JPH0797669B2 - 高出力導波管レーザ - Google Patents

高出力導波管レーザ

Info

Publication number
JPH0797669B2
JPH0797669B2 JP63213837A JP21383788A JPH0797669B2 JP H0797669 B2 JPH0797669 B2 JP H0797669B2 JP 63213837 A JP63213837 A JP 63213837A JP 21383788 A JP21383788 A JP 21383788A JP H0797669 B2 JPH0797669 B2 JP H0797669B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waveguide
waveguide laser
resonator
power
power waveguide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63213837A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01257382A (ja
Inventor
オポバー ハンス
Original Assignee
ドイチェ フォルシュングスアンシュタルト フュア ルフトーウント ラウムファールト エー．ファウ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ドイチェ フォルシュングスアンシュタルト フュア ルフトーウント ラウムファールト エー．ファウ filed Critical ドイチェ フォルシュングスアンシュタルト フュア ルフトーウント ラウムファールト エー．ファウ
Publication of JPH01257382A publication Critical patent/JPH01257382A/ja
Publication of JPH0797669B2 publication Critical patent/JPH0797669B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/0315—Waveguide lasers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0385—Shape
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/04—Arrangements for thermal management
    • H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08081—Unstable resonators
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08095—Zig-zag travelling beam through the active medium

