JPH0795105B2 - ト−ラス型核融合装置 - Google Patents
ト−ラス型核融合装置Info
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- JPH0795105B2 JPH0795105B2 JP61149675A JP14967586A JPH0795105B2 JP H0795105 B2 JPH0795105 B2 JP H0795105B2 JP 61149675 A JP61149675 A JP 61149675A JP 14967586 A JP14967586 A JP 14967586A JP H0795105 B2 JPH0795105 B2 JP H0795105B2
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
- Branch Pipes, Bends, And The Like (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、プラズマ電流をほぼ一定に維持するトーラ
ス型核融合装置に関するものである。
ス型核融合装置に関するものである。
〔従来の技術〕 第４図は、従来のトーラス型核融合装置の構成を示す断
面図である。このトーラス型核融合装置は、軸対称であ
り、中心軸であるＺ軸に対する円周方向の座標方向に
対して一様である。第４図において、１は小半径がa0、
大半径がR0のトーラス形のプラズマ、２はプラズマ１を
内部に形成する内部がトーラス形に中空の真空容器、３
は真空容器２を内部に包むようにトーラス形に設けられ
たトロイダル磁場コイルであり、電流が流れることによ
って真空容器２の内部の中心軸に沿った方向に磁場を
真空容器２内のプラズマ生成領域に形成する。４は電流
が流れることによって真空容器２内にプラズマ電流を生
成させて維持させるために用いられるオーム加熱コイル
（以下、OHコイルという）であり、直列接続された複数
個のコイルから成る。各OHコイル４はトロイダル磁場コ
イル３の外側でトロイダル磁場コイル３のトーラス形状
に沿って方向に円環状に設けられ、例えば円環状のOH
コイル４はトロイダル磁場コイル３の断面で外側半周分
取巻くような形に設けられている。５はトロイダル磁場
コイル３に通電するためのトロイダル磁場コイル電源、
６はOHコイル４に通電するためのOHコイル電源、７は上
記２電源5,6を各々制御するための制御装置である。な
お、OHコイル４とプラズマ１はトランスの各々一次側、
二次側を形成している。
面図である。このトーラス型核融合装置は、軸対称であ
り、中心軸であるＺ軸に対する円周方向の座標方向に
対して一様である。第４図において、１は小半径がa0、
大半径がR0のトーラス形のプラズマ、２はプラズマ１を
内部に形成する内部がトーラス形に中空の真空容器、３
は真空容器２を内部に包むようにトーラス形に設けられ
たトロイダル磁場コイルであり、電流が流れることによ
って真空容器２の内部の中心軸に沿った方向に磁場を
真空容器２内のプラズマ生成領域に形成する。４は電流
が流れることによって真空容器２内にプラズマ電流を生
成させて維持させるために用いられるオーム加熱コイル
（以下、OHコイルという）であり、直列接続された複数
個のコイルから成る。各OHコイル４はトロイダル磁場コ
イル３の外側でトロイダル磁場コイル３のトーラス形状
に沿って方向に円環状に設けられ、例えば円環状のOH
コイル４はトロイダル磁場コイル３の断面で外側半周分
取巻くような形に設けられている。５はトロイダル磁場
コイル３に通電するためのトロイダル磁場コイル電源、
６はOHコイル４に通電するためのOHコイル電源、７は上
記２電源5,6を各々制御するための制御装置である。な
お、OHコイル４とプラズマ１はトランスの各々一次側、
二次側を形成している。
次に、第４図に示した従来のトーラス型核融合装置の運
転動作について説明する。さて、運転は、まず、トロイ
ダル磁場コイル３に通電し、方向の磁場を発生させ
る。次に、真空容器２中に水素ガスを導入し、予備電離
をさせたあと、制御装置７の制御下でOHコイル電源６が
OHコイル４に流す電流IOHを大幅に変化させ、ファラデ
ーの法則によりプラズマ１に方向の電圧を生じさせ、
プラズマ電流Ipを誘起させる。この結果、第４図におい
て、例えば方向（紙面に垂直方向）にプラズマ電流Ip
が流れ始める。以上の動作は第５図において、時刻t0〜
t1の間で行なわれる。
転動作について説明する。さて、運転は、まず、トロイ
