JPH0797348A - 新規臭素化フェノキシ化合物およびそれらの製造方法 - Google Patents

新規臭素化フェノキシ化合物およびそれらの製造方法

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JPH0797348A
JPH0797348A JP12569891A JP12569891A JPH0797348A JP H0797348 A JPH0797348 A JP H0797348A JP 12569891 A JP12569891 A JP 12569891A JP 12569891 A JP12569891 A JP 12569891A JP H0797348 A JPH0797348 A JP H0797348A
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ハーモリン ヨシュア
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Ronny Hacham
ハチャム ロニー
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 次式(I) 〔上式中、n=0または1であり;RおよびRは、
〜Cアルキル基であり、あるいはRは、n=0
である場合は、Hであってもよく;Yは、 または (ここで、m=1〜6;Z=SO,S,C=0,CH
、またはC(CH)の群から選ばれる。但し、
n=0である場合は、RおよびRが両方ともCH
であってはならない〕を有する化合物およびその製造方
法に関する。 【効果】 これらの化合物は、モノマーおよびポリマー
の先駆物質として用いることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明の分野 本発明は、新規な臭素化フェノキシ化合物およびそれら
の製造方法に関する。
【0002】本発明の概要 本発明の化合物は、次式
【0003】
【化4】
【0004】〔上式中、n=0または1であり;R
よびRは、C〜Cアルキル基であり、あるいは、
は、n=0である場合は、Hであってもよく;Y
は、
【0005】
【化5】
【0006】(ここで、m=1〜6;Z=SO
S,C=0,CH、またはC(CH)の群から
選ばれる。但し、n=0である場合は、RおよびR
が両方ともCHであってはならない〕を有する。
【0007】本発明の化合物は、モノマーおよびポリマ
ーの先駆物質として用いることができ、以下の実例の化
合物を含むが、これに限定されない。 4,4′−ジブロモ−3−メチル−ジフェニルエーテル 4,4′−ジブロモ−2−メチルジフェニルエーテル 4,4′−ジブロモ−2−イソプロピルジフェニルエー
テル 1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン 1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ビフェニル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ビフェニル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルエーテル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルエーテル 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルホン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルホン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド 2,2′−ビス〔4′(4″−ブロモ−2″−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン 2,2′−ビス〔4′(4″−ブロモ−3″−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン 4,4′−ビス(4″−ブロモ−3″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン。
【0008】これらの新規化合物は、種々の4,4′を
二置換されたジおよびポリフェニル化合物の製造に有用
である。これらの後者の化合物、すなわち、そのいくつ
かもまた新規であり、同じ出願人の同時係属出願に記載
されており、例えば、4,4′−ジヒドロキシ−3−メ
チルジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノ−3−メ
チル−ジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノ−3−
メチル−ジフェニルエーテル−ビス−マレイミドおよび
