JPH0797348A - 新規臭素化フェノキシ化合物およびそれらの製造方法 - Google Patents
新規臭素化フェノキシ化合物およびそれらの製造方法Info
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- JPH0797348A JPH0797348A JP12569891A JP12569891A JPH0797348A JP H0797348 A JPH0797348 A JP H0797348A JP 12569891 A JP12569891 A JP 12569891A JP 12569891 A JP12569891 A JP 12569891A JP H0797348 A JPH0797348 A JP H0797348A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 次式(I)
〔上式中、n=0または1であり;R1およびR2は、
C1〜C3アルキル基であり、あるいはR2は、n=0
である場合は、Hであってもよく;Yは、 または (ここで、m=1〜6;Z=SO2,S,C=0,CH
2、またはC(CH3)2)の群から選ばれる。但し、
n=0である場合は、R1およびR2が両方ともCH3
であってはならない〕を有する化合物およびその製造方
法に関する。 【効果】 これらの化合物は、モノマーおよびポリマー
の先駆物質として用いることができる。
C1〜C3アルキル基であり、あるいはR2は、n=0
である場合は、Hであってもよく;Yは、 または (ここで、m=1〜6;Z=SO2,S,C=0,CH
2、またはC(CH3)2)の群から選ばれる。但し、
n=0である場合は、R1およびR2が両方ともCH3
であってはならない〕を有する化合物およびその製造方
法に関する。 【効果】 これらの化合物は、モノマーおよびポリマー
の先駆物質として用いることができる。
Description
【0001】本発明の分野 本発明は、新規な臭素化フェノキシ化合物およびそれら
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
【0002】本発明の概要 本発明の化合物は、次式
【0003】
【化4】
【0004】〔上式中、n=0または1であり;R1お
よびR2は、C1〜C3アルキル基であり、あるいは、
R2は、n=0である場合は、Hであってもよく;Y
は、
よびR2は、C1〜C3アルキル基であり、あるいは、
R2は、n=0である場合は、Hであってもよく;Y
は、
【0005】
【化5】
【0006】(ここで、m=1〜6;Z=SO2,
S,C=0,CH2、またはC(CH3)2)の群から
選ばれる。但し、n=0である場合は、R1およびR2
が両方ともCH3であってはならない〕を有する。
S,C=0,CH2、またはC(CH3)2)の群から
選ばれる。但し、n=0である場合は、R1およびR2
が両方ともCH3であってはならない〕を有する。
【0007】本発明の化合物は、モノマーおよびポリマ
ーの先駆物質として用いることができ、以下の実例の化
合物を含むが、これに限定されない。 4,4′−ジブロモ−3−メチル−ジフェニルエーテル 4,4′−ジブロモ−2−メチルジフェニルエーテル 4,4′−ジブロモ−2−イソプロピルジフェニルエー
テル 1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン 1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ビフェニル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ビフェニル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルエーテル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルエーテル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルホン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルホン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド 2,2′−ビス〔4′(4″−ブロモ−2″−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン 2,2′−ビス〔4′(4″−ブロモ−3″−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン。
ーの先駆物質として用いることができ、以下の実例の化
合物を含むが、これに限定されない。 4,4′−ジブロモ−3−メチル−ジフェニルエーテル 4,4′−ジブロモ−2−メチルジフェニルエーテル 4,4′−ジブロモ−2−イソプロピルジフェニルエー
テル 1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン 1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ビフェニル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ビフェニル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルエーテル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルエーテル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルホン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルホン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド 2,2′−ビス〔4′(4″−ブロモ−2″−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン 2,2′−ビス〔4′(4″−ブロモ−3″−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン。
【0008】これらの新規化合物は、種々の4,4′を
二置換されたジおよびポリフェニル化合物の製造に有用
である。これらの後者の化合物、すなわち、そのいくつ
かもまた新規であり、同じ出願人の同時係属出願に記載
されており、例えば、4,4′−ジヒドロキシ−3−メ
チルジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノ−3−メ
チル−ジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノ−3−
メチル−ジフェニルエーテル−ビス−マレイミドおよび
類似の化合物を含む。
二置換されたジおよびポリフェニル化合物の製造に有用