ダル磁場コイル３に通電し、方向の磁場を発生させ
る。次に、真空容器２中に水素ガスを導入し、予備電離
をさせたあと、制御装置７の制御下でOHコイル電源６が
OHコイル４に流す電流IOHを大幅に変化させ、ファラデ
ーの法則によりプラズマ１に方向の電圧を生じさせ、
プラズマ電流Ipを誘起させる。この結果、第４図におい
て、例えば方向（紙面に垂直方向）にプラズマ電流Ip
が流れ始める。以上の動作は第５図において、時刻t0〜
t1の間で行なわれる。
プラズマ電流Ipが所定の値まで生成された後、OHコイル
４の電流IOHを変化させず第５図の破線で示したように
一定にすると、プラズマ１の抵抗によって第５図の破線
C1に見られるようにプラズマ電流Ipは減衰する。そこ
で、OHコイル４に流す電流IOHを第５図の実線のようにt
0〜t1の間と同一の方向にさらに変化させ続ければ、二
次側のプラズマ１には常にプラズマ電流Ipを流すための
電圧が発生し、プラズマ電流Ipを第５図の実線C2で示し
たように一定に維持する運転を行なうことができる。
４の電流IOHを変化させず第５図の破線で示したように
一定にすると、プラズマ１の抵抗によって第５図の破線
C1に見られるようにプラズマ電流Ipは減衰する。そこ
で、OHコイル４に流す電流IOHを第５図の実線のようにt
0〜t1の間と同一の方向にさらに変化させ続ければ、二
次側のプラズマ１には常にプラズマ電流Ipを流すための
電圧が発生し、プラズマ電流Ipを第５図の実線C2で示し
たように一定に維持する運転を行なうことができる。
ところが、この方法では、プラズマ電流を長時間維持す
るためには、OHコイル電流IOHを一方向へ変化させ続け
る必要があり、OHコイル電流IOHが非常に大きなものと
なるため、定常的な運転は不可能である。
るためには、OHコイル電流IOHを一方向へ変化させ続け
る必要があり、OHコイル電流IOHが非常に大きなものと
なるため、定常的な運転は不可能である。
そこで、上記の方法とは別の方法でプラズマ電流を維持
しようとして考えられたのが、文献「プラズマ核融合技
術研究会（昭和60年12月10,11日開催）“Ｆ−θpumping
実験用電源の設計”（予稿集第136頁〜第139頁）」に記
載されている逆転磁場ピンチ（RFP）式トーラス型核融
合装置における“Ｆ−θpumping"と呼ばれる定常電流駆
動法によってプラズマ電流を維持する方法である。
しようとして考えられたのが、文献「プラズマ核融合技
術研究会（昭和60年12月10,11日開催）“Ｆ−θpumping
実験用電源の設計”（予稿集第136頁〜第139頁）」に記
載されている逆転磁場ピンチ（RFP）式トーラス型核融
合装置における“Ｆ−θpumping"と呼ばれる定常電流駆
動法によってプラズマ電流を維持する方法である。
これは、プラズマ電流Ipを所定の値まで生成した後に一
定に維持するために第６図のように、トロイダル磁場コ
イル３の電流ITと、OHコイル４の電流IOHとをある位相
差をもつ正弦波状に変化させることによりプラズマ１に
磁場ヘリシティーを注入し、プラズマ電流Ipを維持させ
るものである。
定に維持するために第６図のように、トロイダル磁場コ
イル３の電流ITと、OHコイル４の電流IOHとをある位相
差をもつ正弦波状に変化させることによりプラズマ１に
磁場ヘリシティーを注入し、プラズマ電流Ipを維持させ
るものである。
これを式により説明する。第４図のようなトーラス型核
融合装置における磁場ヘリシティーＫは、 Ｋ＝∫・dv−ΨΘ・Ψ …（１） ここで、K:磁気ヘリシティー ：ベクトルポテンシャル ：磁場ベクトル Ψ ：トロイダル磁束 ΨΘ：プラズマ外部のポロイダル磁束 で表わされる。そして、この（１）式の時間微分をとる
と次式のようになる。
融合装置における磁場ヘリシティーＫは、 Ｋ＝∫・dv−ΨΘ・Ψ …（１） ここで、K:磁気ヘリシティー ：ベクトルポテンシャル ：磁場ベクトル Ψ ：トロイダル磁束 ΨΘ：プラズマ外部のポロイダル磁束 で表わされる。そして、この（１）式の時間微分をとる
と次式のようになる。
ここで、Φ：トロイダル磁束 Ｖ ：プラズマのループ電圧 ：電場ベクトル （２）式において右辺第１項は、単位時間あたりの磁気
ヘリシティー注入量を表わし、第２項がプラズマ１の電
気抵抗による磁気ヘリシティーの散逸量を表わしてい
る。
ヘリシティー注入量を表わし、第２項がプラズマ１の電
気抵抗による磁気ヘリシティーの散逸量を表わしてい
る。
ここで、第１項の磁気ヘリシティー注入量に注目する。
