JPH0789514B2 - 赤外線ヒ−タの改良 - Google Patents

赤外線ヒ−タの改良

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JPH0789514B2
JPH0789514B2 JP61503403A JP50340386A JPH0789514B2 JP H0789514 B2 JPH0789514 B2 JP H0789514B2 JP 61503403 A JP61503403 A JP 61503403A JP 50340386 A JP50340386 A JP 50340386A JP H0789514 B2 JPH0789514 B2 JP H0789514B2
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infrared
lamp
heater
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infrared heater
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アンソニー マックウイリアムス，ジョセフ
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マイクロポア インタ−ナシヨナル リミテツド
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    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C15/00—Details
    • F24C15/10—Tops, e.g. hot plates; Rings
    • F24C15/102—Tops, e.g. hot plates; Rings electrically heated
    • F24C15/106—Tops, e.g. hot plates; Rings electrically heated electric circuits
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/68—Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
    • H05B3/74—Non-metallic plates, e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits
    • H05B3/742—Plates having both lamps and resistive heating elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
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    • H05B3/68—Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
    • H05B3/74—Non-metallic plates, e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits
    • H05B3/744—Lamps as heat source, i.e. heating elements with protective gas envelope, e.g. halogen lamps
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B2213/00—Aspects relating both to resistive heating and to induction heating, covered by H05B3/00 and H05B6/00
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも１つの赤外線ランプを組み込んで
いて安全装置を備えた赤外線ヒータに関する。
周期的エネルギ調整器および多位置電気機械的スイッチ
を使用してガラスセラミック天板の調理器に使用される
従来の輻射ヒータの抵抗要素のエネルギ出力を制御する
ことが良く知られている。また多位置電気機械的スイッ
チを使用して多数の赤外線ランプを組み込んだ赤外線ヒ
ータを制御することも知られている。しかし、多位置ス
イッチの使用はエネルギ出力の使用できる範囲を得るた
めに直並列に相互接続した多数の赤外線ランプを必要と