である。これらの後者の化合物、すなわち、そのいくつ
かもまた新規であり、同じ出願人の同時係属出願に記載
されており、例えば、4,4′−ジヒドロキシ−3−メ
チルジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノ−3−メ
チル−ジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノ−3−
メチル−ジフェニルエーテル−ビス−マレイミドおよび
類似の化合物を含む。
【0009】これら4,4′を二置換されたフェニルエ
ーテルは、航空、電気電子工学、および航空宇宙産業に
おける用途のための高性能ポリマーの製造用に工業的に
有用なモノマーである。多くの用途のために、広範囲な
性質がモノマーの構造変化によって求められてきた。従
って、芳香環における置換基、および/または2個の芳
香環を他と結合するために役立つひとつの基の置換によ
って、これらのモノマーを変えることによって、それか
ら製造された樹脂の軟化点、柔軟性、耐熱性などが影響
される。それらが与える改良された性質は、より軽量の
物質により良好な性能を求める広範囲な用途に利点を与
えることができる。ここに記載された一群の化合物は、
ポリマーの性質にこの範囲の変化を与えるために役立
つ。
ーテルは、航空、電気電子工学、および航空宇宙産業に
おける用途のための高性能ポリマーの製造用に工業的に
有用なモノマーである。多くの用途のために、広範囲な
性質がモノマーの構造変化によって求められてきた。従
って、芳香環における置換基、および/または2個の芳
香環を他と結合するために役立つひとつの基の置換によ
って、これらのモノマーを変えることによって、それか
ら製造された樹脂の軟化点、柔軟性、耐熱性などが影響
される。それらが与える改良された性質は、より軽量の
物質により良好な性能を求める広範囲な用途に利点を与
えることができる。ここに記載された一群の化合物は、
ポリマーの性質にこの範囲の変化を与えるために役立
つ。
【0010】4,4′−ジブロモ−3−メチル−ジフェ
ニルエーテル(DBMDPE)の製造は、本発明の化合
物の製造方法の実例であり、出発物質および必要な生成
物により各々の場合において変化を必要とし、従って、
後に詳しく検討しよう。
ニルエーテル(DBMDPE)の製造は、本発明の化合
物の製造方法の実例であり、出発物質および必要な生成
物により各々の場合において変化を必要とし、従って、
後に詳しく検討しよう。
【0011】この化合物は、メチル基の望ましくない臭
素化を避けるために、実質的に完全に暗い中でm−フェ
ノキシトルエン(m−PHT)と臭素または他の臭素化
剤を反応させることによって製造することができる。反
応がこれらの条件下に行われた場合、DBMDPEが高
収率および高純度で形成する。
素化を避けるために、実質的に完全に暗い中でm−フェ
ノキシトルエン(m−PHT)と臭素または他の臭素化
剤を反応させることによって製造することができる。反
応がこれらの条件下に行われた場合、DBMDPEが高
収率および高純度で形成する。
【0012】本発明の詳細な説明 一般に、本発明の方法には、次式
【0013】
【化6】
【0014】〔上式中、R1,R2,Yおよびnは、前
記の意味を有する〕を有する化合物と臭素化剤を実質的
に光の不在下に反応させることが含まれる。
記の意味を有する〕を有する化合物と臭素化剤を実質的
に光の不在下に反応させることが含まれる。
【0015】反応混合物と適合する限り、いずれの適当
な臭素化剤をも臭素化反応で用いることができる。好ま
しい臭素化剤には、例えば、Br2、またはジブロモジ
メチルヒダントインが含まれ、あるいは、臭素をその場
で、例えば、HBrと酸化剤、例えば、H2O2、もし
くはNaBrO3または公知の酸化剤などを用いること
によって発生させることもできる。当業者に認識される
ように、酸化剤をBr2とともに用い、反応の間に発生
されるHBrからの遊離臭素を発生させることによって
臭素化反応を促進させることもできる。
な臭素化剤をも臭素化反応で用いることができる。好ま
しい臭素化剤には、例えば、Br2、またはジブロモジ
メチルヒダントインが含まれ、あるいは、臭素をその場
で、例えば、HBrと酸化剤、例えば、H2O2、もし
くはNaBrO3または公知の酸化剤などを用いること
によって発生させることもできる。当業者に認識される
ように、酸化剤をBr2とともに用い、反応の間に発生
されるHBrからの遊離臭素を発生させることによって
臭素化反応を促進させることもできる。
【0016】反応は、溶剤中、または溶剤なしに行うこ
ともできるが、このような溶剤の存在または不在は、臭
素化の選択性を影響し得る。溶剤を用いた場合、反応条
件下に反応性でない溶剤、例えばハロカーボン、例えば
ジクロロメタン、クロロベンゼン、および1,2−ジク
ロロエタンまたはアセトニトリルを用いることが好まし
い。
ともできるが、このような溶剤の存在または不在は、臭
素化の選択性を影響し得る。溶剤を用いた場合、反応条
件下に反応性でない溶剤、例えばハロカーボン、例えば
ジクロロメタン、クロロベンゼン、および1,2−ジク
ロロエタンまたはアセトニトリルを用いることが好まし
い。
【0017】反応温度もまた臭素化の選択性並びに反応
速度を影響する。温度が高いほど選択性は低くなるが、
反応速度は速くなる。従って、反応温度は、所望の生成
物の純度並びに他の経済的要因によって変化させること
ができる。臭素化剤を約−10℃〜約25℃の範囲内の
温度で添加し、約−10℃〜約90℃の温度で反応を行
うことが好ましい。しかしながら、用いた溶剤と適合
し、反応体または生成物を不利に影響しない限り、より
高い温度またはより低い温度を用いることもできる。
速度を影響する。温度が高いほど選択性は低くなるが、
反応速度は速くなる。従って、反応温度は、所望の生成
物の純度並びに他の経済的要因によって変化させること
ができる。臭素化剤を約−10℃〜約25℃の範囲内の
温度で添加し、約−10℃〜約90℃の温度で反応を行
うことが好ましい。しかしながら、用いた溶剤と適合
し、反応体または生成物を不利に影響しない限り、より
高い温度またはより低い温度を用いることもできる。
【0018】キャラクタリゼーションのデータおよび製
造方法を以下の例によって説明するが、本発明を限定す
るものと解釈してはならない。例で報告された分析デー
タは、一般的に下記のような機器および条件下に得た。
造方法を以下の例によって説明するが、本発明を限定す
るものと解釈してはならない。例で報告された分析デー
タは、一般的に下記のような機器および条件下に得た。
【0019】GC ガスクロマトグラフ−Varian 3400 炉:初期温度100℃、1分間保持後、15゜/分で2
50℃まで昇温。 インゼクター:250℃ 検出器(輸送ライン):300℃ カラム:HP−1(100%メチルポリシロキサン)、
5m×0.53mm(大内径) 注入量:1μl 流量:13ml/分 保持時間:7.05分
50℃まで昇温。 インゼクター:250℃ 検出器(輸送ライン):300℃ カラム:HP−1(100%メチルポリシロキサン)、
