JPH0793723A - 薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0793723A JPH0793723A JP5239683A JP23968393A JPH0793723A JP H0793723 A JPH0793723 A JP H0793723A JP 5239683 A JP5239683 A JP 5239683A JP 23968393 A JP23968393 A JP 23968393A JP H0793723 A JPH0793723 A JP H0793723A
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- Japan
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- shield
- thin film
- magnetic head
- track
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 シールド段差を小さくしオフトラック時のＰ
Ｗ５０の劣化を低減させ、また実効トラック幅を狭くす
ることで記録密度を上げると共に、ＨＤＤ製造において
高い歩留りを得ることができる薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッ
ドの提供を目的とする。 【構成】 ＭＲ素子３と記録用電磁誘電型素子を持つ複
合型の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドの構成を、ＭＲ素子３
の上下部に積層被膜された上部シールド５と下部シール
ド１とを有し、磁束検出幅Ａの両端に位置するリード層
４１の領域の上部シールド５と下部シールド１との間の
シールド間隔を、磁束検出幅Ａの領域におけるシールド
間隔に対して１．３５倍以下に形成した。
Ｗ５０の劣化を低減させ、また実効トラック幅を狭くす
ることで記録密度を上げると共に、ＨＤＤ製造において
高い歩留りを得ることができる薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッ
ドの提供を目的とする。 【構成】 ＭＲ素子３と記録用電磁誘電型素子を持つ複
合型の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドの構成を、ＭＲ素子３
の上下部に積層被膜された上部シールド５と下部シール
ド１とを有し、磁束検出幅Ａの両端に位置するリード層
４１の領域の上部シールド５と下部シールド１との間の
シールド間隔を、磁束検出幅Ａの領域におけるシールド
間隔に対して１．３５倍以下に形成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は超高密度記録が可能なハ
ードディスクドライブ装置に使用される薄膜磁気抵抗効
果型磁気ヘッド（以下薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドとい
う）に関するものである。
ードディスクドライブ装置に使用される薄膜磁気抵抗効
果型磁気ヘッド（以下薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドとい
う）に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記憶装置であるハードディス
クドライブ（以下ＨＤＤという）装置の小型化、大容量
化の要求が急速に増大している。それに伴いＨＤＤ装置
で用いられる磁気ディスクや磁気ヘッドにおいても記録
密度の向上が急務となっている。これら大容量化のため
には、トラック密度を高くすることや線記録密度を高く
すること、変調方式の最適化を図ること等が必要であ
り、そのために磁気ディスクとして高保磁力、高残留磁
束密度、低ノイズの特徴を有する金属薄膜ディスクが開
発され、磁気ヘッドとしてはメタルインギャップヘッド
や薄膜ヘッド、さらに金属磁性膜を積層した積層型磁気
ヘッドなどが開発されてきた。
クドライブ（以下ＨＤＤという）装置の小型化、大容量
化の要求が急速に増大している。それに伴いＨＤＤ装置
で用いられる磁気ディスクや磁気ヘッドにおいても記録
密度の向上が急務となっている。これら大容量化のため
には、トラック密度を高くすることや線記録密度を高く
すること、変調方式の最適化を図ること等が必要であ
り、そのために磁気ディスクとして高保磁力、高残留磁
束密度、低ノイズの特徴を有する金属薄膜ディスクが開
発され、磁気ヘッドとしてはメタルインギャップヘッド
や薄膜ヘッド、さらに金属磁性膜を積層した積層型磁気
ヘッドなどが開発されてきた。
【０００３】これらの磁気ヘッドは全て電磁誘導現象を
利用したものであり、その再生出力は磁気ヘッド、磁気
ディスク間の相対速度に比例する。そのため磁気ディス
クが小型になり再生トラックの径が小さくなると、磁気
ヘッドと磁気ディスク間の相対速度が低くなり、その結
果十分な再生出力が得られなくなってしまう。そこで、
例えば特開平４−１３７２１１号公報にはＭＲ効果を利
用して磁気ディスクからの磁束を感磁する薄膜ＭＲ効果
型磁気ヘッドが提案されている。
