JPH0798982A - Substrate bias circuit - Google Patents

Substrate bias circuit

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JPH0798982A
JPH0798982A JP6110085A JP11008594A JPH0798982A JP H0798982 A JPH0798982 A JP H0798982A JP 6110085 A JP6110085 A JP 6110085A JP 11008594 A JP11008594 A JP 11008594A JP H0798982 A JPH0798982 A JP H0798982A
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gate
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Shuichi Tsukada
修一 塚田
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Abstract

PURPOSE:To hold a substrate bias voltage to a fixed level by inserting corrent sources onto both sides of a transistor constituting an inverter constituting a delay circuit and controlling the currents of the current sources with threshold values. CONSTITUTION:When the threshold value of a P channel MOS transistor becomes larger due to the deviation, etc., in a device process, a voltage of a node 10 is made higher, and the currents flowing through the P channel MOS transistor Q4 and N channel MOS transistor Q3 are made larger, and a delay time is shortened. On the contrary, when the threshold value of the P channel MOS transistor becomes smaller, the current flowing through the N channel transistor Q3 constituting a delay inverter circuit 2a is made smaller, and the delay time is prolonged, and an output frequency of a ring oscillator 2 is reduced. In such a manner, by following a charge pump circuit by changing a frequency in response to the change in the threshold value of the transistor, fixed bias power is outputted always.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基板バイアス回路に関
し、特に半導体メモリ回路が構成される半導体基板に一
定のバイアス電圧を発生し供給する基板バイアス回路に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate bias circuit, and more particularly to a substrate bias circuit for generating and supplying a constant bias voltage to a semiconductor substrate which constitutes a semiconductor memory circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリに於いては、そのアクセス
スピードの向上やデータ保持特性の向上のために、半導
体基板に所定のバイアス電圧を印加している。例えば、
P型の半導体基板を用い正の電源電圧を用いた半導体メ
モリでは、基板に負のバイアス電圧を印加している。基
板バイアス回路はかかるバイアス電圧を発生し基板に印
加するものであり、所定周波数の発振信号を発生する発
振回路と、その発振信号に基づき基板バイアス電圧を発
生するチャージポンプ回路とから構成される。
2. Description of the Related Art In a semiconductor memory, a predetermined bias voltage is applied to a semiconductor substrate in order to improve its access speed and data retention characteristics. For example,
In a semiconductor memory using a P-type semiconductor substrate and a positive power supply voltage, a negative bias voltage is applied to the substrate. The substrate bias circuit is for generating such a bias voltage and applying it to the substrate, and is composed of an oscillation circuit for generating an oscillation signal of a predetermined frequency and a charge pump circuit for generating a substrate bias voltage based on the oscillation signal.

【0003】発振回路としては、外付部品を必要としな
いことから、遅延インバータ回路を奇数段リング上に接
続したリングオシレータがある。リングオシレータの発
振周波数は各遅延インバータ回路の遅延時間に依存する
が、かかる遅延時間は電源電圧が大きくなる、あるい
は、インバータを構成するトランジスタの閾値が設計値
に対して小さくなると短くなる。すなわち、電源電圧が
大きくなるほど、また、トランジスタの閾値電圧が小さ
くなるほどトランジスタのゲート・ソース間のバイアス
が深くなり、電流能力が高くなるからである。その結
果、発振周波数は高くなる。逆に、電源電圧が低くなっ
たり、トランジスタの閾値電圧が設計値に対して大きく
なると発振周波数は低くなる。基板バイアス電圧はリン
グオシレータからの発振信号の周波数に依存するため、
電源電圧の変動および/又はトランジスタの閾値電圧の
設計値に対する変化に応じて基板バイアス電圧も変化す
ることになる。基板バイアス電圧の変化は、メモリ回路
を構成する各トランジスタの動作上の実効閾値電圧の変
化をもたらし、データアクセス動作の不安定性を引き起
こす。最悪の場合は、アクセス誤動作をまねき、またス
トアデータの破壊をもたらす。
As an oscillation circuit, there is a ring oscillator in which a delay inverter circuit is connected on an odd-numbered stage ring because no external parts are required. The oscillation frequency of the ring oscillator depends on the delay time of each delay inverter circuit, and the delay time becomes shorter as the power supply voltage increases or the threshold value of the transistor forming the inverter becomes smaller than the design value. That is, the higher the power supply voltage and the lower the threshold voltage of the transistor, the deeper the gate-source bias of the transistor and the higher the current capability. As a result, the oscillation frequency becomes high. On the contrary, when the power supply voltage is low or the threshold voltage of the transistor is higher than the design value, the oscillation frequency is low. Since the substrate bias voltage depends on the frequency of the oscillation signal from the ring oscillator,
The substrate bias voltage will also change according to changes in the power supply voltage and / or changes in the threshold voltage of the transistor with respect to the design value. The change in the substrate bias voltage brings about a change in the effective threshold voltage in operation of each transistor constituting the memory circuit, and causes instability in the data access operation. In the worst case, it may cause an access malfunction and destroy store data.