5m×0.53mm(大内径) 注入量:1μl 流量:13ml/分 保持時間:7.05分
【0020】GC/MS ガスクロマトグラフHP 5890A 炉:初期温度100℃、1分間保持後、15゜/分で2
40℃まで昇温 インゼクター:230℃ 検出器(輸送ライン):250℃カラム SUPELCO (溶融シリカのキャピラリーカ
ラム)30m×0.25mm 分割比:1:50 注入量:1μl 流量:0.6ml/分 保持時間:15.2分
40℃まで昇温 インゼクター:230℃ 検出器(輸送ライン):250℃カラム SUPELCO (溶融シリカのキャピラリーカ
ラム)30m×0.25mm 分割比:1:50 注入量:1μl 流量:0.6ml/分 保持時間:15.2分
【0021】質量分析計HP 5970 範囲:40〜550a.m.n. 走査:0.9秒ごと
【0022】NMRスペクトル:Bruker WP
200MHz
200MHz
【表1】
【0023】IR:FTIR Nicolet 5MX 範囲:400〜4600cm−1 走査:10(10秒ごと) サンプル:0.8mg/80mgKBr
【0024】
【実施例】例1 ジクロロメタン中におけるm−PHTの臭素化 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
え、1lのジクロロメタン中のm−PHT(460g、
2.5モル)の撹拌されている溶液を含む四ツ口丸底フ
ラスコに、840g(5.25モル)のBr2を添加し
た。コンデンサーの上部には、反応の間に放出されるH
Brを吸収するためのトラップが備えられている。Br
2は、−5℃〜0℃の温度で、暗い中に1時間で添加
し、添加後、反応混合物をさらに1時間約25℃で撹は
んした。反応の進行は、GCによって決定した。過剰の
臭素および微量のHBrを10%のNH3水(150m
l)で中和した。反応中に形成した二相を分離し、有機
相を水(200ml)で洗浄した。有機相中の溶剤を蒸
留した後、97%の所望の異性体を含み(GCにより決
定した)、93%の収率を示すDBMDPE(820
g)を得た。
え、1lのジクロロメタン中のm−PHT(460g、
2.5モル)の撹拌されている溶液を含む四ツ口丸底フ
ラスコに、840g(5.25モル)のBr2を添加し
た。コンデンサーの上部には、反応の間に放出されるH
Brを吸収するためのトラップが備えられている。Br
2は、−5℃〜0℃の温度で、暗い中に1時間で添加
し、添加後、反応混合物をさらに1時間約25℃で撹は
んした。反応の進行は、GCによって決定した。過剰の
臭素および微量のHBrを10%のNH3水(150m
l)で中和した。反応中に形成した二相を分離し、有機
相を水(200ml)で洗浄した。有機相中の溶剤を蒸
留した後、97%の所望の異性体を含み(GCにより決
定した)、93%の収率を示すDBMDPE(820
g)を得た。
【0025】メタノールからの晶出後、46.4%のB
rを含み、44〜46℃の融点を有する、99%の純度
の生成物を得た。エタノールからの晶出によっても同一
の結果が得られた。このようにして得られた生成物を以
下の分光データによってキャラクタリゼーションした。
上記の条件下のGCは、7.05分の保持時間で主なピ
ーク(99.6%)を示した。
rを含み、44〜46℃の融点を有する、99%の純度
の生成物を得た。エタノールからの晶出によっても同一
の結果が得られた。このようにして得られた生成物を以
下の分光データによってキャラクタリゼーションした。
上記の条件下のGCは、7.05分の保持時間で主なピ
ーク(99.6%)を示した。
【0026】図1は、生成物の質量スペクトルを示す。
図2は、CDCl3を溶剤として用いた、生成物の1H
−NMRスペクトルを示す。図3は、DMSO−d6中
で得られた生成物の13C−NMRスペクトルである。
図4は、生成物のIRスペクトルである。
図2は、CDCl3を溶剤として用いた、生成物の1H
−NMRスペクトルを示す。図3は、DMSO−d6中
で得られた生成物の13C−NMRスペクトルである。
図4は、生成物のIRスペクトルである。
【0027】例2 1,2−ジクロロエタン中におけるm−PHTの臭素化 ジクロロメタンのかわりに溶剤として1,2−ジクロロ
エタンを用いて、例1を繰り返した。実質的に同一の結
果が得られた。
エタンを用いて、例1を繰り返した。実質的に同一の結
果が得られた。
【0028】例3 H2O2を用いたm−PHTの臭素化 例1と同じ装置を用いて、実質的に完全に暗い中約0〜
5℃の温度に保ち500mlの1,2−ジクロロエタン
中のm−PHT(184g、1.0モル)および200
mlの水の混合物に、176g(1.1モル)のBr2
を添加した。添加を約30分間で行い、その後、30%
のH2O2(131g、1.15モル)を1時間かけて
50℃で添加した。反応の進行およびその完了を、GC
を用いてチェックした。
5℃の温度に保ち500mlの1,2−ジクロロエタン
中のm−PHT(184g、1.0モル)および200
mlの水の混合物に、176g(1.1モル)のBr2
を添加した。添加を約30分間で行い、その後、30%
のH2O2(131g、1.15モル)を1時間かけて
50℃で添加した。反応の進行およびその完了を、GC
を用いてチェックした。
【0029】約2時間後、完全な転化が得られ、相を分
離した。有機相から溶剤を除去した後、未精製のDBM
DPE(335g)が得られた。未精製の生成物中の所
望の異性体の含有量は、GCで決定したところ、95%
であった。例1のような晶出によって純粋な生成物が得
られた。
離した。有機相から溶剤を除去した後、未精製のDBM
DPE(335g)が得られた。未精製の生成物中の所
望の異性体の含有量は、GCで決定したところ、95%
であった。例1のような晶出によって純粋な生成物が得
られた。
【0030】例4 NaBrO3を用いたm−PHTの臭素化 前の例と同じ構成を用いて、1,2−ジクロロエタン
(500ml)中の184g(1.0モル)のm−PH
T,55g(0.36モル)のNaBrO3、及び20
0mlの水の混合物を25℃の温度で暗い中に176g
(1.1モル)のBr2と反応させた。反応混合物への
Br2の添加は、約30分間で行った。反応の進行およ
びその完了をGCによってチェックし、決定した。
(500ml)中の184g(1.0モル)のm−PH
T,55g(0.36モル)のNaBrO3、及び20
0mlの水の混合物を25℃の温度で暗い中に176g
(1.1モル)のBr2と反応させた。反応混合物への
Br2の添加は、約30分間で行った。反応の進行およ
びその完了をGCによってチェックし、決定した。
【0031】完全な転化が約2時間で得られ、その後、
相を分離した。有機相からの溶剤の除去後、DBMDP
E(340g)を得た。未精製の生成物中の所望の異性
体の含有量は、GCによって決定したところ、97%で
あった。前の例のような晶出によって純粋な生成物が得
られた。
相を分離した。有機相からの溶剤の除去後、DBMDP
E(340g)を得た。未精製の生成物中の所望の異性
体の含有量は、GCによって決定したところ、97%で