し、実際、赤外線ヒータは少なくとも３個の赤外線ラン
プを組み込むことが必要である。
このような赤外線ヒータのコストは赤外線ランプがかな
りの比率を占めている。したがって、コストを下げるに
は、ヒータの中のランプの数を減らすことが望ましい。
しかし、少ない数のランプでエネルギ出力の効果的な制
御を与えることは難しい。
多位置スイッチはランプの数が減らされるのであるから
役に立たなくなり、また周期的エネルギ調整器も多くの
問題がある。たとえば、赤外線ランプのフィラメントの
電気抵抗は周囲温度で非常に小さく、このためランプが
通電された時には大きな突入電流が発生し、これがエネ
ルギ調整器の接点には高負荷となり、家庭の配電系統は
過負荷になって安全遮断器を引きはずしてしまうことが
ある。さらに、赤外線ランプは、これが繰り返しON,OFF
されたときにじゃまな点滅を生ぜしめる高い可視光出力
を有する。さらに、周期的エネルギ調整器がたとえば沸
騰時の低い設定にされているとき、その周期はON期間が
短く、それに続く残りのOFF期間が長いものとなり、し
かも従来の抵抗線要素と比較して赤外線ランプの応答が
速いので、調理器具の中味は短期間のうちに沸点まで上
昇し、その後の長い残りの期間は冷却期間となって連続
沸騰条件は与えられないのである。
また、電子エネルギ調整器を使用することによりランプ
の数を減らすことも提案されているが、電子制御装置は
それ自体高価であり、電気調理器の要求する環境では信
頼できない。
本発明の目的は、少なくとも１つの赤外線ランプを組み
込んだもので、周期的エネルギ調整器と同時に使用する
時上述の欠点を克服した赤外線ヒータを提供するにあ
る。
本発明によれば、ディッシュと、このディッシュ内に支
持された熱絶縁材料のベース層と、このベース層の周囲
に延在する熱絶縁材料の周囲壁と、熱遮断装置と、励磁
と同時の高い突入電流があり、そしてベース層を横切っ
てのびている少なくとも１つの赤外線ランプと、このす
くなくとも１つの赤外線ランプに電気的に直列に接続し
たバラスト装置とを包含する赤外線ヒータにおいて、回
りに延在してヒータの周辺領域を限るバラスト装置が、
少なくとも１つの赤外線ランプと、少なくともその励磁
と同時に突入電流を制限するように、常に電気的に直列
に接続されていることを特徴とするガラスセラミック天
板調理器用赤外線ヒータが提供される。
このヒータは周期的エネルギ調整器と組み合わすことが
でき、その調整器は全出力設定では少なくとも１つのラ
ンプをその電源に直接に接続する。
バラスト装置はバラスト抵抗の形の裸線のコイルとする
ことができる。バラスト抵抗は好適には少なくとも１つ
のランプの作動温度における抵抗のほぼ半分の電気抵抗
を有するのがよい。バラスト抵抗は好適にはヒータの周
囲付近に配置されるのがよい。バラスト抵抗は電気的に
並列に接続された裸線の２つのコイルとするのがよい。
バラスト抵抗を成すコイルはこれが少なくとも１つのラ
ンプの付近を通る領域ではまっすぐに伸ばされているの
がよい。
更なる加熱要素が周囲壁に隣接して、またはその回りに
配置され、更なる周囲壁をその更なる加熱要素の回りに
設けることができる。更なる加熱要素は、励磁と同時の
突入電流がありかつそれと電気的に直列に接続したバラ
スト抵抗を有する赤外線ランプとし、または裸線のコイ
ルとすることができる。
熱絶縁材料のベース層の表面はヒータの温度分布を変化
させるべく溝や畝を設けることができる。
赤外線ランプを２つにした時は、バラスト装置がランプ
の近傍を通過する領域でまっすぐな少なくとも１つの電
気抵抗ワイヤのコイルを包含し、熱絶縁材料のベース層
がヒータを横切る温度分布に影響を及ぼすようにランプ
のそれぞれの下で各々延びる２つの浅い凹所（溝）を有
し、該凹所はベース層の中央の畝で分離されている赤外
線ヒータとすることができる。
本発明をより理解し、如何に実施するかをより明確に示
すために、例として添付図面を参照していくことにす
る。
第１図は周期的エネルギ調整器と共に本発明による赤外
線ヒータの第１の実施例を図式的に表したものである。
第２図は本発明による赤外線ヒータの第２の実施例の平
面図である。
第３図は第２図の線III−IIIに沿って見た断面図であ
る。
第４図は第２図の線IV−IVに沿って見た断面図である。
第５図は第２図の線Ｖ−Ｖに沿って見た断面図である。
第６図はスプリングワイヤ固定クリップを示す本発明に
よる赤外線ヒータの側面図である。
第７図は別な固定クリップの拡大斜視図である。
第８図は周期的エネルギ調整器と共に本発明による赤外
線ヒータの第３の実施例を図式的に表わしたものであ
る。
第９図はエネルギ調整器制御ノブの角度位置の関数とし
た第８図に示すヒータのエネルギ出力を表わすグラフで
