JPH0796042A

JPH0796042A - 圧電性高分子を用いた歯周組織および骨誘導再生法

Info

Publication number: JPH0796042A
Application number: JP13116193A
Authority: JP
Inventors: Hisatoshi Tanaka; 久敏田中; Eiko Mushimoto; 栄子虫本; Shoichi Chiba; 昌一千葉
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1993-05-07
Filing date: 1993-05-07
Publication date: 1995-04-11

Abstract

(57)【要約】【目的】歯科治療において治癒の促進を図ることが目
的である。即ち新規な歯周組織および骨誘導再生法を提
供する。【構成】歯３の露出歯根面の骨欠損部の治療の例につ
いてのべると、歯肉骨膜弁１２を作成し、骨欠損部及び
その周辺を圧電性高分子シート１５で覆って圧接し、歯
肉骨膜弁１２を復位縫合する。術後４週間目に切開を加
え高圧性シート１５を除去する。これによって歯周組織
とくに歯を支持する歯槽骨と歯根膜組織を歯周病に罹患
していた歯により早期に予知性をもった誘導再生が可能
となる。その他インプラント体周囲の骨組織を早期に誘
導再生、骨組織の欠損に対する早期誘導再生、移植骨組
織の癒合の早期化、骨折部位を金属体で固定する際の早
期癒合等を図る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は歯周疾患や外科的侵襲に
よって欠損した歯周組織や骨組織また即時埋入歯科イン
プラントにおける早期誘導再生に関する。特にシート状
にした圧電性高分子を欠損した歯周組織や骨組織周囲に
直接密着させ、圧電性高分子シートが口腔内で生ずる圧
力によって発生する微小な電位変化を歯周組織や骨組織
に対して微小電気刺激として与え、より確実にその再生
誘導を促進する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】生体電気刺激において多くの研究者が直
流電気刺激について検討している。漿尿膜上培養骨を用
いて直流、交流とによる骨形成量を比較し、直流実験群
では電極周囲に著明な骨形成が観察されたのに対して、
交流実験群では対照群に比較しわずかな骨の増大しか認
められなかったという報告がある。また直流刺激に比較
しパルス波刺激では骨形成量が劣っているという報告が
ある。したがって、直流電気刺激は骨組織に直接通電す
る方法としてはもっとも著明な効果を期待できるものと
考えられる。しかし、微小電気刺激の電極をインプラン
ト体と一体化し、犬下顎骨に埋植してそのインプラント
体周囲の骨形成について検討した結果、陰極においては
骨形成と石灰化が促進していたのに対して、陽極におい
ては骨形成が促進されずに、骨とインプラント体との間
に線維性結合組織が介在していたとの報告がある。直流
電流刺激において同様の所見が、多くの研究者たちによ
って報告されている。以上のように、直流定電流では陰
極側で骨形成が著しく促進するものの陽極における骨形
成抑制の問題がのこる。

【０００３】また、口腔という狭小で審美的な要求が高
い部位に現在まで使用されてきた微小電気刺激装置をそ
のまま臨床応用するのには難点がある。一方、歯科臨床
において歯周病によって破壊された歯周組織の再生やイ
ンプラント周囲への骨誘導再生を目的としてＧＴＲ法に
関する報告がなされてきたが、そこではＧｏｒｅ−Ｔｅ
ｘ膜、ＰＬＡ膜などが物理的バリアーとして利用されて
きた。これらの膜材料は口腔という狭小な部位で応用す
るには大きさという点で有用であると考えられる。しか
し膜材料自体は骨形成を活用化する因子を有していな
い。

【０００４】歯周組織や骨組織を再生する組織誘導再生
法（ＧＴＲ法）として紹介、応用されつつある材料に
は、ｅ−ＰＴＦＥ膜やコラーゲン膜がある。このＧＴＲ
法については歯周組織の誘導再生に関し、例えばE.S.Co
hen 著「歯周外科アトラス」（鴨井久一、太田紀雄
訳）、西村書店「歯周治療の目標とＧＴＲ法の位置づ
け」歯界展望第８０巻、第２号、Ｐ．２９３〜３１５に
記載されている。

