JPH0789047B2 - ウエハ・マスク間ギャップ合わせ方法 - Google Patents
ウエハ・マスク間ギャップ合わせ方法Info
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- JPH0789047B2 JPH0789047B2 JP61196106A JP19610686A JPH0789047B2 JP H0789047 B2 JPH0789047 B2 JP H0789047B2 JP 61196106 A JP61196106 A JP 61196106A JP 19610686 A JP19610686 A JP 19610686A JP H0789047 B2 JPH0789047 B2 JP H0789047B2
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- gap
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 Ｘ線露光装置において、反射光の多重干渉縞を光センサ
で検出して、マスクとフォトレジストを備えるウエハと
のギャップ合わせを行なう場合、複雑な計算処理の簡単
化によるギャップ合わせの短時間化を実現し、Ｘ線露光
装置における高速露光処理を可能とするため、ウエハ上
に間隔を置いて配置されているマスクの上方には、ウエ
ハとマスクとのギャップを測定するため、レーザ光源
と、多数の画素を有する光センサとよりなる測定手段が
複数の測定点にそれぞれ配置され、第１の測定点におい
て光源からのレーザ光をマスクを介しウエハ上に照射す
る際のウエハからの反射光の多重干渉縞を光センサで検
出し、多重干渉縞の信号強度の最高値S1間の間隔長（多
重干渉縞の幅）にもとづいて、第１測定点におけるウエ
ハとマスクとのギャップを計算すると共に、干渉縞にお
ける最高値S1を含む１波形を記憶し、続いて第2,第３等
の各測定点での測定手段において、光源よりの反射光の
多重干渉縞を光センサで検出し、その信号強度の最高値
S2，S3等を記憶し、この最高値S2，S3等の記憶位置がS1
の記憶位置に一致する如く第2,第３等の測定点における
ウエハとマスクとのギャップを調整して全測定点でのギ
ャップを一致させ、さらに第１測定点における計算結果
としてのウエハとマスクとのギャップが所望のギャップ
となるように、総べての測定点においてウエハとマスク
との間を平行移動させるようにする。
で検出して、マスクとフォトレジストを備えるウエハと
のギャップ合わせを行なう場合、複雑な計算処理の簡単
化によるギャップ合わせの短時間化を実現し、Ｘ線露光
装置における高速露光処理を可能とするため、ウエハ上
に間隔を置いて配置されているマスクの上方には、ウエ
ハとマスクとのギャップを測定するため、レーザ光源
と、多数の画素を有する光センサとよりなる測定手段が
複数の測定点にそれぞれ配置され、第１の測定点におい
て光源からのレーザ光をマスクを介しウエハ上に照射す
る際のウエハからの反射光の多重干渉縞を光センサで検
出し、多重干渉縞の信号強度の最高値S1間の間隔長（多
重干渉縞の幅）にもとづいて、第１測定点におけるウエ
ハとマスクとのギャップを計算すると共に、干渉縞にお
ける最高値S1を含む１波形を記憶し、続いて第2,第３等
の各測定点での測定手段において、光源よりの反射光の
多重干渉縞を光センサで検出し、その信号強度の最高値
S2，S3等を記憶し、この最高値S2，S3等の記憶位置がS1
の記憶位置に一致する如く第2,第３等の測定点における
ウエハとマスクとのギャップを調整して全測定点でのギ
ャップを一致させ、さらに第１測定点における計算結果
としてのウエハとマスクとのギャップが所望のギャップ
となるように、総べての測定点においてウエハとマスク
との間を平行移動させるようにする。
本発明は例えばＸ線露光装置におけるフォトレジストを
備えるウエハとマスクとの間のギャップ合わせ方法に関
する。
備えるウエハとマスクとの間のギャップ合わせ方法に関