ある。
第10図は本発明による赤外線ヒータの第４の実施例の平
面図である。
第11図は本発明による赤外線ヒータの第５の実施例の平
面図である。
第12図は第11図の線XII−XIIに沿って見た断面図であ
る。
第13図は本発明による赤外線ヒータの第６の実施例の平
面図である。
第14図は第13図の線XIV−XIVに沿って見た断面図であ
る。
第15図は周期的エネルギ調整器と共に本発明による赤外
線ヒータの第７の実施例を図式的に表わしたものであ
る。
第16図は周期的エネルギ調整器と共に本発明による赤外
線ヒータの第８の実施例を図式的に表わしたものであ
る。
第17図は第16図に図式的に表わした赤外線ヒータの平面
図である。
第18図は第17図の線XVIII−XVIIIに沿って見た断面図で
ある。
第19図は周期的エネルギ調整器と共に本発明による赤外
線ヒータの第９の実施例を図式的に表わしたものであ
る。
第１図は、赤外線ランプ３と、バラスト抵抗５の形のバ
ラスト装置と、熱遮断装置７とを組み込んだ赤外線ヒー
タ１を示している。赤外線ヒータ１は周期的エネルギ調
整器９と電気的に接続され、そのエネルギレベル、すな
わちマーク対スペース比は回転制御ノブ11の位置によっ
て定められる。
赤外線ヒータ１は、ピロゲニック（Pyrogenic）シリカ
またはセラミックファイバを基礎とする微孔性熱絶縁材
料のような熱絶縁材料のベース層と、使用中にこのベー
ス層とガラスセラミック調理表面（第１図には示してい
ない）の下側との間から熱が逃げないようにした絶縁材
料の周囲リングとを包含している。ベース層、および必
要ならば周囲リングは金属ディッシュの中に支持するこ
とができる。
赤外線ランプはベース層の層上または上方に配置され、
熱遮断装置に電気的に直列に接続される。熱遮断装置
は、ガラスセラミック調理表面が過熱して来た場合にラ
ンプを電源から切り離す作用をする。バラスト抵抗５は
赤外線ランプ３に直列に接続され、電源は回転可能なノ
ブのあらゆる設定にてバラスト抵抗５を介してエネルギ
調整器９から赤外線ランプ３へと供給される。バラスト
抵抗の電気抵抗は好適には加熱状態にて赤外線ランプ３
の抵抗の約半分がよい。バラスト抵抗の材料の温度抵抗
係数は比較的小さく、赤外線ランプの材料の温度抵抗係
数の数分の１にすべきである。
第２図は、ピロゲニックシリカまたはセラミックファイ
バを基礎とする微孔性熱絶縁材料のような熱絶縁材料の
ベース層23と、セラミックファイバのような熱絶縁材料
の周囲リング25と、ベース層23および周囲リング25を支
持する金属ディッシュ27とを包含する赤外線ヒータ21を
示している。周囲リング25はステープル26によってベー
ス層23の所定位置に保持されている。２つの赤外線ラン
プ29,31はベース層23の層上または上方に配置されて使
用中は電気的に並列に接続され、裸線のコイルの形のバ
ラスト抵抗33はヒータ21の加熱領域の周囲のベース層23
に形成された溝に配置され、加熱領域の周囲にバラスト
抵抗33を配することでヒータからの温度分布が好適とな
り、ヒータの性能が最適となるのである。熱遮断装置35
は加熱領域を横切って延在され、使用中にガラスセラミ
ック調理表面（第２図に示していない）の温度が異常に
高くなった場合にランプを電源からきり離すように作用
する。使用中は、第１図について述べた実施例と同様、
バラスト抵抗33を介してランプ29,31に電源が供給され
る。バラスト抵抗33の電気抵抗は好ましくは加熱状態に
てそれら赤外線ランプの合成抵抗の約半分がよい。
第３図に示した断面図は第２図の線III−IIIより見たも
ので、同じ参照符号は相当する要素を示すのに使用され
ている。第３図はガラスセラミック調理プレート37を示
しており、また、ベース層23がその表面をたとえば第３
図に示したように側壁を持ち上げかつ中央を隆起させる
ようにして溝や畝を設け、ヒータを横切っての温度の分
布を更に改善するようにしていることも示している。
第４図に示した断面図は第２図の線IV−IVに沿って見た
もので、同じ参照符号は相当する要素を示すために使用
されている。第４図は、赤外線ランプ31がベース層23の
端部領域にて支持され周囲壁25によってその所定位置に
維持されていることを示している。これは、ランプを所
定位置にしっかり保持して、ヒータの加熱領域内でラン
プによって発生される可視光線が漏れることのないよう
にしている。第２図に示したステープル26は周囲壁25を
所定位置に保持する役目をしている。ヒータからのあら
ゆる光線を漏れないようにするため、ランプの端部には
光を通さない不透明コーティングを施しておいてもよ
い。セラミック端部キャップ39はランプ31への電気的接