Φはポロイダル方向の一周電圧ＶΘの積分によって得ら
れ、 Φ＝∫ＶΘdt ……（３） で表わされる。いま、プラズマ１のループ電圧Ｖ とポ
ロイダル方向の一周電圧ＶΘとを同一周波数ω、お互い
の位相差がδの正弦波状に変化させるとき（２）式の右
辺第１項のヘリシティー注入量の時間平均をとると、 ここで、Θ:VΘの変化分の振幅 :V の変化分の振幅 となる。（４）式によれば、位相差δを選ぶことによ
り、ヘリシティー注入量は正の値をとり、これが磁気ヘ
リシティー散逸の量の時間平均と等しくなれば、プラズ
マ電流Ipを維持することができる。
Φはポロイダル方向の一周電圧ＶΘの積分によって得ら
れ、 Φ＝∫ＶΘdt ……（３） で表わされる。いま、プラズマ１のループ電圧Ｖ とポ
ロイダル方向の一周電圧ＶΘとを同一周波数ω、お互い
の位相差がδの正弦波状に変化させるとき（２）式の右
辺第１項のヘリシティー注入量の時間平均をとると、 ここで、Θ:VΘの変化分の振幅 :V の変化分の振幅 となる。（４）式によれば、位相差δを選ぶことによ
り、ヘリシティー注入量は正の値をとり、これが磁気ヘ
リシティー散逸の量の時間平均と等しくなれば、プラズ
マ電流Ipを維持することができる。
このことより、従来の装置ではポロイダル方向の一周電
圧ＶΘ，ループ電圧Ｖ に正弦波状の変化をもたせるた
めに、第６図のように、トロイダルコイル電流ITとOHコ
イル電流IOHとをある位相差をもつ正弦波状に変化させ
ることによってプラズマ電流Ipの維持を行なうものであ
る。なお、トロイダル磁場コイル４にはOHコイル電流I
OHと同じく正弦波状の電流を流すものとする。
圧ＶΘ，ループ電圧Ｖ に正弦波状の変化をもたせるた
めに、第６図のように、トロイダルコイル電流ITとOHコ
イル電流IOHとをある位相差をもつ正弦波状に変化させ
ることによってプラズマ電流Ipの維持を行なうものであ
る。なお、トロイダル磁場コイル４にはOHコイル電流I
OHと同じく正弦波状の電流を流すものとする。
従来のトーラス型核融合装置は以上のように構成されて
いるので、OHコイル電流と同時にトロイダル磁場コイル
の電流も周期的に変化させねばならないが、トロイダル
磁場コイルのインダクタンスが比較的大きい場合が多い
ため、トロイダル磁場コイル電流に正弦波状の変化分を
持たせるには、大きい電圧を繰り返し発生するような電
源がトロイダル磁場コイル電源として必要になり、トロ
イダル磁場コイル電源が高価となるなどの問題点があっ
た。
いるので、OHコイル電流と同時にトロイダル磁場コイル
の電流も周期的に変化させねばならないが、トロイダル
磁場コイルのインダクタンスが比較的大きい場合が多い
ため、トロイダル磁場コイル電流に正弦波状の変化分を
持たせるには、大きい電圧を繰り返し発生するような電
源がトロイダル磁場コイル電源として必要になり、トロ
イダル磁場コイル電源が高価となるなどの問題点があっ
た。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、トロイダル磁場コイル電流を正弦波状に連続
して変化させる必要もなくプラズマ電流をほぼ一定に維
持できるトーラス型核融合装置を得ることを目的とす
る。
たもので、トロイダル磁場コイル電流を正弦波状に連続
して変化させる必要もなくプラズマ電流をほぼ一定に維
持できるトーラス型核融合装置を得ることを目的とす
る。
この発明に係るトーラス型核融合装置は、形状制御コイ
ルに流す電流を周期的に変化させてプラズマの断面積を
繰り返し変化させると共に、OHコイルに流す電流を同一
周波数で周期的な変化をさせるように制御したものであ
る。
ルに流す電流を周期的に変化させてプラズマの断面積を
繰り返し変化させると共に、OHコイルに流す電流を同一
周波数で周期的な変化をさせるように制御したものであ
る。
この発明におけるトーラス型核融合装置は、形状制御コ
イル電流を周期的に変化させることによりプラズマの断
面積と周期的に変化させ、間接的に、プラズマ中のトロ
イダル磁束の量を変化させ、トロイダル磁場コイル電流
を繰り返し変化させることなくプラズマ電流を維持す
る。
イル電流を周期的に変化させることによりプラズマの断
面積と周期的に変化させ、間接的に、プラズマ中のトロ
イダル磁束の量を変化させ、トロイダル磁場コイル電流
を繰り返し変化させることなくプラズマ電流を維持す
る。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第１図はこの発明の一実施例によるトーラス型核融合装