類似の化合物を含む。
【0009】これら4,4′を二置換されたフェニルエ
ーテルは、航空、電気電子工学、および航空宇宙産業に
おける用途のための高性能ポリマーの製造用に工業的に
有用なモノマーである。多くの用途のために、広範囲な
性質がモノマーの構造変化によって求められてきた。従
って、芳香環における置換基、および/または2個の芳
香環を他と結合するために役立つひとつの基の置換によ
って、これらのモノマーを変えることによって、それか
ら製造された樹脂の軟化点、柔軟性、耐熱性などが影響
される。それらが与える改良された性質は、より軽量の
物質により良好な性能を求める広範囲な用途に利点を与
えることができる。ここに記載された一群の化合物は、
ポリマーの性質にこの範囲の変化を与えるために役立
つ。
【0010】4,4′−ジブロモ−3−メチル−ジフェ
ニルエーテル(DBMDPE)の製造は、本発明の化合
物の製造方法の実例であり、出発物質および必要な生成
物により各々の場合において変化を必要とし、従って、
後に詳しく検討しよう。
【0011】この化合物は、メチル基の望ましくない臭
素化を避けるために、実質的に完全に暗い中でm−フェ
ノキシトルエン(m−PHT)と臭素または他の臭素化
剤を反応させることによって製造することができる。反
応がこれらの条件下に行われた場合、DBMDPEが高
収率および高純度で形成する。
【0012】本発明の詳細な説明 一般に、本発明の方法には、次式
【0013】
【化6】
【0014】〔上式中、R,R,Yおよびnは、前
記の意味を有する〕を有する化合物と臭素化剤を実質的
に光の不在下に反応させることが含まれる。
【0015】反応混合物と適合する限り、いずれの適当
な臭素化剤をも臭素化反応で用いることができる。好ま
しい臭素化剤には、例えば、Br、またはジブロモジ
メチルヒダントインが含まれ、あるいは、臭素をその場
で、例えば、HBrと酸化剤、例えば、H、もし
くはNaBrOまたは公知の酸化剤などを用いること
によって発生させることもできる。当業者に認識される
ように、酸化剤をBrとともに用い、反応の間に発生
されるHBrからの遊離臭素を発生させることによって
臭素化反応を促進させることもできる。
【0016】反応は、溶剤中、または溶剤なしに行うこ
ともできるが、このような溶剤の存在または不在は、臭
素化の選択性を影響し得る。溶剤を用いた場合、反応条
件下に反応性でない溶剤、例えばハロカーボン、例えば
ジクロロメタン、クロロベンゼン、および1,2−ジク
ロロエタンまたはアセトニトリルを用いることが好まし
い。
【0017】反応温度もまた臭素化の選択性並びに反応
速度を影響する。温度が高いほど選択性は低くなるが、
反応速度は速くなる。従って、反応温度は、所望の生成
物の純度並びに他の経済的要因によって変化させること
ができる。臭素化剤を約−10℃〜約25℃の範囲内の
温度で添加し、約−10℃〜約90℃の温度で反応を行
うことが好ましい。しかしながら、用いた溶剤と適合
し、反応体または生成物を不利に影響しない限り、より
高い温度またはより低い温度を用いることもできる。
【0018】キャラクタリゼーションのデータおよび製
造方法を以下の例によって説明するが、本発明を限定す
るものと解釈してはならない。例で報告された分析デー
タは、一般的に下記のような機器および条件下に得た。
【0019】GC ガスクロマトグラフ−Varian 3400 炉:初期温度100℃、1分間保持後、15゜/分で2
50℃まで昇温。 インゼクター:250℃ 検出器(輸送ライン):300℃ カラム:HP−1(100%メチルポリシロキサン)、
5m×0.53mm(大内径) 注入量:1μl 流量:13ml/分 保持時間:7.05分
【0020】GC/MS ガスクロマトグラフHP 5890A 炉:初期温度100℃、1分間保持後、15゜/分で2
40℃まで昇温 インゼクター:230℃ 検出器(輸送ライン):250℃カラム SUPELCO (溶融シリカのキャピラリーカ
ラム)30m×0.25mm 分割比:1:50 注入量:1μl 流量:0.6ml/分 保持時間:15.2分
【0021】質量分析計HP 5970 範囲:40〜550a.m.n. 走査:0.9秒ごと
【0022】NMRスペクトル:Bruker WP
200MHz
【表1】
【0023】IR:FTIR Nicolet 5MX 範囲:400〜4600cm−1 走査:10(10秒ごと) サンプル:0.8mg/80mgKBr
【0024】
【実施例】例1 ジクロロメタン中におけるm−PHTの臭素化 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
え、1lのジクロロメタン中のm−PHT(460g、
2.5モル)の撹拌されている溶液を含む四ツ口丸底フ
ラスコに、840g(5.25モル)のBrを添加し
た。コンデンサーの上部には、反応の間に放出されるH