あった。前の例のような晶出によって純粋な生成物が得
られた。
【0032】例5 溶剤を用いないm−PHTの臭素化
【0033】前の例と同じ反応容器を用いて、460g
(2.5モル)のm−PHTを5℃で完全に暗い中に、
Br2と反応させた。Br2(832g、5.2モル)
を機械的撹拌下に添加し、反応混合物の温度を昇温させ
た。反応の終了前に、90%のBr2を添加した後、反
応混合物の温度は、45℃に達した。全部のBr2を添
加した後、反応混合物を1時間撹はんした。反応の進行
は、GCにより決定した。
(2.5モル)のm−PHTを5℃で完全に暗い中に、
Br2と反応させた。Br2(832g、5.2モル)
を機械的撹拌下に添加し、反応混合物の温度を昇温させ
た。反応の終了前に、90%のBr2を添加した後、反
応混合物の温度は、45℃に達した。全部のBr2を添
加した後、反応混合物を1時間撹はんした。反応の進行
は、GCにより決定した。
【0034】完全な転化が約2時間後に測定され、その
後、過剰のBr2および微量のHBrを10%のNH3
水(約150ml)で中和した。約50℃での有機相の
分離によって未精製のDBMDPE(840g)が得ら
れた。未精製の生成物中の所望の異性体は、定性GCに
より決定したところ、約89%であった。
後、過剰のBr2および微量のHBrを10%のNH3
水(約150ml)で中和した。約50℃での有機相の
分離によって未精製のDBMDPE(840g)が得ら
れた。未精製の生成物中の所望の異性体は、定性GCに
より決定したところ、約89%であった。
【0035】例6 DBDMHを用いたm−PHTの臭素化 前の例と同じ反応用の構成を用いて、アセトニトリル
(120ml)中のジブロモジメチルヒダントイン(6
2.9g、0.22モル)およびm−PHTの懸濁液を
還流下に保持した。反応をGCによってチェックした。
4,4′−ジブロモ−3−メチルジフェニルエーテルへ
の40%の転化が3時間後に、95%の転化が10時間
後に得られた。
(120ml)中のジブロモジメチルヒダントイン(6
2.9g、0.22モル)およびm−PHTの懸濁液を
還流下に保持した。反応をGCによってチェックした。
4,4′−ジブロモ−3−メチルジフェニルエーテルへ
の40%の転化が3時間後に、95%の転化が10時間
後に得られた。
【0036】例7 5.25モルの代りに3.1モルのみのBr2を用いて
例1を繰り返した。1:4の4,4′−ジブロモ−3−
メチルジフェニルエーテルおよび4−ブロモ−3−メチ
ルジフェニルエーテルの混合物が得られた。
例1を繰り返した。1:4の4,4′−ジブロモ−3−
メチルジフェニルエーテルおよび4−ブロモ−3−メチ
ルジフェニルエーテルの混合物が得られた。
【0037】当業者に明らかであるように、反応の第一
工程(一臭素化)が第二の臭素化よりもかなり速いた
め、一臭素化生成物と単離することが可能である。同様
に、m−PHTのかわりに、出発物質として一臭素化m
−PHTを用いることが可能である。従って、一臭素化
m−PHTをいずれかの原料から入手できるならば、D
BMDPEを得るためにそれを臭素化することが可能で
あり、このような方法も本発明の部分を成すと意図す
る。
工程(一臭素化)が第二の臭素化よりもかなり速いた
め、一臭素化生成物と単離することが可能である。同様
に、m−PHTのかわりに、出発物質として一臭素化m
−PHTを用いることが可能である。従って、一臭素化
m−PHTをいずれかの原料から入手できるならば、D
BMDPEを得るためにそれを臭素化することが可能で
あり、このような方法も本発明の部分を成すと意図す
る。
【0038】例8 4,4′−ジブロモ−2−メチルジフェニルエーテル
(DBMPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた1lの五ツ口丸底フラスコ中において臭素(168
g、1.05モル)をジクロロメタン(368g)中の
2−フェノキシトルエン(92g、0.5モル)の撹拌
されている溶液に添加した。コンデンサーの上部には、
反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するためのトラ
ップが備えられている。3〜7℃の範囲の温度および暗
い中での臭素の添加を1時間行い、その後、反応混合物
をさらに1時間撹はんした。反応の進行およびその完了
をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭化
水素酸を25%のNH3水(48ml)で中和した。相
を分離し、有機相を2回水(100ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、99.3%の所望の異性体を
含む(定性GCにより決定した)DBMPEを得た。
(DBMPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた1lの五ツ口丸底フラスコ中において臭素(168
g、1.05モル)をジクロロメタン(368g)中の
2−フェノキシトルエン(92g、0.5モル)の撹拌
されている溶液に添加した。コンデンサーの上部には、
反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するためのトラ
ップが備えられている。3〜7℃の範囲の温度および暗
い中での臭素の添加を1時間行い、その後、反応混合物
をさらに1時間撹はんした。反応の進行およびその完了
をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭化
水素酸を25%のNH3水(48ml)で中和した。相
を分離し、有機相を2回水(100ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、99.3%の所望の異性体を
含む(定性GCにより決定した)DBMPEを得た。
【0039】分別蒸留後、152.4gの99.5%の
純度のDBMPEを得た。化学的収率:87.7%、
m.p.33℃、46.4%のBr(計算値、46.8
%)。生成物の質量スペクトルおよびNMRをそれぞれ
図13および14に示す。
純度のDBMPEを得た。化学的収率:87.7%、
m.p.33℃、46.4%のBr(計算値、46.8
%)。生成物の質量スペクトルおよびNMRをそれぞれ
図13および14に示す。
【0040】例9 4,4′−ジブロモ−2−イソプロピルジフェニルエー
テル(DBIPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(16.8g、0.105モル)をジクロロメタン(4
2.5g)中のイソプロピルジフェニルエーテル(1
0.6g、0.05モル)の撹拌されている溶液に添加
した。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される
臭化水素酸を吸収するための2個の逐次の20%NaO
Hトラップが備えられている。2〜5℃の範囲の温度お
よび完全に暗い中での臭素の添加を1時間半行い、その