【0004】発振周波数の変化は、遅延インバータ回路
の遅延時間の変化に起因することから、その遅延時間を
電源電圧の変動に対し安定化すればよい。この目的のた
めに、特開昭60−222713号公報では、遅延イン
バータ回路を構成する一方のトランジスタに電流源を直
列に挿入し、かかる電流源の電流を一定にすることによ
り遅延時間を電源電圧の変動によらず一定にした遅延イ
ンバータ回路が示されている。また。1989年4月2
5日に倍風館から発行された「CMOS超LSIの設
計」には各遅延インバータ回路におけるCOMSインバ
ータの両トランジスタに、それぞれ電流源を付加し、こ
の電流源の電流に所望の特性を与えて発振周波数を制御
できることがが開示されている。
Since the change of the oscillation frequency is caused by the change of the delay time of the delay inverter circuit, the delay time may be stabilized against the fluctuation of the power supply voltage. For this purpose, in Japanese Patent Laid-Open No. 60-222713, a current source is inserted in series with one of the transistors forming the delay inverter circuit, and the current of the current source is made constant so that the delay time is reduced to the power supply voltage. The delay inverter circuit is shown to be constant regardless of the fluctuation of Also. April 2, 1989
In the "CMOS VLSI design" issued by Baifukan on the 5th, current sources were added to both transistors of the COMS inverter in each delay inverter circuit, and the desired characteristics were given to the current of this current source. It is disclosed that the oscillation frequency can be controlled.

【発明が解決しようとする課題】ところが、基板バイア
ス電圧はリングオシレータの発振周波数だけに依存する
のではなく、チャージポンプ回路を構成するトランジス
タの電流能力にも依存する。たとえば、電源電圧の増大
に対し上述した方法によりリングオシレータの発振周波
数を一定にしても、チャージポンプ回路におけるトラン
ジスタは電源電圧の増大に応じてその電流能力が大きく
なり、その結果、基板バイアス電圧は変化することにな
る。したがって、電源電圧が大きくなったときはリング
オシレータの発振周波数を逆に小さくし、その結果とし
て基板バイアス電圧を一定にする必要がある。また、チ
ャージポンプ回路におけるトランジスタの閾値が製造工
程のばらつきに基づき設計値よりも大きくなると、同ト
ランジスタの電流能力はその分小さくなる。したがっ
て、この場合は、リングオシレータの発振周波数を高く
して、小さくなった電流能力をその分補う必要がある。
However, the substrate bias voltage depends not only on the oscillation frequency of the ring oscillator, but also on the current capability of the transistor forming the charge pump circuit. For example, even if the oscillation frequency of the ring oscillator is made constant by the method described above with respect to the increase in the power supply voltage, the current capacity of the transistor in the charge pump circuit increases as the power supply voltage increases, and as a result, the substrate bias voltage is It will change. Therefore, when the power supply voltage increases, it is necessary to reduce the oscillation frequency of the ring oscillator, conversely, to keep the substrate bias voltage constant. Further, when the threshold value of the transistor in the charge pump circuit becomes larger than the designed value due to the variation in the manufacturing process, the current capacity of the transistor becomes smaller accordingly. Therefore, in this case, it is necessary to increase the oscillation frequency of the ring oscillator to compensate for the reduced current capacity.

【0005】このように、基板バイアス電圧を一定にす
るためには、リングオシレータとチャージポンプ回路の
双方に依存してリングオシレータの発振周波数を制御す
る必要があるが、上述した従来技術の構成ではかかる目
的が実現されない。
As described above, in order to make the substrate bias voltage constant, it is necessary to control the oscillation frequency of the ring oscillator depending on both the ring oscillator and the charge pump circuit. Such purpose is not realized.