置の構成を示す模式的断面図である。同図において、第
４図と同符号の部分は従来例のものと同一であり、８は
真空容器２とトロイダル磁場コイル３との間に設けられ
てプラズマ１の断面形状を制御する形状制御コイルであ
り、この実施例では真空容器２の中空の円状の中心軸に
沿って巻回されたコイルが真空容器２の上下に一対にし
て設けられている。９は形状制御コイル８にプラズマ１
と同方向に電流を流すための形状制御コイル電源、10は
トロイダル磁場コイル電源５、OHコイル電源６および形
状制御コイル電源を制御する制御装置であり、トロイダ
ル磁場コイル３、OHコイル４および形状制御コイル８に
流す各電流量を各々制御する。
置の構成を示す模式的断面図である。同図において、第
４図と同符号の部分は従来例のものと同一であり、８は
真空容器２とトロイダル磁場コイル３との間に設けられ
てプラズマ１の断面形状を制御する形状制御コイルであ
り、この実施例では真空容器２の中空の円状の中心軸に
沿って巻回されたコイルが真空容器２の上下に一対にし
て設けられている。９は形状制御コイル８にプラズマ１
と同方向に電流を流すための形状制御コイル電源、10は
トロイダル磁場コイル電源５、OHコイル電源６および形
状制御コイル電源を制御する制御装置であり、トロイダ
ル磁場コイル３、OHコイル４および形状制御コイル８に
流す各電流量を各々制御する。
第２図はOHコイル４に流す電流IOHの時間的変化と形状
制御コイル８に流す電流ISCの時間的変化を示す波形図
である。
制御コイル８に流す電流ISCの時間的変化を示す波形図
である。
第３図は形状制御コイル８に流す電流ISCを変化させた
時にプラズマ１の断面積の変化を示す状態図であり、同
図において、1aは電流ISCが小の時のプラズマ１の断面
形状、1bは同じく1SCが大の時のプラズマ１の断面形状
である。
時にプラズマ１の断面積の変化を示す状態図であり、同
図において、1aは電流ISCが小の時のプラズマ１の断面
形状、1bは同じく1SCが大の時のプラズマ１の断面形状
である。
次に、この発明の一実施例によるトーラス型核融合装置
のプラズマ電流駆動を行なう動作を説明する。
のプラズマ電流駆動を行なう動作を説明する。
OHコイル電源６によりOHコイル４を時刻t0までの間に或
る電流値まで励磁し、その後時刻t0から同t1までの間に
OHコイル４に流した電流IOHの増加方向とは反対方向に
急激に変化させ、プラズマ１に電圧を印加しプラズマ１
内に流れるプラズマ電流Ipを立ち上がらせる。
る電流値まで励磁し、その後時刻t0から同t1までの間に
OHコイル４に流した電流IOHの増加方向とは反対方向に
急激に変化させ、プラズマ１に電圧を印加しプラズマ１
内に流れるプラズマ電流Ipを立ち上がらせる。
次に、時刻t1に近い時刻t2より制御装置10は形状制御コ
イル電源９を介して形状制御コイル８の励磁を開始す
る。そして、時刻t2に近い時刻t3からこの形状制御コイ
ル８の電流ISCを正弦波状に変化させる。また、制御装
置10は、OHコイル電源６を介して、時刻t1とt2の間、OH
コイル４の電流IOHを一定にした後、時刻t3以降形状制
御コイル８の電流ISCと位相を同じにしてそれと同じ周
波数の正弦波状の電流IOHを流す。第３図に示したよう
に、プラズマ１の断面形状は、形状制御コイル８の電流
ISCが小さいとき、プラズマ1aのような円形断面とな
り、同じく電流ISCが大きいとき、プラズマ1bのような
縦楕円形断面となる。すなわち、時刻t3以降では形状制
御コイル８に流れる電流ISCの大きさに従ってプラズマ
１の断面形状が変化することになる。トロイダル磁場コ
イル電流を一定に保っていても、このときのプラズマ１
の断面積の変化によってプラズマ１中のトロイダル磁束
の総量が変化する。このときのトロイダル磁束の変化分
Φを次式のように仮定する。
イル電源９を介して形状制御コイル８の励磁を開始す
る。そして、時刻t2に近い時刻t3からこの形状制御コイ
ル８の電流ISCを正弦波状に変化させる。また、制御装
置10は、OHコイル電源６を介して、時刻t1とt2の間、OH
コイル４の電流IOHを一定にした後、時刻t3以降形状制
御コイル８の電流ISCと位相を同じにしてそれと同じ周
波数の正弦波状の電流IOHを流す。第３図に示したよう
に、プラズマ１の断面形状は、形状制御コイル８の電流
ISCが小さいとき、プラズマ1aのような円形断面とな
り、同じく電流ISCが大きいとき、プラズマ1bのような
縦楕円形断面となる。すなわち、時刻t3以降では形状制
御コイル８に流れる電流ISCの大きさに従ってプラズマ