後、反応混合物をさらに30分間撹はんした。反応の進
行およびその完了をGCによって決定した。過剰の臭素
および微量の臭化水素酸を10%のNH3水(60m
l)で中和した。相を分離し、有機相を2回水(50m
l)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、約90%の
収率で93.6%の所望の異性体を含む(定性GCによ
り決定した)DBIPEを得た。精製した生成物のGC
MS分析のスペクトルを図5に示す。そのNMRスペク
トルを図6に示す。
テル(DBIPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(16.8g、0.105モル)をジクロロメタン(4
2.5g)中のイソプロピルジフェニルエーテル(1
0.6g、0.05モル)の撹拌されている溶液に添加
した。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される
臭化水素酸を吸収するための2個の逐次の20%NaO
Hトラップが備えられている。2〜5℃の範囲の温度お
よび完全に暗い中での臭素の添加を1時間半行い、その
後、反応混合物をさらに30分間撹はんした。反応の進
行およびその完了をGCによって決定した。過剰の臭素
および微量の臭化水素酸を10%のNH3水(60m
l)で中和した。相を分離し、有機相を2回水(50m
l)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、約90%の
収率で93.6%の所望の異性体を含む(定性GCによ
り決定した)DBIPEを得た。精製した生成物のGC
MS分析のスペクトルを図5に示す。そのNMRスペク
トルを図6に示す。
【0041】例10 1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン(BB3MPZ)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた四ツ口丸底フラスコ中において臭素(108.7
g、0.34モル)をジクロロメタン(400g)中の
1,4−ビス(3′−メチルフェノキシ)ベンゼン(9
8.5g、0.34モル)の撹拌されている溶液に添加
した。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される
臭化水素酸を吸収するためのトラップが備えられてい
る。0〜2℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素
の添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時
間室温(〜25℃)で撹はんした。反応の進行およびそ
の完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量
の臭化水素酸を10%のNH3水(50ml)で中和し
た。相を分離し、有機相を水(60ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、94.6%の収率を示す97
%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)、
未精製のBB3MPZ(148.5g)を得た。
シ)ベンゼン(BB3MPZ)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた四ツ口丸底フラスコ中において臭素(108.7
g、0.34モル)をジクロロメタン(400g)中の
1,4−ビス(3′−メチルフェノキシ)ベンゼン(9
8.5g、0.34モル)の撹拌されている溶液に添加
した。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される
臭化水素酸を吸収するためのトラップが備えられてい
る。0〜2℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素
の添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時
間室温(〜25℃)で撹はんした。反応の進行およびそ
の完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量
の臭化水素酸を10%のNH3水(50ml)で中和し
た。相を分離し、有機相を水(60ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、94.6%の収率を示す97
%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)、
未精製のBB3MPZ(148.5g)を得た。
【0042】晶出後(メタノールまたはエタノールか
ら)、99%より高い純度の生成物が得られた(35.
7%のBr、m.p.110〜113℃)。その質量ス
ペクトルおよびNMRスペクトルをそれぞれ図7および
8に示す。
ら)、99%より高い純度の生成物が得られた(35.
7%のBr、m.p.110〜113℃)。その質量ス
ペクトルおよびNMRスペクトルをそれぞれ図7および
8に示す。
【0043】例11 1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン(BB2MPZ)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた1lの五ツ口丸底フラスコ中において臭素(67.
2g、0.42モル)をジクロロメタン(232g)中
の1,4−ビス(2′−メチルフェノキシ)ベンゼン
(58g、0.2モル)の撹拌されている溶液に添加し
た。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される臭
化水素酸を吸収するための2個の逐次の20%NaOH
トラップが備えられている。0〜5℃の範囲の温度およ
び暗い中での臭素の添加を2時間行い、その後、反応混
合物をさらに1時間撹はんした。反応の進行およびその
完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の
臭化水素酸を12.5%のNH3水(100ml)で中
和した。相を分離し、有機相を2回水(50ml)で洗
浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、98.5%の所望の
異性体を含む(定性GCにより決定した)未精製のBB
2MPZ(83.4g)を得た。これは、92.8%の
収率および99.7%の選択性を示す。晶出後、99%
よりも高い純度の生成物が得られた(35.3%のB
r、計算値35.7%のBr、m.p.103.8
℃)。その質量スペクトル写真を図9に示す。
シ)ベンゼン(BB2MPZ)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた1lの五ツ口丸底フラスコ中において臭素(67.