【0006】したがって、本発明の目的は、電源電圧の
変動及びトランジスタの閾値電圧の設計値からの変動に
よって、出力されるバイアス電圧が変動しない基板バイ
アス回路を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate bias circuit in which an output bias voltage does not fluctuate due to fluctuations in a power supply voltage and fluctuations in a threshold voltage of a transistor from a designed value.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の基板バイアス回
路は、駆動パルスが入力されこの駆動パルスに応答して
出力電圧を昇圧もしくは降圧するチャージポンプ回路
と、この駆動パルスを発生するリングオシレータであっ
て、奇数段の遅延インバータ回路をリング状に接続して
なるリングオシレータと、このリングオシレータにおけ
る各遅延インバータ回路に流れる電流を制御する電流制
御回路とを有することを特徴とする。
A substrate bias circuit of the present invention comprises a charge pump circuit which receives a drive pulse and which raises or lowers an output voltage in response to the drive pulse, and a ring oscillator which generates the drive pulse. It is characterized by having a ring oscillator in which odd-numbered stages of delay inverter circuits are connected in a ring shape, and a current control circuit for controlling a current flowing through each delay inverter circuit in this ring oscillator.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例につき図面を参照しな
がら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0009】図1は、本発明の一実施例による基板バイ
アス回路100を示す。本回路100は、この回路10
0が形成される半導体基板に出力110が接続されるチ
ャージポンプ回路1と、チャージポンプ回路1に駆動パ
ルスを供給するリングオシレータ2を有する。リングオ
シレータ2は、本実施例では5段の遅延インバータ回路
2a、2b、2c、2d、2eを有し、図示のようにリ
ング状に接続されている。各遅延インバータ回路2a、
2b、2c、2d、2eに流れる電流は、後で記述する
電流源回路3により制御されている。
FIG. 1 shows a substrate bias circuit 100 according to one embodiment of the present invention. This circuit 100 is based on this circuit 10
A charge pump circuit 1 having an output 110 connected to a semiconductor substrate on which 0 is formed, and a ring oscillator 2 for supplying a drive pulse to the charge pump circuit 1 are provided. In this embodiment, the ring oscillator 2 has five stages of delay inverter circuits 2a, 2b, 2c, 2d and 2e, which are connected in a ring shape as shown in the figure. Each delay inverter circuit 2a,
The currents flowing in 2b, 2c, 2d and 2e are controlled by the current source circuit 3 described later.

【0010】チャージポンプ回路1は、リングオシレー
タ2からの発振信号を駆動パルスとして受ける駆動パル
ス入力端120を有するこの駆動パルス入力端120は
インバータINVの入力及びコンデンサC3の一端が接
続されている。インバータINVの出力は、コンデンサ
C2及びC3の各々一端に接続されている。コンデンサ
C2の他端は、PチャネルMOSトランジスタQ11の
ゲート及び節点N1に接続され、そのドレイン・ソース
路は基板バイアス電圧出力端110と節点N1との間に
接続されている。トランジスタQ11のバックゲートは
インバータINVの出力に接続されている。コンデンサ
C4の他端はPチャネルMOSトランジスタQ13のゲ
ートに接続され、そのドレイン・ソース路はコンデンサ
C3の他端である節点N3と接地との間に接続されてい
る。トランジスタQ13のバックゲートは入力端120
に接続されている。また、PチャネルMOSトランジス
タQ14を有し、そのゲートは接地され、ドレイン・ソ
ース路はコンデンサC4の他端と接地との間に接続され
ている。トランジスタQ14のバックゲートはインバー
タINVの出力に接続されている。
The charge pump circuit 1 has a drive pulse input end 120 for receiving the oscillation signal from the ring oscillator 2 as a drive pulse. The drive pulse input end 120 is connected to the input of the inverter INV and one end of the capacitor C3. The output of the inverter INV is connected to one end of each of the capacitors C2 and C3. The other end of the capacitor C2 is connected to the gate of the P-channel MOS transistor Q11 and the node N1, and its drain / source path is connected between the substrate bias voltage output terminal 110 and the node N1. The back gate of the transistor Q11 is connected to the output of the inverter INV. The other end of the capacitor C4 is connected to the gate of the P-channel MOS transistor Q13, and its drain / source path is connected between the node N3 which is the other end of the capacitor C3 and the ground. The back gate of the transistor Q13 is the input terminal 120.
It is connected to the. Further, it has a P-channel MOS transistor Q14, the gate of which is grounded, and the drain / source path is connected between the other end of the capacitor C4 and ground. The back gate of the transistor Q14 is connected to the output of the inverter INV.

【0011】駆動パルス入力端120に供給される駆動
パルスは電源電圧ライン(VDD)と接地ライン(GN
D)との電圧差の振幅を有する。駆動パルス入力端12
0の駆動パルスがVDDからGNDに変化するとコンデ
ンサC3のカップリングによって節点N3のレベルはV
DD分降圧されるが、節点N2(入力端120)がVD
Dのときは節点N3のレベルはPチャネルMOSトラン
ジスタQ13とコンデンサC4とによってGNDレベル
とされているため、節点N2がGNDとなったときの節
点N3のレベルは−VDDレベルとなる。したがって、
PチャネルMOSトランジスタQ12のゲートに印加さ
れる電圧が−VDDとなって導通状態となり、節点N1
はGNDまで引き下げられる。
The driving pulse supplied to the driving pulse input terminal 120 includes a power supply voltage line (VDD) and a ground line (GN).
D) and the amplitude of the voltage difference. Drive pulse input terminal 12
When the drive pulse of 0 changes from VDD to GND, the level of the node N3 becomes V due to the coupling of the capacitor C3.
It is stepped down by DD, but the node N2 (input terminal 120) is VD
When it is D, the level of the node N3 is set to the GND level by the P-channel MOS transistor Q13 and the capacitor C4. Therefore, when the node N2 becomes GND, the level of the node N3 becomes -VDD level. Therefore,
The voltage applied to the gate of the P-channel MOS transistor Q12 becomes -VDD and becomes conductive, and the node N1
Is reduced to GND.