する。
Ｘ線露光法は、紫外線露光法と同じく一括露光方式（ス
テップアンドレピート方式を含む）を採ることができ、
しかも、サブミクロン級の微細パターンを転写できるた
めに、今後のリングラフィ技術として重要視されてお
り、その実用化に開発努力がなされている。
テップアンドレピート方式を含む）を採ることができ、
しかも、サブミクロン級の微細パターンを転写できるた
めに、今後のリングラフィ技術として重要視されてお
り、その実用化に開発努力がなされている。
従って、Ｘ線露光装置におけるフォトレジストを備える
ウエハ（以下ウエハという）とマスクとの位置合わせは
重要で、高精度な位置合わせ方法が要望されている。
ウエハ（以下ウエハという）とマスクとの位置合わせは
重要で、高精度な位置合わせ方法が要望されている。
Ｘ線露光用のマスクとしては、例えば、基板に窒化硼素
（BN）を用い、その基板上に金（Au）やタンタル（Ta）
などの遮蔽パターンを設けたものが使用されている。こ
のマスクとウエハ（被露光体）とは、X,Y方向の平面的
位置合わせ（パターンの位置合わせ）の他に、ギャップ
（間隔;Gap）合わせを行なう必要がある。その理由は、
Ｘ線源が平行性の良い光源ではなく、発散光源であるか
らで、そのため、ウエハとマスクとのギャップを所望の
値となる如く調整することが必要となる。
（BN）を用い、その基板上に金（Au）やタンタル（Ta）
などの遮蔽パターンを設けたものが使用されている。こ
のマスクとウエハ（被露光体）とは、X,Y方向の平面的
位置合わせ（パターンの位置合わせ）の他に、ギャップ
（間隔;Gap）合わせを行なう必要がある。その理由は、
Ｘ線源が平行性の良い光源ではなく、発散光源であるか
らで、そのため、ウエハとマスクとのギャップを所望の
値となる如く調整することが必要となる。
このギャップ合わせ方法として、例えば、光の他重干渉
縞を検出する方法が知られており、第２図（ａ），
（ｂ）にその原理図を示している。
縞を検出する方法が知られており、第２図（ａ），
（ｂ）にその原理図を示している。
第２図（ａ）において、１はマスクを線で表現し、２は
ウエハの表面を示し、３はレーザ光源、４は光センサ
（検出器）で、光センサは多数の画素（例えば2048画
素）からなるリニヤなCCDセンサ（以下、CCDセンサで説
明する）を用いる。そうして、光センサが受ける反射光
の強度変化、即ち干渉縞の波形は第２図（ｂ）に示す如
くであり、この波形にもとづいてその信号強度の最高値
の間隔ｆ（干渉縞の幅）を求めることができる。そうす
れば、次式によってマスク１とウエハ２とのギャップｄ
が求められる。
ウエハの表面を示し、３はレーザ光源、４は光センサ
（検出器）で、光センサは多数の画素（例えば2048画
素）からなるリニヤなCCDセンサ（以下、CCDセンサで説
明する）を用いる。そうして、光センサが受ける反射光
の強度変化、即ち干渉縞の波形は第２図（ｂ）に示す如
くであり、この波形にもとづいてその信号強度の最高値
の間隔ｆ（干渉縞の幅）を求めることができる。そうす
れば、次式によってマスク１とウエハ２とのギャップｄ
が求められる。
ｄ＝（λl/√２）×ｆ ここに、λはレーザ光の波長、ｌは光の照射点と光セン
サとの垂直距離である。
サとの垂直距離である。
従って、干渉縞の幅ｆを求めて、ギャップｄを計算し、
このｄを所望ギャップd0に合わせるようにウエハをｚ方
向に動かす。
このｄを所望ギャップd0に合わせるようにウエハをｚ方
向に動かす。
上式によるｆの計算及びｆからｄを求める計算は、コン
ピュータによって行なっており、第３図はその計算・制
御系のブロック図を示している。即ちギャップ合わせ専
用のマイクロコンピュータを備え、CCDセンサ10はマイ
クロコンピュータのCPU（中央制御系）11によってCCD制
御系12,切換系13を通じて制御され、CCDセンサ10からの
データはAD変換器14,インタフェース部15を通ってCPU11
に入力され、CPU11ではメモリ（記憶装置）16を利用し
て計算が行なわれる。そして、計算の結果得られたギャ
