JPH079689B2 - Method for manufacturing Fe-Al-Si film for magnetic head core - Google Patents
Method for manufacturing Fe-Al-Si film for magnetic head coreInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 <技術分野> 本発明は鉄とアルミニウムと硅素とを含有する磁性合金
膜(センダスト合金膜)から成る磁気ヘッドコアの製造
方法に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head core formed of a magnetic alloy film (sendust alloy film) containing iron, aluminum, and silicon.
<従来技術> 従来、高透磁率特性を有し磁気ヘッドの材料に極めて有
用なものとして鉄−アルミニウム−硅素の合金即ちセン
ダスト合金がよく知られている。このセンダスト合金を
磁気ヘッド膜に形成する方法としては、従来より次に述
べる(1)乃至(3)が用いられている。(1)センダ
スト合金のバルク材を研磨することによって所定の膜厚
に加工する方法、(2)スパッタリングにより所定の膜
厚のセンダスト合金膜を形成する方法、(3)液体急冷
法によりセンダスト合金膜を形成する方法である。しか
し上記(1)の方法は、センダスト合金のバルク材が脆
性を有するため加工が非常に困難である。上記(2)の
方法は成膜速度が非常に遅いため、磁気ヘッド用等の比
較的厚い膜を作製する製法としては適さない。上記
(3)の方法は、センダスト合金膜の膜厚が作製条件に
よって決定されてしまうという制約があり好ましくな
い。更に作製膜を加工する場合にはセンダスト合金膜の
脆性の問題及び粒径の問題が残存する。<Prior Art> An iron-aluminum-silicon alloy, that is, a sendust alloy is conventionally well known as a material having a high magnetic permeability characteristic and being extremely useful as a material of a magnetic head. As a method for forming the sendust alloy on the magnetic head film, the following (1) to (3) have been conventionally used. (1) A method of processing a bulk material of sendust alloy into a predetermined film thickness by polishing, (2) a method of forming a sendust alloy film with a predetermined film thickness by sputtering, and (3) a sendust alloy film by a liquid quenching method. Is a method of forming. However, the method (1) is extremely difficult to process because the bulk material of the sendust alloy is brittle. The method (2) above is not suitable as a manufacturing method for forming a relatively thick film for a magnetic head or the like, because the film forming speed is very slow. The above method (3) is not preferable because the thickness of the sendust alloy film is limited by the manufacturing conditions. Further, when the produced film is processed, the problems of brittleness and particle size of the sendust alloy film remain.
一方、上述した問題点を全て解決した新規な磁気ヘッド
膜の製造方法として、本発明者等は既に、鉄,アルミニ
ウム及び硅素によって構成されアルミニウムの組成が1
乃至6wt%,硅素の組成が20乃至30wt%に設定された合
金タブレットに真空中で電子ビームを照射して上記合金
タブレットより蒸発した物質を基板上に蒸着せしめるこ
とによって適正組成の磁性膜を形成し、更にその磁性膜
を400℃乃至800℃の温度範囲で熱処理することにより、
良質の鉄−アルミニウム−硅素から成る磁性膜を作製す
る磁気ヘッドコアの製造方法を提唱している(特願昭58
−11041号)。On the other hand, as a novel method of manufacturing a magnetic head film that solves all of the above-mentioned problems, the present inventors have already proposed that the composition of aluminum is 1 and composed of iron, aluminum and silicon.
~ 6wt% and silicon composition is set to 20 ~ 30wt% Alloy tablet is irradiated with electron beam in vacuum to evaporate the substance evaporated from the alloy tablet on the substrate to form magnetic film of proper composition By further heat treating the magnetic film in the temperature range of 400 ° C to 800 ° C,
A method of manufacturing a magnetic head core for producing a magnetic film of good quality iron-aluminum-silicon has been proposed (Japanese Patent Application No. 58-58).
-11041).
上記製造方法によって作製される磁性膜はセンダスト合
金の組成比によって透磁率等の磁気特性及び磁気特性の
温度依存性が種々に変化する。In the magnetic film produced by the above manufacturing method, magnetic characteristics such as magnetic permeability and temperature dependence of magnetic characteristics are variously changed depending on the composition ratio of the sendust alloy.