【０００５】（１）以下これらを参考に歯周組織の再生
術について述べると以下のとおりである。歯肉溝内切開あるいは歯肉縁に近接した内科切開を
くわえ、歯肉骨膜弁を作製する。骨欠損部には不良肉芽組織が存在するためこれを完
全に除去し、露出歯根面をキュレット等で清掃、滑沢化
を図る。従来行われてきたフラップオペレーションではこの
後歯肉骨膜弁を戻し縫合する。しかしこれでは歯周組織
を再生できず再付着しか獲得することができない。近年
試験的に行われている組織誘導再生法（ＧＴＲ法）で
は、清掃後の骨欠損部にｅ−ＰＴＦＥ膜やコラーゲン膜
を欠損形態に膜を調整し、歯面に密着させ歯肉骨膜弁を
復位し緊密に縫合する。膜は術後４〜６週間に切開をくわえ除去する。この
際膜周囲の内縁上皮も除去し縫合することによって組織
を再生する新付着という形態を獲得可能となる。

【０００６】（２）歯科インプラントでの骨誘導再生
（骨組織誘導再生という）については以下のとおりであ
る。

【０００７】歯科インプラントには様々なタイプのイン
プラント体とその上部構造が存在している。現在は材料
的に骨結合性で歯根型のインプラント体が多く利用され
ている。しかし、適応症が限られており特に埋入部位の
骨幅や骨量が十分でない場合には禁忌症とされている。
また抜歯直後でのインプラント埋入手術は感染の危険性
やインプラント支持骨が不足して予後不良と予想される
ためこれもまた禁忌症とされている。ａ）抜歯直後、現在実験的に行われているため確立さ
れた術式はない。ｂ）抜歯後長期に経過した顎骨での応用従来例では抜歯後ほぼ３〜６ケ月位骨欠損部の治癒を待
って手術を行っている。しかし欠損が十分回復していな
い症例では禁忌症となる。現在実験的に行われている術
式について「チタン・インプラントにおけるＧＲＴ法の
応用」theQuintessence. vol.９ＮＯ．１１４７〜
５０、「チタン・骨内インプラントにおけるＧＴＲ法の
応用」the Quntessence. vol. １０ＮＯ．５５１〜
５９に記載されている。これを参考に術式を以下に記載
する。欠損部顎堤に切開をくわえ歯肉骨膜弁を形成する。顎骨部の鋭縁を整形し、インプラント体を植立する
インプラント窩を形成する。インプラント体植立後骨欠損部を被覆するようにｅ
−ＰＴＦＥ膜を骨面に密着させインプラント体に装着す
るヒーリングキャップなどでこれを固定する。これらが完全に隠れる様に歯肉骨膜弁を復位し緊密
に縫合する。術後に膜が露出してきた時期あるいは４〜６週間後
に膜の除去手術を行い、同時に２次手術を行う。さらに１次手術の３ケ月後に２次パート（アバット
メント）を接合し、補綴物を装着する。

【０００８】（３）外科的骨欠損や骨折部位での応用に
関しては膜を使用した術式はとくに確立されていない。
したがって従来例はそれぞれ外科的処置を行う歯肉骨膜
弁を縫合し、手術部位の安静を図りながら生体自身の治
癒能力に委ねているのが現状である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】然し乍ら上記従来例で
は、（１）歯周組織の誘導再生についてｅ−ＰＴＦＥ膜を応用した場合には新生結合組織性
付着が獲得されるが、骨組織をはじめとした歯周組織の
再生に関して予見性に乏しいとする結果がでている。コラーゲン膜を応用した場合術式自体は簡単になる
が、その結果に関してはさらに治癒能力によって大きく
左右され予見性に乏しい。ｅ−ＰＴＦＥ膜をはじめとする非吸収性膜では治癒
過程を生体自身の治癒能力に依存しているため膜の埋入
期間が様々である。ｅ−ＰＴＦＥ膜の埋入期間が長期化することによっ
て膜の露出や露出による細菌感染の危険性が高い。（２）歯科インプラントでの骨組織誘導再生について抜歯直後でのインプラント埋入手術は感染の危険性が高
い。またインプラント支持骨が不足しインプラント体の
動揺によって骨結合がなされないなどの理由で予後が不
良と予測されるため禁忌症となっている。（３）外科的骨欠損や骨折部位での応用についてそれぞれの外科処置後は生体自身の治癒能力に依存して
いるため、骨の治癒形態が様々であり、また長期間を要
することもある。