2g、0.42モル)をジクロロメタン(232g)中
の1,4−ビス(2′−メチルフェノキシ)ベンゼン
(58g、0.2モル)の撹拌されている溶液に添加し
た。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される臭
化水素酸を吸収するための2個の逐次の20%NaOH
トラップが備えられている。0〜5℃の範囲の温度およ
び暗い中での臭素の添加を2時間行い、その後、反応混
合物をさらに1時間撹はんした。反応の進行およびその
完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の
臭化水素酸を12.5%のNH3水(100ml)で中
和した。相を分離し、有機相を2回水(50ml)で洗
浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、98.5%の所望の
異性体を含む(定性GCにより決定した)未精製のBB
2MPZ(83.4g)を得た。これは、92.8%の
収率および99.7%の選択性を示す。晶出後、99%
よりも高い純度の生成物が得られた(35.3%のB
r、計算値35.7%のBr、m.p.103.8
℃)。その質量スペクトル写真を図9に示す。
【0044】例12 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ビフェニル(BBMPL)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
8g)中の4,4′−ビス(2′−メチルフェノキシ)
ビフェニル(14.6g、0.04モル)の撹拌されて
いる溶液に添加した。コンデンサーの上部には、反応の
間に放出される臭化水素酸を吸収するための2個の逐次
の20%NaOHトラップが備えられている。0〜10
℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素の添加を8
0分間行った。反応の進行およびその完了をGCによっ
て決定した。過剰の臭素および微量の臭化水素酸を25
%のNH3水(7ml)で中和した。相を分離し、有機
相を水(3×45ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の
蒸留後、91.5%の収率を示す、92.4%の所望の
異性体を含む(定性GCにより決定した)未精製のBB
MPL(20.8g)を得た。アセトニトリルからの晶
出後、98%よりも高い純度の生成物を得た。59.8
%のCおよび30.3%のBr(計算値はそれぞれ5
9.5%および30.5%)が含まれていた。その質量
スペクトルを図10に示す。
シ)ビフェニル(BBMPL)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
8g)中の4,4′−ビス(2′−メチルフェノキシ)
ビフェニル(14.6g、0.04モル)の撹拌されて
いる溶液に添加した。コンデンサーの上部には、反応の
間に放出される臭化水素酸を吸収するための2個の逐次
の20%NaOHトラップが備えられている。0〜10
℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素の添加を8
0分間行った。反応の進行およびその完了をGCによっ
て決定した。過剰の臭素および微量の臭化水素酸を25
%のNH3水(7ml)で中和した。相を分離し、有機
相を水(3×45ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の
蒸留後、91.5%の収率を示す、92.4%の所望の
異性体を含む(定性GCにより決定した)未精製のBB
MPL(20.8g)を得た。アセトニトリルからの晶
出後、98%よりも高い純度の生成物を得た。59.8
%のCおよび30.3%のBr(計算値はそれぞれ5
9.5%および30.5%)が含まれていた。その質量
スペクトルを図10に示す。
【0045】例13 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルエーテル(BBMPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(6
6g)中の4,4′−ビス(2′−メチルフェノキシ)
ジフェニルエーテル(15.3g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するための
2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。0〜10℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を120分間行った。反応の進行およびその完
了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭
化水素酸を25%のNH3水(10ml)で中和した。
相を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、89.3%の収率を示す、9
4.1%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定し
た)未精製のBBMPE(20.5g)を得た。精製し
たサンプルには、57.9%のCおよび29.8%のB
r(計算値はそれぞれ57.8%および29.6%)が
含まれていることがわかった。その質量スペクトル写真
を図15に示す。
シ)ジフェニルエーテル(BBMPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(6
6g)中の4,4′−ビス(2′−メチルフェノキシ)
ジフェニルエーテル(15.3g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するための
2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。0〜10℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を120分間行った。反応の進行およびその完
了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭
化水素酸を25%のNH3水(10ml)で中和した。
相を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、89.3%の収率を示す、9
4.1%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定し
た)未精製のBBMPE(20.5g)を得た。精製し
たサンプルには、57.9%のCおよび29.8%のB
r(計算値はそれぞれ57.8%および29.6%)が
含まれていることがわかった。その質量スペクトル写真
を図15に示す。
【0046】例14 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルホン(BBMPS)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(6
6g)中の4,4′−ビス(2”−メチルフェノキシ)
ジフェニルスルホン(17.2g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するための
2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。0〜10℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を120分間行った。反応の進行およびその完
了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭
化水素酸を25%のNH3水(10ml)で中和した。
相を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、84.2%の収率を示す、9
0%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)
未精製のBBMPS(22.0g)を得た。精製したサ
ンプルの質量スペクトル写真およびNMRスペクトルを
得、それぞれ図11および12に示す。
シ)ジフェニルスルホン(BBMPS)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(6
6g)中の4,4′−ビス(2”−メチルフェノキシ)
ジフェニルスルホン(17.2g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するための
2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。0〜10℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を120分間行った。反応の進行およびその完
了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭
化水素酸を25%のNH3水(10ml)で中和した。
相を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、84.2%の収率を示す、9
0%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)
未精製のBBMPS(22.0g)を得た。精製したサ
ンプルの質量スペクトル写真およびNMRスペクトルを
得、それぞれ図11および12に示す。
【0047】例15 2,2−ビス〔4′−(4″−ブロモ−2″−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン(BBMPP)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の2,2−ビス〔4′−(2″−メチルフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン(16.3g、0.04モ
ル)の撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの
上部には、反応の間に放出されるHBrを吸収するため
の2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。5〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中でのB