ップｄから所望のギャップd0に合せるためには、入出力
系17を通じて補正データをコンピュータ（Ｘ線露光装置
全般制御用コンピュータ）18に入力し、そのコンピュー
タ18の制御の下にステージ駆動系19を動作させて、ウエ
ハとマスク間のギャップを所望の距離d0に合わせる。な
お、20はデータを表示するモニタで、また上記の切換系
13は複数の測定点のCCDセンサ10（第３図には１個のみ
図示している）を順次に切り換えるためのものである。
ピュータによって行なっており、第３図はその計算・制
御系のブロック図を示している。即ちギャップ合わせ専
用のマイクロコンピュータを備え、CCDセンサ10はマイ
クロコンピュータのCPU（中央制御系）11によってCCD制
御系12,切換系13を通じて制御され、CCDセンサ10からの
データはAD変換器14,インタフェース部15を通ってCPU11
に入力され、CPU11ではメモリ（記憶装置）16を利用し
て計算が行なわれる。そして、計算の結果得られたギャ
ップｄから所望のギャップd0に合せるためには、入出力
系17を通じて補正データをコンピュータ（Ｘ線露光装置
全般制御用コンピュータ）18に入力し、そのコンピュー
タ18の制御の下にステージ駆動系19を動作させて、ウエ
ハとマスク間のギャップを所望の距離d0に合わせる。な
お、20はデータを表示するモニタで、また上記の切換系
13は複数の測定点のCCDセンサ10（第３図には１個のみ
図示している）を順次に切り換えるためのものである。
このようにして、ウエハ上に間隔を置いて配置されたマ
スクの上方の複数個所、例えば３個所の測定点に配置さ
れたレーザ光線とCCDセンサとよりなる測定手段によ
り、第２図（ｂ）に図示したような干渉縞の波形を検出
し、この波形より干渉縞の幅ｆを求め、それにもとづい
て各測定点でのウエハとマスクとのギャップを計算し、
それぞれのギャップが所望のギャップd0となる様にウエ
ハとマスクとのギャップ制御を行なっている。
スクの上方の複数個所、例えば３個所の測定点に配置さ
れたレーザ光線とCCDセンサとよりなる測定手段によ
り、第２図（ｂ）に図示したような干渉縞の波形を検出
し、この波形より干渉縞の幅ｆを求め、それにもとづい
て各測定点でのウエハとマスクとのギャップを計算し、
それぞれのギャップが所望のギャップd0となる様にウエ
ハとマスクとのギャップ制御を行なっている。
ところが、Ｘ線露光装置は一定領域を順次に移動して露
光する、所謂ステップアンドレピート（ステッパ）方式
であり、通常ウエハをステージ上に載置して、ステージ
を移動する方式を採っているが、ウエハは例えば８イン
チΦ程度の大きさで、そのなかの一定の露光領域は30mm
×30mm程度であり、移動させるステージとしての一定の
露光領域毎にウエハとマスクとのギャップ合わせを複数
の測定点で行なっている。
光する、所謂ステップアンドレピート（ステッパ）方式
であり、通常ウエハをステージ上に載置して、ステージ
を移動する方式を採っているが、ウエハは例えば８イン
チΦ程度の大きさで、そのなかの一定の露光領域は30mm
×30mm程度であり、移動させるステージとしての一定の
露光領域毎にウエハとマスクとのギャップ合わせを複数
の測定点で行なっている。
しかして光センサよりのデータにもとづき多重干渉縞の
幅ｆを求めるためには、複雑な計算を必要とする。即ち
光センサより得られたデータより１周期の長さｆを解析
するための処理としての例えばNORM計算では、光センサ
より検出された信号波形に対し、波形移動を行ない、二
乗誤差処理をなし、得られた曲線から１周期を求め、こ
の精度を上げるため、さらに２次曲線近似を行なう等複
雑な計算処理を行なわなければならない。従って、一定
領域をステップして露光するたびに、上記の計算を複数
回繰り返して行なわなければならない。
幅ｆを求めるためには、複雑な計算を必要とする。即ち
光センサより得られたデータより１周期の長さｆを解析
するための処理としての例えばNORM計算では、光センサ