【００１０】本発明は、上記従来例の欠点を解消し、組
織再生をより確実なものとし生体の治癒能力を向上させ
治癒期間の短縮をはかり、さらに適応症の拡大を図るこ
とを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の発明は歯
周疾患によって破壊された骨組織、歯根膜組織をはじめ
とした歯周組織の欠損部位に対して、歯周外科的処置を
行うと同時に圧電性高分子シートを同欠損部に密着させ
埋入しその治療を早期に行うことを特徴とする圧電性高
分子を用いた歯周組織および骨誘導再生法である。

【００１２】本発明の第２の発明は抜歯直後に歯科イン
プラント体を埋入しこれと同時にこの上に圧電性高分子
シートを埋入して抜歯窩の早期治療とインプラント体周
囲の骨組織を早期に誘導再生することを特徴とする圧電
性高分子を用いた歯周組織および骨誘導再生法である。

【００１３】本発明の第３の発明はその形態が歯が存在
していたころより骨幅や高さが減少した抜歯後長期に経
過した顎骨の部位に歯科インプラント体を植立し、不足
している部位に骨組織を誘導再生するように空隙を作り
圧電性高分子シートを固定して周囲骨から同部に骨組織
を誘導再生することを特徴とする圧電性高分子を用いた
歯周組織および骨誘導再生法である。

【００１４】本発明の第４の発明は歯根端切除術をはじ
めその他の外科的侵襲によって骨組織の欠損が生じた場
合、その手術後骨欠損部位に圧電性高分子シートを密着
固定し創を閉鎖し骨組織の早期誘導再生を図ることを特
徴とする圧電性高分子を用いた歯周組織および骨誘導再
生法である。

【００１５】本発明の第５の発明は顎骨に対して骨組織
の移植を行う場合移植片と既存骨の境界部位に圧電性高
分子シートを密着固定し、骨組織の癒合を早期に図るこ
とを特徴とする圧電性高分子を用いた骨誘導再生法であ
る。

【００１６】本発明の第６の発明は骨折部位を金属体で
固定する際に圧電性高分子シートを金属体の内側に置き
固定して骨折部の早期癒合を図ることを特徴とする圧電
性高分子を用いた骨誘導再生法である。

【００１７】本発明の第７の発明は圧電性高分子シート
はフッ化ビニリデンとトリフルオロエチレンの共重合体
であることを特徴とする第１の発明から第６の発明の何
れか１つに記載の歯周組織および骨誘導再生法である。

【００１８】本発明の第８の発明は圧電性高分子シート
はフッ化ビニリデン７５ｍｏｌ％、トリフルオロエチレ
ン２５ｍｏｌ％で厚み方向への圧電縦効果が最大値を示
し、厚みが４０〜５０μｍで、熱処理後アルミ蒸着がな
され分極処理されていること、さらに使用時にはアルミ
蒸着を除去されることを特徴とする第７の発明に記載の
歯周組織および骨誘導再生法である。

【００１９】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。

【００２０】「実施例１」この実施例は歯周組織誘導再
生法に関する。以下、順を追って説明する。本例は下顎
の歯周の治療に関し、図は正面からの斜視図である。（１）図１において、歯３の根分岐部に骨欠損部があ
ると診断された場合にメス５でもって各歯１〜４の顎堤
１０の歯周縁６を切開する。その際、例えば図１のＡ−
Ａをとおり、図の紙面に交叉する方向の断面で示す図２
のように例えば歯２と歯肉縁６の間の歯肉溝７に沿って
歯肉溝内切開８を行うか或は歯肉溝７よりも歯肉縁６へ
少し寄った位置から斜めに歯肉溝７へ向って内斜め切開
９を行う（矢印は何れもメスの方向）。次に図３に示す
ように歯１〜４と切離された歯肉骨膜弁１２を作成し顎
骨から剥離する。これによって歯３の露出歯根面１３に
存在する骨欠損部１４が現われる。（２）骨欠損部１４には不良肉芽組織が存在するため
これを完全に除去し、露出歯根面１３をキュレット等で
清掃、滑沢化を図る。（３）本発明における組織誘導再生法（ＧＴＲ法）で
は、清掃後の骨欠損部１４に圧電性高分子シート１５を
骨欠損部１４の欠損形態に調整し、図４に示すように骨
欠損部１４を覆って歯面に密着させ、図５に示すように
歯肉骨膜弁１２を復位し緊密に縫合１７する。（４）図６に示すように圧電性高分子シート１５は術
後４週目に切開をくわえ除去する。この際図７に示すよ
うに圧電性高分子シート１５周囲の内縁上皮１８も除去
し縫合する。（５）これによって歯周組織とくに歯を支持する歯槽
骨と歯根膜組織を歯周病に罹患していた歯により早期に
予知性をもった誘導再生が可能となる。

