JPH0789955A - 2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法 - Google Patents

2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法

Info

Publication number
JPH0789955A
JPH0789955A JP5264150A JP26415093A JPH0789955A JP H0789955 A JPH0789955 A JP H0789955A JP 5264150 A JP5264150 A JP 5264150A JP 26415093 A JP26415093 A JP 26415093A JP H0789955 A JPH0789955 A JP H0789955A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
reaction
general formula
compound
thiophene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5264150A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3259206B2 (ja
Inventor
Naohito Tanizawa
尚人 谷澤
Yoshinori Saito
嘉則 斉藤
Hidetaka Hiyoshi
英孝 日吉
Yasuo Yoshida
康夫 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ihara Chemical Industry Co Ltd filed Critical Ihara Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP26415093A priority Critical patent/JP3259206B2/ja
Priority to DE69424646T priority patent/DE69424646T2/de
Priority to PCT/JP1994/001578 priority patent/WO1995009165A1/ja
Priority to US08/424,504 priority patent/US5608080A/en
Priority to EP94927101A priority patent/EP0671396B1/en
Publication of JPH0789955A publication Critical patent/JPH0789955A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3259206B2 publication Critical patent/JP3259206B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/52Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
    • C07D333/54Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D333/60Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/52Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
    • C07D333/54Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D333/56Radicals substituted by oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/52Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
    • C07D333/62Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D333/68Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C07D333/70Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 2

