2に記載したレーザ
ー治療装置では、YAGレーザー発振器、YAGレーザ
ー第2高調波発生器、チタンサファイアレーザー発生装
置によって発生する光感受性物質の特性に対応する波長
のチタンサファイアレーザー光と、前記YAGレーザー
発振器により発生するYAGレーザー基本波との双方
を、病巣部に照射して該病巣部の治療を行うことができ
るので、病巣部に対して効果的な治療を行うことが可能
となるとともに、治療スペースの有効活用を図ることが
できる。
(2) In the laser treatment apparatus according to claim 2 of the present invention, the wavelength corresponding to the characteristics of the photosensitizer generated by the YAG laser oscillator, the YAG laser second harmonic generator, and the titanium sapphire laser generator. Both the titanium sapphire laser light and the YAG laser fundamental wave generated by the YAG laser oscillator can be applied to the lesion area to treat the lesion area, so that the lesion area can be effectively treated. It is possible to perform the treatment, and it is possible to effectively utilize the treatment space.

【0105】(3)本発明の請求項1並びに請求項2に
記載したレーザー治療装置のいずれにおいても、YAG
レーザー発振器を用いているので、装置のメンテナンス
が容易になる。
(3) In any of the laser treatment apparatuses described in claim 1 and claim 2 of the present invention, YAG
Since the laser oscillator is used, maintenance of the device becomes easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のレーザー治療装置の第1の実施例を示
すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a laser treatment apparatus of the present invention.

【図2】本発明のレーザー治療装置の第1の実施例にお
ける光学系の概念を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing the concept of the optical system in the first embodiment of the laser treatment apparatus of the present invention.

【図3】本発明のレーザー治療装置の第2の実施例を示
すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a second embodiment of the laser treatment apparatus of the present invention.

【図4】本発明のレーザー治療装置の第2の実施例にお
ける光学系の概念を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing the concept of an optical system in a second embodiment of the laser treatment apparatus of the present invention.

【図5】Qスイッチパルス発振時における印加電圧及び
パルスレーザー出力の経時を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing the applied voltage and the pulse laser output with time during Q-switch pulse oscillation.

【図6】ノーマルパルス発振時における印加電圧及びパ
ルスレーザー出力の経時を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing applied voltage and pulse laser output with time during normal pulse oscillation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

6 病巣部 28 YAGレーザー発振器 31 YAGレーザー第2高調波発生器 34 YAGレーザー第3高調波発生器 38 光パラメトリック発振器 50 チタンサファイアレーザー発生装置 6 Lesion 28 YAG Laser Oscillator 31 YAG Laser Second Harmonic Generator 34 YAG Laser Third Harmonic Generator 38 Optical Parametric Oscillator 50 Titanium Sapphire Laser Generator

フロントページの続き (72)発明者 宇田川 毅 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 西澤 代治 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 白石 徹也 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 井上 克司 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 福冨 誠二 東京都江東区豊洲三丁目1番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内Front page continuation (72) Inventor Takeshi Udagawa 3-15-1, Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima Harima Heavy Industries Ltd. Toji Technical Center (72) Inventor Daiji Nishizawa 3-1-1, Toyosu, Koto-ku, Tokyo No. 15 Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toni Technical Center (72) Inventor Tetsuya Shiraishi 3-15-1, Toyosu Koto-ku, Tokyo Tokyo Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toji Technical Center (72) Inventor Katsushi Inoue Tokyo 3-15-15 Toyosu, Koto-ku, Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toji technical center (72) Inventor Seiji Fukutomi 3-15-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima Harima Heavy Industries Co., Ltd. Toji technical center

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 YAGレーザー基本波を発振するYAG
レーザー発振器と、該YAGレーザー発振器から発振さ
れるYAGレーザー基本波からYAGレーザー第2高調
波を発生させるYAGレーザー第2高調波発生器と、該
YAGレーザー第2高調波発生器により発生するYAG
レーザー第2高調波及び前記のYAGレーザー発振器か
ら発振されるYAGレーザー基本波からYAGレーザー
第3高調波を発生させるYAGレーザー第3高調波発生
器と、該YAGレーザー第3高調波発生器により発生す
るYAGレーザー第3高調波から該YAGレーザー第3
高調波とは異なる波長を有するレーザー光を発生させる
光パラメトリック発振器とを備えてなることを特徴とす
るレーザー治療装置。
1. A YAG which oscillates a YAG laser fundamental wave.
A laser oscillator, a YAG laser second harmonic generator for generating a YAG laser second harmonic from a YAG laser fundamental wave oscillated from the YAG laser oscillator, and a YAG generated by the YAG laser second harmonic generator.
A YAG laser third harmonic generator for generating a YAG laser third harmonic from the laser second harmonic and the YAG laser fundamental wave oscillated from the YAG laser oscillator, and the YAG laser third harmonic generator YAG laser 3rd harmonic from the YAG laser 3rd
A laser treatment apparatus comprising: an optical parametric oscillator that generates a laser beam having a wavelength different from a harmonic.
【請求項2】 YAGレーザー基本波を発振するYAG
レーザー発振器と、該YAGレーザー発振器から発振さ
れるYAGレーザー基本波からYAGレーザー第2高調
波を発生させるYAGレーザー第2高調波発生器と、該
YAGレーザー第2高調波発生器により発生するYAG
レーザー第2高調波及び前記のYAGレーザー発振器か
ら発振されるYAGレーザー基本波からチタンサファイ
アレーザー基本波を発生させるチタンサファイアレーザ
ー発生装置とを備えてなることを特徴とするレーザー治
療装置。
2. A YAG which oscillates a YAG laser fundamental wave.
A laser oscillator, a YAG laser second harmonic generator for generating a YAG laser second harmonic from a YAG laser fundamental wave oscillated from the YAG laser oscillator, and a YAG generated by the YAG laser second harmonic generator.
A laser treatment apparatus comprising: a titanium sapphire laser generating device that generates a titanium sapphire laser fundamental wave from a laser second harmonic and a YAG laser fundamental wave oscillated from the YAG laser oscillator.
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JP2001352118A (en) * 2000-06-08 2001-12-21 Cyber Laser Kk Light source device and laser device using the same
WO2018038287A1 (en) * 2016-08-24 2018-03-01 사단법인 원텍 단국 의광학 연구센터 Lipodissolve apparatus using tunable laser apparatus

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