【００２１】上記において、圧電性高分子シート１５は
ＶＤＦ／ＴｒＦＥシート（フッ化ビニリデン／トリフル
オロエチレンシート）を用いる。

【００２２】ＶＤＦ／ＴｒＦＥシート（ダイキン工業社
製）は、フッ化ビニリデン７５ｍｏｌ％、トリフルオロ
エチレン２５ｍｏｌ％の共重合体であり、厚み方向への
圧電性を示す圧電縦効果が最大値を示すものを選択し
た。ＶＤＦ／ＴｒＦＥシートは、厚みが４０〜５０μｍ
で、熱処理後アルミ蒸着がなされ分極処理が行われ、さ
らに使用時にはアルミ蒸着が除去されている。

【００２３】この圧電性高分子シート１５によって生体
内で発生する微小電気の電流値については本発明者等は
ラットの大腿骨の長軸方向に埋設し、ラット体内の圧電
性高分子シート１５からリード線を体外へ導き、電位、
発生周波数、インピーダンスを測定する装置に配線し
た。

【００２４】その結果、発生電位はラット歩行時平均７
０．４ｍＶ、最大＋３１０ｍＶ，−４９７ｍＶ、周波数
は５９．８Ｈｚであった。

【００２５】走行時においては発生電位１３９．９ｍ
Ｖ、発生ピーク電位はプラス側１．１９７ｍＶ、マイナ
ス側１．０３４ｍＶ、周波数は３９．５Ｈｚであった。

【００２６】微動時では、発生電位は４９．２ｍＶ、発
生ピーク電位はプラス側１４５ｍＶ、マイナス側２７５
ｍＶ、周波数は５７．６Ｈｚであった。

【００２７】また、最大発生電位はプラス側１．５３１
ｍＶ、マイナス側１．６１２ｍＶであった。

【００２８】全インピーダンス｜Ｚ｜の測定は発生電位
測定で明らかになった周波数帯を含む比較的低い周波数
帯域で行った。周波数が増加するとともに｜Ｚ｜は減少
した。発生電位測定の結果から、ラット活動時の周波数
帯１００Ｈｚ以下と考えられることから、これに対応す
る｜Ｚ｜の範囲は５．２〜４２．０ｋΩであった。

【００２９】上記、電位とインピーダンスの測定から、
電流値を計算すると電流値Ｉは最大３×１０^-2（μＡ）
と推定される。

【００３０】上記により、圧電性高分子シート１５は微
小電気刺激手段としての可能性を示している。

【００３１】本発明者等の内の一人は更に圧電性高分子
シートによる微小電気刺激の骨再生に関する病理組織学
的研究を行つた。実験方法としてはラット大腿骨付近に
実験Ａ群としてノンポーリングシートを埋設し、実験Ｂ
群として圧電性高分子シート１５を埋設し、術後、１週
間、２週間、３週間目、４週間目の埋設シート周囲のラ
ット大腿骨の病理組織を観察した。