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】非プロトン性極性溶媒の存在下、置換基を有し
ても良い2−ハロゲノベンズアルデヒドに、一般式 【化1】 (式中、Mはアルカリ金属を表し、iは0または1の整
数を表し、jは1以上の整数を表し、kは1〜2の整数
を表す。但し、i+k=2である。)で表される化合物
と硫黄、又は一般式(化1)で表される化合物のうちj
が2以上である化合物、とを反応させ、次いで一般式 【化2】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアシル基、置換
していてもよいアルコキシカルボニル基、置換していて
もよいアリールカルボニル基またはシアノ基を表す。)
で表される化合物を反応させ、分子内閉環させることを
特徴とする2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造方
法。 【効果】不安定な原料を用いることなく簡単な操作で、
高収率で目的物が得られる等、2−置換ベンゾ[b]チ
オフェンの工業的製造方法として効果の高いものであ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬品の合成中間体等
として有用な2−置換ベンゾ[b]チオフェンの工業的
な製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、2−置換ベンゾ[b]チオフェン
の製造方法としては、ベンゾ[b]チオフェンにブチル
リチウムなどの強塩基を反応させ、アセチルクロリド等
の酸クロリドを反応させ、2−アシルベンゾ[b]チオ
フェンを得る方法が提案されている〔J.Chem.S
oc.,Chem.Comun.,3447(197
1)〕。
【0003】しかしながら上記の方法では、取り扱いの
難しいブチルリチウムを反応させるため工業的に操作が
困難であり、しかも原料のベンゾ[b]チオフェンおよ
びブチルリチウムが高価であるという難点がある。
【0004】また、2−メルカプトベンズアルデヒドに
クロロアセトンその他のα−ハロケトンを反応させ2−
アシルベンゾ[b]チオフェンを得る方法が知られてい
る(Comptes rendus,第234巻,73
6)。
【0005】しかしながらこの方法には、使用する2−
メルカプトベンズアルデヒドの合成が工業的に困難で、
しかも不安定であり、取り扱いも厄介であるという難点
がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、工業的でかつ安価な2−置換ベンゾ[b]
チオフェンの製造方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】発明者らは、2−置換ベ
ンゾ[b]チオフェンの工業的な製造方法について鋭意
検討を重ねたところ、意外にも、工業的に入手の容易な
2−ハロゲノベンズアルデヒドと特定の無機硫黄化合物
を用いて反応混合物を得、次いでこの反応混合物に下記
一般式(化4)で表される化合物を反応させ、分子内閉
環させることにより従来の問題点が解決でき、容易に2
−置換ベンゾ[b]チオフェンを得る事ができることを
認め、この知見に基づき本発明を完成するに至った。
【0008】すなわち本発明は、非プロトン性極性溶媒
の存在下、置換基を有しても良い2−ハロゲノベンズア
ルデヒドに一般式
【0009】
【化3】 (式中、Mはアルカリ金属を表し、iは0または1の整
数を表し、jは1以上の整数を表し、kは1〜2の整数
を表す。但し、i+k=2である。)で表される化合物
と硫黄、又は一般式(化3)で表される化合物のうちj
が2以上である化合物、とを反応させ、次いで一般式
【0010】
【化4】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアシル基、置換
していてもよいアルコキシカルボニル基、置換していて
もよいアリールカルボニル基またはシアノ基を表す。)
で表される化合物を反応させ、分子内閉環させることを
特徴とする2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造方法
を提供するものである。
【0011】以下に本発明を詳細に説明する。
【0012】本発明方法は、非プロトン性極性溶媒の存
在下、置換基を有しても良い2−ハロゲノベンズアルデ
