JPH0788394B2 - エポキシ基含有シラン化合物の製造方法 - Google Patents
エポキシ基含有シラン化合物の製造方法Info
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- JPH0788394B2 JPH0788394B2 JP62098883A JP9888387A JPH0788394B2 JP H0788394 B2 JPH0788394 B2 JP H0788394B2 JP 62098883 A JP62098883 A JP 62098883A JP 9888387 A JP9888387 A JP 9888387A JP H0788394 B2 JPH0788394 B2 JP H0788394B2
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- epoxy group
- mol
- containing silane
- silane compound
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
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- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、カップリング剤として用いられるエポキシ基
含有シラン化合物の製造方法に関し、さらに詳しくは、
カップリング剤として用いられる、末端位にシリル基を
持つエポキシ基含有シラン化合物を収率よく製造しうる
ようなエポキシ基含有シラン化合物の製造方法に関す
る。
含有シラン化合物の製造方法に関し、さらに詳しくは、
カップリング剤として用いられる、末端位にシリル基を
持つエポキシ基含有シラン化合物を収率よく製造しうる
ようなエポキシ基含有シラン化合物の製造方法に関す
る。
発明の技術的背景ならびにその問題点 シランカップリング剤は、分子内に有機官能性基と、無
機物と反応する加水分解性基とを持った化合物である。
このようなシランカップリング剤は、上記のような官能
性基を有するため、有機ポリマーとシリカ等の無機物と
を化学的に結合することができ、有機ポリマーの機械的
強度を飛躍的に向上させることができるので、先端複合
材料の開発に不可欠なものとして需要は拡大すると考え
られる。
機物と反応する加水分解性基とを持った化合物である。
このようなシランカップリング剤は、上記のような官能
性基を有するため、有機ポリマーとシリカ等の無機物と
を化学的に結合することができ、有機ポリマーの機械的
強度を飛躍的に向上させることができるので、先端複合
材料の開発に不可欠なものとして需要は拡大すると考え
られる。
このようなシランカップリング剤のうち、特にエポキシ
基を含有するシランカップリング剤は、その優れた特性
が期待され電子材料などの分野で用いられている。電子
材料などの分野で用いられるシランカップリング剤は、
耐熱性あるいは絶縁性が厳しく要求されており、このた
め不純物の少ない高純度のエポキシ基含有シランカップ
リング剤の出現が強く望まれている。
基を含有するシランカップリング剤は、その優れた特性
が期待され電子材料などの分野で用いられている。電子
材料などの分野で用いられるシランカップリング剤は、
耐熱性あるいは絶縁性が厳しく要求されており、このた
め不純物の少ない高純度のエポキシ基含有シランカップ
リング剤の出現が強く望まれている。
ところでカップリング剤として用いられるエポキシ基含
有化合物は、エポキシ基および末端アルケニル基を有す
る不飽和エポキシ化合物と、ヒドロシラン類とを、白金
系触媒を用いてヒドロシリル化反応させることにより製
造しうることは、すでに知られている。たとえば特公昭
49−25651号公報には、エポキシ基および末端アルケニ
ル基を有する不飽和エポキシ化合物であるアリルグリシ
ジルエーテルと、ヒドロシラン類との反応を、不飽和ケ
トンと塩化白金酸との錯体を触媒として用いて行なう方
法が開示されている。また特公昭50−24947号公報に
は、上記のようなアリルグリシジルエーテルとヒドロシ
ラン類との反応を、β−ジケトンと塩化白金酸との錯体