利用したものであり、その再生出力は磁気ヘッド、磁気
ディスク間の相対速度に比例する。そのため磁気ディス
クが小型になり再生トラックの径が小さくなると、磁気
ヘッドと磁気ディスク間の相対速度が低くなり、その結
果十分な再生出力が得られなくなってしまう。そこで、
例えば特開平４−１３７２１１号公報にはＭＲ効果を利
用して磁気ディスクからの磁束を感磁する薄膜ＭＲ効果
型磁気ヘッドが提案されている。
【０００４】以下に従来のＭＲ素子を用いた薄膜ＭＲ効
果型磁気ヘッドについて説明する。図４は従来の薄膜Ｍ
Ｒ効果型磁気ヘッドのＭＲ素子部の要部拡大図であり、
これは磁気記録媒体側から見たものである。図５は従来
の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドの磁気記録媒体への記録時
の模式図である。１は下部シールドで少なくとも磁気抵
抗素子の再生トラック領域である磁束検出幅Ａ以上の幅
を持ちパーマロイ、センダスト等の軟磁性材料を真空成
膜法あるいはメッキ法により成膜したものか、フェライ
ト等の軟磁性材料で形成されている。２は下部シールド
１に積層被膜された絶縁層でありＭＲ素子と下部シール
ド１を磁気的に分離するもので、ＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3
などの酸化物を蒸着あるいはスパッタ等の真空成膜法に
より成膜されている。３はＭＲ素子であり絶縁層２上に
外部磁界に対し抵抗変化を示すＦｅ−Ｎｉ合金やＣｏ−
Ｎｉ合金が外部磁界に対し感度を高めるために数十ｎｍ
以下の特に薄い膜で成膜されている。これらの薄膜は真
空蒸着法、スパッタ法、イオンビームスパッタ法などの
真空成膜法によって成膜される。４はＭＲ素子３に電流
を供給しその電圧変化を検知するためのリード層であ
り、ＭＲ素子３と磁束検出幅Ａの外部で接触している。
リード層４には抵抗値の低い良導体としてＡｕ、Ａｌ、
Ｃｕ、Ｗあるいはそれらの積層膜などが用いられ、真空
蒸着法、スパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＣＶＤ
法などの真空成膜法によって成膜される。２′は絶縁層
でＭＲ素子３及びリード層４上にＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3
などの酸化物を蒸着あるいはスパッタ等の真空蒸着法に
より成膜されている。５は上部シールドで絶縁層２′上
に少なくともＭＲ素子３の磁束検出幅Ａ以上の幅を持ち
パーマロイ、センダスト等の軟磁性材料を蒸着あるいは
スパッタ等の真空成膜法あるいはメッキ法により成膜さ
れている。６は記録ギャップで上部シールド５の上面に
ＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3 などの酸化物を蒸着あるいはスパ
ッタ等の真空蒸着法により成膜されている。７は記録コ
アで記録ギャップ６の上にパーマロイ、センダスト等の
軟磁性材料を蒸着あるいはスパッタ等の真空蒸着法ある
いはメッキ法により成膜し、所定の形状に物理的あるい
は化学的方法によって食刻して形成されている。８は保
護層でＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3 などの酸化物を蒸着あるい
はスパッタ等の真空蒸着法により成膜されている。
果型磁気ヘッドについて説明する。図４は従来の薄膜Ｍ
Ｒ効果型磁気ヘッドのＭＲ素子部の要部拡大図であり、
これは磁気記録媒体側から見たものである。図５は従来
の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドの磁気記録媒体への記録時
の模式図である。１は下部シールドで少なくとも磁気抵
抗素子の再生トラック領域である磁束検出幅Ａ以上の幅
を持ちパーマロイ、センダスト等の軟磁性材料を真空成
膜法あるいはメッキ法により成膜したものか、フェライ
ト等の軟磁性材料で形成されている。２は下部シールド
１に積層被膜された絶縁層でありＭＲ素子と下部シール
ド１を磁気的に分離するもので、ＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3
などの酸化物を蒸着あるいはスパッタ等の真空成膜法に
より成膜されている。３はＭＲ素子であり絶縁層２上に
外部磁界に対し抵抗変化を示すＦｅ−Ｎｉ合金やＣｏ−
Ｎｉ合金が外部磁界に対し感度を高めるために数十ｎｍ
以下の特に薄い膜で成膜されている。これらの薄膜は真
空蒸着法、スパッタ法、イオンビームスパッタ法などの
真空成膜法によって成膜される。４はＭＲ素子３に電流
を供給しその電圧変化を検知するためのリード層であ
り、ＭＲ素子３と磁束検出幅Ａの外部で接触している。
リード層４には抵抗値の低い良導体としてＡｕ、Ａｌ、
Ｃｕ、Ｗあるいはそれらの積層膜などが用いられ、真空
蒸着法、スパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＣＶＤ
法などの真空成膜法によって成膜される。２′は絶縁層
でＭＲ素子３及びリード層４上にＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3