ヒド(以下、単に2−ハロゲノベンズアルデヒド類と略
記することがある。)に一般式(化3)で表される化合
物と硫黄、又は一般式(化3)で表される化合物のうち
jが2以上である化合物、とを反応させることにより反
応混合物を得る第1反応と、この第1反応によって得ら
れた反応混合物に一般式(化4)で表される化合物を反
応させて分子内閉環させる第2反応を行い、2−置換ベ
ンゾ[b]チオフェンを得るものである。
【0013】まず、本発明方法において第1反応、第2
反応を通して使用する非プロトン性極性溶媒について説
明する。
【0014】本発明方法において第1反応、第2反応を
通して使用する非プロトン性極性溶媒としては、具体的
にはN−メチルピロリドン、N−オクチル−ピロリド
ン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、ジエチルアセ
トアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、テトラメチル
ウレア、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、N−メ
チル−N−フェニルホルムアミド等を例示することがで
き、これらの非プロトン性極性溶媒は任意に2種以上を
混合したものも使用できる。
【0015】さらに、本発明方法においては上記の非プ
ロトン性極性溶媒に、反応に不活性な別の溶媒を混合し
た混合溶媒系も反応溶媒として使用でき、混合し得る溶
媒としては例えば芳香族炭化水素系溶媒、具体的にはベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼン等を例示することができる。
【0016】本発明方法において、溶媒の使用量は攪拌
が可能な量以上あれば差し支え無いが、通常は、2−ハ
ロゲノベンズアルデヒド類1モルに対して100ml〜3
000mlの範囲で用いられる。
【0017】次に、本発明方法の第1反応について説明
する。
【0018】第1反応において使用する2−ハロゲノベ
ンズアルデヒド類としては、ベンズアルデヒドの2位に
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロ
ゲン原子(以下、ハロゲン原子は同意とする。)が置換
したベンズアルデヒド類なら使用して差し支え無く、ま
た、そのベンズアルデヒドの3〜6位に例えばハロゲン
原子、ニトロ基、またはシアノ基等の任意の置換基が1
カ所以上導入されていてもよい。
【0019】第1反応において使用する一般式(化3)
で表わされる化合物のうちjが1であるモノ硫黄化合物
としては、具体的には硫化カリウム、硫化ナトリウム、
水硫化カリウム、水硫化ナトリウム等のモノ硫黄化合物
を、また、同じくjが2以上であるポリ硫黄化合物とし
ては、具体的にはポリ硫化ナトリウム、ポリ硫化カリウ
ム、より具体的には二硫化ナトリウム、三硫化ナトリウ
ム、四硫化ナトリウム、五硫化ナトリウム、二硫化カリ
ウム、三硫化カリウム、四硫化カリウム、又は五硫化カ
リウム等のポリ硫化ナトリウムまたはポリ硫化カリウム
等のポリ硫黄化合物をそれぞれ例示することができ、一
般式(化3)で表される化合物と硫黄との組み合わせと
しては、これらのモノ硫黄化合物またはポリ硫黄化合物
と硫黄との組み合わせを例示することができる。
【0020】所望により一般式(化3)で表される化合
物は2種以上を混用することもできる。
【0021】第1反応において、一般式(化3)で表さ
れる化合物と硫黄とを組み合わせて用いる場合の一般式
(化3)で表される化合物の使用量は2−ハロゲノベン
ズアルデヒド類1モルに対して通常0.5〜10モル、
好ましくは1〜3.5モルの範囲、硫黄の使用量は2−
ハロゲノベンズアルデヒド類1モルに対して通常10モ
ル以下、好ましくは3.5モル以下の範囲で反応させれ
ば良く、また、一般式(化3)で表される化合物のうち
jが2以上である化合物のみを硫黄と組合せることなく
使用する際の使用量は2−ハロゲノベンズアルデヒド類
1モルに対して通常0.5〜10モル、好ましくは1〜
3.5モルの範囲で反応させれば良い。
【0022】なお、一般式(化3)で表される化合物と
硫黄とを組み合わせて用いる場合は、一般式(化3)で
表される化合物と硫黄とを予め非プロトン性極性溶媒中
で室温から50℃の範囲で0.5〜3時間撹拌処理する
のが好ましい。