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子的に励起され、拡散冷却された高出力導
波管レーザであって、互いに僅かな間隙を開けられて光
学的導波管を形成する２つの壁面を備え、これらの壁面
の幅は、壁面と壁面との間の間隙の整数倍であり、前記
壁面に取り囲まれた部分は流動自由な放電室となってお
り、そしてまた、前記導波管の両端に配置された共振ミ
ラーを有する光共振器を備えた高出力導波管レーザに関
する。
〔従来の技術〕
電子的に励起されるレーザは西独特許明細書のDE−PS26
08 830及びDE−PS27 35 299により公知である。ここに
開示されたレーザにおいては、放電室は導波管の壁表面
に取り囲まれている。これらのレーザは、しかしなが
ら、平面または凹面になるように共に研磨された２つの
鏡（ミラー）を備えた慣用的な共振器、即ち、光学的に
安定な共振器と共に動作している。これらの導波管レー
ザは一般に複数のレーザ領域を備えており、これらのレ
ーザ領域は光学的に相互接続されておらず、とりわけ、
共振器の光学軸に対して横軸方向の状態で非結合状態と
なっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、この並列に配置された複数のレーザ領域
は、これらの領域の外で結合されるレーザビームが互い
に有利になるように結合されないという点で不利であ
る。このような不利が起こるのは、レーザ領域が正しく
相−結合動作を行っていないからであり、その結果、レ
ーザの構成全体が商用において要求される統一された様
式、特に、良い集束を得るための様式で発振しないから
である。
このような不利は特に、拡散冷却式の導波管レーザが高
出力を発生するように企画された時に重大である。結果
として生じる出力損失を克服するためには、放電室を作
ることが避けられず、そのため、導波管は出来るだけ大
きな容量を持たなくてはならず、また、導波管の持つ有
益な光学的および熱的特性を失わせないために、導波管
の厚さを増すことはできないので、導波管は相対的に横
に広くなる。
本発明の目的は以上説明した形式のレーザの有する課題
を解消し、優れた集束モードを備えた高出力レーザとし
て動作することができる高出力導波管レーザを提供する
ことにある。
〔課題を解決するための手段〕
冒頭で説明した導波管型のレーザであって、閉鎖された
放電室を備えるものにおいて、本発明では前述の目的は
次のようにして実現される。即ち、光学的に不安定な共
振器であって、その共振器は共振器の軸の縦方向に伸び
る光路を含むと共に、少なくとも１つの励起レーザ光ま
で延長されている共振器の軸に対して横方向に拡がって
いるものと、導波管の長手方向に対して横方向で且つ壁
表面にほぼ平行な方向に延長されるこの横方向の広がり
によって実現される。
本発明によれば、光学的導波管を光学的に不安定な共振
器と結合し、導波管の幅はレーザのモードが何であろう
とも、その純度に悪影響を与えない。これに反して、細
長いような導波管の放電室は、レーザの増幅のために、
その全幅が有利な方法で使用されるが、これは導波管の
幅に対してほぼ平行な一本の横方向に延長された光路の
横方向への拡大のためである。このことにより、好まし
い状態に集束させることができるレーザモードを備えた
高出力レーザとして、優れた拡散冷却型の導波管を設計
するための基礎が生まれるのである。
共振器の軸は、その軸上に共振器のミラーの湾曲部の中
心が位置する光学軸として理解されているか、または、
その軸上に共振器の表面が直角に位置してこれと交差す
る軸として理解されている。
導波管の中の最適なレーザ動作空間の開発を成し遂げる
ためには、次のような光学的に不安定な共振器を設計す
ることが望ましい。つまり、動作空間から反射する光ビ
ーム（レーザ光の束）が導波管の中の放電室全体を突き
抜けるようにすることが望ましい。最適なモード（振動
姿勢）の質は、しかしながら、共振器の光路の横軸方向
への広がりが導波管の壁面の幅の大部分に一致する時、
即ち、導波管の横方向の範囲を越えて広がらない時にの
み得ることができる。
レーザができる限り小型の構造を持つ時、光学的に不安
定な共振器が導波管の第１の端部において、第１の舷側
を完全に被覆する凹面の共振ミラーを持つことは非常に
有利なことである。これに加えて、光学的に不安定な共
振器が前記導波管の第２の端部において第２の舷側を部
分的に被覆する凸面の共振ミラーを持つことも非常に有
利なことであると分かっている。このような共振ミラー
の設計により構造が小型となり、このために、共振ミラ
ーはレーザを導波管の範囲を越えて横方向に投射しな
い。また、この結果、放電室の中のレーザ動作空間全域
を共振器がカバーすることができる。
上述の実施例における光学的に不安定な共振器では、凸
面の共振ミラーは導波管の第２の側面の中心に配置され
るので、レーザ光は導波管からミラーのどちらの側にも
出ることができる。通常は只１つのレーザ光がレーザに
備えられていることが望ましいので、凸面の共振ミラー
は導波管の側壁まで延長されて設けられている。
原理的には、共振器の共振軸を導波管の長手方向に対し
てある角度を持たせて延長することが可能である。この
場合は、しかしながら、放電室の中のレーザ動作空間の
利用を最適にすることができない。この理由により、共
振軸は導波管の長手方向に対して平行に延ばすことが好
都合なのである。
特に、平行なレーザ光の束を実現するために、共振器を
共焦点型共振器にすることは有利であることが知られて
いる。
外側の各光束が互いに平行に延びている光路を備えた共
振器は、発明の解決をする上で特に好適である。
導波管へのこの応用は、共振器の外側の各光束が導波管
の両方の外側端に沿っているときに最適である。一方で
は、導波管によって作られる共振器の全空間は最善の方
法で開発され、他方では、共振器の光路は、光学的品質
において劣化し、特に、導波管の外に延びる光路の中に
おける消費損失を発生させる導波管の外には届かない。
共振軸が導波管の一方の側端に沿って延長されている例
は、発明を解決する範囲の中で、特に有利であることが
知られている。
特に、共振器が共振軸の横方向に延長され、共振器の半
分が共振軸に対して対称になっている時に良い結果が得
られる。
光学的に不安定な共振器の凹面あるいは凸面の共振ミラ
ーの反射方向が横方向であると予め定められていること
を別にすれば、共振ミラーは、原理的には、壁面に対し
て90度の方向において反射方向についてどのような光学
的設計をするかが可能である。例えば、２つの共振ミラ
ーが導波管の方向に反射する光ビーム上に焦点を合わせ
ることが行われるように、この方向において共に凹面の
曲率を持たせることが可能である。しかしながら、この
ことは導波管に関して好ましくないことが知られてい
る。この理由により、できる限り簡素な構成で、放電室
全体を利用する例では、特に、導波管に接触し、導波管
の壁面に対して直角方向に延長される鏡面を備えた共振
ミラーが設けられている。即ち、２つの共振ミラーは壁
面に対して直角直角の方向に曲がっておらず、このた
め、鏡面の曲面は壁面に対して平行になっている。
特に、簡素な共振器で、安く作ることができ、そして、
非常に高精度のものは、シリンドリカルな鏡面を持つ共
振ミラーによって与えることができる。
本発明の導波管は、長手方向に対して横方向に延長され
た平坦な壁面を有するストライプ状の導波管が有利であ
り、これは、この場合、光学的に不安定な共振器との結
合が特に有利な方法で達成されるからである。
レーザの構成は商業利用にとっては出来るだけ小型でな
ければならないので、この要求を達成するために、導波
管が長手方向に曲がっていることは非常に好都合である
ことがわかる。導波管の中で光が伝達あるいは案内され
る仕方は、本来反射によって得られるものであり、特
に、導波管の曲率に起因して得られるものであるので、
この曲率は、かなりの不利な結果を持たないように設計
することができ、そして、このために少しのレーザ動作
容積を損なうことなく、小型の構成を得ることができ
る。
しかしながら、導波管が長手方向に曲げられている時
は、一層小型のレーザを作ることが可能であり、特に好
ましい導波管で小型なものは、長手方向に数回曲げられ
ている。ところが、導波管の曲げられている部分と曲げ
られている部分との間にある導波管は、直線状に延ばさ
れていることが好ましい。曲げられた導波管のビーム位
置を最適なものにするために、長手方向において直線状