【００３２】そして、治癒過程に及ぼす影響について病
理組織学的に検討し、以下の結論を得た。１．対照群では初期において骨外周の筋やこれに接する
線維性結合組織の陥入によって外表形態の回復が遅れた
が、骨新生が盛んになると完全に回復し外骨膜側に骨が
形成された。しかし内骨膜側では骨髄腔が拡大する傾向
にあつた。２．ノンポーリングシートでは線維性結合組織の陥入を
遮断したため、骨の外表形態の回復は対照群より早かっ
たが、骨の成熟は遅延する傾向にあった。３．圧電性高分子シートは治癒の初期から骨の新生とそ
の成熟を促進し、他群と異なり穿孔部内骨膜側に多くの
骨梁が形成されていた。

【００３３】圧電性高分子シートは筋や線維性結合組織
の陥入を遮断し骨形成の場を確保するとともに、生体の
発生する Stress Generated Potentialに近似したより
生理的な微小電気刺激を与えることが可能と考えられ
た。

【００３４】「実施例２」次に歯科インプラントでこの
骨組織誘導再生への本発明を適用した実施例についての
べる。

【００３５】本実施例は抜歯後に行う治療に関する。（１）図１〜３について説明したのと同様に抜歯する
歯３の回りにメス５を入れ、抜歯する歯３及び歯１，
２，４の周りの顎堤１０に切開をくわえ歯肉骨膜弁１２
を形成する。（２）図８に矢印３′で示すように歯３の抜歯を行
う。（３）歯３が取り除かれることによって生じた顎骨部
１９の抜歯窩２１の縁の鋭縁２２を整形し、図９に示す
ようにドリル２０でもって抜歯窩２１の周壁を削成し
て、インプラント体を植立するインプラント窩２３を形
成する。抜歯窩２１はとくに根尖病巣がない部位を使用
する。（４）図１０に示すようにインプラント体２４をイン
プラント窩２３に植立後、図１１，１２に示すように骨
組織を再生誘導する部位を完全に被覆し３〜４ｍｍオー
バーするように圧電性高分子シート１５を骨面に密着さ
せインプラント体２４に装着するヒーリングキャップ２
５などでこれを固定する。（５）図１３に示すように圧電性高分子シート１５、
ヒーリングキャップ２５が完全に隠れる様に歯肉骨膜弁
１２を復位し緊密に縫合１７する。（６）図１４に示すように術後に圧電性高分子シート
１５が露出とてきた時期あるいは４週間後に既にのべた
のと同様に歯肉骨膜弁１２を形成して圧電性高分子シー
ト１５の除去手術（１次手術）を行い、同時にインプラ
ント体２４へのアバットメント２６の装着（２次手術）
を行う。

【００３６】その後歯肉骨膜弁１２を復位し緊密に縫合
１７する（図示されない）。この状態でアバットメント
２６は顎堤１０から露出している（図示されない）。（７）さらに１次手術の３ケ月後に図示されない２次
パート（アバットメント）をアバットメント２６に接合
し、補綴物２７を２次パートに装着する。（８）したがって抜歯直後にインプラント体を埋入可
能になり、従来より４〜６ケ月ほど早期に補綴物を装着
可能となり、患者の機能回復を早めることができる。

【００３７】「実施例３」本実施例は抜歯後長期に経過
した顎骨での応用に関する。（１）図１５に示すように欠損部顎堤１０にメス５で
切開をくわえ図１６に示すように歯肉骨膜弁１２を形成
する。（２）顎骨部の鋭縁２２を整形し、ドリル２０でイン
プラント体を植立するインプラント窩２３を形成する。（３）図１７に示すようにインプラント体２４植立後
骨欠損部１９を３〜４ｍｍほどオーバーに被覆するよう
に圧電性高分子シート１５を骨面に密着させインプラン
ト体２４に装着するヒーリングキャップ２５などでこれ
を固定する（図１８）。そうすると、インプラント体２
４は、顎骨欠損部１９が骨幅や高さがやせているのでや
や突出し、圧電性高分子シート１５下に空隙ができる。（４）これらが完全に隠れる様に歯肉骨膜弁１２を復
位し緊密に縫合１７する（図１９）。（５）術後に圧電性高分子シート１５が露出してきた
時期あるいは４〜６週間後に実施例２と同様に圧電性高
分子シート１５の除去手術を行い、同時に２次手術を行
う。（６）さらに１次手術の３ケ月後に実施例２と同様に
２次パート（アバットメント）を接合し、補綴物２７を
装着する（図２０）。（７）従来であればインプラント手術の禁忌症であっ
た患者にインプラント補綴を施すことが可能となる。そ
して顎骨のやせた部分が圧電性高分子シートの発生する
微小電気刺激により、元の顎骨に復元すべく形成傾向と
なる。