Brを吸収するためのトラップが備えられている。Br
は、−5℃〜0℃の温度で、暗い中に1時間で添加
し、添加後、反応混合物をさらに1時間約25℃で撹は
んした。反応の進行は、GCによって決定した。過剰の
臭素および微量のHBrを10%のNH水(150m
l)で中和した。反応中に形成した二相を分離し、有機
相を水(200ml)で洗浄した。有機相中の溶剤を蒸
留した後、97%の所望の異性体を含み(GCにより決
定した)、93%の収率を示すDBMDPE(820
g)を得た。
【0025】メタノールからの晶出後、46.4%のB
rを含み、44〜46℃の融点を有する、99%の純度
の生成物を得た。エタノールからの晶出によっても同一
の結果が得られた。このようにして得られた生成物を以
下の分光データによってキャラクタリゼーションした。
上記の条件下のGCは、7.05分の保持時間で主なピ
ーク(99.6%)を示した。
【0026】図1は、生成物の質量スペクトルを示す。
図2は、CDClを溶剤として用いた、生成物の
−NMRスペクトルを示す。図3は、DMSO−d
で得られた生成物の13C−NMRスペクトルである。
図4は、生成物のIRスペクトルである。
【0027】例2 1,2−ジクロロエタン中におけるm−PHTの臭素化 ジクロロメタンのかわりに溶剤として1,2−ジクロロ
エタンを用いて、例1を繰り返した。実質的に同一の結
果が得られた。
【0028】例3 を用いたm−PHTの臭素化 例1と同じ装置を用いて、実質的に完全に暗い中約0〜
5℃の温度に保ち500mlの1,2−ジクロロエタン
中のm−PHT(184g、1.0モル)および200
mlの水の混合物に、176g(1.1モル)のBr
を添加した。添加を約30分間で行い、その後、30%
のH(131g、1.15モル)を1時間かけて
50℃で添加した。反応の進行およびその完了を、GC
を用いてチェックした。
【0029】約2時間後、完全な転化が得られ、相を分
離した。有機相から溶剤を除去した後、未精製のDBM
DPE(335g)が得られた。未精製の生成物中の所
望の異性体の含有量は、GCで決定したところ、95%
であった。例1のような晶出によって純粋な生成物が得
られた。
【0030】例4 NaBrOを用いたm−PHTの臭素化 前の例と同じ構成を用いて、1,2−ジクロロエタン
(500ml)中の184g(1.0モル)のm−PH
T,55g(0.36モル)のNaBrO、及び20
0mlの水の混合物を25℃の温度で暗い中に176g
(1.1モル)のBrと反応させた。反応混合物への
Brの添加は、約30分間で行った。反応の進行およ
びその完了をGCによってチェックし、決定した。
【0031】完全な転化が約2時間で得られ、その後、
相を分離した。有機相からの溶剤の除去後、DBMDP
E(340g)を得た。未精製の生成物中の所望の異性
体の含有量は、GCによって決定したところ、97%で
あった。前の例のような晶出によって純粋な生成物が得
られた。
【0032】例5 溶剤を用いないm−PHTの臭素化
【0033】前の例と同じ反応容器を用いて、460g
(2.5モル)のm−PHTを5℃で完全に暗い中に、
Brと反応させた。Br(832g、5.2モル)
を機械的撹拌下に添加し、反応混合物の温度を昇温させ
た。反応の終了前に、90%のBrを添加した後、反
応混合物の温度は、45℃に達した。全部のBrを添
加した後、反応混合物を1時間撹はんした。反応の進行
は、GCにより決定した。
【0034】完全な転化が約2時間後に測定され、その
後、過剰のBrおよび微量のHBrを10%のNH
水(約150ml)で中和した。約50℃での有機相の
分離によって未精製のDBMDPE(840g)が得ら
れた。未精製の生成物中の所望の異性体は、定性GCに
より決定したところ、約89%であった。
【0035】例6 DBDMHを用いたm−PHTの臭素化 前の例と同じ反応用の構成を用いて、アセトニトリル
(120ml)中のジブロモジメチルヒダントイン(6
2.9g、0.22モル)およびm−PHTの懸濁液を
還流下に保持した。反応をGCによってチェックした。
4,4′−ジブロモ−3−メチルジフェニルエーテルへ
の40%の転化が3時間後に、95%の転化が10時間
後に得られた。
【0036】例7 5.25モルの代りに3.1モルのみのBrを用いて
例1を繰り返した。1:4の4,4′−ジブロモ−3−
メチルジフェニルエーテルおよび4−ブロモ−3−メチ
ルジフェニルエーテルの混合物が得られた。
【0037】当業者に明らかであるように、反応の第一
工程(一臭素化)が第二の臭素化よりもかなり速いた
め、一臭素化生成物と単離することが可能である。同様
に、m−PHTのかわりに、出発物質として一臭素化m
−PHTを用いることが可能である。従って、一臭素化
m−PHTをいずれかの原料から入手できるならば、D
BMDPEを得るためにそれを臭素化することが可能で
あり、このような方法も本発明の部分を成すと意図す
る。