に延ばされた導波管部分の間に屈折プリズムを設けると
いうことが適性なことであることは知られており、これ
らのプリズムによってビームの偏向を規定することが可
能となる。
これを可能とするためには、導波管部分は互いに平行状
態になるように作らなければならない。一つの導波管部
分からもう一つの導波管部分への連続した屈折部材を経
由しての二重のビーム屈折がこの結果起こり、２つの導
波管部分はまた、適性に２つの屈折部材の間に設けられ
ている。
２つの導波管部分の１つが他の上に配置され、しかも、
好ましくは全く同じ寸法を備えている時に本発明のレー
ザのサンドイッチ構造が達成される。
共振ミラー自体は、原理的に、導波管の上にいかなる光
学的な方法によっても配置することができる。
しかしながら、共振ミラーが導波管をシールすることは
特に重要なことであり、このような共振ミラーによって
特に簡素で放電室の中に含まれるレーザガスに対してガ
ス漏らないシールを実現することができる。この場合、
本発明の導波管は凸面の共振ミラーと共に、この部分の
導波管をシールする結合出力窓によっても閉じられてい
る。
共振ミラーが導波管をシールするという上述の例が製造
時に遭遇する問題は、導波管の長手方向に関係する共振
ミラーの正確な方向付けである。この理由のため、共振
ミラーが壁面と重なり合うように導波管と境を接するこ
と、及び、導波管がミラーの鏡面に対応するように形成
されることは有利なことである。この場合、導波管をシ
ールする共振ミラーの規定された方向付けは、ミラーを
導波管の端部の領域に合わせて設計することによって、
導波管を作るときに既に成されている。
導波管自体はとても多くの材料から作られる。例えば、
本発明の範囲内では、壁面は金属で作られることが可能
である。また、異なる例では、壁面は誘電体から作ら
れ、その外側に板状の金属電極が設けられる。この形式
の結合は、特に、高周波結合にとって都合が良いが、こ
れは誘電体の影響により２つの金属電極の間によく発生
する例が見られるような電流路の形成が防止できるから
である。
特に、放電室内で放電電流密度が制御される場合、電極
はセグメント化されていた方が有利であることは知られ
ており、そのために、これらの電極間の放電電流密度も
個々の電極に結合される高周波電力の制御により制御可
能である。
壁面が誘電体から作られた場合、これらの壁面に導波管
に要求される最適な反射特性を与えることが困難な場合
があることが知られている。この理由により、内壁面に
導電性被膜が施されている壁面を備えた適切な例が提供
される。
しかしながら、この導電性被膜には電流路が形成される
可能性があり、この電流路の形成により不均一な放電が
レーザガスの中に起こるという危険性を伴う。この危険
性を防止するために、導電性の被膜はいくつかのセグメ
ントに分割されることがそれゆえ好ましい。
ガス放電の間に発生する全ての熱は、放電室を取り囲む
壁面から取り去らなければならず、本発明では前述の壁
面を備えた壁の中に、冷却チャネルを貫通させて設けて
いる。
〔実施例〕
以下図面を用いて本発明における高出力導波管レーザの
その他の特徴や利点を説明する。
第１図及び第２図は本発明の第１の実施例のレーザであ
り、10で全体が示される光学的に細長い導波管から構成
されている。この細長い導波管は上壁12と下壁14とから
構成されており、その対向する壁面16と18とは互いに等
距離の位置にあり、一方が他方の上側になるように配置
されている。２つの全く同じ壁12,14は、導波管10の長
手方向に、第１の端部22から第２の端部24に向かって延
長されている。これらの壁12,14の長手方向20を横切る
方向の長さは、長手方向20の延長距離の何分の一でしか
なく、例えば、導波管が30cmと60cmの間の長さがあると
きに、この長さは5cmから10cmである。上壁12と下壁14
との間の間隙は、例えば、1mmと2mmとの間であり、とり
わけ、1.5mmであることが好ましい。
壁12と14の間の間隙は、壁12と14が長手方向における導
波管として動作するためにこの間隙が役割を果たすとい
う事実に基づき、非常に小さくなっている。一方、本発
明の前段部分において開示されているように、本発明の
目的は、放電室を出来るだけ大きく拡張することが必要
な高出力レーザを得ることにある。このような拡張は前
述の壁12と14の側端部同士の間の横方向において可能で
あり、そのために、２つの壁面は実質的に両者の間の間
隙よりも大きい横方向の幅を備えている。放電室のこの
ような横幅は、共振器によって有効に使われることが可
能であり、この共振器は高いビームの質を得るために不
安定な共振器である。
対向する壁面16,18に取り囲まれた光学的導波管10の放
電室26は、長手方向20に対して横方向の側面が２枚の側
壁32,34によって制限され、この２枚の側壁32,34は壁1
2,14の長手方向の両側端部28と30に沿うようにそれぞれ
延長されている。これらの側壁32,34は、導波管10の長
手方向20の延長部全体をカバーしている。導波管10の第
１の端部22に形成される第１の舷側36は、凹面の共振ミ
ラー38によってカバーされており、このミラー38は導波
管10とその壁12,14とをその全高に渡って、壁面16,18に
対して直角方向に重なり合っている。導波管10と凹面の
共振ミラー38との間のシールをきちんと行うために、第
１の舷側36は凹面の共振ミラー38の鏡面40の形に変更さ
れているので、導波管10はその上下壁12,14とその側壁3
2,34と共に鏡面40まで延長されており、これらと導波管
10とは結合するようになっている。
第２の端部24に形成された第２の舷側42は、側壁32にお
いて開始される凸面の共振ミラー44によって被覆されて
いる。しかしながら、この凸面の共振ミラー44は側壁34
まで達していないが、このミラー44とこの側壁34との間
に自由な開口を残している。壁12,14と側壁32とが凹面
の共振ミラー44まで達する限りにおいては、それらはミ
ラー44と凹凸なく結合するために、この凸面の共振ミラ
ー44の鏡面46の形状に同様に合わされている。第２の舷
側42は凸面の共振ミラー44と側壁34の間で、結合出力窓
48によって閉じられている。この結合出力窓48は凸面の
共振ミラー44に対して隣接しており、このミラー44と側
壁34との間にある開口を閉じている。それゆえに、第２
の舷側42は共振ミラー44と共に結合出力窓48によって完
全に被覆される。
結合出力窓48はここでは壁12,14と面一になっており、
側壁34と壁12,14に到達するようになっている。
導波管10はそれゆえに共振ミラー38,44と結合出力窓48
と共にユニットを構成しており、このユニットは放電室
26を密閉している。
第１図と第２図に示される実施例においては、凹面の共
振ミラー38と凸面の共振ミラー44は光学的に不安定な共
振器50を形成しており、この共振器50は側壁32に沿って
延びる共振軸（光学軸で、導波管10内が実線で、外部に
延長された部分が破線で第１図に示される）52を備えて
いる。光学的に不安定な共振器はこの共振軸52から横軸
方向54に側壁34まで延びており、それゆえ、この共振器
50は共振軸52に対して対称に形成された共焦点型共振器
の半分に相当する。そして、共振器はシリンドリカルな
鏡面40,46を有しており、焦点及びこれらの曲面の中心
は、断面の領域の中で鏡面と直交するように共振軸52の
上にある。
この光学的に不安定な共振器50において、導波管10の長
手方向に拡がる全ての光は、導波管10の長手方向に対し
て横向きの横方向54において、これらが側壁34に到達す
るまで凹面の共振ミラー38と凸面の共振ミラー44の間で
前後に反射させられる。そして、ビームの方向55で示さ
れるように、結合出力窓48を通ってレーザ光56として導
波管10から出力される。レーザ光56は、壁面16と18に対
して平行な方向を示す電気ベクトル58を有する横方向の
電気モードを備えている。
なお、第２図において側壁32,34の近傍に描かれている
破線55A,55Bが外側のビーム（光路）を示している。
放電室26の中のレーザガス、例えばCO,又はCO2で、とり
わけ通常の混合比を有するHe,N2を伴い、好ましくは少
量の割合のXeを含有するCO2は、壁面16と18との間で電
気放電によって励起される。この目的のために、壁12と
14は例えば金属を用いて製造される。MHzからGHzの範囲
で結合する高周波、とりわけ、80−400MHzの範囲にある
高周波は、それぞれ壁面16と18に結合される供給ライン