【0023】なお、第1反応においては、2−ハロゲノ
ベンズアルデヒド類と、一般式(化3)で表される化合
物と硫黄、または一般式(化3)で表わされる化合物の
うちjが2以上である化合物、とはどちらを添加する形
態を取っても良いが、2−ハロゲノベンズアルデヒド類
を添加する形態をとる方が好結果が得られる。
【0024】また、第1反応での反応温度は0℃から用
いた溶媒の沸点までの範囲で任意であるが、好ましくは
0℃〜80℃の範囲であり、反応の終点はガスクロマト
グラフィーにより2−ハロゲノベンズアルデヒド類の消
失を追うことにより確認できるが、通常は反応時間3〜
24時間である。
【0025】続いて、本発明方法の第2反応について説
明する。
【0026】第2反応において用いる一般式(化4)で
表される化合物としては、α−ハロカルボニル化合物
類、具体的にはモノハロゲノアセトン化合物、より具体
的にはクロロアセトンまたはブロモアセトン等のモノハ
ロゲノアセトン化合物、ハロゲノアルカン酸エステル化
合物、より具体的にはモノクロロ酢酸、モノブロモ酢
酸、モノヨード酢酸、モノクロロプロピオン酸、モノブ
ロモプロピオン酸、モノヨードプロピオン酸、モノクロ
ロブタン酸、モノブロモブタン酸、モノヨードブタン
酸、モノクロロペンタン酸、モノブロモペンタン酸、モ
ノヨードペンタン酸、モノクロロヘキサン酸、モノブロ
モヘキサン酸、またはモノヨードヘキサン酸等のモノハ
ロゲノアルカン酸類の、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.−ブチル、
tert.−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペ
ンチル、アミル、イソアミル、tert.−アミル、s
ec.−イソアミル、ヘキシル、またはイソヘキシルエ
ステル等のハロゲノアルカン酸エステル化合物、フェナ
シルハライド系化合物(アリールカルボニルメチルハラ
イド化合物)、より具体的には2−クロロアセトフェノ
ン、2−クロロアセトナフトン、2−クロロ−2’−メ
チルアセトフェノン、2−ブロモアセトフェノン、2−
ブロモアセトナフトン、2−ブロモ−2’−メチルアセ
トフェノン、2−ヨードアセトフェノン、2−ヨードア
セトナフトン、または2−ヨード−2’−メチルアセト
フェノン等のフェナシルハライド系化合物(アリールカ
ルボニルメチルハライド化合物)、またはハロゲノニト
リル化合物、より具体的にはクロロアセトニトリル、ブ
ロモアセトニトリル、ヨードアセトニトリル、クロロプ
ロピオニトリル、ブロモプロピオニトリル、クロロブチ
ロニトリル、ブロモブチロニトリル等のハロゲノニトリ
ル化合物等のα−ハロカルボニル化合物類を例示する事
ができる。
【0027】また、第2反応における一般式(化4)で
表される化合物の使用量は、2−ハロゲノベンズアルデ
ヒド類1モルに対して通常0.5〜10モル、好ましく
は1〜2モルの範囲で反応させれば良い。
【0028】なお、第2反応においては一般式(化4)
で表される化合物と第1反応で形成させた反応混合物と
はどちらを添加する形態をとっても反応は進行するが、
操作の利便性等の観点から通常は第1反応で使用し、第
1反応での反応混合物が入ったままの反応容器に一般式
(化4)で表される化合物を加え、第1反応、第2反応
を連続して同一容器内で行う。
【0029】第2反応において、一般式(化4)で表さ
れる化合物を第1反応で形成させた反応混合物に作用さ
せる際の温度は特に限定されないが、発熱反応であるか
ら適宜冷却して0〜80℃の範囲で行うのが好ましく、
また作用させる時間は使用する原料化合物、溶媒、反応
温度等の条件にもよるが通常は1〜16時間で目的を達
し得る。
【0030】なお、第2反応において用いる一般式(化
4)で表される化合物によっては、置換反応に引き続い
て起きる分子内閉環反応の反応速度が遅い場合がある
が、このようなときには例えばナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート、カリウムメチラート等のアルカ
リ金属アルコラートのような強塩基を加える事で反応速
度を高め、目的閉環体である2−置換ベンゾ[b]チオ
フェンを速やかに得ることができる。
【0031】従って、本発明方法における第1反応と第
2反応を通しての反応時間は、使用する化合物、反応条
件等により異なるが、通常は4〜43時間である。