<発明の目的> 本発明は蒸着条件を制御することによって、温度等の外
部要因に対して安定な特性を有する磁気ヘッドコアを、
容易にしかも安定した品質で供給することができる製造
方法を提供することを目的とする。<Object of the Invention> The present invention provides a magnetic head core having stable characteristics against external factors such as temperature by controlling vapor deposition conditions.
It is an object of the present invention to provide a manufacturing method that can be easily and stably supplied.
<実施例> 第1図は本発明に係る磁気ヘッドコアの製造方法に使用
する電子ビーム蒸着装置の一実施例の模式構成図であ
る。真空ベルジャ1内を高真空に保持し、この中の上方
に蒸着膜が形成される基板2と基板2を加熱するための
ヒータ3が配設されている。基板2としてはセンダスト
合金と熱膨張係数が近似する(100〜180×10-7deg-1程
度)コーニング社製ホトセラムやホヤガラス社製PEGシ
リーズ等の感光性ガラス,非磁性フェライト,セラミッ
クあるいはオーステナイト系ステンレス鋼が用いられ
る。真空ベルジャ1内の下方にはハース(るつぼ)4が
載置され、該ハース4内に蒸着源材料である合金タブレ
ット5が収納されている。ハース4の側方には電子ビー
ム発生源であるフィラメント6が配置されており、フィ
ラメント6で発生した電子ビーム7は磁界によって屈曲
され合金タブレット5に照射される。ハース4と基板2
の間にはシャッタ8が介設されており、合金タブレット
5より蒸発した蒸気流がこのシャッタ8の開閉動作に応
じて通過又は遮断される。<Embodiment> FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of an electron beam vapor deposition apparatus used in a method of manufacturing a magnetic head core according to the present invention. The inside of the vacuum bell jar 1 is maintained at a high vacuum, and a substrate 2 on which a vapor deposition film is formed and a heater 3 for heating the substrate 2 are arranged above the vacuum bell jar 1. The substrate 2 has a coefficient of thermal expansion similar to that of Sendust alloy (about 100 to 180 × 10 -7 deg -1 ) Photosensitive glass such as Corning's Photoceram or Hoya Glass's PEG series, non-magnetic ferrite, ceramic or austenite type Stainless steel is used. A hearth (crucible) 4 is placed below the vacuum bell jar 1, and an alloy tablet 5 as a vapor deposition source material is housed in the hearth 4. A filament 6, which is an electron beam generation source, is arranged on the side of the hearth 4, and the electron beam 7 generated by the filament 6 is bent by a magnetic field and is applied to the alloy tablet 5. Hearth 4 and Board 2
A shutter 8 is provided between them, and the vapor flow evaporated from the alloy tablet 5 passes or is blocked according to the opening / closing operation of the shutter 8.
合金タブレット5としてはセンダスト合金材料としてア
ルミニウムが4wt%,硅素が27.5wt%、残部が鉄の組成
のものを使用した。一般に、センダスト合金はその透磁
率が組成比によって大きく変化し、特定組成範囲におい
て鋭いピークの存在することが知られている。従って、
組成比の調整はセンダスト合金の磁気特性に重要な影響
を与える。通常使用されているセンダスト合金は、アル
ミニウムが6wt%で硅素が9.5wt%に設定されており、高
透磁率を示す。しかしながら、このような蒸着法によっ
てFe−Al−Si系膜を製作する場合には、それぞれの元素
によって蒸気圧が異なるために、蒸着時間の経過に伴っ
て組成が変化してしまう。ところが、膜厚方向にアルミ
ニウムの組成を1乃至10wt%、硅素の組成を6乃至12wt
%の範囲で変化させるとともに、Alの組成を6wt%に比
較して、それより大なる値から6wt%を下回るように膜
厚方向に減少してから再び増加する組成分布とし、Siの
組成を9.5wt%に比較して、9.5wt%より小なる値から膜
厚方向に増加して次第にその値を上回る組成分布となる
ように、蒸着条件を制御して成膜すれば外部環境に対し
て安定で、且つ磁気特性が良好のFe−Al−Si膜が得られ
る。As the alloy tablet 5, a sendust alloy material having a composition of 4 wt% aluminum, 27.5 wt% silicon, and the balance iron was used. In general, it is known that the magnetic permeability of Sendust alloy largely changes depending on the composition ratio, and a sharp peak exists in a specific composition range. Therefore,
Adjusting the composition ratio has an important effect on the magnetic properties of Sendust alloy. The commonly used Sendust alloy has a high magnetic permeability, with aluminum set to 6 wt% and silicon set to 9.5 wt%. However, when an Fe-Al-Si-based film is manufactured by such a vapor deposition method, the vapor pressure differs depending on each element, and therefore the composition changes with the elapse of vapor deposition time. However, the composition of aluminum is 1 to 10 wt% and the composition of silicon is 6 to 12 wt% in the film thickness direction.