60と62を経由して与えられる。この結合は、この結果、
電気放電をもたらし、この電気放電により高周波が変化
する壁面16と18との間に形成される電界に起因するレー
ザガスの励起が、レーザガスの充填された放電室26の中
で、例えば100−200mbarの低い圧力の条件で起こる。
この結果、光学的導波管10は次のようなときに効果的に
動作する、即ち、壁面16と18に対してそれぞれの部分が
光学的に反射するように設計されるときに効果的に動作
する。
本発明の第２の実施例が第３図に示される。ここでは、
第１の実施例と同じ部品については同じ符号が付されて
おり、部品が変形された場合には同じ符号に’（アポス
トロフィ）が付加されている。
第１の実施例は変形され、壁12'と14'が金属で作られて
おらず、誘電材料で作られている。この場合、壁面16'
と18'とはレーザ光線を反射するように設計されなけれ
ばならない。このことは、壁面を磨くことや、壁面に反
射被膜を施すことによって可能となる。
放電室26の中で電気放電が起こるようにするために、第
２の実施例では金属板68と70が壁12'と14'と外側64,66
にそれぞれ取り付けられている。これらの金属板は放電
室26の中で、誘電壁12'と14'とに起因する誘電放電を発
生させる。この構成には利点があり、誘電壁12'と14'の
ために放電室26内における電流路の形成が防止できる。
複数の金属板68と70を壁12',14'の外側64と66にそれぞ
れ与えるこは有利なことである。これらの板は長手方向
29に対して横の方向に、壁12',14'の外側64と66にそれ
ぞれの外側64と66の全幅に渡って延ばされているが、こ
れら複数の金属板は壁12'と14'の外側64と66において、
長手方向20の中でギャップ72,74によりそれぞれ互いに
分離されている。このギャップにより複数の金属板は独
立したセグメントとなり、放電室26の中で長手方向20の
機能として規定された電界を発生させることができ、と
りわけ、放電室26の中での放電をより均質なものとする
ことができる。この目的のために、金属板の各個68,70
には独立した高周波結合76,78がそれぞれ与えられてい
る。
放電室26内に発生し、拡散によって壁12'と14'にまで伝
えられる熱の排出に可能にするため、とりわけ、高出力
のレーザにおいては、第２実施例に示されているよう
に、冷却チャネル80及び82を壁12'と14'の中にそれぞれ
設けている。図示された実施例ではこれらのチャネルは
長手方向20に対して横方向に壁12'と14'の中を貫通して
いる。しなしながら、この冷却チャネルはまた、壁12'
と14'の中を長手方向に貫通させることも可能である。
第４図に示される第３の実施例は、第３図に示した第２
の実施例の変形例である。第３図において使用されてい
るのと同じ部材については同じ符号が与えてある。第２
の実施例に追加して第３の実施例では、誘電性の壁12'
と14'の内側に形成された壁面16'と18'にそれぞれ金属
被膜84と86が更に加えられている。この金属被膜84,86
は通常μの単位の厚さを有しており、優れた光学的反射
特性を備えているので、この結果、導波管10の光学的伝
導率が優れたものとなる。第４図に示すように、この金
属被膜86は連続する層として与えることができる。しか
しながら、この金属被膜は、第５図の実施例にその原理
を示すように、長手方向20と共に横方向に設けた絶縁性
のストライプ88と90とによって、独立したセグメント92
に分割することが可能である。このセグメント92の分割
は、放電室26に電流路が形成される傾向にある時に必要
であり、このセグメント92によって放電をより均一なも
のにすることができる。
第６図に示す第５の実施例は、第３図に示す第２の実施
例に基づいているが、導波管10が互いに平行に重ねられ
た状態で接続された導波管10aと10bとに分割されている
点が異なる。これら二つの導波管10aと10bとはまた、断
面94と96とが共通の平面98の上に位置するように配置さ
れている。そして、放電室26aと26bとの間の光学的結合
は、二つの断面94と96と部分的に重なり合い、放電室26
a,26bに対向する反射部材102,104を備えた結合部材100
によって与えられる。この反射部材は光線を再び放電室
26内に反射するので、反射部材102と104に入射する全て
の光線が反射されて他の放電室26bと26aにそれぞれ入
る。この反射部材102と104はミラーとして設計されるこ
とが望ましく、そしてこれらは放電室26aと26bとを互い
に接続する結合部材100の中の通路103の中に配置されて
いる。
第６図における第５の実施例では、２つのレーザミラー
38と44が結合部材100の反対側に設けられている。しか
しながら、１つのミラーから他のミラーに至る光路の全
体は、共焦点型の導波管10を与えるためにレーザミラー
38,44の曲率を考慮しなければならない。
第５の実施例として図示されたように、二つの場所で曲
げられた光学軸を有する導波管10のこの曲げられた構成
は、装置が非常に小型になり、そのために、冷却通路80
と82への供給ラインの構成が小型化されるのと同様に、
金属板68と70を結合する高周波の構成も小型化されると
いう点で有利である。
第７図に示されるのは、一層小型化されたレーザの構成
である。この第６の実施例も二つの直線的な導波管10a
と10bを備えている。しかしながら、これらの導波管10
a,10bはお互いに屈折部材102と104とに起因する光学軸
の二度の屈折を引き起こす結合部材100では結合されて
おらず、導波管10bに結合された曲がった導波管10cによ
って結合されている。
光学的導波管の中における光の案内は、本来壁面16と18
上での屈折の結果であるという事実はあるが、直線的な
導波管10aと10bの中と同様に光を案内することができる
曲がった導波管10cを作ることも可能である。更に、曲
がった導波管内におけるガスの放電を作ることも可能で
あり、これにより、レーザ動作容量をその中に含む曲が
った導波管の放電室26の中での光学的な増幅が達成され
る。この第６の実施例は小型化に関してほんの僅か第５
の実施例に劣るが、レーザ活性媒体を持つことを可能に
し、導波管10の中の全光路に沿った増幅を可能にするこ
とができる。これに対して、この第６の実施例は第３図
の第２の実施例に対して共通点があり、相違する点は、
電極68と70と同様に壁12'と14'が自動的に曲がった導波
管10cの部分で曲げられなければならない点である。誘
電壁12'と14'とを備えた全ての実施例では、これらはセ
ラミック材料で作られることが望ましく、特に、Al2,Be
oやAloで作られることが望ましい。このようなレーザで
発生するレーザ光56は長方形の断面をしている。しかし
ながら、第１図に示されるように、シリンドリカルな光
学手段110によって膨張させられてレーザ光を形成し、
このレーザ光はどの側面も対称で、それに関する限りは
焦点が合わされている。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の高出力導波管レーザの第１の実施例を
示す一部切欠斜視図、第２図は第１図の２−２線におけ
る断面図、第３図は本発明の第２の実施例を示す断面図
で第１図の３−３線における断面と同一部分の断面図、
第４図は第３図と同じ部分における本発明の第３の実施
例の断面図、第５図は本発明の第４の実施例を示す断面
図で第４図の５−５線における断面と同一部分の断面
図、第６図は本発明の第５の実施例を示す高出力導波管
レーザの長手方向の断面図、第７図は本発明の第６の実
施例を示す高出力導波管レーザの長手方向の断面図であ
る。 10……導波管、12……上壁、14……下壁、16,18……壁
面、20……長手方向、22……第１の端部、24……第２の
端部、26……放電室、28,30……側端部、32,34……側
壁、36……第１の舷側、38……凹面の共振ミラー、40…
…鏡面、42……第２の舷側、44……凸面の共振ミラー、
46……鏡面、48……結合出力窓、50……光学的に不安定
な共振器、52……共振器の軸、54……横軸方向、55……
ビームの方向、64,66……外側、68,70……金属板、80,8
2……冷却通路、84,86……金属被膜、102,104……屈折
部材、110……シリンドリカルな光学手段
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/08 Ｈ０１Ｓ 3/03 Ｚ