【0032】なお、本発明方法においては、得られた目
的物を適当な溶媒、例えばシクロヘキサン、またはアル
コールと水の混合物等で再結することにより、あるいは
蒸留することにより、より高純度の2−置換ベンゾ
[b]チオフェンを得ることもできる。
【0033】また、得られた2−置換ベンゾ[b]チオ
フェンの2位の置換基がアルコキシカルボニル基または
シアノ基である場合は、これを常法により加水分解する
事により容易にベンゾ[b]チオフェン−2−カルボン
酸を得ることができ、さらに、このベンゾ[b]チオフ
ェン−2−カルボン酸は、キノリン溶媒中、銅触媒存在
下、200〜300℃程度で加熱、脱炭酸処理すること
により2位に置換基を持たないベンゾ[b]チオフェン
に導くこともできる。また、特に2位の置換基がシアノ
基である場合はこの加水分解条件を適宜変更することに
よってベンゾ[b]チオフェン−2−カルボン酸アミド
を製造する事もできる。
【0034】
【発明の効果】本発明は、工業的に入手の容易な2−ハ
ロゲノベンズアルデヒド類と、一般式(化3)で表され
る化合物と硫黄、または一般式(化3)で表わされる化
合物のうちjが2以上である化合物、とを反応させ、次
いで一般式(化4)で表される化合物を反応させ、分子
内閉環させることを特徴とする2−置換ベンゾ[b]チ
オフェンの新規な製造方法を提供するものである。
【0035】従って本発明方法は、工業的に取り扱いの
困難な不安定な原料および中間体を取り扱うことなく、
入手が容易で安価な原料を用い、簡単な操作で、高収率
で2−置換ベンゾ[b]チオフェンが得られるものであ
り、2−置換ベンゾ[b]チオフェンの工業的製造方法
として効果の高いものである。
【0036】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。
【0037】(実施例1〜2)攪拌機、温度計、還流冷
却器を付けた200ml容の4径フラスコに無水硫化ナト
リウムを11.7g(150ミリモル)、硫黄を3.2
g(100ミリモル)、N−メチルピロリドンを100
ml仕込み、室温で1時間攪拌した。この混合物に下記
(表1)に示す2−ハロゲノベンズアルデヒド類100
ミリモルを滴下し、室温にて12時間攪拌した水冷下、
反応混合物に、(表1)に示す一般式(化4)で表され
る化合物120ミリモルを滴下し、室温で6時間攪拌し
た。反応終了後、反応混合物にジエチルエーテルを10
0ml及び水を100ml加え、さらに水酸化ナトリウム水
溶液で水層のpH>11としたのち。ジエチルエーテル
抽出した。得られたジエチルエーテル層を2回水洗した
のち、減圧下でジエチルエーテルを濃縮して2−置換ベ
ンゾ[b]チオフェンを得た。各々の実施例で使用した
2−ハロゲノベンズアルデヒド類、一般式(化4)で表
される化合物、生成物及び収率を(表1)に示す。
【0038】
【表1】
【0039】(実施例3)攪拌機、温度計、還流冷却器
を取りつけた200ml四径フラスコ内に無水硫化ナトリ
ウム14.1g、(0.18モル)、硫黄5.8g
(0.18モル)、ジメチルホルムアミド45mlを仕込
み、室温で撹拌したところ発熱し、液温が45℃まで上
昇した。発熱が終了した後、2−クロロベンズアルデヒ
ド21.1g(0.15モル)を若干加熱しながら70
〜75℃で10分間にわたり滴下した。さらにその後同
温度で4時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、
攪拌下、クロロ酢酸メチル16.3g(0.15モル)
を自然発熱下10分間で滴下し、その後55〜60℃で
1.5時間攪拌した。次にナトリウムメトキシド8.1
g(0.15モル)を同温度で加え30分間攪拌し、反
応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、ベン
ゾ[b]チオフェン−2−カルボン酸メチルエステルが
面積比で86%生成していた。このものをさらに1時間
攪拌した後、水40mlおよび48%水酸化ナトリウム6
gを加え、95℃で1.5時間加熱攪拌して加水分解し
た。反応終了後、水100mlで希釈し、さらにトルエン
100mlを加え75℃で抽出操作を行い中性成分を除去
した。水層を1lのビーカー内に移し、攪拌しながら9
5%硫酸22.1g(0.21モル)を滴下した。析出
した結晶を濾過、乾燥し、17.6gの粗ベンゾ[b]