【0012】次に、駆動パルス入力端120のレベルが
GNDからVDD、しがたって、インバータINVの出
力がVDDからGNDに変化すると、コンデンサC2の
カップリングによって節点N1はVDD分引き下げられ
−VDDとなる。このように、PチャネルMOSトラン
ジスタQ11が導通状態となり、基板バイアス電圧出力
端110の電位がマイナスに引かれ、基板バイアス電圧
出力端110と節点N1との電圧差がPチャネルMOS
トランジスタQ11の閾値電圧以下になるまで続く。
Next, when the level of the drive pulse input terminal 120 changes from GND to VDD, and thus the output of the inverter INV changes from VDD to GND, the node N1 is pulled down by VDD by the coupling of the capacitor C2 and becomes -VDD. Become. In this way, the P-channel MOS transistor Q11 becomes conductive, the potential of the substrate bias voltage output terminal 110 is pulled negative, and the voltage difference between the substrate bias voltage output terminal 110 and the node N1 becomes a P-channel MOS transistor.
It continues until the threshold voltage of the transistor Q11 becomes lower than the threshold voltage.

【0013】続いて、節点N2がVDDからGNDにな
ることによって、節点N1はGNDとなり、Pチャネル
MOSトランジスタQ11は非導通状態となる。
Then, the node N2 changes from VDD to GND, the node N1 becomes GND, and the P-channel MOS transistor Q11 becomes non-conductive.

【0014】以上のように、入力される所定周波数の駆
動パルスがVDDからGND、そしてGNDからVDD
に変化する度に基板バイアス電圧出力端110の電圧は
マイナスレベルに引かれ、ある一定の電圧まで引かれる
と安定する。
As described above, the input drive pulse of the predetermined frequency is from VDD to GND and from GND to VDD.
The voltage of the substrate bias voltage output terminal 110 is pulled to a negative level each time it changes to, and becomes stable when it is pulled to a certain voltage.

【0015】次に、リングオシレータ2は遅延インバー
タ回路2a、2b、2c、2d、2eをリング状に接続
することによって構成されている。ここで各遅延インバ
ータ回路は同一の構成となっているため、遅延インバー
タ回路2aについてのみ説明する。
Next, the ring oscillator 2 is constructed by connecting the delay inverter circuits 2a, 2b, 2c, 2d, 2e in a ring shape. Here, since each delay inverter circuit has the same configuration, only the delay inverter circuit 2a will be described.

【0016】遅延インバータ回路2aは、ゲートが共通
に入力端10に接続され節点N4とN5との間に直列接
続点N6を介して直列に接続されたPチャネルMOSト
ランジスタQ1とNチャネルMOSトランジスタQ2
と、直列接続点N6が接続された出力端20と、直列接
続点N6とGNDとの間に接続されたコンデンサC1
と、ゲートが制御端30に接続されVDDと節点N4と
の間に接続されたPチャネルMOSトランジスタQ4
と、ゲートが制御端40に接続されGNDと節点N5と
の間に接続されたNチャネルMOSトランジスタQ3と
によって構成されている。リングオシレータ2は、各々
前段の遅延インバータ回路の出力端20が入力端10に
接続され、最終段の遅延インバータ回路2eの出力端2
0はリングオシレータ2の出力端90を介してチャージ
ポンプ回路1の駆動パルス入力端100及び初段の入力
端に接続されてなる。
In the delay inverter circuit 2a, the gates are commonly connected to the input terminal 10, and the P-channel MOS transistor Q1 and the N-channel MOS transistor Q2 are connected in series between the nodes N4 and N5 via the series connection point N6.
And an output end 20 to which the series connection point N6 is connected, and a capacitor C1 connected between the series connection point N6 and GND.
And a P-channel MOS transistor Q4 having a gate connected to the control terminal 30 and connected between VDD and the node N4.
And an N channel MOS transistor Q3 having a gate connected to the control terminal 40 and connected between the GND and the node N5. In the ring oscillator 2, the output terminal 20 of the delay inverter circuit at the previous stage is connected to the input terminal 10 and the output terminal 2 of the delay inverter circuit 2e at the final stage is connected.
0 is connected to the drive pulse input terminal 100 of the charge pump circuit 1 and the input terminal of the first stage via the output terminal 90 of the ring oscillator 2.