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】電子的に励起され、拡散冷却された高出力
    導波管レーザであって、互いに僅かな間隙を開けられて
    光学的導波管を形成する２つの壁面を備え、これらの壁
    面は前記導波管の両端の間の長手方向に延長されている
    と共に、前記導波管の２つの外部の側端に対して横方向
    に延長されており、これらの壁面はその間の空間よりも
    実質的に大きい横幅を備えており、前記壁面間に取り囲
    まれた部分は拡散冷却された放電室となっており、そし
    てまた、前記導波管の両端に配置された共振ミラーを有
    する光共振器を備えており、 共振器が共振器の軸（52）の長手方向に延びる光路を含
    む光学的に不安定な共振器（50）であり、少なくとも１
    つの励起レーザ光（55）まで延ばされる共振軸（52）に
    横向きの延長部（54）を有し、前記横方向の延長部（5
    4）は前記導波管（10）の前記長手方向（20）に対して
    横に延長されており、ほぼ前記壁面（16,18）に平行に
    なっていて、 前記共振器（50）から結合されるレーザビームは、シリ
    ンドリカルな光学手段によって拡大され、前記シリンド
    リカルな光学手段の軸線に対して横方向および平行方向
    に対称な光の束が形成されることを特徴とする高出力導
    波管レーザ。
  2. 【請求項２】特許請求の範囲第１項に記載の高出力導波
    管レーザであって、前記共振器（50）の前記光路の前記
    横方向の延長部（54）は、前記導波管（10）の前記壁面
    （16,18）の前記横方向の幅に対して大部分が一致して
    いることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  3. 【請求項３】特許請求の範囲第１項または第２項に記載
    の高出力導波管レーザであって、前記光学的に不安定な
    共振器（50）がその第１の端部（22）において前記導波
    管（10）の第１の舷側（36）を完全に被覆する凹面の共
    振ミラー（38）を備えていることを特徴とする高出力導
    波管レーザ。
  4. 【請求項４】特許請求の範囲第１項から第３項の何れか
    に記載の高出力導波管レーザであって、前記光学的に不
    安定な共振器（50）がその第２の端部（24）において前
    記導波管（10）の第２の舷側（42）を部分的に被覆する
    凹面の共振ミラー（44）を備えていることを特徴とする
    高出力導波管レーザ。
  5. 【請求項５】特許請求の範囲第４項に記載の高出力導波
    管レーザであって、前記凸面の共振ミラー（44）が前記
    導波管（10）の側壁（32）まで延長されていることを特
    徴とする高出力導波管レーザ。
  6. 【請求項６】特許請求の範囲第１項から第５項の何れか
    に記載の高出力導波管レーザであって、共振器の軸（5
    2）が前記導波管（10）の長手方向に対して平行に延長
    されていることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  7. 【請求項７】特許請求の範囲第１項から第６項の何れか
    に記載の高出力導波管レーザであって、前記共振器（5
    0）が共焦点型共振器であることを特徴とする高出力導
    波管レーザ。
  8. 【請求項８】特許請求の範囲第１項から第７項の何れか
    に記載の高出力導波管レーザであって、前記共振器（5
    0）が側壁の間に光路を備えており、この光路は側壁に
    近い最も外側の２つのビームの間に前記側壁に対して横
    方向に延びており、前記２つの外側のビームは前記光路
    に対して互いに平行状態に延ばされていることを特徴と
    する高出力導波管レーザ。
  9. 【請求項９】特許請求の範囲第１項から第８項の何れか
    に記載の高出力導波管レーザであって、前記共振器（5
    0）の外側のビームの各個が前記導波管（10）の２つの
    外側の側端部（28,30）に沿って延長されていることを
    特徴とする高出力導波管レーザ。
  10. 【請求項１０】特許請求の範囲第６項から第９項の何れ
    かに記載される高出力導波管レーザであって、共振器の
    軸（52）が前記導波管（10）の一つの側端部（28）に沿
    って延長されていることを特徴とする高出力導波管レー
    ザ。
  11. 【請求項１１】特許請求の範囲第６項から第10項の何れ
    かに記載される高出力導波管レーザであって、前記共振
    器（50）が、前記共振器の軸（52）に対して対称な半分
    の共振器として共振器の軸（52）の縦方向に延長されて
    いることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  12. 【請求項１２】特許請求の範囲第１項から第11項の何れ
    かに記載される高出力導波管レーザであって、前記共振
    ミラー（38,44）が前記導波管（10）の壁面（16,18）に
    対して直角に延長される連続する鏡面（40,46）を備え
    ていることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  13. 【請求項１３】特許請求の範囲第12項に記載の高出力導
    波管レーザであって、前記共振ミラー（38,44）がシリ
    ンドリカルな鏡面（40,46）を有することを特徴とする
    高出力導波管レーザ。
  14. 【請求項１４】特許請求の範囲第１項から第13項の何れ
    かに記載される高出力導波管レーザであって、前記導波
    管（10）がストライプ型の導波管であり、長手方向に対
    して横方向に延長された平坦な壁面（16,18）を備えて
    いることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  15. 【請求項１５】特許請求の範囲第１項から第14項の何れ
    かに記載される高出力導波管レーザであって、前記導波
    管（10）が長手方向（20）に曲がっていることを特徴と
    する高出力導波管レーザ。
  16. 【請求項１６】特許請求の範囲第１項から第15項の何れ
    かに記載される高出力導波管レーザであって、前記導波
    管（10）が長手方向（20）に折り曲げられていることを
    特徴とする高出力導波管レーザ。
  17. 【請求項１７】特許請求の範囲第16項に記載の高出力導
    波管レーザであって、前記導波管（10）が長手方向にお
    いて何回か折り曲げられていることを特徴とする高出力
    導波管レーザ。
  18. 【請求項１８】特許請求の範囲第16項または第17項に記
    載の高出力導波管レーザであって、少なくとも一つの屈
    折部材（102,104）が長手方向に直線的に延びる導波管
    （10a,10b）の間に設けられていることを特徴とする高
    出力導波管レーザ。
  19. 【請求項１９】特許請求の範囲第17項または第18項に記
    載される高出力導波管レーザであって、前記導波管（10
    a,10b）が互いに平行に配置されていることを特徴とす
    る高出力導波管レーザ。
  20. 【請求項２０】特許請求の範囲第17項から第19項に記載
    された高出力導波管レーザであって、前記導波管部材
    （10a,10b）の一つが他の一つの上に重なるように配置
    されていることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  21. 【請求項２１】特許請求の範囲第１項から第20項の何れ
    かに記載される高出力導波管レーザであって、前記共振
    器のミラー（38,44）が前記導波管（10）を密封してい
    ることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  22. 【請求項２２】特許請求の範囲第21項に記載された高出
    力導波管レーザであって、前記共振器のミラー（38,4
    4）が前記壁面（16,18）と重複するように前記導波管
    （10）と境を接し、そして、この導波管（10）は前記鏡
    面（40,46）に応じた形状となっていることを特徴とす
    る高出力導波管レーザ。
  23. 【請求項２３】特許請求の範囲第21項に記載された高出
    力導波管レーザであって、前記壁面（16,18）が金属で
    形成されていることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  24. 【請求項２４】特許請求の範囲第１項から第22項の何れ
    かに記載の高出力導波管レーザであって、前記壁面（1
    6,18）が誘電体から形成され、その外側（64,66）の上
    に板状の電極を備えていることを特徴とする高出力導波
    管レーザ。
  25. 【請求項２５】特許請求の範囲第24項に記載の高出力導
    波管レーザであって、前記電極（68,70）がギャップ（7
    2,74）によってセグメント化されていることを特徴とす
    る高出力導波管レーザ。
  26. 【請求項２６】特許請求の範囲第24項または第25項に記
    載の高出力導波管レーザであって、前記壁面（16,18）
    に導電性被膜が施されていることを特徴とする高出力導
    波管レーザ。
  27. 【請求項２７】特許請求の範囲第26項に記載の高出力導
    波管レーザであって、前記導電性被膜（84,86）がセグ
    メントに施されていることを特徴とする高出力導波管レ
    ーザ。
  28. 【請求項２８】特許請求の範囲第１項から第27項の何れ
    かに記載の高出力導波管レーザであって、前記壁面を有
    する壁（12,14）に冷却通路（80,82）が貫通して設けら
    れていることを特徴とする高出力導波管レーザ。
  29. 【請求項２９】電子的に励起され、拡散冷却された高出
    力導波管レーザであって、互いに僅かな間隙を開けられ
    て光学的導波管を形成する２つの壁面を備え、これらの
    壁面は前記導波管の両端の間の長手方向に延長されてい
    ると共に、前記導波管の２つの外部の側端に対して横方
    向に延長されており、これらの壁面はその間の空間より
    も実質的に大きい横幅を備えており、前記壁面間に取り
    囲まれた部分は拡散冷却された放電室となっており、そ
    してまた、前記導波管の両端に配置された共振ミラーを
    有する光共振器を備えており、 共振器が共振器の軸（52）の長手方向に延びる光路を含
    む光学的に不安定な共振器（50）であり、少なくとも１
    つの励起レーザ光（55）まで延ばされる共振軸（52）に
    横向きの延長部（54）を有し、前記横方向の延長部（5
    4）は前記導波管（10）の前記長手方向（20）に対して
    横に延長されており、ほぼ前記壁面（16,18）に平行に
    なっており、前記共振器（50）の前記光路の前記横方向
    の延長部（54）は、前記導波管（10）の前記壁面（16,1
    8）の前記横方向の幅に対して大部分が一致しているこ
    とを特徴とする高出力導波管レーザ。
JP63213837A 1987-08-31 1988-08-30 高出力導波管レーザ Expired - Lifetime JPH0797669B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3729053.3 1987-08-31
DE19873729053 DE3729053A1 (de) 1987-08-31 1987-08-31 Hochleistungs-bandleiterlaser