チオフェン−2−カルボン酸を得た。このものをトルエ
ンで洗浄後、再乾燥し17.1gのベンゾ[b]チオフ
ェン−2−カルボン酸を得た。収率64.0%、純度9
9.7%であった。
【0040】(実施例4)クロロ酢酸メチルの代わりに
クロロアセトニトリル11.3g(0.15モル)を使
用し、また、ナトリウムメトキシドの使用量を4.1g
に変更し、ナトリウムメトキシド添加後70℃で3時間
加熱攪拌し反応を終了した以外は実施例19と同様にし
て閉環体生成までの反応を行った。反応混合物を水40
0ml中に投入し、トルエン300mlで抽出した後トルエ
ン層を水400mlで2回洗浄した。有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後濃縮し、13.2gの2−シアノベン
ゾ[b]チオフェンを得た。(収率55.3%)
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年9月9日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】第1反応において、一般式(化3)で表さ
れる化合物と硫黄とを組み合わせて用いる場合の一般式
(化3)で表される化合物の使用量は2−ハロゲノベン
ズアルデヒド類1モルに対して通常0.5〜10モル、
好ましくは1〜3.5モルの範囲、硫黄の使用量は2−
ハロゲノベンズアルデヒド類1モルに対して通常10モ
ル以下、好ましくは3.5モル以下の範囲で反応させれ
ば良く、また、硫黄を用いることなく一般式(化3)で
表される化合物のうちjが2以上である化合物のみを使
用する際の使用量は2−ハロゲノベンズアルデヒド類1
モルに対して通常0.5〜10モル、好ましくは1〜
3.5モルの範囲で反応させれば良い。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】第2反応において用いる一般式(化4)で
表される化合物としては、α−ハロカルボニル化合物
類、具体的にはモノハロゲノアセトン化合物、より具体
的にはクロロアセトンまたはブロモアセトン等のモノハ
ロゲノアセトン化合物、ハロゲノアルカン酸エステル化
合物、より具体的にはモノクロロ酢酸、モノブロモ酢
酸、モノヨード酢酸、モノクロロプロピオン酸、モノブ
ロモプロピオン酸、モノヨードプロピオン酸、モノクロ
ロブタン酸、モノブロモブタン酸、モノヨードブタン
酸、モノクロロペンタン酸、モノブロモペンタン酸、モ
ノヨードペンタン酸、モノクロロヘキサン酸、モノブロ
モヘキサン酸、またはモノヨードヘキサン酸等のモノハ
ロゲノアルカン酸類の、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、sec,−ブチル、
tert.−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペ
ンチル、アミル、イソアミル、tert.−アミル、s
ec.−イソアミル、ヘキシル、またはイソヘキシルエ
ステル等のハロゲノアルカン酸エステル化合物、フェナ
シルハライド系化合物(アリールカルボニルメチルハラ
イド化合物)、より具体的には2−クロロアセトフェノ
ン、2−クロロアセトナフトン、2−クロロ−2’−メ
チルアセトフェノン、2−ブロモアセトフェノン、2−
ブロモアセトナフトン、2−ブロモ−2’−メチルアセ
トフェノン、2−ヨードアセトフェノン、2−ヨードア
セトナフトン、または2−ヨード−2’−メチルアセト
フェノン等のフェナシルハライド系化合物(アリールカ
ルボニルメチルハライド化合物)等のα−ハロカルボニ
ル化合物類;またはハロゲノニトリル化合物、より具体
的にはクロロアセトニトリル、ブロモアセトニトリル、
ヨードアセトニトリル、クロロプロピオニトリル、ブロ
モプロピオニトリル、クロロブチロニトリル、ブロモブ
チロニトリル等のハロゲノニトリル化合物を例示する事
ができる。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0037
【補正方法】変更
【補正内容】
【0037】(実施例1〜2)攪拌機、温度計、還流冷
却器を付けた200ml容の4径フラスコに無水硫化ナ
トリウムを11.7g(150ミリモル)、硫黄を3.
2g(100ミリモル)、N−メチルピロリドンを10
0ml仕込み、室温で1時間攪拌した。この混合物に下
記(表1)に示す2−ハロゲノベンズアルデヒド類10