【0038】例8 4,4′−ジブロモ−2−メチルジフェニルエーテル
(DBMPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた1lの五ツ口丸底フラスコ中において臭素(168
g、1.05モル)をジクロロメタン(368g)中の
2−フェノキシトルエン(92g、0.5モル)の撹拌
されている溶液に添加した。コンデンサーの上部には、
反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するためのトラ
ップが備えられている。3〜7℃の範囲の温度および暗
い中での臭素の添加を1時間行い、その後、反応混合物
をさらに1時間撹はんした。反応の進行およびその完了
をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭化
水素酸を25%のNH水(48ml)で中和した。相
を分離し、有機相を2回水(100ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、99.3%の所望の異性体を
含む(定性GCにより決定した)DBMPEを得た。
【0039】分別蒸留後、152.4gの99.5%の
純度のDBMPEを得た。化学的収率:87.7%、
m.p.33℃、46.4%のBr(計算値、46.8
%)。生成物の質量スペクトルおよびNMRをそれぞれ
図13および14に示す。
【0040】例9 4,4′−ジブロモ−2−イソプロピルジフェニルエー
テル(DBIPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(16.8g、0.105モル)をジクロロメタン(4
2.5g)中のイソプロピルジフェニルエーテル(1
0.6g、0.05モル)の撹拌されている溶液に添加
した。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される
臭化水素酸を吸収するための2個の逐次の20%NaO
Hトラップが備えられている。2〜5℃の範囲の温度お
よび完全に暗い中での臭素の添加を1時間半行い、その
後、反応混合物をさらに30分間撹はんした。反応の進
行およびその完了をGCによって決定した。過剰の臭素
および微量の臭化水素酸を10%のNH水(60m
l)で中和した。相を分離し、有機相を2回水(50m
l)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、約90%の
収率で93.6%の所望の異性体を含む(定性GCによ
り決定した)DBIPEを得た。精製した生成物のGC
MS分析のスペクトルを図5に示す。そのNMRスペク
トルを図6に示す。
【0041】例10 1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン(BB3MPZ)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた四ツ口丸底フラスコ中において臭素(108.7
g、0.34モル)をジクロロメタン(400g)中の
1,4−ビス(3′−メチルフェノキシ)ベンゼン(9
8.5g、0.34モル)の撹拌されている溶液に添加
した。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される
臭化水素酸を吸収するためのトラップが備えられてい
る。0〜2℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素
の添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時
間室温(〜25℃)で撹はんした。反応の進行およびそ
の完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量
の臭化水素酸を10%のNH水(50ml)で中和し
た。相を分離し、有機相を水(60ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、94.6%の収率を示す97
%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)、
未精製のBB3MPZ(148.5g)を得た。
【0042】晶出後(メタノールまたはエタノールか
ら)、99%より高い純度の生成物が得られた(35.
7%のBr、m.p.110〜113℃)。その質量ス
ペクトルおよびNMRスペクトルをそれぞれ図7および
8に示す。
【0043】例11 1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−メチルフェノキ
シ)ベンゼン(BB2MPZ)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた1lの五ツ口丸底フラスコ中において臭素(67.