を触媒として用いて行なう方法が開示されている。
有化合物は、エポキシ基および末端アルケニル基を有す
る不飽和エポキシ化合物と、ヒドロシラン類とを、白金
系触媒を用いてヒドロシリル化反応させることにより製
造しうることは、すでに知られている。たとえば特公昭
49−25651号公報には、エポキシ基および末端アルケニ
ル基を有する不飽和エポキシ化合物であるアリルグリシ
ジルエーテルと、ヒドロシラン類との反応を、不飽和ケ
トンと塩化白金酸との錯体を触媒として用いて行なう方
法が開示されている。また特公昭50−24947号公報に
は、上記のようなアリルグリシジルエーテルとヒドロシ
ラン類との反応を、β−ジケトンと塩化白金酸との錯体
を触媒として用いて行なう方法が開示されている。
ところが、エポキシ基および末端アルケニル基を有する
不飽和エポキシ化合物と、ヒドロシラン類とを、塩化白
金系触媒を用いてヒドロシリル化反応させると、二重結
合の末端位がシリル化された目的化合物とともに、内部
位がシリル化された異性体が生成してしまうという問題
点があった。たとえばエポキシ基および末端アルケニル
基を有する不飽和エポキシ化合物としてのアリルグリシ
ジルエーテルとトリメトキシシランとを反応させた場合
には、下記式に示すように、γ−体（目的化合物）とβ
−体（異性体）とが生成する。
不飽和エポキシ化合物と、ヒドロシラン類とを、塩化白
金系触媒を用いてヒドロシリル化反応させると、二重結
合の末端位がシリル化された目的化合物とともに、内部
位がシリル化された異性体が生成してしまうという問題
点があった。たとえばエポキシ基および末端アルケニル
基を有する不飽和エポキシ化合物としてのアリルグリシ
ジルエーテルとトリメトキシシランとを反応させた場合
には、下記式に示すように、γ−体（目的化合物）とβ
−体（異性体）とが生成する。
このように不飽和エポキシ化合物とヒドロシラン類とを
塩化白金系触媒を用いてヒドロシリル化反応させると、
末端位がシリル化された目的化合部物のほかに内部位が
シリル化された異性体が生成してしまうが、目的化合物
はこのような異性体と沸点差が小さいため、通常の蒸留
では除去が困難である。したがって内部位がシリル化さ
れた化合物の生成量を抑制しうるようなエポキシ基含有
シランカップリング剤の製造方法の出現が強く望まれて
いる。
塩化白金系触媒を用いてヒドロシリル化反応させると、
末端位がシリル化された目的化合部物のほかに内部位が
シリル化された異性体が生成してしまうが、目的化合物
はこのような異性体と沸点差が小さいため、通常の蒸留
では除去が困難である。したがって内部位がシリル化さ
れた化合物の生成量を抑制しうるようなエポキシ基含有
シランカップリング剤の製造方法の出現が強く望まれて
いる。
発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴なう問題点を解決
しようとするものであって、エポキシ基および末端アル
ケニル基を有する不飽和エポキシ化合物と、ヒドロシラ
ン類とを、白金系触媒を用いて反応させて、エポキシ基
含有シラン化合物を製造するに際して、不純物としての
内部位がシリル化された化合物がほとんど生成せず末端
位がシリル化された化合物が高選択率で生成しうるよう
な、カップリング剤としての用途に主として用いられる
エポキシ基含有シラン化合物の製造方法を提供すること
を目的としている。
しようとするものであって、エポキシ基および末端アル
ケニル基を有する不飽和エポキシ化合物と、ヒドロシラ
ン類とを、白金系触媒を用いて反応させて、エポキシ基
含有シラン化合物を製造するに際して、不純物としての
内部位がシリル化された化合物がほとんど生成せず末端
位がシリル化された化合物が高選択率で生成しうるよう
な、カップリング剤としての用途に主として用いられる
エポキシ基含有シラン化合物の製造方法を提供すること
を目的としている。
発明の概要 本発明に係るエポキシ基含有シラン化合物の製造方法
は、エポキシ基および末端アルケニル基を有する不飽和
エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコキシシラ
ン類とを、白金系触媒を用いて反応させて、エポキシ基
含有シラン化合物を製造するに際して、Si−Ｈ結合を有