%, While comparing the Al composition to 6 wt% and decreasing from the larger value to less than 6 wt% in the film thickness direction and then increasing again, the composition distribution of Si is set to Compared to 9.5 wt%, if the deposition conditions are controlled so that the composition distribution increases from a value smaller than 9.5 wt% in the film thickness direction and gradually exceeds that value, it is possible to protect against the external environment. A stable Fe-Al-Si film having good magnetic properties can be obtained.
以下製造工程順に本実施例を説明する。蒸着工程前にお
いて、基板2の温度を100℃乃至600℃の範囲に設定す
る。本実施例ではこれを400℃に設定した。基板2の加
熱は蒸着膜の密着性を向上させることを企図するもので
ヒータ3により行なわれる。蒸着工程に際しては、フィ
ラメント6への投入電力を10KWに設定し、電子ビームを
ハース4内全体の掃射する。以上の蒸着条件に基いて作
製される蒸着膜の膜厚方向の組成分布を調べるために、
投入電力が10KWに達してから、1分10秒後乃至3分20秒
後の間、3分20秒後乃至5分50秒後の間、5分50秒後乃
至8分50秒後の間、8分50秒後乃至11分50秒後の間、11
分50秒後乃至14分20秒後の間及び14分20秒後乃至17分20
秒後の間の各々の時間帯のみシャッタ8を開成してそれ
ぞれ個別に蒸着膜を形成する。得られた蒸着膜を順次サ
ンプルI,II,III,IV,V,VIとしこれらの磁気特性及び化学
分析地を求めその結果を次表に示す。This embodiment will be described below in the order of manufacturing steps. Before the vapor deposition process, the temperature of the substrate 2 is set in the range of 100 ° C to 600 ° C. In this example, this was set to 400 ° C. The heating of the substrate 2 is intended to improve the adhesion of the deposited film and is performed by the heater 3. In the vapor deposition process, the electric power supplied to the filament 6 is set to 10 KW, and the electron beam is swept across the entire hearth 4. In order to investigate the composition distribution in the film thickness direction of the vapor deposition film produced based on the above vapor deposition conditions,
From 1 minute 10 seconds to 3 minutes 20 seconds, 3 minutes 20 seconds to 5 minutes 50 seconds, 5 minutes 50 seconds to 8 minutes 50 seconds after the input power reaches 10KW , 8 minutes 50 seconds to 11 minutes 50 seconds later, 11
Minutes 50 seconds to 14 minutes 20 seconds later and 14 minutes 20 seconds to 17 minutes 20 minutes later
The shutter 8 is opened only in each time zone after the second, and the vapor deposition film is individually formed. The obtained vapor-deposited films are sequentially used as samples I, II, III, IV, V, and VI, and their magnetic properties and chemical analysis sites are determined.
尚、上表に示した値は基板2として感光性結晶化ガラス
を使用し、真空中600℃の温度で4時間熱処理を施した
後の値であり、透磁率μ′は1MHzでの値である。 The values shown in the above table are the values after using a photosensitive crystallized glass as the substrate 2 and performing heat treatment at a temperature of 600 ° C. in a vacuum for 4 hours, and the magnetic permeability μ ′ is a value at 1 MHz. is there.