r2の添加を120分間行った。反応の進行およびその
完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の
HBrを25%のNH3水(10ml)で中和した。相
を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。有
機相中での溶剤の蒸留後、83.5%の収率を示す、9
0%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)
未精製のBBMPP(21.0g)を得た。元素分析:
61.7%のCおよび28.1%のBr、計算値はそれ
ぞれ61.5%および28.3%。
ェノキシ)フェニル〕プロパン(BBMPP)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の2,2−ビス〔4′−(2″−メチルフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン(16.3g、0.04モ
ル)の撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの
上部には、反応の間に放出されるHBrを吸収するため
の2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。5〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中でのB
r2の添加を120分間行った。反応の進行およびその
完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の
HBrを25%のNH3水(10ml)で中和した。相
を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。有
機相中での溶剤の蒸留後、83.5%の収率を示す、9
0%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)
未精製のBBMPP(21.0g)を得た。元素分析:
61.7%のCおよび28.1%のBr、計算値はそれ
ぞれ61.5%および28.3%。
【0048】例16 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド(BBMPSD)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド(15.9g、0.04モ
ル)の撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの
上部には、反応の間に放出されるHBrを吸収するため
の2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。5〜40℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1
時間撹はんした。反応の進行およびその完了をGCによ
って決定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%
のNH3水(10ml)で中和した。相を分離し、有機
相を水(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸
留後、92.8%の収率を示す、96%の所望の異性体
を含む(定性GCにより決定した)未精製のBBMPS
D(21.5g)を得た。元素分析:55.9%のCお
よび28.6%のBr、計算値はそれぞれ56.1%お
よび28.8%。
シ)ジフェニルスルフィド(BBMPSD)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド(15.9g、0.04モ
ル)の撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの
上部には、反応の間に放出されるHBrを吸収するため
の2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。5〜40℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1
時間撹はんした。反応の進行およびその完了をGCによ
って決定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%
のNH3水(10ml)で中和した。相を分離し、有機
相を水(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸
留後、92.8%の収率を示す、96%の所望の異性体
を含む(定性GCにより決定した)未精製のBBMPS
D(21.5g)を得た。元素分析:55.9%のCお
よび28.6%のBr、計算値はそれぞれ56.1%お
よび28.8%。
【0049】例17 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン(BBMPBP)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン(15.8g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出されるHBrを吸収するための2個
の逐次の20%NaOHトラップが備えられている。5
〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素の添
加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時間撹
はんした。反応の進行およびその完了をGCによって決
定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%のNH
3水(10ml)で中和した。相を分離し、有機相を水
(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、
90.4%の収率を示す、95%の所望の異性体を含む
(定性GCにより決定した)未精製のBBMPBP(2
1g)を得た。元素分析:58.5%のCおよび28.
8%のBr、計算値はそれぞれ58.7%および29.
0%。
シ)ベンゾフェノン(BBMPBP)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン(15.8g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出されるHBrを吸収するための2個
の逐次の20%NaOHトラップが備えられている。5
〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素の添
加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時間撹
はんした。反応の進行およびその完了をGCによって決
定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%のNH
3水(10ml)で中和した。相を分離し、有機相を水
(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、
90.4%の収率を示す、95%の所望の異性体を含む
(定性GCにより決定した)未精製のBBMPBP(2
1g)を得た。元素分析:58.5%のCおよび28.
8%のBr、計算値はそれぞれ58.7%および29.
0%。
【0050】例18 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン(BBMPD)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン(15.2g、0.04モル)の
撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出されるHBrを吸収するための2個
の逐次の20%NaOHトラップが備えられている。5
〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中でのBr2の
添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時間
撹はんした。反応の進行およびその完了をGCによって
決定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%のN
H3水(10ml)で中和した。相を分離し、有機相を
水(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留
後、90.2%の収率を示す、98%の所望の異性体を
含む(定性GCにより決定した)未精製のBBMPD
(19.8g)を得た。元素分析:59.9%のCおよ
び29.6%のBr、計算値はそれぞれ60.2%およ
び29.7%。
シ)ジフェニルメタン(BBMPD)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン(15.2g、0.04モル)の
撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出されるHBrを吸収するための2個
の逐次の20%NaOHトラップが備えられている。5
〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中でのBr2の
添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時間
撹はんした。反応の進行およびその完了をGCによって
決定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%のN
H3水(10ml)で中和した。相を分離し、有機相を
水(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留
後、90.2%の収率を示す、98%の所望の異性体を
含む(定性GCにより決定した)未精製のBBMPD
(19.8g)を得た。元素分析:59.9%のCおよ
び29.6%のBr、計算値はそれぞれ60.2%およ
び29.7%。
【図1】4,4′−ジブロモ−3−メチルジフェニルエ
ーテル(DBMDPE)の質量スペクトルである。
ーテル(DBMDPE)の質量スペクトルである。
【図2】CDCl3中のDBMDPEの1H−NMRス
ペクトルである。
ペクトルである。
【図3】DMSO−d6中のDBMDPEの13C−N
MRスペクトルである。
MRスペクトルである。