0ミリモルを滴下し、室温にて12時間攪拌した水冷
下、反応混合物に、(表1)に示す一般式(化4)で表
される化合物120ミリモルを滴下し、室温で6時間攪
拌した。反応終了後、反応混合物にジエチルエーテルを
100ml及び水を100ml加え、さらに水酸化ナト
リウム水溶液で水層のpH>11としたのちジエチル
エーテル抽出した。得られたジエチルエーテル層を2回
水洗したのち、減圧下でジエチルエーテルを濃縮して2
−置換ベンゾ[b]チオフェンを得た。各々の実施例で
使用した2−ハロゲノベンズアルデヒド類、一般式(化
4)で表される化合物、生成物及び収率を(表1)に示
す。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0040
【補正方法】変更
【補正内容】
【0040】(実施例4)クロロ酢酸メチルの代わりに
クロロアセトニトリル11.3g(0.15モル)を使
用し、また、ナトリウムメトキシドの使用量を4.1g
に変更し、ナトリウムメトキシド添加後70℃で3時間
加熱攪拌し反応を終了した以外は実施例と同様にして
閉環体生成までの反応を行った。反応混合物を水400
ml中に投入し、トルエン300mlで抽出した後トル
エン層を水400mlで2回洗浄した。有機層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、13.2gの2−シアノ
ベンゾ[b]チオフェンを得た。(収率55.3%)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 康夫 東京都台東区池之端1丁目4番26号 イハ ラケミカル工業株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非プロトン性極性溶媒の存在下、置換基
    を有しても良い2−ハロゲノベンズアルデヒドに、一般
    式 【化1】 (式中、Mはアルカリ金属を表し、iは0または1の整
    数を表し、jは1以上の整数を表し、kは1〜2の整数
    を表す。但し、i+k=2である。)で表される化合物
    と硫黄、又は一般式(化1)で表される化合物のうちj
    が2以上である化合物、とを反応させ、次いで一般式 【化2】 (式中、Xはハロゲン原子を表し、Rはアシル基、置換
    していてもよいアルコキシカルボニル基、置換していて
    もよいアリールカルボニル基またはシアノ基を表す。)
    で表される化合物を反応させ、分子内閉環させることを
    特徴とする2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造方
    法。
JP26415093A 1993-09-27 1993-09-27 2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法 Expired - Lifetime JP3259206B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26415093A JP3259206B2 (ja) 1993-09-27 1993-09-27 2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法
DE69424646T DE69424646T2 (de) 1993-09-27 1994-09-26 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON 2-SUBSTITUIERTEN BENZO[b]THIOPHENEN
PCT/JP1994/001578 WO1995009165A1 (en) 1993-09-27 1994-09-26 PROCESS FOR PRODUCING 2-SUBSTITUTED BENZO[b]THIOPHENE
US08/424,504 US5608080A (en) 1993-09-27 1994-09-26 Process for production of 2-substituted benzo[b]thiophene
EP94927101A EP0671396B1 (en) 1993-09-27 1994-09-26 PROCESS FOR PRODUCING 2-SUBSTITUTED BENZO[b]THIOPHENE