するアルコキシシラン類１モルに対して0.2〜10モルの
メタノールまたはエタノールの存在下に上記反応を行な
うことを特徴としている。
は、エポキシ基および末端アルケニル基を有する不飽和
エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコキシシラ
ン類とを、白金系触媒を用いて反応させて、エポキシ基
含有シラン化合物を製造するに際して、Si−Ｈ結合を有
するアルコキシシラン類１モルに対して0.2〜10モルの
メタノールまたはエタノールの存在下に上記反応を行な
うことを特徴としている。
本発明では、エポキシ基および末端アルケニル基を有す
る不飽和エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコ
キシシラン類との反応を、白金系触媒を用いて上記の量
の特定のアルコール類の存在下に行なっているので、内
部位がシリル化されたエポキシ基含有シラン化合物がほ
とんど生成せず、高選択率で末端位がシリル化されたエ
ポキシ基含有シラン化合物を得ることができる。
る不飽和エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコ
キシシラン類との反応を、白金系触媒を用いて上記の量
の特定のアルコール類の存在下に行なっているので、内
部位がシリル化されたエポキシ基含有シラン化合物がほ
とんど生成せず、高選択率で末端位がシリル化されたエ
ポキシ基含有シラン化合物を得ることができる。
発明の具体的説明 以下本発明に係るエポキシ基含有シラン化合物の製造方
法について具体的に説明する。
法について具体的に説明する。
本発明に係るエポキシ基含有シラン化合物の製造方法で
は、エポキシ基および末端アルケニル基を有する不飽和
エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコキシシラ
ン類とを、白金系触媒を用いて反応させて、エポキシ基
含有シラン化合物を製造するに際して、上記反応を下記
のような特定のアルコール類の存在下に行う。
は、エポキシ基および末端アルケニル基を有する不飽和
エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコキシシラ
ン類とを、白金系触媒を用いて反応させて、エポキシ基
含有シラン化合物を製造するに際して、上記反応を下記
のような特定のアルコール類の存在下に行う。
本発明で用いられるエポキシ基および末端アルケニル基
を有する不飽和エポキシ化合物としては、具体的には、
アリルグリシジルエーテル、４−ビニルシクロヘキセン
−１−オキシド、1,3−ブタジエンオキシド、ジビニル
ベンゼンオキシド、1,5−ヘキサジエンオキシド、1,4−
ペンタジエンオキシド、３−メチル−1,3−ブタジエン
−１−オキシド、アリル（α−メチルグリシジル）エー
テルなどが用いられる。
を有する不飽和エポキシ化合物としては、具体的には、
アリルグリシジルエーテル、４−ビニルシクロヘキセン
−１−オキシド、1,3−ブタジエンオキシド、ジビニル
ベンゼンオキシド、1,5−ヘキサジエンオキシド、1,4−
ペンタジエンオキシド、３−メチル−1,3−ブタジエン
−１−オキシド、アリル（α−メチルグリシジル）エー
テルなどが用いられる。
また本発明で用いられるSi−Ｈ結合を有するアルコキシ
シラン類は、一般式HSi（OR1）nR2 3-n（式中R1、R2は炭
素数１〜３のアルキル基ｎは２または３である）で表わ
される化合物が好ましく用いられる。このようなSi−Ｈ
結合を有するアルコキシシラン類としては、具体的には
トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメ
トキシシラン、エチルジエトキシシランなどが用いられ
る。
シラン類は、一般式HSi（OR1）nR2 3-n（式中R1、R2は炭
素数１〜３のアルキル基ｎは２または３である）で表わ
される化合物が好ましく用いられる。このようなSi−Ｈ
結合を有するアルコキシシラン類としては、具体的には
トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメ
トキシシラン、エチルジエトキシシランなどが用いられ
る。
本発明で用いられる白金系触媒としては、好ましくは塩
化白金系触媒を用いることができ、具体的には塩化白金
酸H2PtCl6、塩化白金・不飽和ケトン錯体、塩化白金・
β−ジケトン錯体塩化白金オレフィン錯体、塩化白金ア
ミン錯体の塩化白金ホスフィン錯体などが用いられる。
化白金系触媒を用いることができ、具体的には塩化白金
酸H2PtCl6、塩化白金・不飽和ケトン錯体、塩化白金・
β−ジケトン錯体塩化白金オレフィン錯体、塩化白金ア
ミン錯体の塩化白金ホスフィン錯体などが用いられる。
本発明で用いられるアルコール類としては、メタノー
ル、エタノールが用いられる。
ル、エタノールが用いられる。
反応に際しては、不飽和エポキシ化合物はSi−Ｈ結合を
有するアルコキシシラン類１モルに対して0.5〜２モル
好ましくは0.7〜1.3モルの量で用いられる。
有するアルコキシシラン類１モルに対して0.5〜２モル
好ましくは0.7〜1.3モルの量で用いられる。
白金触媒は、Si−Ｈ結合を有するアルコキシシラン類１
モルに対して10-7〜10-3モル、好ましくは10-6〜10-4モ
ルの量で用いられる。
モルに対して10-7〜10-3モル、好ましくは10-6〜10-4モ
ルの量で用いられる。
アルコール類は、Si−Ｈ結合を有するアルコキシシラン
類１モルに対して、0.2〜10モル好ましくは0.5〜３モル
の量で用いられる。このアルコール類の量がSi−Ｈ結合
を有するアルコキシシラン類１モルに対して、0.2モル
未満であると、内部位がシリル化された化合物が多量に
生成するため好ましくなく、アルコール類の量が10モル
より多いと、下記のようなSi−Ｈ結合を有するアルコキ
シシランとアルコールとの副反応が起こるため好ましく
ない。HSi（OR）３＋ROH→Si（OR）４＋H2 反応温度は、通常室温〜100℃程度好ましくは40〜70℃
であり、反応時間は通常0.5〜３時間である。
類１モルに対して、0.2〜10モル好ましくは0.5〜３モル
の量で用いられる。このアルコール類の量がSi−Ｈ結合
を有するアルコキシシラン類１モルに対して、0.2モル
未満であると、内部位がシリル化された化合物が多量に
生成するため好ましくなく、アルコール類の量が10モル
より多いと、下記のようなSi−Ｈ結合を有するアルコキ
シシランとアルコールとの副反応が起こるため好ましく
ない。HSi（OR）３＋ROH→Si（OR）４＋H2 反応温度は、通常室温〜100℃程度好ましくは40〜70℃
であり、反応時間は通常0.5〜３時間である。
また反応は、常圧下で行なっても加圧下で行なってもよ
いが、通常は常圧下で行なわれる。
いが、通常は常圧下で行なわれる。
上記のように、エポキシ基および末端アルケニル基を有
する不飽和エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアル
コキシシラン類とを、白金触媒を用いて上記のアルコー
ル類の存在下に行なうと、内部位がシリル化されたエポ
キシ基含有シラン化合物の生成が抑制され、末端位がシ
リル化されたエポキシ基含有シラン化合物が100％に近
い高選択率で得られる。
する不飽和エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアル
コキシシラン類とを、白金触媒を用いて上記のアルコー
ル類の存在下に行なうと、内部位がシリル化されたエポ
キシ基含有シラン化合物の生成が抑制され、末端位がシ
リル化されたエポキシ基含有シラン化合物が100％に近
い高選択率で得られる。
発明の効果 本発明では、エポキシ基および末端アルケニル基を有す
る不飽和エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコ
キシシラン類との反応を、白金系触媒を用いて上記のア
ルコール類の存在下に行なっているので、内部位がシリ
ル化されたエポキシ基含有シラン化合物がほとんど生成
せず、高選択率で末端位がシリル化されたエポキシ基含
有シラン化合物を得ることができる。
る不飽和エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコ
キシシラン類との反応を、白金系触媒を用いて上記のア