【0017】遅延インバータ回路2aの遅延時間は、コ
ンデンサC1を充電する電荷の大きさ、すなわち、流れ
る電流の大きさによって変化する。しかしながら、Pチ
ャネルMOSトランジスタQ1及びNチャネルMOSト
ランジスタQ2によって構成されるインバータを流れる
電流は、PチャネルMOSトランジスタQ4及びNチャ
ネルMOSトランジスタQ3のゲートに印加される制御
電圧によって決定されている。したがって、インバータ
を流れる電流を一定に制御することによって、電源電圧
が変化しても一定の電流を供給することができるため、
遅延時間を制御することができる。電源電圧がVDD1
で動作したときの遅延インバータ回路の入力端10に供
給される入力信号IN、出力端20にから出力される出
力信号OUTおよび遅延時間を示す図2(a)を参照す
ると、入力端10に供給される入力信号INがGNDか
らVDDに変化したとき、NチャネルMOSトランジス
タQ2はオフ状態からオン状態に変化し、PチャネルM
OSトランジスタQ1はオン状態からオフ状態に変化す
る。このため、直列接続点N6の電位はVDDからGN
Dに徐々に変化する。このため、直列接続点N6の電位
はVDDからGNDに変化する。ここで、NチャネルM
OSトランジスタQ3及びPチャネルMOSトランジス
タQ4の電流定数をIとし、直列接続点N6の総容量を
コンデンサC1と寄生容量との和Cとすると、直列接続
点N6の電位変化速度は、 dV/dt=I・(1/C) ・・・ で表せるから、電流定数Iおよび総容量Cは電源電圧V
DDの変動に依存しないので、直列接続点N6の電位変
化速度は一定である。したがって、直列接続点N6の電
位がVDDからGNDに変化するときに要する時間は、
その振幅である電源電圧VDDに正比例することから、
入力信号INから出力信号OUTまでの遅延時間T1は
電源電圧VDDに正比例する。また、入力信号INがG
NDからVDDに変化する場合も、dV/dtの絶対値
は一定であるから遅延時間は電源電圧VDD1に正比例
する。
The delay time of the delay inverter circuit 2a changes depending on the amount of electric charge that charges the capacitor C1, that is, the amount of flowing current. However, the current flowing through the inverter formed by the P channel MOS transistor Q1 and the N channel MOS transistor Q2 is determined by the control voltage applied to the gates of the P channel MOS transistor Q4 and the N channel MOS transistor Q3. Therefore, by controlling the current flowing through the inverter to be constant, it is possible to supply a constant current even if the power supply voltage changes.
The delay time can be controlled. Power supply voltage is VDD1
2A showing the input signal IN supplied to the input terminal 10 of the delay inverter circuit, the output signal OUT output from the output terminal 20 and the delay time when the delay inverter circuit is operated in accordance with FIG. When the input signal IN to be changed from GND to VDD, the N-channel MOS transistor Q2 changes from the OFF state to the ON state, and the P-channel M
The OS transistor Q1 changes from the on state to the off state. Therefore, the potential of the series connection point N6 changes from VDD to GN.
Gradually change to D. Therefore, the potential at the series connection point N6 changes from VDD to GND. Where N channel M
When the current constant of the OS transistor Q3 and the P-channel MOS transistor Q4 is I and the total capacitance of the series connection point N6 is the sum C of the capacitor C1 and the parasitic capacitance, the potential change speed of the series connection point N6 is dV / dt = Since it can be expressed as I · (1 / C) ···, the current constant I and the total capacitance C are the power supply voltage V
Since it does not depend on the fluctuation of DD, the potential change speed of the series connection point N6 is constant. Therefore, the time required when the potential of the series connection point N6 changes from VDD to GND is
Since the amplitude is directly proportional to the power supply voltage VDD,
The delay time T1 from the input signal IN to the output signal OUT is directly proportional to the power supply voltage VDD. The input signal IN is G
Even when changing from ND to VDD, the delay time is directly proportional to the power supply voltage VDD1 because the absolute value of dV / dt is constant.

【0018】電源電圧VDD1よりも低い電源電圧VD
D2で動作させたときの波形図を示した図2(b)を参
照すると、電位変化の速度dV/dtは図2(a)と等
しく、直列接続点N6の電圧振幅の小さい図2(b)の
方が図2(a)よりも遅延時間が短くなることがわか
る。
Power supply voltage VD lower than power supply voltage VDD1
Referring to FIG. 2B showing the waveform diagram when operated at D2, the speed of potential change dV / dt is equal to that of FIG. 2A, and the voltage amplitude of the series connection point N6 is small in FIG. It can be seen that the delay time of () is shorter than that of FIG.

【0019】したがって、図2(c)に示すように、遅
延インバータ回路2aは電源電圧VDDに正比例して、
その遅延時間を大きくすることが分かる。
Therefore, as shown in FIG. 2C, the delay inverter circuit 2a is directly proportional to the power supply voltage VDD.
It can be seen that the delay time is increased.