より検出された信号波形に対し、波形移動を行ない、二
乗誤差処理をなし、得られた曲線から１周期を求め、こ
の精度を上げるため、さらに２次曲線近似を行なう等複
雑な計算処理を行なわなければならない。従って、一定
領域をステップして露光するたびに、上記の計算を複数
回繰り返して行なわなければならない。
そのため、Ｘ線露光の処理時間が長くなる欠点があり、
本発明はこのような露光処理におけるウエハとマスクと
のギャップ合わせ時間を短縮するためのギャップ合わせ
方法を提案するものである。
本発明はこのような露光処理におけるウエハとマスクと
のギャップ合わせ時間を短縮するためのギャップ合わせ
方法を提案するものである。
上記目的は本発明により、ウエハ上に間隔を置いて配置
されているマスクの上方には、ウエハとマスクとのギャ
ップを測定するため、レーザ光源と、多数の画素を有す
る光センサとよりなる測定手段が複数の測定点にそれぞ
れ配置され、第１の測定点において光源からのレーザ光
をマスクを介しウエハ上に照射する際のウエハからの反
射光の多重干渉縞を光センサで検出し、多重干渉縞の信
号強度の最高値S1間の間隔長（多重干渉縞の幅）にもと
づいて、第１測定点におけるウエハとマスクとのギャッ
プを計算すると共に、干渉縞における最高値S1を含む１
波形を記憶し、続いて第2,第３等の各測定点での測定手
段において、光源よりの反射光の多重干渉縞を光センサ
で検出し、その信号強度の最高値S2，S3等を記憶し、こ
の最高値S2，S3等の記憶位置がS1の記憶位置に一致する
如く第2,第３等の測定点におけるウエハとマスクとのギ
ャップを調整して全測定点でのギャップを一致させ、さ
らに第１測定点における計算結果としてのウエハとマス
クとのギャップが所望のギャップとなるように、総べて
の測定点においてウエハとマスクとの間を平行移動させ
ることを特徴とするウエハ・マスク間ギャップ合わせ方
法によって達成される。
されているマスクの上方には、ウエハとマスクとのギャ
ップを測定するため、レーザ光源と、多数の画素を有す
る光センサとよりなる測定手段が複数の測定点にそれぞ
れ配置され、第１の測定点において光源からのレーザ光
をマスクを介しウエハ上に照射する際のウエハからの反
射光の多重干渉縞を光センサで検出し、多重干渉縞の信
号強度の最高値S1間の間隔長（多重干渉縞の幅）にもと
づいて、第１測定点におけるウエハとマスクとのギャッ
プを計算すると共に、干渉縞における最高値S1を含む１
波形を記憶し、続いて第2,第３等の各測定点での測定手
段において、光源よりの反射光の多重干渉縞を光センサ
で検出し、その信号強度の最高値S2，S3等を記憶し、こ
の最高値S2，S3等の記憶位置がS1の記憶位置に一致する
如く第2,第３等の測定点におけるウエハとマスクとのギ
ャップを調整して全測定点でのギャップを一致させ、さ
らに第１測定点における計算結果としてのウエハとマス
クとのギャップが所望のギャップとなるように、総べて
の測定点においてウエハとマスクとの間を平行移動させ
ることを特徴とするウエハ・マスク間ギャップ合わせ方
法によって達成される。
即ち本発明では、第１の測定点において光センサが検出
した多重干渉縞の波形にもとづき、信号強度の最高値S1
間の距離f1（干渉縞の幅）を求め、d1＝（λl/√２）×
f1よりギャップd1を計算すると共に、その波形を記憶す
る。
した多重干渉縞の波形にもとづき、信号強度の最高値S1
間の距離f1（干渉縞の幅）を求め、d1＝（λl/√２）×
f1よりギャップd1を計算すると共に、その波形を記憶す
る。
続いて第2,第３等の各測定点では、光センサにおける多
重干渉縞の信号強度の最高値S2，S3等の記憶位置を求
め、次にS2，S3等の記憶位置がS1の記憶位置に合致する
様に第2,第３測定点等でのウエハとマスクとのギャップ
を調整する。
重干渉縞の信号強度の最高値S2，S3等の記憶位置を求
め、次にS2，S3等の記憶位置がS1の記憶位置に合致する
様に第2,第３測定点等でのウエハとマスクとのギャップ
を調整する。