ルコール類の存在下に行なっているので、内部位がシリ
ル化されたエポキシ基含有シラン化合物がほとんど生成
せず、高選択率で末端位がシリル化されたエポキシ基含
有シラン化合物を得ることができる。
以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。
実施例に限定されるものではない。
実施例１ 滴下漏斗、還流冷却管、撹拌機、および温度計を備えた
４つ口フラスコに、アリルグリシジルエーテル13.7g
（0.12モル）と、0.1M−H2PtCl6・6H2O/i−PrOH溶液12
μｌ（1.2×10-6モル）とを加え50℃に加熱撹拌し、こ
こにトリメトキシシラン12.2（0.1モル）とメタノール
6.4g（0.2モル）の混合溶液を２時間で滴下した。
４つ口フラスコに、アリルグリシジルエーテル13.7g
（0.12モル）と、0.1M−H2PtCl6・6H2O/i−PrOH溶液12
μｌ（1.2×10-6モル）とを加え50℃に加熱撹拌し、こ
こにトリメトキシシラン12.2（0.1モル）とメタノール
6.4g（0.2モル）の混合溶液を２時間で滴下した。
さらに１時間反応混合物を50℃で加熱撹拌した後ガスク
ロマトグラフィーで分析したところ、90.0％の収率（ト
リメトキシシラン基準）で、目的とする３−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシランを得ることができた。目
的化合物と内部シリル化合物の重量比は、99.5:0.5であ
った。
ロマトグラフィーで分析したところ、90.0％の収率（ト
リメトキシシラン基準）で、目的とする３−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシランを得ることができた。目
的化合物と内部シリル化合物の重量比は、99.5:0.5であ
った。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度99.7％の３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得ることがで
きた。
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得ることがで
きた。
実施例２ 実施例１において、メタノールの使用量を1.6g（0.05モ
ル）とした以外は、実施例１と同様にした。
ル）とした以外は、実施例１と同様にした。
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、91.1％の収
率（トリメトキシシラン基準）で目的とする３−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシランを得ることができ
た。目的化合物と内部シリル化合物との比は、99.4:0.6
であった。
率（トリメトキシシラン基準）で目的とする３−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシランを得ることができ
た。目的化合物と内部シリル化合物との比は、99.4:0.6
であった。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度99.6％の３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得ることがで
きた。
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得ることがで
きた。
実施例３ 滴下漏斗、還流冷却管、撹拌機、および温度計を備えた
４つ口フラスコに、アリルグリシジルエーテル13.7g
（0.12モル）と、0.1M−H2PtCl6・6H2O/i−PrOH溶液12
μｌ（1.2×10-6モル）とを加え80℃に加熱撹拌し、こ
こにトリエトキシシラン16.4g（0.1モル）とエタノール
4.6g（0.1モル）との混合溶液を２時間で滴下した。
４つ口フラスコに、アリルグリシジルエーテル13.7g
（0.12モル）と、0.1M−H2PtCl6・6H2O/i−PrOH溶液12
μｌ（1.2×10-6モル）とを加え80℃に加熱撹拌し、こ