2g、0.42モル)をジクロロメタン(232g)中
の1,4−ビス(2′−メチルフェノキシ)ベンゼン
(58g、0.2モル)の撹拌されている溶液に添加し
た。コンデンサーの上部には、反応の間に放出される臭
化水素酸を吸収するための2個の逐次の20%NaOH
トラップが備えられている。0〜5℃の範囲の温度およ
び暗い中での臭素の添加を2時間行い、その後、反応混
合物をさらに1時間撹はんした。反応の進行およびその
完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の
臭化水素酸を12.5%のNH水(100ml)で中
和した。相を分離し、有機相を2回水(50ml)で洗
浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、98.5%の所望の
異性体を含む(定性GCにより決定した)未精製のBB
2MPZ(83.4g)を得た。これは、92.8%の
収率および99.7%の選択性を示す。晶出後、99%
よりも高い純度の生成物が得られた(35.3%のB
r、計算値35.7%のBr、m.p.103.8
℃)。その質量スペクトル写真を図9に示す。
【0044】例12 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ビフェニル(BBMPL)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
8g)中の4,4′−ビス(2′−メチルフェノキシ)
ビフェニル(14.6g、0.04モル)の撹拌されて
いる溶液に添加した。コンデンサーの上部には、反応の
間に放出される臭化水素酸を吸収するための2個の逐次
の20%NaOHトラップが備えられている。0〜10
℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素の添加を8
0分間行った。反応の進行およびその完了をGCによっ
て決定した。過剰の臭素および微量の臭化水素酸を25
%のNH水(7ml)で中和した。相を分離し、有機
相を水(3×45ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の
蒸留後、91.5%の収率を示す、92.4%の所望の
異性体を含む(定性GCにより決定した)未精製のBB
MPL(20.8g)を得た。アセトニトリルからの晶
出後、98%よりも高い純度の生成物を得た。59.8
%のCおよび30.3%のBr(計算値はそれぞれ5
9.5%および30.5%)が含まれていた。その質量
スペクトルを図10に示す。
【0045】例13 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルエーテル(BBMPE)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(6
6g)中の4,4′−ビス(2′−メチルフェノキシ)
ジフェニルエーテル(15.3g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するための
2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。0〜10℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を120分間行った。反応の進行およびその完
了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭
化水素酸を25%のNH水(10ml)で中和した。
相を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、89.3%の収率を示す、9
4.1%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定し
た)未精製のBBMPE(20.5g)を得た。精製し
たサンプルには、57.9%のCおよび29.8%のB
r(計算値はそれぞれ57.8%および29.6%)が
含まれていることがわかった。その質量スペクトル写真
を図15に示す。
【0046】例14 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルホン(BBMPS)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(6
6g)中の4,4′−ビス(2”−メチルフェノキシ)
ジフェニルスルホン(17.2g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出される臭化水素酸を吸収するための
2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。0〜10℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を120分間行った。反応の進行およびその完
了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の臭
化水素酸を25%のNH水(10ml)で中和した。
相を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。
有機相中の溶剤の蒸留後、84.2%の収率を示す、9
0%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)
未精製のBBMPS(22.0g)を得た。精製したサ
ンプルの質量スペクトル写真およびNMRスペクトルを
得、それぞれ図11および12に示す。
【0047】例15 2,2−ビス〔4′−(4″−ブロモ−2″−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン(BBMPP)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の2,2−ビス〔4′−(2″−メチルフェ