【００３８】「実施例４」本実施例は外科的骨欠損や骨
折部位への応用に関する。（１）歯根端切除術をはじめその他の外科手術によっ
て生体の組織が損傷を受けることによって、即ち外科的
侵襲によって骨組織の欠損例えば図２１の根尖端病巣２
８が生じた場合、その手術後（図２２）骨欠損部位に圧
電性高分子シート１５を密着固定し（図２３）、創を閉
鎖する（図２４）。（２）術後１週間で抜糸を行う。（３）圧電性高分子シート１５の露出がある場合は除
去手術を行う。（４）術後に生ずる顎骨形態の不整を骨組織で埋める
ことが可能となり、後の補綴処置が有利にすすめられ
る。

【００３９】「実施例５」顎堤部での造堤術には様々な
方法がある。しかしその大部分は顎骨への自家骨移植や
ハイドロキシアパタイトなど生体材料の埋植である。本
実施例では顎堤への切開、歯肉骨膜弁の作製、顎骨部へ
の骨移植や生体材料の埋植を行う。（１）図２５に示すように歯肉溝７へメス５を入れて
欠歯部３１の周囲に歯肉骨膜弁１２を作成する（図２
６）。

【００４０】これによって骨面３２が露出する。この骨
面３２に骨片或は生体材の移植材３３を移植する（図２
８参照）。（２）顎骨３６と移植材３３及びこれらの境界部位を
圧電性高分子シート１５で覆って密着固定する（図２
７，２８）。（３）歯肉骨膜弁１２を緊密に縫合する（図２９）。（４）図３０に示す粘膜調整材３４を内面に添付した
治療用義歯３５を縫合１７した歯肉骨膜弁１２上へ装着
し使用させ圧電性高分子シート１５へ圧力をくわえる。（５）術後１週間で抜糸を行う。（６）圧電性高分子シート１５の露出がある場合は除
去手術を行う。（７）従来は治療用義歯の装置によって造堤した顎堤
の変形が生じていた。本法によれば治療用義歯を装着し
機能させながら本来の目的を達成することが可能とな
る。

【００４１】「実施例６」本実施例は顎骨を骨折した場
合の治療法に関する。（１）図３１の骨折部位３７を切開し露出後、骨片３
８，３９の整復を行い骨片３８，３９突合せ部両側に金
属プレート４０をわたし、両骨片３８，３９にねじ４１
止めすることによって両骨片３８，３９の固定を行う
際、金属プレート４０の内面でかつ骨折線上で骨片３
８，３９に圧電性高分子シート１５を密着固定し創を閉
鎖する（図３２，３３）。（２）金属プレート４０の除去手術を行う際に同時に
圧電性高分子シート１５も除去する（図３４）。（３）固定後骨折治療を機能運動させながら早期に完
了することが可能となる。

【００４２】

【発明の効果】本発明の第１の発明は歯周疾患によって
破壊された骨組織、歯根膜組織をはじめとした歯周組織
の欠損部位に対して、歯周外科的処置を行うと同時に圧
電性高分子シートをを同欠損部に密着させ埋入したか
ら、圧電性高分子シート自身が発生する微小電気刺激に
よって生体の治癒能力に働きかけ治癒を促進し生物的バ
リアー膜として生体内に存在する期間を短縮することが
可能である。さらに欠損部分に確実に組織を誘導するこ
とが可能である。

【００４３】本発明の第２の発明は抜歯直後に歯科イン
プラント体を埋入しこれと同時にこの上に圧電性高分子
シートを埋入して抜歯窩の早期治癒とインプラント体周
囲の骨組織を早期に誘導再生することとしたから、抜歯
直後のインプラント体埋入は従来不可能であったのが可
能となり、歯科インプラント治療期間を著しく短縮でき
る。