こにトリエトキシシラン16.4g（0.1モル）とエタノール
4.6g（0.1モル）との混合溶液を２時間で滴下した。
さらに１時間反応混合物を80℃で加熱撹拌した後ガスク
ロマトグラフィーで分析したところ、88.2％の収率（ト
リエトキシシラン基準）で目的とする３−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシランを得ることができた。目的
化合物と内部シリル化物であるβ−体との比は、99.6:
0.4であった。
ロマトグラフィーで分析したところ、88.2％の収率（ト
リエトキシシラン基準）で目的とする３−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシランを得ることができた。目的
化合物と内部シリル化物であるβ−体との比は、99.6:
0.4であった。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度99.8％の３−グ
リシドキシプロピルトリエトキシシランを得ることがで
きた。
リシドキシプロピルトリエトキシシランを得ることがで
きた。
実施例４ 滴下漏斗、還流冷却管、撹拌機、および温度計を備えた
４つ口フラスコに、４−ビニルシクロヘキセン−１−オ
キシド13.6g（0.11モル）と、0.1M−H2PtCl6・6H2O/i−
PrOH溶液12μｌ（1.2×10-6モル）とを加え50℃に加熱
し、ここにトリメトキシシラン12.2g（0.1モル）とメタ
ノール6.4g（0.2モル）の混合溶液を２時間滴下した。
４つ口フラスコに、４−ビニルシクロヘキセン−１−オ
キシド13.6g（0.11モル）と、0.1M−H2PtCl6・6H2O/i−
PrOH溶液12μｌ（1.2×10-6モル）とを加え50℃に加熱
し、ここにトリメトキシシラン12.2g（0.1モル）とメタ
ノール6.4g（0.2モル）の混合溶液を２時間滴下した。
さらに１時間反応混合物を50℃で加熱した後、ガスクロ
マトグラフィーで分析したところ、99.2％の収率（トリ
メトキシシラン基準）で、目的化合物としての４−（２
−トリメトキシシリルエチル）シクロヘキセン−１−オ
キシドを得ることができた。この目的化合物と内部シリ
ル化物との比は、99.7:0.3であった。
マトグラフィーで分析したところ、99.2％の収率（トリ
メトキシシラン基準）で、目的化合物としての４−（２
−トリメトキシシリルエチル）シクロヘキセン−１−オ
キシドを得ることができた。この目的化合物と内部シリ
ル化物との比は、99.7:0.3であった。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度99.9％の４−
（２−トリメトキシシリルエチル）シクロヘキセン−１
−オキシドを得ることができた。
（２−トリメトキシシリルエチル）シクロヘキセン−１
−オキシドを得ることができた。
実施例５ 滴下漏斗、還流冷却管、撹拌機および温度計を備えた４
つ口フラスコに、ブタジエンモノオキシド7.7g（0.11モ
ル）と、0.1M−H2PtCl6・6H2O/i−PrOH溶液12μｌ（1.2
×10-6モル）とを加え50℃に加熱し、ここにトリメトキ
シシラン12.2g（0.1モル）とメタノール6.4g（0.2モ
ル）の混合溶液を２時間で滴下した。
つ口フラスコに、ブタジエンモノオキシド7.7g（0.11モ
ル）と、0.1M−H2PtCl6・6H2O/i−PrOH溶液12μｌ（1.2
×10-6モル）とを加え50℃に加熱し、ここにトリメトキ
シシラン12.2g（0.1モル）とメタノール6.4g（0.2モ
ル）の混合溶液を２時間で滴下した。
さらに１時間反応混合物を50℃で加熱した後、ガスクロ
マトグラフィーで分析したところ、99.5％の収率（トリ
メトキシシラン基準）で、目的化合物としての２−トリ
メトキシシリルエチルエチレンオキシドを得ることがで
きた。この目的化合物と内部シリル化物との比は、99.
6:0.4であった。
マトグラフィーで分析したところ、99.5％の収率（トリ
メトキシシラン基準）で、目的化合物としての２−トリ
メトキシシリルエチルエチレンオキシドを得ることがで
きた。この目的化合物と内部シリル化物との比は、99.