続を与えるものである。
第５図に示した断面図は第２図の線Ｖ−Ｖに沿って見た
もので、同じ参照符号は相当する要素を示すために使用
してある。第５図は、バラスト抵抗33のコイルが広げら
れて赤外線ランプ31の外装の下を通すよう形成されてい
る。
周囲壁25を通してランプ29,31を所定位置に保持するた
めには、第２図に示したステープル26を使うほか、金属
ディッシュ27の内側または外側に位置されるスプリング
クリップを使用することができる。
第６図は、金属ディッシュ27の外に位置されてランプ2
9,31の端部分を引っ掛けているスプリングワイヤクリッ
プ41を示している。ランプは金属ディッシュ27から半径
外方向に突出しているスプリング固定クリップ42の下に
スプリングワイヤ41の中間部分を通すことによってベー
ス層23の方に押しつけられている。第７図はランプ29,3
1の端部分およびベース層23より上方で周囲壁25よりは
下方に位置されるべきスプリングストリップ43を示して
いる。このスプリングストリップの端部分44,45はラン
プ29,31の端部分を押さえつけるべく押し下げられる。
スプリングストリップ43に設けられた開口46はランプの
端部およびベース層23に対するスプリングストリップの
永久保持力を増すためのステープル47を受けるためのも
のである。
バラスト装置を赤外線ランプに直列に導入することによ
り、使用される赤外線ランプは１つまたは２つしか必要
ないので比較的安価な赤外線ヒータを作ることができ、
かつ、安価で、比較的容易に手にはいる周期的エネルギ
調整器を使用できることもわかった。
ランプと直列に接続したバラスト装置の使用は突入電流
の問題を克服することを保証する。標準的な家庭用調理
器の電気配線に許容できるレベルまで突入電流を制限す
るようなバラスト装置の値を選択することは当業者にと
っては簡単なことである。バラスト装置はランプからの
可視光出力を減少させ、またフィラメントの温度が上昇
する速度、それゆえ可視光出力が大きくなる速度を減少
させる。これにより、エネルギ調整器のON−OFF切換え
の結果生じる閃光による防害を許容レベルまで減少させ
るのである。ランプフィラメントはよりゆっくりと熱く
なるので、エネルギ調整器の低出力設定時において沸騰
および調理が交互になるという問題は回避され、変動の
ない沸騰条件を達成することができる。さらに、バラス
ト装置は突入電流のピークを下げかつランプフィラメン
トのピーク温度を下げることになり、したがって赤外線
ランプにかかるストレスが減ることになる。これは赤外
線ランプの動作寿命を相当延ばすことになる。
第８図に図式的に示した赤外線ヒータは第１図に示した
ヒータに類似のもので、対応する要素を示すために同じ
参照符号を使用している。しかし、第８図では、全出力
以外のあらゆる出力設定ではバラスト抵抗５によって赤
外線ランプ３にエネルギが供給されるが、全出力時には
電源線13によって赤外線ランプ３に電流が直接に供給さ
れる。バラスト装置が接続されていない場合エネルギ調
整器の周期動作の間にヒータから出る出力は約2/3の出
力まで減らされるので、周期的エネルギ調整器９は全出
力設定が最初に低出力設定を通過することによってのみ
達成できるよう構成されている。実施例の中において
は、全出力にてバラスト抵抗を外すようにすることで赤
外線ランプを高出力で作動させることができ、調理器具
の内容に対して最適な性能および最小沸騰時間にするこ
とができる。
第９図はエネルギ出力のグラフで、第８図の実施例に相
当するものである。第９図は制御ノブを回し切ったとこ
ろで全エネルギ出力が出されるが、バラスト抵抗がラン
プと直列に入るよう切換えられると直ちに全出力の約2/
3まで出力が落ちることを示している。制御ノブがその
最小設定に向けて次第に回転されるにつれて、エネルギ
出力は減少し、その最小設定では、エネルギ出力はバラ
スト抵抗がない時に達せられるエネルギ出力よりも小さ
くなり、このようにして暖めたり沸騰させたりするため
の低出力設定の幅が広げられるのである。
第10図は第２図に示したヒータに類似の赤外線ヒータ51
を示している。しかし、第10図に示した実施例では、バ
ラスト抵抗の電力定格は、バラスト抵抗を１個のコイル
33の代わりに、周囲壁57に接近して配置される２個の同
心状のコイル53,55に適応させることが必要、あるいは
望ましい。同心状のコイルは電気的に直列に接続するこ
とができ、あるいは適切な値を有するよう電気的に並列
に接続することができる。並列接続はバラスト抵抗のワ
イヤ全体の電気抵抗を減らすことになり、この結果、バ
ラスト抵抗がその作動温度にまで上昇する速度を上げる
ことになるのである。