以上の実験結果より、投入電力が10KWに達した時点から
3分20秒後乃至14分20秒後までの間にシャッタ8を開成
して得られる蒸着膜は、良好な特性を呈することがわか
る。例えば、投入電力が10KWに達した後、3分40秒後に
シャッタ8を開成し15分40秒後に閉制して得られた膜に
ついて磁気特性を調べると次の如くであった。得られた
膜の真空中600℃で4時間の熱処理を施した後の磁気特
性は、飽和磁束密度Bs=11400G,電気抵抗ρ=72μΩcm,
保磁力Hc=0.6e,透磁率μ′(1MHz)=2800,μ′(10
MHz)=1400であった。また化学分析の結果は、4.5wt%
Al−9.8wt%Si−85.7wt%Feであった。第2図にこの蒸
着膜の磁束密度Bの温度依存性を示す。横軸に温度,縦
軸には、外部磁場Hex=0.114eにより誘起される磁束
密度Bを示す。尚、透磁率μは、B=μ′Hの関係があ
るため、μの温度変化もこれと同じになる。透磁率μの
温度依存性を種々の膜組成のものについて調べると膜組
成4.5wt%Al−10.595%Si−85wt%Fe附近の組成の膜は
透磁率μが室温で最高値をもつ。膜組成としてAl3〜6wt
%−Si8〜12wt%−残部Feの範囲であれば例えばμが最
高値をとる温度としては、−70℃以上で+100℃以下と
なり、室温ではμは、最高値の半分以上引き出してい
る。従って、外部要因即ち温度に対して影響されにくい
安定した特性を確保することができる。ただし、この時
の膜厚方向の組成分布については、前述のごとくAl1〜1
0wt%−Si6〜12wt%−残部Feの場合についてである。第
3図に、軟磁性膜に大きな影響力をもつと考えられる磁
歪について調べた結果を示す。From the above experimental results, it is found that the vapor-deposited film obtained by opening the shutter 8 from the time when the input power reaches 10 KW to 3 minutes and 20 seconds to 14 minutes and 20 seconds exhibits good characteristics. . For example, the magnetic characteristics of the film obtained by opening the shutter 8 after 3 minutes and 40 seconds and closing the shutter after 15 minutes and 40 seconds after the applied power reached 10 KW were as follows. The magnetic properties of the obtained film after heat treatment in vacuum at 600 ° C for 4 hours are as follows: saturation magnetic flux density Bs = 11400G, electric resistance ρ = 72μΩcm,
Coercive force Hc = 0.6e, permeability μ ′ (1MHz) = 2800, μ ′ (10
MHz) = 1400. The result of chemical analysis is 4.5 wt%
It was Al-9.8 wt% Si-85.7 wt% Fe. FIG. 2 shows the temperature dependence of the magnetic flux density B of this vapor deposition film. The horizontal axis represents temperature, and the vertical axis represents magnetic flux density B induced by the external magnetic field Hex = 0.114e. Since the magnetic permeability μ has a relationship of B = μ′H, the temperature change of μ is also the same. When the temperature dependence of the magnetic permeability μ is examined for various film compositions, the film having a composition around 4.5 wt% Al-10.595% Si-85 wt% Fe has the highest magnetic permeability μ at room temperature. Al3-6wt as film composition
In the range of% -Si8 to 12 wt% -remaining Fe, for example, the temperature at which μ has the maximum value is −100 ° C. or more at −70 ° C. or higher, and at room temperature, μ is more than half of the maximum value. Therefore, it is possible to secure stable characteristics that are not easily influenced by external factors, that is, temperature. However, regarding the composition distribution in the film thickness direction at this time, as described above, Al1 to 1
This is the case of 0 wt% -Si6 to 12 wt% -the balance Fe. FIG. 3 shows the results of investigations on magnetostriction, which is considered to have a great influence on the soft magnetic film.