【００４４】本発明の第３の発明はその形態が歯が存在
していたころより骨幅や高さが減少した抜歯後長期に経
過した顎骨の部位に歯科インプラント体を植立し、不足
している部位に骨組織を誘導再生するように空隙を作り
圧電性高分子シートを固定して周囲骨から同部に骨組織
を誘導再生することとしたから、抜歯後長期に経過した
顎骨が前記空隙に骨組織として短い期間で誘導再生され
る。

【００４５】本発明の第４の発明は歯根端切除術をはじ
めその他の外科的侵襲によって骨組織の欠損が生じた場
合、その手術後骨欠損部位に圧電性高分子シートを密着
固定し創を閉鎖し骨組織の早期誘導再生を図ることとし
たから、骨欠損部に早期に骨組織が再生する。

【００４６】本発明の第５の発明は顎骨に対して骨組織
の移植を行う場合移植片と既存骨の境界部位に圧電性高
分子シートを密着固定し、骨組織の癒合を早期に図るこ
ととしたから既存骨と移植片とが骨組織として早期に癒
合する。

【００４７】本発明の第６の発明は骨折部位を金属体で
固定する際に圧電性高分子シートを金属体の内側に置き
固定して骨折部の早期癒合を図ることとしたから、例え
ば、長期の治癒期間を要する顎骨の骨折の治癒を早める
ことができる。

【００４８】本発明の第７の発明は圧電性高分子シート
はフッ化ビニリデンとトリフルオロエチレンの共重合体
であることを特徴とする第１の発明から第６の発明の何
れか１つの発明の１つに記載の歯周組織および骨誘導再
生法としたから、微小電流を患部に持続的に発生させる
ことが可能であり、これによって治癒を早めることがで
きる。

【００４９】本発明の第８の発明は第７の発明におい
て、圧電性高分子シートはフッ化ビニリデン７５ｍｏｌ
％、トリフルオロエチレン２５ｍｏｌ％で厚み方向への
圧電縦効果が最大値を示し、厚みが４０〜５０μｍで、
熱処理後アルミ蒸着がなされ分極処理されており、使用
時にはアルミ蒸着を除去するとしていることとしたか
ら、施術容易であり、微弱電流の発生が確実である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の歯根面に骨欠損部のある場合の治療を
示す実施例１の歯肉骨膜弁作成の切開を示す斜視図であ
る。