などの酸化物を蒸着あるいはスパッタ等の真空蒸着法に
より成膜されている。５は上部シールドで絶縁層２′上
に少なくともＭＲ素子３の磁束検出幅Ａ以上の幅を持ち
パーマロイ、センダスト等の軟磁性材料を蒸着あるいは
スパッタ等の真空成膜法あるいはメッキ法により成膜さ
れている。６は記録ギャップで上部シールド５の上面に
ＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3 などの酸化物を蒸着あるいはスパ
ッタ等の真空蒸着法により成膜されている。７は記録コ
アで記録ギャップ６の上にパーマロイ、センダスト等の
軟磁性材料を蒸着あるいはスパッタ等の真空蒸着法ある
いはメッキ法により成膜し、所定の形状に物理的あるい
は化学的方法によって食刻して形成されている。８は保
護層でＳｉＯ2 やＡｌ2 Ｏ3 などの酸化物を蒸着あるい
はスパッタ等の真空蒸着法により成膜されている。
【０００５】ここで、薄膜ＭＲ磁気ヘッドの再生を行う
ＭＲ素子３の磁束検出幅はＡで示される幅であり、記録
を行う記録コア幅はＢである。
ＭＲ素子３の磁束検出幅はＡで示される幅であり、記録
を行う記録コア幅はＢである。
【０００６】以上の工程で従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘ
ッドは製造される結果、下部シールド１と上部シールド
５の間隔（以下シールド間距離という）は絶縁層２，
２′及びＭＲ素子３及びリード層４の積層によって形成
されるため、シールド段差９が発生し、磁束検出幅Ａの
領域（再生トラック領域）でのシールド間距離Ｃと、リ
ード層４が形成された領域Ｅ（再生トラック両端に位置
するリード層領域）でのシールド間距離Ｄとではシール
ド間距離に差異が発生している。また、一方、ロバート
アイ・ポッター，アイ・イー・イー・イー，トランザ
クション オンマグネチックス，エム エー ジー １
００，５０２（１９７４）（ＲｏｂｅｒｔＩ．Ｐｏｔｔ
ｅｒ，ＩＥＥＥ，Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇ．１００，５０２
（１９７４））によれば、線記録密度を表す代用特性値
として極めて重要な孤立再生波形の半値幅ＰＷ５０（以
下ＰＷ５０という）とシールド間距離Ｃとはヘッド浮上
量をパラメータとして極めて密接な関係があることが示
されている。このような薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドで磁
気記録媒体に記録を行った場合、図５に示すような状態
では記録対向面磁界１０が発生する。ここで磁気記録媒
体上の記録幅はＩで示される。
ッドは製造される結果、下部シールド１と上部シールド
５の間隔（以下シールド間距離という）は絶縁層２，
２′及びＭＲ素子３及びリード層４の積層によって形成
されるため、シールド段差９が発生し、磁束検出幅Ａの
領域（再生トラック領域）でのシールド間距離Ｃと、リ
ード層４が形成された領域Ｅ（再生トラック両端に位置
するリード層領域）でのシールド間距離Ｄとではシール
ド間距離に差異が発生している。また、一方、ロバート
アイ・ポッター，アイ・イー・イー・イー，トランザ
クション オンマグネチックス，エム エー ジー １
００，５０２（１９７４）（ＲｏｂｅｒｔＩ．Ｐｏｔｔ
ｅｒ，ＩＥＥＥ，Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇ．１００，５０２
（１９７４））によれば、線記録密度を表す代用特性値
として極めて重要な孤立再生波形の半値幅ＰＷ５０（以
下ＰＷ５０という）とシールド間距離Ｃとはヘッド浮上
量をパラメータとして極めて密接な関係があることが示
されている。このような薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドで磁
気記録媒体に記録を行った場合、図５に示すような状態
では記録対向面磁界１０が発生する。ここで磁気記録媒
体上の記録幅はＩで示される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、シールド間距離とは図４のＣで示される磁
束検出幅Ａ部におけるシールド間距離Ｃのことであり、
シールド段差９の影響については明らかにされていなか
った。そこで、実験的にこのシールド段差９（シールド
間距離Ｃとシールド間距離Ｄの差）の影響を確認したと
ころ、シールド段差９はＰＷ５０のオフトラック特性若
しくは実効トラック幅に著しく影響を及ぼすことがわか
った。従って、従来のシールド間距離Ｃの規定及び制御
だけではＰＷ５０のオフトラック特性、及び実効トラッ
ク幅の制御ができないという問題点を有していることが
わかった。またオフトラック時のＰＷ５０の劣化を低減
させたり、実効トラック幅を狭くするためにはシールド
間距離Ｃのみの制御では特性改善が困難であることもわ
かった。
の構成では、シールド間距離とは図４のＣで示される磁
束検出幅Ａ部におけるシールド間距離Ｃのことであり、
シールド段差９の影響については明らかにされていなか
った。そこで、実験的にこのシールド段差９（シールド
間距離Ｃとシールド間距離Ｄの差）の影響を確認したと
ころ、シールド段差９はＰＷ５０のオフトラック特性若