【図4】DBMDPEのIRスペクトルである。
【図5】4,4′−ジブロモ−2−イソプロピルジフェ
ニルエーテル(DBIPE)のGCMSスペクトルであ
る。
ニルエーテル(DBIPE)のGCMSスペクトルであ
る。
【図6】DBIPEのNMRスペクトルである。
【図7】1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−メチルフ
ェノキシ)ベンゼン(BB3MPZ)の質量スペクトル
である。
ェノキシ)ベンゼン(BB3MPZ)の質量スペクトル
である。
【図8】BB3MPZのNMRスペクトルである。
【図9】1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−メチルフ
ェノキシ)ベンゼン(BB2MPZ)の質量スペクトル
である。
ェノキシ)ベンゼン(BB2MPZ)の質量スペクトル
である。
【図10】4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチ
ルフェノキシ)ピフェニル(BBMPL)の質量スペク
トルである。
ルフェノキシ)ピフェニル(BBMPL)の質量スペク
トルである。
【図11】4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチ
ルフェノキシ)ジフェニルスルホン(BBMPS)の質
量スペクトルである。
ルフェノキシ)ジフェニルスルホン(BBMPS)の質
量スペクトルである。
【図12】BBMPSのNMRスペクトルである。
【図13】4,4′−ジブロモ−2−メチルジフェニル
エーテル(DBMPE)の質量スペクトルである。
エーテル(DBMPE)の質量スペクトルである。
【図14】DBMPEのNMRスペクトルである。
【図15】4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチ
ルフェノキシ)ジフェニルエーテル(BBMPE)の質
量スペクトルである。
ルフェノキシ)ジフェニルエーテル(BBMPE)の質
量スペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デイビッド フェルドマン イスラエル国,ハイファ,ペレツ マーキ ッシュ ストリート 18 (72)発明者 マイケル ズビエリー イスラエル国,ハイファ 34984,サビオ ネイ−ダニア,ハイム−ハザズ ストリー ト,3 (72)発明者 ロニー ハチャム イスラエル国,ホロン,ハネビエム スト リート,11
Claims (24)
- 【請求項1】 次式(I)、 【化1】 〔上式中、n=0または1であり;R1およびR2は、
C1〜C3アルキル基であり、あるいはR2は、n=0
である場合は、Hであってもよく;Yは、 【化2】 (ここで、m=1〜6;Z=SO2, S,C=0,C
H2、またはC(CH3)2)の群から選ばれる。但
し、n=0である場合は、R1およびR2が両方ともC
H3であってはならない〕を有する化合物。 - 【請求項2】 次式II、 【化3】 〔上式中、R1,R2,Y、およびnは、請求項1記載
の意味を有する〕を有する化合物と臭素化剤を実質的に
光の不在下に反応させることを含む、請求項1記載の式
Iの化合物の製造方法。 - 【請求項3】 反応が溶剤の不在下に行われる、請求項
2記載の方法。 - 【請求項4】 臭素化反応が、反応条件下に実質的に反
応性でない有機溶剤下に行われる、請求項2記載の方
法。 - 【請求項5】 有機溶剤が、ハロカーボン、またはアセ
トニトリルである、請求項4記載の方法。 - 【請求項6】 ハロカーボンがジクロロメタン、クロロ
ベンゼン、および1,2−ジクロロメタンから選ばれ
る、請求項5記載の方法。 - 【請求項7】 反応が、水およびハロカーボン溶剤を含
む液体媒質下に行われる、請求項2記載の方法。 - 【請求項8】 臭素化反応が、約−10℃〜90℃を含
む温度で行われる、請求項2〜7のいずれか1項に記載
の方法。 - 【請求項9】 臭素化剤がBrおよびジブロモジメチル
ヒダントインから選ばれる、請求項2〜8のいずれか1
項に記載の方法。 - 【請求項10】 HBrから元素臭素を遊離させるため
に反応混合物に酸化剤を添加する、請求項9記載の方
法。 - 【請求項11】 酸化剤がH2O2およびNaBrO3
から選ばれる、請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 有機溶剤が、本質的にジクロロメタ
ン、1,2−ジクロロエタン、およびアセトニトリルか
らなる群から選ばれる、請求項5記載の方法。 - 【請求項13】 4,4′−ジブロモ−3−メチル−ジ
フェニルエーテル。 - 【請求項14】 4,4′−ジブロモ−2−メチルジフ
ェニルエーテル。 - 【請求項15】 4,4′−ジブロモ−2−イソプロピ
ルジフェニルエーテル。 - 【請求項16】 1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−
メチルフェノキシ)ベンゼン。 - 【請求項17】 1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−
メチルフェノキシ)ベンゼン。 - 【請求項18】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
−メチルフェノキシ)ビフェニル。 - 【請求項19】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
−メチルフェノキシ)ジフェニルエーテル。 - 【請求項20】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
−メチルフェノキシ)ジフェニルスルホン。 - 【請求項21】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
−メチルフェノキシ)ジフェニルメタン。 - 【請求項22】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
−メチルフェノキシ)ジフェニルスルフィド。 - 【請求項23】 2,2′−ビス〔4′−(4″−ブロ
モ−2″−メチルフェノキシ)フェニル〕プロパン。 - 【請求項24】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
−メチルフェノキシ)ベンゾフェノン。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IL9368490A IL93684A (en) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 4,4' -dibromo-3-methyl-diphenylether and processes for its preparation |
| IL97300 | 1991-02-20 | ||
| IL97300A IL97300A0 (en) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | Brominated phenoxy compounds and process for their preparation |
| IL93684 | 1991-02-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0797348A true JPH0797348A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=26322062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12569891A Pending JPH0797348A (ja) | 1990-03-08 | 1991-03-08 | 新規臭素化フェノキシ化合物およびそれらの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0446720A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0797348A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006103694A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Council Of Scientific And Industrial Research | Novel 1-bromo-4- (4'-bromophenoxy)-2-pentadecyl benzene and a process for the preparation thereof |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3358040A (en) * | 1964-06-15 | 1967-12-12 | Texaco Inc | Biphenyl derivatives |
| GB2102420B (en) * | 1981-07-08 | 1985-08-21 | Raychem Corp | Preparation of aromatic ketones |
| US4550210A (en) * | 1983-08-12 | 1985-10-29 | The University Of Dayton | Process for preparing halogen-terminated oligomers useful in the production of acetylene-terminated resins |
| US4835322A (en) * | 1987-10-19 | 1989-05-30 | Great Lakes Chemical Corporation | Process for producing 4,4'-dibromodiphenyl ether |
-
1991
- 1991-03-01 EP EP19910103076 patent/EP0446720A3/en not_active Withdrawn
- 1991-03-08 JP JP12569891A patent/JPH0797348A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0446720A3 (en) | 1993-06-16 |
| EP0446720A2 (en) | 1991-09-18 |
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