【0020】電流源回路3は、VDDと節点N7との間
に接続されたPチャネルMOSトランジスタQ8と、ゲ
ートが節点N7に接続され節点N7とGNDとの間に接
続されたNチャネルMOSトランジスタQ5と、節点7
と出力端60とにゲートが接続され節点N8とGNDと
の間に接続されたNチャネルMOSトランジスタQ6
と、ゲートが出力端50に接続され節点N8とVDDと
の間に接続されたPチャネルMOSトランジスタQ7と
によって構成され、出力端50は遅延インバータ回路2
a、2b、2c、2d、2eの入力端30に接続され、
出力端60は同様に入力端40に接続される。ここで、
NチャネルMOSトランジスタQ5とNチャネルMOS
トランジスタQ6はカレントミラー回路を構成している
ため、NチャネルMOSトランジスタQ6を流れる電流
はNチャネルMOSトランジスタQ5によって決定さ
れ、NチャネルMOSトランジスタQ5を流れる電流は
PチャネルMOSトランジスタQ8に流れる電流によっ
て決定される。このPチャネルMOSトランジスタQ8
に流れる電流は、そのゲート・ソース間電圧によって決
定される。そして、遅延インバータ回路2a内のPチャ
ネルMOSトランジスタQ4とPチャネルMOSトラン
ジスタQ7とでカレントミラー回路を構成し、かつ、遅
延インバータ回路2a内のNチャネルMOSトランジス
タQ3とNチャネルMOSトランジスタQ6とでカレン
トミラー回路を構成しているため、全ての遅延インバー
タ回路2a、2b、2c、2d、2eを流れる電流は、
PチャネルMOSトランジスタQ8を流れる電流によっ
て決定される。本実施例では、全てのカレントミラー回
路の入出力電流比は1である。したがって、全ての遅延
インバータ回路2a、2b、2c、2d、2eに流れる
電流は同一である。
The current source circuit 3 includes a P-channel MOS transistor Q8 connected between VDD and the node N7, and an N-channel MOS transistor Q5 whose gate is connected to the node N7 and connected between the node N7 and GND. And node 7
An N-channel MOS transistor Q6 whose gate is connected to the output terminal 60 and the output terminal 60, and which is connected between the node N8 and GND.
And a P-channel MOS transistor Q7 having a gate connected to the output terminal 50 and connected between the node N8 and VDD. The output terminal 50 has the delay inverter circuit 2
a, 2b, 2c, 2d, 2e are connected to the input ends 30,
The output end 60 is likewise connected to the input end 40. here,
N-channel MOS transistor Q5 and N-channel MOS
Since transistor Q6 constitutes a current mirror circuit, the current flowing through N-channel MOS transistor Q6 is determined by N-channel MOS transistor Q5, and the current flowing through N-channel MOS transistor Q5 is determined by the current flowing through P-channel MOS transistor Q8. To be done. This P channel MOS transistor Q8
The current flowing through the gate is determined by the gate-source voltage. The P-channel MOS transistor Q4 and the P-channel MOS transistor Q7 in the delay inverter circuit 2a form a current mirror circuit, and the N-channel MOS transistor Q3 and the N-channel MOS transistor Q6 in the delay inverter circuit 2a form a current mirror circuit. Since the mirror circuit is configured, the current flowing through all the delay inverter circuits 2a, 2b, 2c, 2d, 2e is
It is determined by the current flowing through P channel MOS transistor Q8. In this embodiment, the input / output current ratio of all the current mirror circuits is 1. Therefore, the currents flowing through all the delay inverter circuits 2a, 2b, 2c, 2d, 2e are the same.

【0021】電流源回路3は、さらに、節点N9にゲー
トが接続されVDDと節点N9との間に接続されたPチ
ャネルMOSトランジスタQ9と、ゲートが節点N10
に接続され節点N9と節点N10との間に接続されたP
チャネルMOSトランジスタQ10と、節点N10とG
NDとの間に接続された抵抗R1とを有する。節点N1
0は、トランジスタQ8のゲートに接続されている。
The current source circuit 3 further includes a P-channel MOS transistor Q9 having a gate connected to the node N9 and connected between VDD and the node N9, and a gate having a node N10.
P connected to node N9 and node N10
Channel MOS transistor Q10, nodes N10 and G
And a resistor R1 connected to ND. Node N1
0 is connected to the gate of the transistor Q8.

【0022】ここで各PチャネルMOSトランジスタの
閾値がVtpとすると、節点N10の電圧はVDD−2
・|Vtp|(ただし|Vtp|はVtpの絶対値を表
す)になり、その電圧がPチャネルMOSトランジスタ
Q8のゲートに供給される。したがって、PチャネルM
OSトランジスタQ8のゲート・ソース間にかかる電圧
は2Vtpとなる。ここで、トランジスタQ8を流れる
電流はゲート・ソース間にかかる電圧によって決定さ
れ、かつ、ゲート・ソース間にはPチャネルMOSトラ
ンジスタの閾値電圧Vtpにのみ依存する電圧しかかか
っていないため、PチャネルMOSトランジスタQ8を
流れる電流はVtpにのみ依存し、VDDには依存しな
い。
If the threshold value of each P-channel MOS transistor is Vtp, the voltage at the node N10 is VDD-2.
-| Vtp | (where | Vtp | represents the absolute value of Vtp), and the voltage is supplied to the gate of the P-channel MOS transistor Q8. Therefore, P channel M
The voltage applied between the gate and the source of the OS transistor Q8 is 2Vtp. Here, the current flowing through the transistor Q8 is determined by the voltage applied between the gate and the source, and the voltage that depends only on the threshold voltage Vtp of the P channel MOS transistor is applied between the gate and the source. The current flowing through the transistor Q8 depends only on Vtp and not on VDD.