6:0.4であった。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度99.8％の２−ト
リメトキシリルエチルエチレンオキシドを得ることがで
きた。
リメトキシリルエチルエチレンオキシドを得ることがで
きた。
実施例６ 滴下漏斗、還流冷却管、撹拌機、および温度計を備えた
４つ口フラスコに、アリルグリシジルエーテル13.7g
（0.12モル）と、0.1M−メチルオキシド−二塩化白金錯
体／アセトン溶液12μｌ（1.2×10-6モルとを加え80℃
に加熱撹拌し、ここにトリメトキシシラン12.2g（0.1モ
ル）とメタノール6.4g（0.2モル）の混合溶液を２時間
で滴下した。
４つ口フラスコに、アリルグリシジルエーテル13.7g
（0.12モル）と、0.1M−メチルオキシド−二塩化白金錯
体／アセトン溶液12μｌ（1.2×10-6モルとを加え80℃
に加熱撹拌し、ここにトリメトキシシラン12.2g（0.1モ
ル）とメタノール6.4g（0.2モル）の混合溶液を２時間
で滴下した。
さらに１時間反応混合物を80℃で加熱撹拌した後、ガス
クロマトグラフィーで分析したところ、90.1％の収率
（トリメトキシシラン基準）で、目的化合物としての３
−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを得ること
ができた。この目的化合物と内部シリル化物との比は、
99.7:0.3であった。
クロマトグラフィーで分析したところ、90.1％の収率
（トリメトキシシラン基準）で、目的化合物としての３
−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを得ること
ができた。この目的化合物と内部シリル化物との比は、
99.7:0.3であった。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度99.9％の３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得ることがで
きた。
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得ることがで
きた。
実施例７ 滴下漏斗、生成物留出用冷却管、撹拌機、温度計を備え
た４つ口ラスコに、珪素金属粉末50g、塩化第一銅1.25
g、ジベンジルトルエン10mlを加え220℃に加熱撹拌し、
ここにメタノール300gを６時間で滴下した。
た４つ口ラスコに、珪素金属粉末50g、塩化第一銅1.25
g、ジベンジルトルエン10mlを加え220℃に加熱撹拌し、
ここにメタノール300gを６時間で滴下した。
留出した生成物（255g）は、メタノール14.6時間％、ト
リメトキシシラン54.8重量％、テトラメトキシシラン3
0.5重量％を含んでいた。
リメトキシシラン54.8重量％、テトラメトキシシラン3
0.5重量％を含んでいた。
この留出物22.3g（トリメトキシシラン0.1モル、メタノ
ール0.1モルを含む）を、トリメトキシシラン／メタノ
ール混合物の代わりに用いた以外は、実施例１の方法を
用いて反応を行ったところ、収率89.9％（トリメトキシ
シラン基準）で、目的化合物としての３−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシランを得ることができた。この
目的化合物と内部シリル代物との比は、99.3:0.7であっ
た。
ール0.1モルを含む）を、トリメトキシシラン／メタノ
ール混合物の代わりに用いた以外は、実施例１の方法を
用いて反応を行ったところ、収率89.9％（トリメトキシ
シラン基準）で、目的化合物としての３−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシランを得ることができた。この
目的化合物と内部シリル代物との比は、99.3:0.7であっ
た。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度99.5％の３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得ることがで
きた。
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得ることがで
きた。
比較例１ メタノールを用いなかった他は、実施例１と同様にし
た。
た。
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、90.2％の収
率（トリメトキシシラン基準）で、目的化合物としての
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを得るこ
とができた。この目的化合物と内部シリル代物との比
は、97.9:2.1であった。
率（トリメトキシシラン基準）で、目的化合物としての
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを得るこ
とができた。この目的化合物と内部シリル代物との比
は、97.9:2.1であった。
その反応溶液を単蒸留したところ、純度98.0％の３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得た。
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得た。
比較例２ メタノールの代わりにベンゼン6.1g（トリメトキシシラ
ンに対して50重量％）用いた以外は、実施例１と同様に
した。
ンに対して50重量％）用いた以外は、実施例１と同様に
した。
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、90.8％の収
率（トリメトキシシラン基準）で、目的化合物としての
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを得るこ
とができた。この目的化合物と内部シリル代物との比
は、98.0:2.0であった。
率（トリメトキシシラン基準）で、目的化合物としての
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを得るこ
とができた。この目的化合物と内部シリル代物との比
は、98.0:2.0であった。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度98.1％の３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得た。
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得た。
比較例３ エタノールを用いなかった以外は、実施例３と同様にし
た。
た。
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、89.1％の収
率（トリエトキシシラン基準）で、目的化合物としての
３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランを得るこ
とができた。この目的化合物と内部シリル化物との比
は、98.2:1.8であった。
率（トリエトキシシラン基準）で、目的化合物としての
３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランを得るこ
とができた。この目的化合物と内部シリル化物との比
は、98.2:1.8であった。
この反応溶液を単蒸留したところ、純度98.3％の３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得た。
リシドキシプロピルトリメトキシシランを得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今井 千裕 神奈川県横浜市緑区美しが丘４丁目49番地 の５ (56)参考文献 特開 昭56−90092（ＪＰ，Ａ) 特公 昭38−16879（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭43−27853（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭50−24947（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (1)