第11図および第12図は、ヒータ61が１個の赤外線ランプ
63だけを組込んでいる以外は第２図および第３図に示し
たヒータに類似している赤外線ヒータ61を示している。
１個のランプの使用はガラスセラミックプレート65を横
切る温度分布を許容できないものにしてしまうものであ
るが、熱絶縁材料のベース層67の表面に溝や畝を設ける
ことによって温度分布が著しく改善されることがわかっ
た。第11図および第12図に示したようなランプの上方部
分に反射層（図示しない）を被覆して上方に放射される
輻射熱を熱絶縁材料のベース層の方へ反射させることで
温度分布をさらに改善させることができる。
第13図および第14図は、使用の際に調理器具の温度をガ
ラスセラミックプレート71を通して検出する調理器具温
度センサ（図示しない）を組み込むよう変形した本発明
による赤外線ヒータを示している。このようなヒータは
“オートクック”ヒータとして知られているものであ
る。温度センサはヒータの周囲に隣接してヒータのベー
スを貫通して形成された開口部73内に収容され、その開
口部73はヒータによって放射される熱から温度センサを
遮蔽するため熱絶縁材料の壁75によって囲まれている。
開口部73の付近のバラスト抵抗77は熱放射を減らすため
にまっすぐに伸ばされて、熱絶縁材料の壁75の中を通す
ようにされている。
第15図は、赤外線ヒータ81がそれぞれ赤外線ランプ87,8
9およびバラスト抵抗91,93を有する２つの独立した加熱
領域83,85によってどのように構成されているかを図式
的に示したものである。熱遮断装置95は、ガラスセラミ
ック調理表面が過熱して来た場合に、ランプ87,89およ
びバラスト抵抗91,93を電源から切り離す役をする。電
力は回転ノブ99の設定によるエネルギレベルでエネルギ
調整器97からヒータへ供給される。加熱領域83とするか
両加熱領域83,85とするかはたとえば回転ノブ99に組み
込むことができるスイッチによって選択できる。
第16図、第17図および第18図は２つの独立した加熱領域
103,105を有する赤外線ヒータ101の別な実施例を示して
いる。加熱領域103は、２つの赤外線ランプ109,111を有
する形の赤外線輻射源107、およびこのランプに電気的
に直列に接続されたバラスト抵抗113によって与えられ
ている。裸線を螺旋状のコイルの形とした普通の加熱コ
イル115は加熱領域103の回りの環状加熱領域105に配置
され、たとえばエネルギ調整器119の回転ノブ117に組み
込まれたスイッチが作動された時ランプ109,111および
バラスト抵抗113と電気的に並列に接続される。熱遮断
装置121は、ガラスセラミック調理表面の温度が高くな
り過ぎた時、ランプ109,111、バラスト抵抗113および加
熱コイルを電源から切り離す役をする。ランプ109,111
はランプの赤外線輻射フィラメントの長さを加熱領域10
3の直径に制限することによって加熱領域103の寸法に適
応させることができ、さらに加熱領域103の外側のラン
プの部分を不透明材料によって被覆するようにしてもよ
い。加熱領域103,105は熱絶縁材料の隔壁123とこの隔壁
123を貫通して形成された開口の壁の間の締りばめとに
よって分割され、各ランプ109,111の外装が可視光線の
漏れを防ぐのに役立っている。加熱コイル115が熱遮断
装置121の下を通っているところでは、螺旋状コイルは
伸ばされてこの付近の熱放射を減少させている。更なる
用心として、熱遮断装置121は熱絶縁材料のブロック
（図示しない）によって加熱コイル115より放射される
熱から熱的に絶縁されるようにするとよい。
第19図に示した実施例において、赤外線ヒータ141は赤
外線ランプ143と熱遮断装置145とを組み込んでいる。赤
外線ヒータ141は周期的エネルギ調整器147と電気的に接
続され、そのエネルギレベルは回転制御ノブ149の位置
によって決められる。ヒータ141から調整器147への電線
の１つに、赤外線ランプ143と直列のバラストリアクト
ルの形のバラスト装置が配置されている。第８図の実施
例のように、赤外線ヒータ141は、ピロゲニックシリカ
またはセラミックファイバに基く微孔性熱絶縁材料のよ
うな熱絶縁材料のベース層と、使用中にベース層とガラ
スセラミック調理面の下側との間から熱が逃げるのを防
いでいる絶縁材料の周囲リングとを包含している。ベー
ス層および必要なら周囲壁は金属ディッシュの中に支持
されるとよい。
赤外線ランプ143は熱絶縁材料のベース層の上または上
方に配置され、ガラスセラミック調理表面の温度が過熱
して来た場合に赤外線ランプ143を電源から切り離すよ
うにした熱遮断装置145と電気的に直列に接続されてい
る。バラストリアクトル151はランプ143と直列に接続さ