しくは実効トラック幅に著しく影響を及ぼすことがわか
った。従って、従来のシールド間距離Ｃの規定及び制御
だけではＰＷ５０のオフトラック特性、及び実効トラッ
ク幅の制御ができないという問題点を有していることが
わかった。またオフトラック時のＰＷ５０の劣化を低減
させたり、実効トラック幅を狭くするためにはシールド
間距離Ｃのみの制御では特性改善が困難であることもわ
かった。
【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、シールド段差を小さくしオフトラック時のＰＷ５０
の劣化を低減させ、また実効トラック幅を狭くすること
で記録密度を上げると共に、ＨＤＤ製造において高い歩
留りを得ることができる薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドを提
供することを目的とする。
で、シールド段差を小さくしオフトラック時のＰＷ５０
の劣化を低減させ、また実効トラック幅を狭くすること
で記録密度を上げると共に、ＨＤＤ製造において高い歩
留りを得ることができる薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドを提
供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドは、再生トラック
両端に位置するリード層領域における上部シールドと下
部シールドの間隔を、再生トラック領域における上部シ
ールドと下部シールドの間隔に対して１．３５倍以下、
若しくはリード層の厚さが０．１５μｍ以下に形成され
た構成を有している。
に本発明の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドは、再生トラック
両端に位置するリード層領域における上部シールドと下
部シールドの間隔を、再生トラック領域における上部シ
ールドと下部シールドの間隔に対して１．３５倍以下、
若しくはリード層の厚さが０．１５μｍ以下に形成され
た構成を有している。
【００１０】
【作用】この構成によって、シールド段差を小さくして
いるので、オフトラック時のＰＷ５０の劣化を低減さ
せ、実効トラック幅を狭くすることが可能となり、その
結果記録密度を向上させることができる。
いるので、オフトラック時のＰＷ５０の劣化を低減さ
せ、実効トラック幅を狭くすることが可能となり、その
結果記録密度を向上させることができる。
【００１１】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。図１は本発明の一実施例における薄
膜ＭＲ効果型磁気ヘッドのＭＲ素子の部分断面要部拡大
斜視図である。１は下部シールド、２，２′は絶縁層、
３はＭＲ素子、５は上部シールド、７は記録コア、９は
シールド段差であり、これらは従来例と同様なものなの
で同一の符号を付し説明を省略する。１１は銅膜等から
なるコイル、４１はシールド間距離の比であるＤ／Ｃが
１．３５以下になるように形成したリード層である。
しながら説明する。図１は本発明の一実施例における薄
膜ＭＲ効果型磁気ヘッドのＭＲ素子の部分断面要部拡大
斜視図である。１は下部シールド、２，２′は絶縁層、
３はＭＲ素子、５は上部シールド、７は記録コア、９は
シールド段差であり、これらは従来例と同様なものなの
で同一の符号を付し説明を省略する。１１は銅膜等から
なるコイル、４１はシールド間距離の比であるＤ／Ｃが
１．３５以下になるように形成したリード層である。
【００１２】以上のように構成された本実施例の薄膜Ｍ
Ｒ効果型磁気ヘッドについて、ＰＷ５０のオフトラック
特性と実効トラック幅の測定を行った。試料の構成条件
を（表１）に示した。
Ｒ効果型磁気ヘッドについて、ＰＷ５０のオフトラック
特性と実効トラック幅の測定を行った。試料の構成条件
を（表１）に示した。
【００１３】
【表１】
【００１４】測定条件は試料を１０サンプル作製し保磁
力１８００（Ｏｅ）の３．５”のハードディスク媒体を
用い、周速５．６ｍ／ｓ、浮上量０．１μｍで行い試料
のオフトラックに対するＰＷ５０の依存性及び規格化出
力の依存性を求めその平均を図２，図３に示した。図２
は本発明の一実施例における薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッド
と従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドのＰＷ５０のオフト
ラック特性図であり、図３は本発明の一実施例における
薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドと従来の薄膜ＭＲ効果型磁気
ヘッドの規格化出力のオフトラック特性図である。ま
た、これらの測定結果のまとめを（表２）に示した。
力１８００（Ｏｅ）の３．５”のハードディスク媒体を
用い、周速５．６ｍ／ｓ、浮上量０．１μｍで行い試料
のオフトラックに対するＰＷ５０の依存性及び規格化出
力の依存性を求めその平均を図２，図３に示した。図２
は本発明の一実施例における薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッド
と従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドのＰＷ５０のオフト
ラック特性図であり、図３は本発明の一実施例における
薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドと従来の薄膜ＭＲ効果型磁気
ヘッドの規格化出力のオフトラック特性図である。ま
た、これらの測定結果のまとめを（表２）に示した。
【００１５】
【表２】
【００１６】（比較例）従来例の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘ
ッドを１０サンプル用意し、実施例と同一の条件下で、
試料のオフトラックに対するＰＷ５０及び規格化出力の
依存性を求めその平均を図２，図３に示した。また、こ
れらの測定結果のまとめを（表２）に示した。図２から
明らかなように、比較例ではオフトラック時のＰＷ５０
の劣化が著しくなっていることがわかる。またオフトラ
ック０付近でのＰＷ５０の平坦領域は約１．５μｍであ
り、記録コア幅Ｂと磁束検出幅Ａの差に等しかった。こ
れは、磁束検出部が記録トラックから外れるにしたがっ
て、ＰＷ５０が劣化していることを意味しており、磁束
検出幅Ａから外れた領域、つまりリード層４の位置にあ
る記録トラックからの磁束の影響がより強く現れるため
と言える。また図３から明らかなように、比較例の実効
トラック幅は実施例と比較して大きくなっており、リー
ド層４の膜厚が増加することによって実効トラック幅が
増大することがわかる。同図においてもオフトラック０
付近での平坦領域は約１．５μｍであり、前記ＰＷ５０
のオフトラックと同様の傾向が認められる。本実施例に
おいてはリード層４１の膜厚を０．１５μｍ以下、シー
ルド間距離の比Ｄ／Ｃを１．３５以下にすることで前記
特性の著しい改善効果が認められた。本実施例において
はシールド間距離の比Ｄ／Ｃを１に近づけるためにリー
ド層４１の膜厚を薄くしたが、リード層４１の上に形成
する絶縁層２′の表面を平坦化することによっても同様
の効果が得られることは容易に推察できる。このように
磁束検出幅Ａの領域でのシールド間距離Ｃとリード層４
１が形成された領域Ｅでのシールド間距離Ｄの差を小さ
くすることにより、オフトラック時のＰＷ５０の劣化を
減少させ、実効トラック幅を狭くすることが可能であ
り、その結果記録密度を向上させることができ、かつＨ
ＤＤ製造における高い歩留りを示すＭＲヘッドを得るこ
とができることが明らかになった。
ッドを１０サンプル用意し、実施例と同一の条件下で、
試料のオフトラックに対するＰＷ５０及び規格化出力の
依存性を求めその平均を図２，図３に示した。また、こ
れらの測定結果のまとめを（表２）に示した。図２から
明らかなように、比較例ではオフトラック時のＰＷ５０
の劣化が著しくなっていることがわかる。またオフトラ
ック０付近でのＰＷ５０の平坦領域は約１．５μｍであ
り、記録コア幅Ｂと磁束検出幅Ａの差に等しかった。こ
れは、磁束検出部が記録トラックから外れるにしたがっ
て、ＰＷ５０が劣化していることを意味しており、磁束
検出幅Ａから外れた領域、つまりリード層４の位置にあ
る記録トラックからの磁束の影響がより強く現れるため
と言える。また図３から明らかなように、比較例の実効
トラック幅は実施例と比較して大きくなっており、リー
ド層４の膜厚が増加することによって実効トラック幅が
増大することがわかる。同図においてもオフトラック０
付近での平坦領域は約１．５μｍであり、前記ＰＷ５０
のオフトラックと同様の傾向が認められる。本実施例に
おいてはリード層４１の膜厚を０．１５μｍ以下、シー
ルド間距離の比Ｄ／Ｃを１．３５以下にすることで前記
特性の著しい改善効果が認められた。本実施例において
はシールド間距離の比Ｄ／Ｃを１に近づけるためにリー
ド層４１の膜厚を薄くしたが、リード層４１の上に形成
する絶縁層２′の表面を平坦化することによっても同様
の効果が得られることは容易に推察できる。このように
磁束検出幅Ａの領域でのシールド間距離Ｃとリード層４
１が形成された領域Ｅでのシールド間距離Ｄの差を小さ
くすることにより、オフトラック時のＰＷ５０の劣化を
減少させ、実効トラック幅を狭くすることが可能であ
り、その結果記録密度を向上させることができ、かつＨ
ＤＤ製造における高い歩留りを示すＭＲヘッドを得るこ
とができることが明らかになった。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明は、オフトラック時
のＰＷ５０の劣化を低減させ、実効トラック幅を狭くす
ることができ、記録密度を著しく向上させることができ
るとともに、高生産性で信頼性に優れた薄膜ＭＲ効果型
磁気ヘッドを実現できるものである。
のＰＷ５０の劣化を低減させ、実効トラック幅を狭くす
ることができ、記録密度を著しく向上させることができ
るとともに、高生産性で信頼性に優れた薄膜ＭＲ効果型
磁気ヘッドを実現できるものである。
【図１】本発明の一実施例における薄膜ＭＲ効果型磁気
ヘッドのＭＲ素子の部分断面要部拡大斜視図
ヘッドのＭＲ素子の部分断面要部拡大斜視図
【図２】本発明の一実施例における薄膜ＭＲ効果型磁気
ヘッドと従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドのＰＷ５０の