- 【請求項１】エポキシ基および末端アルケニル基を有す
る不飽和エポキシ化合物と、Si−Ｈ結合を有するアルコ
キシシラン類とを、白金系触媒を用いて反応させて、エ
ポキシ基含有シラン化合物を製造するに際して、該アル
コキシシラン類１モルに対して0.2〜10モルのメタノー
ルまたはエタノールの存在下に上記反応を行なうことを
特徴とする、エポキシ基含有シラン化合物の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62098883A JPH0788394B2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | エポキシ基含有シラン化合物の製造方法 |
| EP88303613A EP0288286B1 (en) | 1987-04-22 | 1988-04-21 | Process for preparing epoxy group-containing silanes |
| DE3850805T DE3850805T2 (de) | 1987-04-22 | 1988-04-21 | Verfahren zur Herstellung von Epoxygruppen enthaltenden Silanen. |
| US07/490,540 US4966981A (en) | 1987-04-22 | 1990-03-05 | Process for preparing epoxy group-containing silanes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62098883A JPH0788394B2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | エポキシ基含有シラン化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63264591A JPS63264591A (ja) | 1988-11-01 |
| JPH0788394B2 true JPH0788394B2 (ja) | 1995-09-27 |
Family
ID=14231546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62098883A Expired - Lifetime JPH0788394B2 (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | エポキシ基含有シラン化合物の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4966981A (ja) |
| EP (1) | EP0288286B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0788394B2 (ja) |
| DE (1) | DE3850805T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| KR940005716A (ko) * | 1992-06-11 | 1994-03-22 | 아더 엠. 킹 | 에폭시실리콘 단량체 및 중합체의 합성을 위한 선택적 촉매 |
| FI932639A7 (fi) * | 1992-06-11 | 1993-12-12 | Gen Electric | Selektiivisiä katalysaattoreita epoksisilikonimonomeerien ja -polymeerien synteesiä varten |
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| JPH07133351A (ja) * | 1993-11-08 | 1995-05-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ変性シリコーンの製造方法 |
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| EP2221310B1 (en) | 1999-03-11 | 2014-09-03 | Momentive Performance Materials Inc. | Promoted hydrosilation reactions |
| DE19934576C2 (de) * | 1999-07-23 | 2003-12-18 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Epoxysilanen |
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| US6166238A (en) * | 2000-01-12 | 2000-12-26 | Crompton Corporation | High purity organofunctional alkyldialkoxysilanes |
| AU2001233019A1 (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-07 | Intersense, Inc. | Self-referenced tracking |
| US6590117B1 (en) | 2001-11-15 | 2003-07-08 | Crompton Corporation | Promoted hydrosilation reactions |
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| DE102007007185A1 (de) | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Glycidyloxyalkyltrialkoxysilanen |
| CN101117338B (zh) * | 2007-08-31 | 2010-07-21 | 湖北武大有机硅新材料股份有限公司 | γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷组合催化剂的制备方法 |
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-
1987
- 1987-04-22 JP JP62098883A patent/JPH0788394B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-04-21 EP EP88303613A patent/EP0288286B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-04-21 DE DE3850805T patent/DE3850805T2/de not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-03-05 US US07/490,540 patent/US4966981A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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|---|---|
| JPS63264591A (ja) | 1988-11-01 |
| DE3850805D1 (de) | 1994-09-01 |
| EP0288286A3 (en) | 1990-08-29 |
| EP0288286A2 (en) | 1988-10-26 |
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| EP0288286B1 (en) | 1994-07-27 |
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