れ、電力は、電流が第８図に関して述べたようにランプ
143に直接供給されるという全出力位置を除いた制御ノ
ブ149のあらゆる設定においてバラストリアクトルを通
ってエネルギ調整器147からランプに供給される。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ディッシュ（27）と、このディッシュ内に
    支持された熱絶縁材料のベース層（23,67）と、このベ
    ース層の周囲に延在する熱絶縁材料の周囲壁（25,57）
    と、熱遮断装置（7,35,95,121）と、励磁と同時の高い
    突入電流があり、そしてベース層を横切って延びている
    少なくとも１つの赤外線ランプ（3,29,31,63,87,89,10
    7,109,111）とを包含する赤外線ヒータにおいて、回り
    に延在してヒータの周辺領域を限るバラスト装置（33,5
    3,55,77,113）が、少なくとも１つの赤外線ランプ（3,2
    9,31,63,87,89,107,109,111）と、少なくともその励磁
    と同時に突入電流を制限するように、常に電気的に直列
    に接続されていることを特徴とするガラスセラミック天
    板調理器用赤外線ヒータ。
  2. 【請求項２】ヒータは周期的エネルギ調整器（9,97,11
    9）と組み合わされることを特徴とする請求の範囲第１
    項記載の赤外線ヒータ。
  3. 【請求項３】エネルギ調整器（９）はその全出力設定に
    て少なくとも１つのランプ（３）をその電源に直接に接
    続するようにしたことを特徴とする請求の範囲第２項記
    載の赤外線ヒータ。
  4. 【請求項４】バラスト装置はバラスト抵抗の形の裸線の
    コイル（33,53,55,77,113）としたことを特徴とする請
    求の範囲第１項、第２項または第３項記載の赤外線ヒー
    タ。
  5. 【請求項５】バラスト抵抗は少なくとも１つのランプの
    作動温度における抵抗のほぼ半分の電気抵抗を有するこ
    とを特徴とする請求の範囲第４項記載の赤外線ヒータ。
  6. 【請求項６】バラスト抵抗は電気的に並列に接続された
    裸線の２つのコイル（53,55）を包含することを特徴と
    する請求の範囲第４項または第５項記載の赤外線ヒー
    タ。
  7. 【請求項７】コイルは少なくとも１つのランプの近傍を
    通過する領域でまっすぐに伸ばされたことを特徴とする
    請求の範囲第４項ないし第６項のいずれか１項に記載の
    赤外線ヒータ。
  8. 【請求項８】更なる加熱要素（89,93,115）が周囲壁に
    隣接して、またはその回りに配置され、更なる周囲壁が
    その更なる加熱要素の回りに延在していることを特徴と
    する請求の範囲第４項ないし第７項のいずれか１項に記
    載の赤外線ヒータ。
  9. 【請求項９】更なる加熱要素（89,93,115）は、励磁と
    同時の突入電流がありかつそれと電気的に直列に接続し
    たバラスト抵抗（93）を有する赤外線ランプ（89）を包
    含することを特徴とする請求の範囲第８項記載の赤外線
    ヒータ。
  10. 【請求項１０】更なる加熱要素は裸線のコイル（115）
    を包含することを特徴とする請求の範囲第８項記載の赤
    外線ヒータ。
  11. 【請求項１１】熱絶縁材料のベース層（23）の表面がヒ
    ータを横断する温度分布に影響を及ぼすように輪郭を描
    くことを特徴とする上記請求の範囲のいずれか１項に記
    載の赤外線ヒータ。
  12. 【請求項１２】前記熱絶縁材料のベース層が中央の畝に
    よって互いに分離された２つの凹所を有することを特徴
    とする請求の範囲第11項記載の赤外線ヒータ。
  13. 【請求項１３】前記ランプの端末部分が不透明コーティ
    ングを有していることを特徴とする上記請求の範囲のい
    ずれか１項に記載の赤外線ヒータ。
  14. 【請求項１４】前記バラスト装置がランプの近傍を通過
    する領域でまっすぐな少なくとも１つの電気抵抗ワイヤ
    のコイルを包含し、熱絶縁材料のベース層がヒータを横
    切る温度分布に影響を及ぼすように前記ランプのそれぞ
    れの下で各々延びる２つの浅い凹所を有し、該凹所はベ
    ース層の中央の畝で分離されていることを特徴とする、
    ２つの赤外線ランプを包含する請求の範囲第１項記載の
    赤外線ヒータ。
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