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01257382A JPH01257382A (ja) 1989-10-13
JPH0797669B2 true JPH0797669B2 (ja) 1995-10-18

Family

ID=6334890

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63213837A Expired - Lifetime JPH0797669B2 (ja) 1987-08-31 1988-08-30 高出力導波管レーザ

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4939738A (ja)
EP (1) EP0305893B1 (ja)
JP (1) JPH0797669B2 (ja)
CA (1) CA1301898C (ja)
DE (2) DE3729053A1 (ja)
ES (1) ES2049232T3 (ja)
IL (1) IL87567A (ja)

Families Citing this family (91)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2550693B2 (ja) * 1989-02-16 1996-11-06 三菱電機株式会社 固体レーザ装置
JP2760116B2 (ja) * 1989-12-18 1998-05-28 三菱電機株式会社 固体レーザ装置
US4987577A (en) * 1989-04-14 1991-01-22 Siemens Aktiengesellschaft Gas laser having microwave excitation
DE3912568A1 (de) * 1989-04-17 1990-10-18 Siemens Ag Gas-laser, insbesondere co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-laser
US5048048A (en) * 1989-08-11 1991-09-10 Mitsubishi Denki K.K. Gas laser device
DE3937491C2 (de) * 1989-11-10 1996-02-15 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Wellenleiterlaser mit Mikrowellenanregung
DE3937490A1 (de) * 1989-11-10 1991-05-16 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Mikrowellenangeregter hochleistungslaser
DE3937492A1 (de) * 1989-11-10 1991-05-16 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Wellenleiterlaser mit mikrowellenanregung ueber tem-wellenleiter
DE3943373C2 (de) * 1989-12-30 1993-11-18 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Gefalteter Wellenleiterlaser
DE9003331U1 (de) * 1990-03-21 1991-07-18 Rofin-Sinar Laser GmbH, 2000 Hamburg Gaslaser
DE4010147A1 (de) * 1990-03-29 1991-10-02 Siemens Ag Elektrisch angeregter bandleiterlaser
DE4042532C2 (de) * 1990-08-22 1994-12-15 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Hochfrequenzangeregter Hochleistungslaser
US5164952A (en) * 1990-09-26 1992-11-17 Siemens Aktiengesellschaft Electrically pumped gas laser suitable for high input power
US5220576A (en) * 1990-09-26 1993-06-15 Seimans Aktiengesellschaft Slab or stripline laser
US5231644A (en) * 1990-09-26 1993-07-27 Siemens Aktiengesellschaft Slab or stripline gas laser
US5197079A (en) * 1990-09-26 1993-03-23 Siemens Aktiengesellschaft High-power stripline laser
US5123028A (en) * 1990-10-12 1992-06-16 Coherent, Inc. RF Excited CO2 slab waveguide laser
US5237580A (en) * 1990-10-12 1993-08-17 Coherent, Inc. RF excited CO2 slab waveguide laser
US5131004A (en) * 1990-10-12 1992-07-14 Coherent, Inc. RF excited CO2 slab waveguide laser
US5216689A (en) 1990-10-12 1993-06-01 Coherent, Inc. Slab laser with enhanced lifetime
US5131003A (en) * 1990-10-12 1992-07-14 Coherent, Inc. RF excited CO2 slab waveguide laser
US5140606A (en) * 1990-10-12 1992-08-18 Coherent, Inc. RF excited CO2 slab waveguide laser
DE4036154A1 (de) * 1990-11-14 1992-05-21 Fraunhofer Ges Forschung Laser-vorrichtung
DE4112311A1 (de) * 1991-04-15 1992-10-22 Max Planck Gesellschaft Transversal elektrisch gepumpter gaslaser mit schraeg ausgefuehrtem strahldurchgang
CA2071598C (en) * 1991-06-21 1999-01-19 Akira Eda Optical device and method of manufacturing the same
EP0520249B1 (de) * 1991-06-27 1996-02-28 CARL ZEISS JENA GmbH Hochfrequenzangeregter Laser für hohe Eingangsleistungen, insbesondere CO2-Bandleiterlaser
DE4128596A1 (de) * 1991-08-28 1993-03-04 Siemens Ag Verfahren zur herstellung eines bandleiterlasers
DE59204990D1 (de) * 1991-09-13 1996-02-22 Zeiss Carl Jena Gmbh Bandleiterlaser
DE4131623A1 (de) * 1991-09-23 1993-03-25 Siemens Ag Bandleiterlaser
JP2613831B2 (ja) * 1991-12-27 1997-05-28 三菱電機株式会社 レーザ装置
JPH0645711A (ja) * 1992-01-14 1994-02-18 Boreal Laser Inc スラブレーザのアレイ
DE69306424T2 (de) * 1992-01-22 1997-04-24 Mitsubishi Electric Corp Laser-Apparat
EP0585482B1 (de) * 1992-08-31 1996-01-10 CARL ZEISS JENA GmbH Bandleiterlaser mit Verbundelektroden
DE59205030D1 (de) * 1992-08-31 1996-02-22 Zeiss Carl Jena Gmbh Bandleiterlaser-Resonator
DE4232840A1 (de) * 1992-09-30 1994-03-31 Siemens Ag Hochfrequenzangeregter Laser für hohe Eingangsleistungen, insbesondere CO¶2¶-Bandleiterlaser
DE9217640U1 (de) * 1992-12-23 1994-09-29 Rofin-Sinar Laser Gmbh, 22113 Hamburg Slab- oder Bandleiterlaser
DE4303754C2 (de) * 1993-02-09 1994-12-15 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Wellenleiter-Gaslaser
DE4303755C2 (de) * 1993-02-09 1994-12-15 Deutsche Forsch Luft Raumfahrt Wellenleiter-Gaslaser
US5412681A (en) * 1994-03-30 1995-05-02 Carl Zeiss, Inc. Slab-waveguide CO2 laser
DE4416530C1 (de) * 1994-05-10 1995-11-02 Nwl Laser Tech Gmbh Vorrichtung zur niederdivergenten Laserstrahlerzeugung
DE4416900C2 (de) * 1994-05-13 2001-02-01 Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt Gasentladungsstruktur
DE69501917T2 (de) 1994-06-08 1998-11-05 Qsource Inc Gaslaser mit rechteckigem Entladungsraum
US6636545B2 (en) * 1996-09-26 2003-10-21 Alexander V. Krasnov Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation
US5610936A (en) * 1995-09-28 1997-03-11 Technology Development Corporation Extended multiply folded optical paths
EP0776073B1 (en) 1995-11-27 2002-10-23 QSource, Inc. Gas laser having a rectangular discharge space
DE19609851A1 (de) * 1996-03-13 1997-09-18 Rofin Sinar Laser Gmbh Bandleiterlaser
US5822354A (en) * 1996-04-22 1998-10-13 Synrad, Inc. Variable-aperture cavity laser
DE19645093C2 (de) * 1996-11-01 2000-01-27 Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt Wellenleiter-Lasersystem
US5848091A (en) * 1997-01-21 1998-12-08 The Twentyfirst Century Corp. Laser resonator with improved output beam characteristics
DE19802319A1 (de) * 1998-01-23 1999-08-05 Wolfgang Prof Dr Vioel Diffusionsgekühlter Gaslaser mit Mittelfrequenzanregung
US6144687A (en) * 1998-09-04 2000-11-07 Excitation Llc Laser
DE19852284C2 (de) 1998-11-13 2000-11-30 Norbert Taufenbach Kleiner CO¶2¶-Slablaser
US6370178B1 (en) 1998-12-21 2002-04-09 Imed Lasers Wide area laser and multi-pass laser optical cavity for use therein
US6198759B1 (en) 1999-12-27 2001-03-06 Synrad, Inc. Laser system and method for beam enhancement
US6198758B1 (en) 1999-12-27 2001-03-06 Synrad, Inc. Laser with heat transfer system and method
US6195379B1 (en) 1999-12-27 2001-02-27 Synrad, Inc. Laser assembly system and method
RU2165119C1 (ru) * 1999-12-29 2001-04-10 Общество с ограниченной ответственностью "ВА Инструментс" Газовый лазер
US6614826B1 (en) 2000-05-05 2003-09-02 Synrad, Inc. Laser system and method for gain medium with output beam transverse profile tailoring longitudinal strips
US6788722B1 (en) * 2000-07-10 2004-09-07 Coherent, Inc. High power waveguide laser
US6704333B2 (en) * 2000-12-07 2004-03-09 John Tulip Large area laser
US20020107510A1 (en) * 2001-02-05 2002-08-08 Andrews Robert R. Laser apparatus useful for myocardial revascularization
DE10202159B4 (de) * 2002-01-22 2005-10-06 Rofin-Sinar Laser Gmbh Bandleiterlaser mit einem instabilen Resonator
US6786099B2 (en) * 2002-02-14 2004-09-07 Kla-Tencor Technologies Corporation Surface photo-acoustic film measurement device and technique
US20050094697A1 (en) * 2003-01-30 2005-05-05 Rofin Sinar Laser Gmbh Stripline laser
DE10303620A1 (de) * 2003-01-30 2004-08-19 Rofin-Sinar Laser Gmbh Bandleiterlaser
WO2005070160A2 (en) * 2004-01-12 2005-08-04 Litelaser L.L.C. Multi-path laser system
US7260134B2 (en) * 2004-02-06 2007-08-21 Coherent, Inc. Dielectric coupled CO2 slab laser
US7263116B2 (en) * 2004-08-05 2007-08-28 Coherent, Inc. Dielectric coupled CO2 slab laser
US7583717B2 (en) * 2004-08-30 2009-09-01 Videojet Technologies Inc Laser system
US8599898B2 (en) 2004-12-22 2013-12-03 Universal Laser Systems, Inc. Slab laser with composite resonator and method of producing high-energy laser radiation
RU2313872C2 (ru) * 2005-10-03 2007-12-27 Общество с ограниченной ответственностью "Лазерные устройства и оборудование" Азотный лазер
EP2030294B1 (en) * 2006-06-09 2025-04-16 Iulian Basarab Petrescu-Prahova Laser devices using gain media in out of phase mode
DE102006030799B4 (de) * 2006-06-30 2010-06-17 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Gaslaser mit einem instabilen Laserresonator und einer Lichtleiterfaser
US7756186B2 (en) * 2007-02-23 2010-07-13 Coherent, Inc. Unstable resonator with variable output coupling
ITFI20070142A1 (it) 2007-06-26 2008-12-27 El En Spa "sorgente laser a gas eccitata in radiofrequenza"
EP2053708A1 (en) * 2007-10-25 2009-04-29 Rofin-Sinar UK Ltd Gas laser device
DE102009001241A1 (de) 2009-02-27 2010-09-02 Rofin-Sinar Laser Gmbh Bandleiterlaser mit einem instabilen Resonator
US8783140B2 (en) 2009-06-09 2014-07-22 Lean Tool Systems, Llc Gauge system for workpiece processing
DE102010040298B4 (de) 2010-06-08 2012-09-13 Rofin-Sinar Laser Gmbh Bandleiterlaser
US8295319B2 (en) 2010-11-23 2012-10-23 Iradion Laser, Inc. Ceramic gas laser having an integrated beam shaping waveguide
DE102010064147B4 (de) 2010-12-23 2013-09-12 Rofin-Sinar Laser Gmbh Bandleiter-Laserverstärker und Laseranordnung mit einem Bandleiter-Laserverstärker
DE102011003147B3 (de) 2011-01-26 2012-04-05 Rofin-Sinar Laser Gmbh Bandleiterlaser
US8422528B2 (en) 2011-02-24 2013-04-16 Iradion Laser, Inc. Ceramic slab, free-space and waveguide lasers
US9943975B2 (en) 2012-02-01 2018-04-17 Precision Automation, Inc. Saw system for miter joints
JP6407587B2 (ja) * 2013-08-29 2018-10-17 ビアメカニクス株式会社 ガスレーザ発振器
CN104577649A (zh) * 2014-12-29 2015-04-29 苏州凯锝微电子有限公司 一种板条式激光器装置
US10404030B2 (en) * 2015-02-09 2019-09-03 Iradion Laser, Inc. Flat-folded ceramic slab lasers
EP3516745A4 (en) * 2016-09-20 2020-05-13 Iradion Laser, Inc. LASER WITH SETBACK OPENING
US11095088B1 (en) 2018-02-21 2021-08-17 Zoyka Llc Multi-pass coaxial molecular gas laser
EP3550678B1 (en) 2018-04-04 2020-02-26 Kern Technologies, LLC Folded slab waveguide laser
WO2021030504A1 (en) 2019-08-12 2021-02-18 Precision Automation, Inc. Linear positioner