１の断面形状が変化することになる。トロイダル磁場コ
イル電流を一定に保っていても、このときのプラズマ１
の断面積の変化によってプラズマ１中のトロイダル磁束
の総量が変化する。このときのトロイダル磁束の変化分
Φを次式のように仮定する。
ここで、 トロイダル磁束Φの変化分の振幅 また、（４）式においてOHコイル電流の変化によって生
ずるプラズマのループ電圧Ｖ を Ｖ ＝ sin（ωｔ＋δ） …（６） ここで、 ：ループ電圧Ｖ の変化分の振幅と仮定す
ると、磁気ヘリシティー流入量は次式のようになる。
ずるプラズマのループ電圧Ｖ を Ｖ ＝ sin（ωｔ＋δ） …（６） ここで、 ：ループ電圧Ｖ の変化分の振幅と仮定す
ると、磁気ヘリシティー流入量は次式のようになる。
となる。
そこで、（７）式を最大にするように、δ＝０の位相差
を持つ同一周波数の正弦波状の変化分を有するようなOH
コイル４の電流IOHを時刻t3以降流すことにより従来と
等しい磁気ヘリシティーの注入が行なわれ、プラズマ電
流Ipの維持が行なわれる。このときプラズマ電流Ipが発
生している時、トロイダル磁場コイル３の電流３は変化
なく一定に保たれていてもよい。
を持つ同一周波数の正弦波状の変化分を有するようなOH
コイル４の電流IOHを時刻t3以降流すことにより従来と
等しい磁気ヘリシティーの注入が行なわれ、プラズマ電
流Ipの維持が行なわれる。このときプラズマ電流Ipが発
生している時、トロイダル磁場コイル３の電流３は変化
なく一定に保たれていてもよい。
なお、上記の実施例では、OHコイル、形状制御コイルの
電流を正弦波状に変化させる場合について説明したが、
三角波等のような他の周期波形で変化させてもよい。
電流を正弦波状に変化させる場合について説明したが、
三角波等のような他の周期波形で変化させてもよい。
また、形状制御コイルは真空容器の上下でなくともよ
く、プラズマの断面積を変化させる磁界を発生させるも
のならばどこの位置でもどの方向にも電流を流してもよ
いし、またいくつあっても構わない。
く、プラズマの断面積を変化させる磁界を発生させるも
のならばどこの位置でもどの方向にも電流を流してもよ
いし、またいくつあっても構わない。
また、上記実施例において、OHコイル電流IOHと形状制
御コイル電流ISCの位相を同じにしたが、それらの位相
が互いに異なるようにしても上記実施例と同様の効果を
奏する。
御コイル電流ISCの位相を同じにしたが、それらの位相
が互いに異なるようにしても上記実施例と同様の効果を
奏する。
また、形状制御コイルの電流を変化させ、これをセンサ
ーなどにより検出し、これからプラズマ中のトロイダル
磁束量を計算し、これに応じてOHコイル電流をフィード
バック制御するようにしてもよい。
ーなどにより検出し、これからプラズマ中のトロイダル
磁束量を計算し、これに応じてOHコイル電流をフィード
バック制御するようにしてもよい。
〔発明の効果〕 以上のように、この発明によればOHコイルと形状制御コ
イルに流れる電流値を周期波に制御するだけでプラズマ
の断面積を変化させてプラズマ電流を維持するように構
成したので、形状制御コイルに比べ大きなインダクタン
スをもつトロイダル磁場コイルの電流を繰り返し変化さ
せる必要がなく、また、OHコイル電流を一定方向に増大
させ続ける必要もないため、電源装置として安価となる
ものが得られる効果がある。
イルに流れる電流値を周期波に制御するだけでプラズマ
の断面積を変化させてプラズマ電流を維持するように構
成したので、形状制御コイルに比べ大きなインダクタン
スをもつトロイダル磁場コイルの電流を繰り返し変化さ
せる必要がなく、また、OHコイル電流を一定方向に増大
させ続ける必要もないため、電源装置として安価となる
ものが得られる効果がある。
第１図はこの発明に係るトーラス型核融合装置の一実施
例の構成を示す模式的断面図、第２図は第１図に示した
装置の運転動作を説明するための波形図、第３図はプラ
ズマの断面形状を変えた時の状態説明図、第４図は従来
のトーラス型核融合装置の構成を示す模式的断面図、第
５図は従来のトーラス型核融合装置においてOHコイル電
流を変化させなければ、プラズマ電流が次第に減少して
ゆくこと説明するための波形図、第６図は第４図に示し
た従来のトーラス型核融合装置の運転動作を説明するた
めの波形図である。 図において、１はプラズマ、２は真空容器、３はトロイ
ダル磁場コイル、４はOHコイル、５はトロイダル磁場コ
イル電源、６はOHコイル電源、８は形状制御コイル、９