ノキシ)フェニル〕プロパン(16.3g、0.04モ
ル)の撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの
上部には、反応の間に放出されるHBrを吸収するため
の2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。5〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中でのB
の添加を120分間行った。反応の進行およびその
完了をGCによって決定した。過剰の臭素および微量の
HBrを25%のNH水(10ml)で中和した。相
を分離し、有機相を水(3×50ml)で洗浄した。有
機相中での溶剤の蒸留後、83.5%の収率を示す、9
0%の所望の異性体を含む(定性GCにより決定した)
未精製のBBMPP(21.0g)を得た。元素分析:
61.7%のCおよび28.1%のBr、計算値はそれ
ぞれ61.5%および28.3%。
【0048】例16 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド(BBMPSD)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルスルフィド(15.9g、0.04モ
ル)の撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの
上部には、反応の間に放出されるHBrを吸収するため
の2個の逐次の20%NaOHトラップが備えられてい
る。5〜40℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭
素の添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1
時間撹はんした。反応の進行およびその完了をGCによ
って決定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%
のNH水(10ml)で中和した。相を分離し、有機
相を水(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸
留後、92.8%の収率を示す、96%の所望の異性体
を含む(定性GCにより決定した)未精製のBBMPS
D(21.5g)を得た。元素分析:55.9%のCお
よび28.6%のBr、計算値はそれぞれ56.1%お
よび28.8%。
【0049】例17 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン(BBMPBP)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ベンゾフェノン(15.8g、0.04モル)の撹
拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出されるHBrを吸収するための2個
の逐次の20%NaOHトラップが備えられている。5
〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中での臭素の添
加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時間撹
はんした。反応の進行およびその完了をGCによって決
定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%のNH
水(10ml)で中和した。相を分離し、有機相を水
(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留後、
90.4%の収率を示す、95%の所望の異性体を含む
(定性GCにより決定した)未精製のBBMPBP(2
1g)を得た。元素分析:58.5%のCおよび28.
8%のBr、計算値はそれぞれ58.7%および29.
0%。
【0050】例18 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン(BBMPD)の調製 撹拌器、コンデンサー、滴下ロート、および温度計を備
えた100mlの三ツ口丸底フラスコ中において臭素
(13.4g、0.084モル)をジクロロメタン(5
0ml)中の4,4′−ビス(2″−メチルフェノキ
シ)ジフェニルメタン(15.2g、0.04モル)の
撹拌されている溶液に添加した。コンデンサーの上部に
は、反応の間に放出されるHBrを吸収するための2個
の逐次の20%NaOHトラップが備えられている。5
〜30℃の範囲の温度および完全に暗い中でのBr
添加を1時間行い、その後、反応混合物をさらに1時間
撹はんした。反応の進行およびその完了をGCによって
決定した。過剰の臭素および微量のHBrを25%のN
水(10ml)で中和した。相を分離し、有機相を
水(100ml)で洗浄した。有機相中の溶剤の蒸留
後、90.2%の収率を示す、98%の所望の異性体を
含む(定性GCにより決定した)未精製のBBMPD
(19.8g)を得た。元素分析:59.9%のCおよ
び29.6%のBr、計算値はそれぞれ60.2%およ
び29.7%。
【図面の簡単な説明】
【図1】4,4′−ジブロモ−3−メチルジフェニルエ
ーテル(DBMDPE)の質量スペクトルである。
【図2】CDCl中のDBMDPEのH−NMRス
ペクトルである。
【図3】DMSO−d中のDBMDPEの13C−N
MRスペクトルである。
【図4】DBMDPEのIRスペクトルである。
【図5】4,4′−ジブロモ−2−イソプロピルジフェ
ニルエーテル(DBIPE)のGCMSスペクトルであ
る。
【図6】DBIPEのNMRスペクトルである。
【図7】1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−メチルフ
ェノキシ)ベンゼン(BB3MPZ)の質量スペクトル