【0023】すなわち、PチャネルMOSトランジスタ
Q8のコンダクタンス定数をβとすると、PチャネルM
OSトランジスタの電流定数IQ8は、 IQ8=(1/2)・β・(2|Vtp|−|Vtp|)^2 =(1/2)・β・|Vtp|^2 ・・・ と表せる。(ただし、^はべき乗を現す記号とする。)
また、上述のとおり遅延インバータ回路の遅延時間は電
流に反比例するから、閾値電圧Vtpに対する遅延時間
Tは、 T=1/|Vtp|^2 ・・・ と表せる。
That is, assuming that the conductance constant of the P-channel MOS transistor Q8 is β, the P-channel M
The current constant IQ8 of the OS transistor can be expressed as IQ8 = (1/2) .beta..multidot. (2 | Vtp |-| Vtp |) ^ 2 = (1/2) .beta. | Vtp | ^ 2 ... (However, ^ is a symbol representing exponentiation.)
Further, as described above, since the delay time of the delay inverter circuit is inversely proportional to the current, the delay time T with respect to the threshold voltage Vtp can be expressed as T = 1 / | Vtp | ^ 2 ...

【0024】したがって、閾値電圧Vtpの絶対値と遅
延時間Tとの関係を上記式に基づいて示すと、図3の
グラフになる。すなわち、トランジスタの閾値が|Vt
p1|のように低いときは遅延時間TはT1のように長
くなり、|Vtp2|のように高いときは遅延時間Tは
T2のように短くなる。したがって、トランジスタQ1
1及びトランジスタQ12の能力が低くなったとき、す
なわち、PチャネルMOSトランジスタの閾値がデバイ
ス工程のばらつき等で大きくなったときは、節点10の
電圧を高くして、遅延インバータ回路2aを構成するP
チャネルMOSトランジスタQ4及びNチャネルMOS
トランジスタQ3を流れる電流を大きくして遅延時間を
短くし、リングオシレータ2の出力周波数を高く、反対
にPチャネルMOSトランジスタの閾値が小さくなった
ときは遅延インバータ回路2aを構成するPチャネルM
OSトランジスタQ4及びNチャネルMOSトランジス
タQ3を流れる電流を小さくして遅延時間を長くし、リ
ングオシレータ2の出力周波数を低くする。したがっ
て、チャージポンプ回路1の能力は駆動パルスの周波数
によって変化し、周波数が高いときは能力が高く、周波
数が低いときは能力が低くなる。このように、トランジ
スタの閾値が変化したときも、その変化に応答してチャ
ージポンプ回路の能力を周波数を変えることによって追
従させることにより、常に一定のバイアス電圧を出力す
ることができる。
Therefore, when the relationship between the absolute value of the threshold voltage Vtp and the delay time T is shown based on the above equation, the graph of FIG. 3 is obtained. That is, the threshold of the transistor is | Vt
When it is low as p1 |, the delay time T becomes long as T1, and when it is high as | Vtp2 |, the delay time T becomes short as T2. Therefore, the transistor Q1
1 and the capacity of the transistor Q12 becomes low, that is, when the threshold value of the P-channel MOS transistor becomes large due to variations in the device process or the like, the voltage at the node 10 is increased to form the delay inverter circuit 2a.
Channel MOS transistor Q4 and N channel MOS
When the current flowing through the transistor Q3 is increased to shorten the delay time, the output frequency of the ring oscillator 2 is increased, and when the threshold value of the P-channel MOS transistor is decreased, the P-channel M which constitutes the delay inverter circuit 2a is formed.
The current flowing through the OS transistor Q4 and the N-channel MOS transistor Q3 is reduced to lengthen the delay time and lower the output frequency of the ring oscillator 2. Therefore, the capacity of the charge pump circuit 1 changes depending on the frequency of the drive pulse. When the frequency is high, the capacity is high, and when the frequency is low, the capacity is low. As described above, even when the threshold value of the transistor changes, the capacity of the charge pump circuit is made to follow by changing the frequency in response to the change, so that a constant bias voltage can be always output.

【0025】次に、発明の第2の実施例を図4を参照し
て説明する。
Next, a second embodiment of the invention will be described with reference to FIG.