は形状制御コイル電源、10は制御装置。 なお、図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。
例の構成を示す模式的断面図、第２図は第１図に示した
装置の運転動作を説明するための波形図、第３図はプラ
ズマの断面形状を変えた時の状態説明図、第４図は従来
のトーラス型核融合装置の構成を示す模式的断面図、第
５図は従来のトーラス型核融合装置においてOHコイル電
流を変化させなければ、プラズマ電流が次第に減少して
ゆくこと説明するための波形図、第６図は第４図に示し
た従来のトーラス型核融合装置の運転動作を説明するた
めの波形図である。 図において、１はプラズマ、２は真空容器、３はトロイ
ダル磁場コイル、４はOHコイル、５はトロイダル磁場コ
イル電源、６はOHコイル電源、８は形状制御コイル、９
は形状制御コイル電源、10は制御装置。 なお、図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (3)
- 【請求項１】内部が中空のトーラス形状の真空容器と、
この真空容器の外側周囲に設けられたトロイダル磁場コ
イルと、このトロイダル磁場コイルに第１の電流を流す
トロイダル磁場コイル電流と、前記トロイダル磁場コイ
ルの外周囲に設けられたオーム加熱コイルと、このオー
ム加熱コイルに第２の電流を流すオーム加熱コイル電源
と、前記トロイダル磁場コイル電源およびオーム加熱コ
イル電源の各出力電流量を制御する制御装置とを有する
トーラス型核融合装置において、前記真空容器内の中心
軸に沿った方向に巻回された形状制御コイルと、この形
状制御コイルに第３の電流を流す形状制御コイル電源と
を備え、前記制御装置を前記形状制御コイル電源の出力
電流量の制御をも可能ならしめ、前記真空容器内に生成
されたプラズマ内を流れるプラズマ電流の通電時に、前
記制御装置は前記第２の電流を周期的に変化させ、同時
に第３の電流を前記第２の電流と同一周期の周期波に制
御して前記プラズマの断面積を周期的に変化させること
を特徴とするトーラス型核融合装置。 - 【請求項２】前記周期波を正弦波状にすることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のトーラス型核融合装
置。 - 【請求項３】前記形状制御コイルを複数としたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項記載のトーラ
ス型核融合装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61149675A JPH0795105B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | ト−ラス型核融合装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61149675A JPH0795105B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | ト−ラス型核融合装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS636489A JPS636489A (ja) | 1988-01-12 |
| JPH0795105B2 true JPH0795105B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=15480370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61149675A Expired - Lifetime JPH0795105B2 (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | ト−ラス型核融合装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0795105B2 (ja) |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP61149675A patent/JPH0795105B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS636489A (ja) | 1988-01-12 |
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