である。
【図8】BB3MPZのNMRスペクトルである。
【図9】1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−メチルフ
ェノキシ)ベンゼン(BB2MPZ)の質量スペクトル
である。
【図10】4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチ
ルフェノキシ)ピフェニル(BBMPL)の質量スペク
トルである。
【図11】4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチ
ルフェノキシ)ジフェニルスルホン(BBMPS)の質
量スペクトルである。
【図12】BBMPSのNMRスペクトルである。
【図13】4,4′−ジブロモ−2−メチルジフェニル
エーテル(DBMPE)の質量スペクトルである。
【図14】DBMPEのNMRスペクトルである。
【図15】4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″−メチ
ルフェノキシ)ジフェニルエーテル(BBMPE)の質
量スペクトルである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デイビッド フェルドマン イスラエル国,ハイファ,ペレツ マーキ ッシュ ストリート 18 (72)発明者 マイケル ズビエリー イスラエル国,ハイファ 34984,サビオ ネイ−ダニア,ハイム−ハザズ ストリー ト,3 (72)発明者 ロニー ハチャム イスラエル国,ホロン,ハネビエム スト リート,11

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次式(I)、 【化1】 〔上式中、n=0または1であり;RおよびRは、
    〜Cアルキル基であり、あるいはRは、n=0
    である場合は、Hであってもよく;Yは、 【化2】 (ここで、m=1〜6;Z=SO, S,C=0,C
    、またはC(CH)の群から選ばれる。但
    し、n=0である場合は、RおよびRが両方ともC
    であってはならない〕を有する化合物。
  2. 【請求項2】 次式II、 【化3】 〔上式中、R,R,Y、およびnは、請求項1記載
    の意味を有する〕を有する化合物と臭素化剤を実質的に
    光の不在下に反応させることを含む、請求項1記載の式
    Iの化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】 反応が溶剤の不在下に行われる、請求項
    2記載の方法。
  4. 【請求項4】 臭素化反応が、反応条件下に実質的に反
    応性でない有機溶剤下に行われる、請求項2記載の方
    法。
  5. 【請求項5】 有機溶剤が、ハロカーボン、またはアセ
    トニトリルである、請求項4記載の方法。
  6. 【請求項6】 ハロカーボンがジクロロメタン、クロロ
    ベンゼン、および1,2−ジクロロメタンから選ばれ
    る、請求項5記載の方法。
  7. 【請求項7】 反応が、水およびハロカーボン溶剤を含
    む液体媒質下に行われる、請求項2記載の方法。
  8. 【請求項8】 臭素化反応が、約−10℃〜90℃を含
    む温度で行われる、請求項2〜7のいずれか1項に記載
    の方法。
  9. 【請求項9】 臭素化剤がBrおよびジブロモジメチル
    ヒダントインから選ばれる、請求項2〜8のいずれか1
    項に記載の方法。
  10. 【請求項10】 HBrから元素臭素を遊離させるため
    に反応混合物に酸化剤を添加する、請求項9記載の方
    法。
  11. 【請求項11】 酸化剤がHおよびNaBrO
    から選ばれる、請求項10記載の方法。
  12. 【請求項12】 有機溶剤が、本質的にジクロロメタ
    ン、1,2−ジクロロエタン、およびアセトニトリルか
    らなる群から選ばれる、請求項5記載の方法。
  13. 【請求項13】 4,4′−ジブロモ−3−メチル−ジ
    フェニルエーテル。
  14. 【請求項14】 4,4′−ジブロモ−2−メチルジフ
    ェニルエーテル。
  15. 【請求項15】 4,4′−ジブロモ−2−イソプロピ
    ルジフェニルエーテル。
  16. 【請求項16】 1,4−ビス(4′−ブロモ−3′−
    メチルフェノキシ)ベンゼン。
  17. 【請求項17】 1,4−ビス(4′−ブロモ−2′−
    メチルフェノキシ)ベンゼン。
  18. 【請求項18】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
    −メチルフェノキシ)ビフェニル。
  19. 【請求項19】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
    −メチルフェノキシ)ジフェニルエーテル。
  20. 【請求項20】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
    −メチルフェノキシ)ジフェニルスルホン。
  21. 【請求項21】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
    −メチルフェノキシ)ジフェニルメタン。
  22. 【請求項22】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
    −メチルフェノキシ)ジフェニルスルフィド。
  23. 【請求項23】 2,2′−ビス〔4′−(4″−ブロ
    モ−2″−メチルフェノキシ)フェニル〕プロパン。
  24. 【請求項24】 4,4′−ビス(4″−ブロモ−2″
    −メチルフェノキシ)ベンゾフェノン。
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