オフトラック特性図
ヘッドと従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドのＰＷ５０の
オフトラック特性図
【図３】本発明の一実施例における薄膜ＭＲ効果型磁気
ヘッドと従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドの規格化出力
のオフトラック特性図
ヘッドと従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドの規格化出力
のオフトラック特性図
【図４】従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドのＭＲ素子部
の要部拡大図
の要部拡大図
【図５】従来の薄膜ＭＲ効果型磁気ヘッドの磁気記録媒
体への記録時の模式図
体への記録時の模式図
１ 下部シールド ２，２′ 絶縁層 ３ ＭＲ素子 ４ リード層 ５ 上部シールド ６ 記録ギャップ ７ 記録コア ８ 保護層 ９ シールド段差 １０ 記録対向面磁界 １１ コイル
Claims (2)
- 【請求項１】磁気抵抗素子と記録用電磁誘電型素子を持
つ複合型の薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッドであって、前
記磁気抵抗素子の上下部に積層被膜されている上部シー
ルドと下部シールドとを有し、再生トラック両端に位置
するリード層領域の前記上部シールドと前記下部シール
ドとの間のシールド間隔が、再生トラック領域における
シールド間隔に対して１．３５倍以下に形成されている
ことを特徴とする薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッド。 - 【請求項２】前記リード層の厚さが０．１５μｍ以下で
あることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気抵抗効果
型磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5239683A JPH0793723A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5239683A JPH0793723A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0793723A true JPH0793723A (ja) | 1995-04-07 |
Family
ID=17048363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5239683A Pending JPH0793723A (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0793723A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6157507A (en) * | 1997-09-30 | 2000-12-05 | Nec Corporation | Performance evaluation method of an MR head and a magnetic disk device wherein the method is applied |
| US6590741B1 (en) | 1999-06-14 | 2003-07-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head having grooves to enhance contact with magnetic recording media and magnetic recording/reproducing apparatus |
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1993
- 1993-09-27 JP JP5239683A patent/JPH0793723A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6157507A (en) * | 1997-09-30 | 2000-12-05 | Nec Corporation | Performance evaluation method of an MR head and a magnetic disk device wherein the method is applied |
| US6590741B1 (en) | 1999-06-14 | 2003-07-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head having grooves to enhance contact with magnetic recording media and magnetic recording/reproducing apparatus |
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