但し、これらの合金膜も膜厚方向の組成分布が前述の組
成範囲にあるものについてである。図中の斜線部分が、
磁歪λsOの部分である。However, these alloy films are also those in which the composition distribution in the film thickness direction is within the aforementioned composition range. The shaded area in the figure
This is the portion of magnetostriction λsO.
上記膜組成の範囲即ち、Al3〜6wt%−Si8〜12wt%−残
部Feのものは、この斜線部分から大きくはずれることも
なく、磁歪の観点からもこの組成範囲のものは外部要因
である応力に対して影響されにくいことが判明した。In the range of the film composition, that is, Al3 to 6 wt% -Si8 to 12 wt% -the balance of Fe is not largely deviated from this shaded portion, and from the viewpoint of magnetostriction, the composition range is due to external stress. It turned out that it was hard to be affected.
<効 果> 以上詳細に説明したように、本発明に係る磁気ヘッドコ
アの製造方法によれば蒸着法によってセンダスト合金膜
を作成するので、0.1〜1μm/分という非常に速い成膜
速度を達成することができ、磁気ヘッドのコアとして用
いる厚膜の軟磁性膜を短時間に容易に作成することがで
き、また、蒸着プロセス、ドライプロセス加工によって
バッチ処理が可能になるという利点がある。<Effect> As described in detail above, according to the magnetic head core manufacturing method of the present invention, the sendust alloy film is formed by the vapor deposition method, so that a very high film forming rate of 0.1 to 1 μm / min is achieved. Therefore, there is an advantage that a thick soft magnetic film used as a core of the magnetic head can be easily formed in a short time, and a batch process can be performed by a vapor deposition process or a dry process.
さらに本発明に係る磁気ヘッドコアの製造方法によれ
ば、蒸着条件を制御することによってFe−Al−Si膜の組
成を、膜厚方向に、Al:1〜10wt%、Si:6〜12wt%の範囲
となるように変化させるとともに、Alの組成を6wt%に
比較して、それより大なる値から6wt%を下回るように
膜厚方向に減少してから再び増加する組成分布とし、Si
の組成を9.5wt%に比較して、9.5wt%より小なる値から
膜厚方向に増加して次第にその値を上回る組成分布とな
るように、蒸着条件を制御するので温度等の外部要因に
よる影響を受けにくく、又非常に磁気特性が良好な磁気
ヘッドコアを容易に製造することができる。具体的に
は、透磁率が大きく、保磁力が小さい非常に良好な磁気
ヘッドコアを得ることができる また、本発明の製造方法は、上記のように磁気ヘッド効
率に大きく依存する透磁率の大きな値を有する磁気ヘッ
ドコアを製作することができるので、高密度磁気記録再
生用磁気ヘッドコアの製造方法として極めて有用なもの
である。Further, according to the method of manufacturing a magnetic head core according to the present invention, the composition of the Fe-Al-Si film by controlling the vapor deposition conditions, in the film thickness direction, Al: 1-10 wt%, Si: 6-12 wt% The composition distribution is such that the Al composition is changed to fall within the range, the Al composition is compared to 6 wt%, and the composition distribution increases from the value higher than that to less than 6 wt% in the film thickness direction and then increases again.
Of the composition of 9.5 wt% compared to 9.5 wt%, the vapor deposition conditions are controlled so that the composition distribution increases from the value smaller than 9.5 wt% in the film thickness direction and gradually exceeds the value. It is possible to easily manufacture a magnetic head core that is not easily affected and has very good magnetic characteristics. Specifically, it is possible to obtain a very good magnetic head core having a large magnetic permeability and a small coercive force. Further, in the manufacturing method of the present invention, as described above, a large value of the magnetic permeability which largely depends on the magnetic head efficiency is obtained. Since it is possible to manufacture a magnetic head core having the above, it is extremely useful as a method for manufacturing a magnetic head core for high-density magnetic recording and reproduction.