【図２】本発明の実施例の歯肉骨膜弁作成の切開を示す
縦断面図である。

【図３】本発明の実施例１の歯肉骨膜弁を作成した状態
を示す斜視図である。

【図４】本発明の実施例１の圧電性高分子シートの施術
状態を示す斜視図である。

【図５】本発明の実施例１の歯肉骨膜弁を復位縫合した
状態を示す斜視図である。

【図６】本発明の実施例１の圧電性高分子シートの除去
を示す斜視図である。

【図７】本発明の実施例１に関し、内縁上皮を示す立体
的縦断面図である。

【図８】本発明の抜歯直後のインプラント補綴に関する
実施例２の斜視図である。

【図９】本発明の実施例２のインプラント窩形成を示す
斜視図である。

【図１０】本発明の実施例２のインプラント体植立を示
す斜視図である。

【図１１】本発明の実施例２の圧電性高分子シートの施
術状態を示す斜視図である。

【図１２】図１１の平面図である。

【図１３】本発明の実施例２の歯肉骨膜弁を復位縫合し
た状態を示す斜視図である。

【図１４】本発明の実施例２の再び歯肉骨膜弁を作成し
て義歯の補綴を行う状態を示す斜視図である。

【図１５】抜歯後長期経過後のインプラント補綴に関す
る実施例３の斜視図である。

【図１６】本発明の実施例３のインプラント窩形成を示
す斜視図である。

【図１７】本発明の実施例３のインプラント体植立を示
す斜視図である。

【図１８】本発明の実施例３の圧電性高分子シートの施
術状態を示す斜視図である。

【図１９】本発明の実施例３の歯肉骨膜弁を復位縫合し
た状態を示す斜視図である。

【図２０】本発明の実施例３の再び歯肉骨膜弁を作成し
て義歯の補綴を行う状態を示す斜視図である。

【図２１】本発明の実施例４の病巣を示す正面図であ
る。

【図２２】本発明の実施例４の歯肉骨膜弁の作成を示す
正面図である。

【図２３】本発明の実施例４の圧電性高分子シートの張
り付けを示す正面図である。

【図２４】本発明の実施例４の歯肉骨膜弁を復元縫合す
る図を示す正面図である。

【図２５】本発明の実施例５を示し、欠歯部に移植材を
癒合する場合の切開を示す斜視図である。

【図２６】本発明の実施例５の歯肉骨膜弁の作成を示す
斜視図である。

【図２７】本発明の実施例５の移植材と圧電性高分子シ
ートとの関係を示す斜視図である。

【図２８】図２７の縦断面図である。

【図２９】本発明の実施例５を示し、歯肉骨膜弁を復元
縫合し、治療用義歯の嵌め合せを行うことを示す分解斜
視図である。

【図３０】治癒用義歯の縦断面図である。

【図３１】本発明の実施例６の骨折した下顎骨を示す斜
視図である。

【図３２】本発明の実施例６における下顎骨のプレート
による結合時の圧電性高分子シートを説明する斜視図で
ある。

【図３３】図３２のＢ部拡大図である。

【図３４】本発明の実施例６を示し施術後、治癒が進ん
でプレート及び圧電性高分子シートの除去を行うことを
示す斜視図である。

【符号の説明】

３歯１０顎堤１２歯肉骨膜弁１３露出歯根面１４骨欠損部１５圧電性高分子シート２１抜糸窩２３インプラント窩２４インプラント体２５ヒーリングキャップ２６アバットメント２７補綴物３１欠歯部３２骨面３３骨移植片３４粘膜調整材３５治療用義歯３６顎骨３７骨折部位３８骨折３９骨折４０金属プレート

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】歯周疾患によって破壊された骨組織、歯
根膜組織をはじめとした歯周組織の欠損部位に対して、
歯周外科的処置を行うと同時に圧電性高分子シートを同
欠損部に密着させ埋入しその治療を早期に行うことを特
徴とする圧電性高分子を用いた歯周組織および骨誘導再
生法。
【請求項２】抜歯直後に歯科インプラント体を埋入し
これと同時にこの上に圧電性高分子シートを埋入して抜
歯窩の早期治療とインプラント体周囲の骨組織を早期に
誘導再生することを特徴とする圧電性高分子を用いた歯
周組織および骨誘導再生法。
【請求項３】その形態が歯が存在していたころより骨
幅や高さが減少した抜歯後長期に経過した顎骨の部位に
歯科インプラント体を植立し、不足している部位に骨組
織を誘導再生するように空隙を作り圧電性高分子シート
を固定して周囲骨から同部に骨組織を誘導再生すること
を特徴とする圧電性高分子を用いた歯周組織および骨誘
導再生法。
【請求項４】歯根端切除術をはじめその他の外科的侵
襲によって骨組織の欠損が生じた場合、その手術後骨欠
損部位に圧電性高分子シートを密着固定し創を閉鎖し骨
組織の早期誘導再生を図ることを特徴とする圧電性高分
子を用いた歯周組織および骨誘導再生法。
【請求項５】顎骨に対して骨組織の移植を行う場合移
植片と既存骨の境界部位に圧電性高分子シートを密着固
定し、骨組織の癒合を早期に図ることを特徴とする圧電
性高分子を用いた骨誘導再生法。
【請求項６】骨折部位を金属体で固定する際に圧電性
高分子シートを金属体の内側に置き固定して骨折部の早
期癒合を図ることを特徴とする圧電性高分子を用いた骨
誘導再生法。
【請求項７】圧電性高分子シートはフッ化ビニリデン
とトリフルオロエチレンの共重合体であることを特徴と
する請求項１から６の何れか１つに記載の歯周組織およ
び骨誘導再生法。
【請求項８】圧電性高分子シートはフッ化ビニリデン
７５ｍｏｌ％、トリフルオロエチレン２５ｍｏｌ％で厚
み方向への圧電縦効果が最大値を示し、厚みが４０〜５
０μｍで、熱処理後アルミ蒸着がなされ分極処理されて
いること、さらに使用時にはアルミ蒸着を除去されるこ
とを特徴とする請求項７に記載の歯周組織および骨誘導
再生法。