即ちメモリ上で第１測定点における多重干渉縞の波形に
第2,第３等の多重干渉縞の波形を一致させるように、第
2,第３等の測定点におけるウエハとマスクとのギャップ
を調整する。一致すると第1,第2,第３等各測定点でのウ
エハとマスクとの間は同じギャップd1の平行面となる。
第2,第３等の多重干渉縞の波形を一致させるように、第
2,第３等の測定点におけるウエハとマスクとのギャップ
を調整する。一致すると第1,第2,第３等各測定点でのウ
エハとマスクとの間は同じギャップd1の平行面となる。
続いて第１測定点で計算したギャップd1が所望のギャッ
プd0となる様にウエハとマスクとを全測定点で平行移動
すれば、ウエハに対するマスクの正しい位置が決定され
る。
プd0となる様にウエハとマスクとを全測定点で平行移動
すれば、ウエハに対するマスクの正しい位置が決定され
る。
従って第１測定点で多重干渉縞の幅ｆと、ギャップd1の
計算を行なうのみで、他の測定点ではかかる複雑な計算
の必要はなく、単に第2,第３測定点での信号強度の最高
値の記憶位置を、第１測定点での最高値の記憶位置に合
わせる様なギャップの調整と、第１測定点での計算結果
のギャップを、所望ギャップに等しくするため全測定点
でマスクに対しウエハを平行移動させるのみでギャップ
合わせは済み、露光処理の短時間化が実現される。
計算を行なうのみで、他の測定点ではかかる複雑な計算
の必要はなく、単に第2,第３測定点での信号強度の最高
値の記憶位置を、第１測定点での最高値の記憶位置に合
わせる様なギャップの調整と、第１測定点での計算結果
のギャップを、所望ギャップに等しくするため全測定点
でマスクに対しウエハを平行移動させるのみでギャップ
合わせは済み、露光処理の短時間化が実現される。
以下、図面を参照して詳細に説明する。
第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明にかかる計算処理を説明
する図面であり、本実施例はギャップ合わせを３測定点
で行なうものとする。また、最初にギャップを合わせる
ための、第１測定点の干渉縞の波形を検出するための多
数の画素を有する光センサとしてのCCDセンサをCCDIと
し、他の測定点での干渉縞の波形を検出するCCDセンサ
をCCDII、CCDIIIとする。
する図面であり、本実施例はギャップ合わせを３測定点
で行なうものとする。また、最初にギャップを合わせる
ための、第１測定点の干渉縞の波形を検出するための多
数の画素を有する光センサとしてのCCDセンサをCCDIと
し、他の測定点での干渉縞の波形を検出するCCDセンサ
をCCDII、CCDIIIとする。
予め、３測定点でウエハに対しマスクが略平行となるよ
う配置した後、CCDIにおける多重干渉縞の波形をCCD画
素位置と信号強度と関係づけて、第１図（ａ）に示すよ
うに検出し、その干渉縞の波形をメモリに記憶させて干
渉縞の間隔ｆを求め、これより第１測定点でのギャップ
d1を計算すると共に、さらに第１図（ａ）に示す干渉縞
の波形の最高値を含む一部を第１図（ｂ）に示すように
切り出してメモリに記憶させておく。
う配置した後、CCDIにおける多重干渉縞の波形をCCD画
素位置と信号強度と関係づけて、第１図（ａ）に示すよ
うに検出し、その干渉縞の波形をメモリに記憶させて干
渉縞の間隔ｆを求め、これより第１測定点でのギャップ
d1を計算すると共に、さらに第１図（ａ）に示す干渉縞
の波形の最高値を含む一部を第１図（ｂ）に示すように
切り出してメモリに記憶させておく。
その時、メモリ16上では、この波形における信号強度の
最高値がCCDセンサにおける信号強度の最高値の画素位
置S1に対応し、最低値はCCD画素の位置r,mに対応してい
る。
最高値がCCDセンサにおける信号強度の最高値の画素位
置S1に対応し、最低値はCCD画素の位置r,mに対応してい
る。
なお、この信号強度の最高・最低の値X,Yは一定してお
り、CCDII,CCDIIIにおいても信号強度の最高・最低の値
は同じ値になる。
り、CCDII,CCDIIIにおいても信号強度の最高・最低の値