第1図は、本発明の1実施例の説明に供する電子ビーム
蒸着装置の構成説明図である。第2図は透磁率の温度依
存性を示す説明図である。第3図は磁歪の組成分布を示
す説明図である。 1……真空ベルジャー、2……基板、3……ヒーター、
4……ハース、5……合金タブレット、6……フィラメ
ント、8……シャッター。FIG. 1 is a configuration explanatory view of an electron beam vapor deposition apparatus used for explaining one embodiment of the present invention. FIG. 2 is an explanatory diagram showing the temperature dependence of magnetic permeability. FIG. 3 is an explanatory diagram showing the composition distribution of magnetostriction. 1 ... Vacuum bell jar, 2 ... Substrate, 3 ... Heater,
4 ... Hearth, 5 ... Alloy tablet, 6 ... Filament, 8 ... Shutter.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土本 修平 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (72)発明者 ▲吉▼川 光彦 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−136415(JP,A) 特開 昭59−121629(JP,A) 特公 昭51−44644(JP,B2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shuhei Tsuchimoto 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Within Sharp Corporation (72) Inventor ▲ Mitsuhiko Yoshikawa 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka No. 22 Within Sharp Corporation (56) Reference JP-A-59-136415 (JP, A) JP-A-59-121629 (JP, A) JP-B-51-44644 (JP, B2)
Claims (1)
造方法であって、 鉄FeとアルミニウムAlと硅素Siとによって構成される合
金タブレットを加熱し、 該加熱によって前記合金タブレットより蒸発した物質を
基板上に蒸着し、 前記Fe−Al−Si膜の組成分布を、Al:1〜10wt%、Si:6〜
12wt%の範囲で膜厚方向に変化させるとともに、Alの組
成を6wt%に比較して、それより大なる値から6wt%を下
回るように膜厚方向に減少してから再び増加する組成分
布とし、Siの組成を9.5wt%に比較して、9.5wt%より小
なる値から膜厚方向に増加して次第にその値を上回る組
成分布となるように、蒸着装置の合金タブレット蒸発手
段への投入電力が一定値に達した後所望の時間帯の蒸気
流をもって蒸着することによって温度変化の影響を受け
にくい磁気特性を有するFe−Al−Si膜を得ることを特徴
とする磁気ヘッドコア用Fe−Al−Si膜の製造方法。1. A method of manufacturing a magnetic head core composed of an Fe-Al-Si film, comprising heating an alloy tablet composed of iron Fe, aluminum Al and silicon Si, and evaporating from the alloy tablet by the heating. A material is deposited on a substrate, and the composition distribution of the Fe-Al-Si film is Al: 1-10wt%, Si: 6-
The composition distribution is changed in the film thickness direction in the range of 12 wt%, and compared with the composition of Al to 6 wt%, the composition distribution is such that it decreases from the larger value to less than 6 wt% in the film thickness direction and then increases again. , Si composition compared to 9.5 wt%, so that the composition distribution increases from a value smaller than 9.5 wt% in the film thickness direction and gradually exceeds the value, into the alloy tablet evaporation means of the vapor deposition device. Fe-Al for a magnetic head core characterized by obtaining a Fe-Al-Si film having magnetic characteristics that is not easily affected by temperature changes by vapor deposition with a vapor flow in a desired time period after the electric power reaches a certain value. -Si film manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190897A JPH079689B2 (en) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | Method for manufacturing Fe-Al-Si film for magnetic head core |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP59190897A JPH079689B2 (en) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | Method for manufacturing Fe-Al-Si film for magnetic head core |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168720A JPS6168720A (en) | 1986-04-09 |
| JPH079689B2 true JPH079689B2 (en) | 1995-02-01 |
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ID=16265539
Family Applications (1)
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| JP59190897A Expired - Fee Related JPH079689B2 (en) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | Method for manufacturing Fe-Al-Si film for magnetic head core |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH079689B2 (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5144644A (en) * | 1974-10-15 | 1976-04-16 | Alpha Techno Co | DOBUTSUYO SHIKETSUZAI |
-
1984
- 1984-09-11 JP JP59190897A patent/JPH079689B2/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPS6168720A (en) | 1986-04-09 |
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