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26415093A JP3259206B2 (ja) 1993-09-27 1993-09-27 2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0789955A true JPH0789955A (ja) 1995-04-04
JP3259206B2 JP3259206B2 (ja) 2002-02-25

Family

ID=17399164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26415093A Expired - Lifetime JP3259206B2 (ja) 1993-09-27 1993-09-27 2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5608080A (ja)
EP (1) EP0671396B1 (ja)
JP (1) JP3259206B2 (ja)
DE (1) DE69424646T2 (ja)
WO (1) WO1995009165A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001114776A (ja) * 1999-10-18 2001-04-24 Sumitomo Seika Chem Co Ltd ベンゾ[b]チオフェン誘導体の製造方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4420923A1 (de) * 1994-06-16 1995-12-21 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von Benzothiophenderivaten
US5908859A (en) * 1997-08-11 1999-06-01 Eli Lilly And Company Benzothiophenes for inhibiting hyperlipidemia
CN102093334B (zh) * 2011-02-22 2013-05-08 郑州大学 一组稠环噻吩类化合物的合成方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2761873A (en) * 1953-11-04 1956-09-04 Du Pont Preparation of 4-substituted mercaptophenyl aldehydes and ketones
FR2375227A1 (fr) * 1976-12-23 1978-07-21 Elf Aquitaine Procede de preparation de thiophenes
ES2067012T3 (es) * 1989-12-14 1995-03-16 Ciba Geigy Ag Compuestos heterociclicos.
JP3213822B2 (ja) * 1991-08-12 2001-10-02 イハラケミカル工業株式会社 ベンゾ〔b〕チオフェン−2−カルボン酸の製造法
US5169961A (en) * 1991-11-22 1992-12-08 Abbott Laboratories Process for the production of 2-acetylbenzo [β]thiophenes
JP2609966B2 (ja) * 1991-12-11 1997-05-14 住友精化株式会社 2−置換ベンゾ[b]チオフェンおよびその中間体の製造方法
DE4204969A1 (de) * 1992-02-19 1993-08-26 Basf Ag Verfahren zur herstellung von benzo(b)thiophenen
US5298630A (en) * 1992-06-03 1994-03-29 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Processes for producing 2-substituted benzo[B]thiophene
JP3337728B2 (ja) * 1992-11-20 2002-10-21 イハラケミカル工業株式会社 2‐アセチルベンゾ[b]チオフェンの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001114776A (ja) * 1999-10-18 2001-04-24 Sumitomo Seika Chem Co Ltd ベンゾ[b]チオフェン誘導体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0671396A1 (en) 1995-09-13
EP0671396B1 (en) 2000-05-24
US5608080A (en) 1997-03-04
EP0671396A4 (en) 1996-02-28
DE69424646T2 (de) 2001-02-08
DE69424646D1 (de) 2000-06-29
JP3259206B2 (ja) 2002-02-25
WO1995009165A1 (en) 1995-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
HUP0300592A2 (hu) Eljárás 2-halogén-benzoesav-származékok előállítására
JP4838924B2 (ja) 2−クロロ−5−クロロメチルチアゾールの製造方法
JPH11512407A (ja) 2−クロロ−5−クロロメチル−チアゾール化合物を調製するための方法
KR100424756B1 (ko) 방향족또는헤테로방향족황화합물의제조방법
JP5079849B2 (ja) イソオキサゾリン化合物および製造法
JP3337728B2 (ja) 2‐アセチルベンゾ[b]チオフェンの製造方法
JPH0789955A (ja) 2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法
US4219659A (en) Process for the preparation of thiophene derivatives and thiophene derivatives obtained therethrough
JP2022517643A (ja) 3-ブロモ-5-(2-エチルイミダゾ[1,2-a]ピリジン-3-カルボニル)-2-ヒドロキシベンゾニトリルの合成
JP4026233B2 (ja) 4,5−ジクロロ−6−(α−フルオロアルキル)ピリミジンの製法
KR20000016043A (ko) Cox-2 억제제로서 유용한 페닐 헤테로사이클의 제조방법
JPH0256353B2 (ja)
US4266067A (en) Process for preparing thiophene derivatives
JPS5821626B2 (ja) チカンサクサンユウドウタイ ノ セイゾウホウ
FR2497200A1 (fr) Composes d'acide fluoromethylthioacetique
JPH05155881A (ja) 2−置換ベンゾ[bチオフェンおよびその中間体の製造方法
JP2001509501A (ja) 2−アルキルチオ安息香酸誘導体の製造方法
CN108530374B (zh) 一种基于1,3-丙二硫醇作为巯基来源合成2-巯基苯并噁(噻)唑类化合物的制备方法
JPH051023A (ja) アルカンスルホンアニリド誘導体の製法
JPH08231537A (ja) 2−置換ベンゾ[b]チオフェンの製造法
CN101389602A (zh) 用于制备3,4-二取代苯基乙酸的方法以及新型的中间体
US10807962B2 (en) Process for the synthesis of firocoxib
JP2708617B2 (ja) 4,4―ジアルキル置換チアゾリジンチオンの製造方法
JPH0148265B2 (ja)
JPH1112253A (ja) 4−アミノ−5−クロロ−6−(1−フルオロエチル)ピリミジン誘導体の製法

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081214

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081214

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091214

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091214

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111214

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111214

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121214

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121214

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131214

Year of fee payment: 12

EXPY Cancellation because of completion of term