は同じ値になる。
次いで、第２測定点でのCCDIIにおけるCCD画素の位置に
対する信号強度を検出するが、その場合、第１図（ｃ）
に示すように、干渉縞の波形すべてをメモリに記憶させ
ずに、信号強度の最高値のCCD画素位置S2のみを検出
し、メモリに記憶し、そしてこの位置S2が上記S1と一致
するように第２測定点におけるウエハとマスクとのギャ
ップを調整する。
対する信号強度を検出するが、その場合、第１図（ｃ）
に示すように、干渉縞の波形すべてをメモリに記憶させ
ずに、信号強度の最高値のCCD画素位置S2のみを検出
し、メモリに記憶し、そしてこの位置S2が上記S1と一致
するように第２測定点におけるウエハとマスクとのギャ
ップを調整する。
同様にして、第１図（ｄ）に示すように、第３測定点で
のCCDIIIにおける信号強度の最高値のCCD画素位置S3の
みを検出しメモリに記憶し、その位置S3がS1と一致する
ように第３測定点におけるウエハとマスクとのギャップ
を調整する。
のCCDIIIにおける信号強度の最高値のCCD画素位置S3の
みを検出しメモリに記憶し、その位置S3がS1と一致する
ように第３測定点におけるウエハとマスクとのギャップ
を調整する。
この様に第2,第３測定点でのウエハとマスクとのギャッ
プの調整によって、全測定点においてウエハに対しマス
クは完全に平行となり、この際におけるウエハとマスク
とのギャップは第１測定点におけるギャップd1となる。
プの調整によって、全測定点においてウエハに対しマス
クは完全に平行となり、この際におけるウエハとマスク
とのギャップは第１測定点におけるギャップd1となる。
この状態でギャップd1が所望ギャップd0となる様に全測
定点でマスクに対しウエハを平行移動させることによっ
てウエハとマスクとの間のギャップ合わせは完了する。
定点でマスクに対しウエハを平行移動させることによっ
てウエハとマスクとの間のギャップ合わせは完了する。
上記のように、これらの処理はすべてCPU11とメモリ16
（第３図参照）で行なうが、この場合、第１測定点にお
ける多重干渉縞の幅ｆの計算とそれにもとづくギャップ
d1の計算処理のみ行ない，第2,第３測定点ではS2，S3が
S1に一致する様にギャップ調整を行なった後、第１測定
点での計算結果d1を所望ギャップd0となるようにギャッ
プ調整をすれば、ギャップ合わせは完了するので、多重
干渉縞の幅と、それにもとづくウエハとマスクとのギャ
ップを求める計算処理は少なくて済み、計算処理が高速
化され、Ｘ線露光装置の露光処理における全処理時間を
短くすることができる。
（第３図参照）で行なうが、この場合、第１測定点にお
ける多重干渉縞の幅ｆの計算とそれにもとづくギャップ
d1の計算処理のみ行ない，第2,第３測定点ではS2，S3が
S1に一致する様にギャップ調整を行なった後、第１測定
点での計算結果d1を所望ギャップd0となるようにギャッ
プ調整をすれば、ギャップ合わせは完了するので、多重
干渉縞の幅と、それにもとづくウエハとマスクとのギャ
ップを求める計算処理は少なくて済み、計算処理が高速
化され、Ｘ線露光装置の露光処理における全処理時間を
短くすることができる。
第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明にかかるウエハとマスク
とのギャップ合わせを説明する図、 第２図（ａ），（ｂ）はギャップ合わせの原理を説明す
る図、 第３図はギャップ合わせの計算・制御系ブロック図であ
る。 図において、 ｄはギャップ、ｆは干渉縞の幅、１はマスク、２はウエ
ハ、３はレーザ光源、4,10はCCDセンサ（光センサ）、1
1はマイクロコンピュータのCPU、16はメモリ、を示して
いる。
とのギャップ合わせを説明する図、 第２図（ａ），（ｂ）はギャップ合わせの原理を説明す
る図、 第３図はギャップ合わせの計算・制御系ブロック図であ
る。 図において、 ｄはギャップ、ｆは干渉縞の幅、１はマスク、２はウエ
ハ、３はレーザ光源、4,10はCCDセンサ（光センサ）、1