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3386043A (en) * 1964-07-31 1968-05-28 Bell Telephone Labor Inc Dielectric waveguide, maser amplifier and oscillator
US3772611A (en) * 1971-12-27 1973-11-13 Bell Telephone Labor Inc Waveguide gas laser devices
US3873942A (en) * 1973-08-20 1975-03-25 Avco Everett Res Lab Inc Unstable optical resonator
DE2608830C3 (de) * 1976-03-04 1978-11-30 Opower, Hans, Dr., 8033 Krailling Elektrisch angeregter Oaslaser
US4079340A (en) * 1976-06-21 1978-03-14 Avco Everett Research Laboratory, Inc. Unstable optical resonator with off-axis noncentered obscuration
DE2735299C2 (de) * 1977-08-05 1986-08-28 W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau Elektrisch angeregter Gaslaser
DE2919709B2 (de) * 1979-05-16 1981-03-12 Opower, Hans, Dr., 8033 Krailling Gepulster CO↓2↓-Laser
US4373202A (en) * 1979-09-24 1983-02-08 Walwel, Inc. RF Excited waveguide gas laser
DE3035142A1 (de) * 1979-09-24 1981-04-02 Katherine Dexter Laakman Wellenleiter-gaslaser
US4352188A (en) * 1980-07-03 1982-09-28 Hughes Aircraft Company rf Pumped waveguide laser with inductive loading for enhancing discharge uniformity
US4433418A (en) * 1981-02-06 1984-02-21 Raytheon Company Off-axis astigmatic unstable laser resonator
US4426705A (en) * 1981-10-06 1984-01-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Double electric discharge coaxial laser
US4455658A (en) * 1982-04-20 1984-06-19 Sutter Jr Leroy V Coupling circuit for use with a transversely excited gas laser
GB8307571D0 (en) * 1983-03-18 1983-04-27 Secr Defence Ceramic waveguides
US4481634A (en) * 1983-04-28 1984-11-06 The Regents Of The University Of California RF Excited metal waveguide laser
DE3315620C1 (de) * 1983-04-29 1984-11-08 W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau Hochleistungslaser mit instabilem optischem Resonator
US4559627A (en) * 1984-06-18 1985-12-17 General Electric Company Face pumped rectangular slab laser apparatus having an improved optical resonator cavity
US4739508A (en) * 1985-05-06 1988-04-19 Trw Inc. Unstable resonator diode laser
US4633478A (en) * 1985-06-17 1986-12-30 Hughes Aircraft Company High efficiency RF excited gas laser with transverse discharge excitation
US4719639B1 (en) * 1987-01-08 1994-06-28 Boreal Laser Inc Carbon dioxide slab laser

Also Published As

Publication number Publication date
EP0305893A2 (de) 1989-03-08
ES2049232T3 (es) 1994-04-16
CA1301898C (en) 1992-05-26
DE3729053A1 (de) 1989-03-16
EP0305893A3 (en) 1989-07-26
JPH01257382A (ja) 1989-10-13
IL87567A0 (en) 1989-01-31
IL87567A (en) 1992-07-15
US4939738A (en) 1990-07-03
DE3887236D1 (de) 1994-03-03
DE3729053C2 (ja) 1990-07-12
EP0305893B1 (de) 1994-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0797669B2 (ja) 高出力導波管レーザ
EP0275023B1 (en) Carbon dioxide slab laser
US4815094A (en) Multiply folded laser systems
US4807232A (en) Phase locked staggered dielectric ridge array waveguide gas laser
US4870654A (en) Generation of multiply folded optical paths
JP4387598B2 (ja) レーザ装置
CN107275914B (zh) 具有集成光束成形波导管的陶瓷气体激光器
US7050475B2 (en) Waveguide laser
CN105870770B (zh) 平直折叠式陶瓷板条激光器
US4214216A (en) Face-pumped laser with diffraction-limited output beam
US4884282A (en) Coupled waveguide laser array
JPH0329317B2 (ja)
EP0283488B1 (en) Clustered waveguide laser
US5379317A (en) Microwave-excited slab waveguide laser with all metal sealed cavity
US4779285A (en) Clustered waveguide laser
JPH0451501Y2 (ja)
US12444897B2 (en) Disc laser
JP3481553B2 (ja) 固体スラブレーザ装置
RU2092947C1 (ru) Проточный газовый лазер с устойчиво-неустойчивым резонатором
JPH047111B2 (ja)
JP2000269569A (ja) 放電励起ガスレーザ装置
JP2000252573A (ja) レーザ発振装置
JPS5849644Y2 (ja) 導波型ガスレ−ザ管
JPH0525259Y2 (ja)
CN119812909A (zh) 一种混合腔激光装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081018

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term