1はマイクロコンピュータのCPU、16はメモリ、を示して
いる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (1)
- 【請求項１】ウエハ上に間隔を置いて配置されているマ
スクの上方には、ウエハとマスクとのギャップを測定す
るため、レーザ光源と、多数の画素を有する光センサと
よりなる測定手段が複数の測定点にそれぞれ配置され、 第１の測定点において光源からのレーザ光をマスクを介
しウエハ上に照射する際のウエハからの反射光の多重干
渉縞を光センサで検出し、多重干渉縞の信号強度の最高
値S1間の間隔長（多重干渉縞の幅）にもとづいて、第１
測定点におけるウエハとマスクとのギャップを計算する
と共に、干渉縞における最高値S1を含む１波形を記憶
し、 続いて第2,第３等の各測定点での測定手段において、光
源よりの反射光の多重干渉縞を光センサで検出し、その
信号強度の最高値S2，S3等を記憶し、この最高値S2，S3
等の記憶位置がS1の記憶位置に一致する如く第2,第３等
の測定点におけるウエハとマスクとのギャップを調整し
て全測定点でのギャップを一致させ、さらに第１測定点
における計算結果としてのウエハとマスクとのギャップ
が所望のギャップとなるように、総べての測定点におい
てウエハとマスクとの間を平行移動させることを特徴と
するウエハ・マスク間ギャップ合わせ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196106A JPH0789047B2 (ja) | 1986-08-20 | 1986-08-20 | ウエハ・マスク間ギャップ合わせ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196106A JPH0789047B2 (ja) | 1986-08-20 | 1986-08-20 | ウエハ・マスク間ギャップ合わせ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6350708A JPS6350708A (ja) | 1988-03-03 |
| JPH0789047B2 true JPH0789047B2 (ja) | 1995-09-27 |
Family
ID=16352333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61196106A Expired - Fee Related JPH0789047B2 (ja) | 1986-08-20 | 1986-08-20 | ウエハ・マスク間ギャップ合わせ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0789047B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0511448A1 (en) * | 1991-04-30 | 1992-11-04 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for in-situ and on-line monitoring of a trench formation process |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5252579A (en) * | 1975-10-27 | 1977-04-27 | Canon Inc | Clearance adjusng method |
-
1986
- 1986-08-20 JP JP61196106A patent/JPH0789047B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6350708A (ja) | 1988-03-03 |
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