【0026】図4の基板バイアス回路は、チャージポン
プ回路11と、チャージポンプ回路11に駆動パルスを
供給するリングオシレータ2と、リングオシレータ2内
に流れる電流を制御する電流制御回路13とによって構
成される。リングオシレータ2は図1と同一であるので
説明を省略する。チャージポンプ回路11は、ゲートが
基板バイアス電圧出力端110に接続されソース・ドレ
インが基板バイアス電圧出力端110と節点N11との
間に接続されたNチャネルMOSトランジスタQ15
と、ゲートが節点N11に接続されソース・ドレインが
節点N11とGNDとの間に接続されたNチャネルMO
SトランジスタQ16と、入力が駆動パルス入力端10
0に接続されたインバータINVと、インバータINV
の出力と節点N11との間に接続されたコンデンサC5
とによって構成される。
The substrate bias circuit shown in FIG. 4 comprises a charge pump circuit 11, a ring oscillator 2 for supplying a drive pulse to the charge pump circuit 11, and a current control circuit 13 for controlling the current flowing in the ring oscillator 2. It Since the ring oscillator 2 is the same as that shown in FIG. 1, its explanation is omitted. The charge pump circuit 11 has an N-channel MOS transistor Q15 whose gate is connected to the substrate bias voltage output terminal 110 and whose source / drain are connected between the substrate bias voltage output terminal 110 and the node N11.
And an N-channel MO whose gate is connected to the node N11 and whose source / drain are connected between the node N11 and GND.
S-transistor Q16 and input is drive pulse input terminal 10
Inverter INV connected to 0 and inverter INV
C5 connected between the output of node and node N11
Composed of and.

【0027】このチャージポンプ回路11は、駆動パル
ス入力端100がGNDのとき、節点N11をコンデン
サC5のカップリングで上昇したVDDからダイオード
構成のNチャネルMOSトランジスタQ16によってG
NDに引き落とし、駆動パルス入力端100がGNDか
らVDDに変化したときコンデンサC5のカップリング
によって節点N11をGNDからVDD分低い電圧にす
ることにより、基板バイアス電圧出力端110の電圧を
マイナスレベルに引いている。このチャージポンプ回路
11では、NチャネルMOSトランジスタを使用してい
るため、製造工程等のばらつきによるトランジスタの閾
値Vtnの設計値からの変化に基づくNチャネルMOS
トランジスタQ15及びQ16の能力変化によるチャー
ジポンプ回路11の能力変化を抑えるために、図1と同
様に閾値Vtnによってリングオシレータ2の出力する
駆動パルスの周波数を変化させる必要がある。
In the charge pump circuit 11, when the drive pulse input terminal 100 is GND, the node N11 is increased from VDD raised by the coupling of the capacitor C5 by the diode N channel MOS transistor Q16.
The voltage of the substrate bias voltage output terminal 110 is pulled to a negative level by pulling it down to ND and lowering the voltage of the node N11 from GND by VDD by the coupling of the capacitor C5 when the drive pulse input terminal 100 changes from GND to VDD. ing. Since the charge pump circuit 11 uses the N-channel MOS transistor, the N-channel MOS transistor based on the change from the design value of the threshold value Vtn of the transistor due to variations in manufacturing process or the like.
In order to suppress the change in the capacity of the charge pump circuit 11 due to the change in the capacity of the transistors Q15 and Q16, it is necessary to change the frequency of the drive pulse output from the ring oscillator 2 by the threshold value Vtn as in FIG.

【0028】この目的のために、本実施例の電流制御回
路13は、抵抗R11、4つのNチャネルMOSトラン
ジスタQ20〜Q23、及び2つのPチャネルMOSト
ランジスタQ24、Q25で構成し、図示のように接続
されている。特に、トランジスタQ22に流れる電流は
NチャネルMOSトランジスタの閾値電圧のみに応じた
ものとなり、この電流がトランジスタQ24とQ4のカ
レントミラー回路、トランジスタQ24とQ25そして
Q23とQ3とのカレントミラー回路を介して、各遅延
インバータ回路に流れる電流が全て同一となる。かくし
て、本実施例に於いても、一定の基板バイアス電圧が得
られる。
For this purpose, the current control circuit 13 of this embodiment is composed of a resistor R11, four N-channel MOS transistors Q20 to Q23, and two P-channel MOS transistors Q24 and Q25, as shown in the figure. It is connected. In particular, the current flowing through the transistor Q22 depends only on the threshold voltage of the N-channel MOS transistor, and this current passes through the current mirror circuit of the transistors Q24 and Q4, the current mirror circuit of the transistors Q24 and Q25, and the current mirror circuit of Q23 and Q3. , The currents flowing through the delay inverter circuits are all the same. Thus, also in the present embodiment, a constant substrate bias voltage can be obtained.

【0029】図1において、トランジスタの導電型を変
え、VDDとGNDとを反対にし、チャージポンプ回路
1の代わりにチャージポンプ回路11を出力端90に接
続しても同様の効果を得ることができる。また、ダイオ
ード接続のトランジスタQ9、Q10あるいはQ20、
Q21はその箇所を増加しても良い。
In FIG. 1, the same effect can be obtained by changing the conductivity type of the transistor, making VDD and GND opposite to each other, and connecting the charge pump circuit 11 instead of the charge pump circuit 1 to the output terminal 90. . Also, diode-connected transistors Q9, Q10 or Q20,
Q21 may increase that location.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、遅延インバータ回
路を構成するインバータ構成のトランジスタの両端に電
流源を挿入し、その電流源の電流を閾値によって制御す
ることによって、閾値電圧の絶対値が低いときには電流
を小さくして遅延時間を長くし、かつ、インバータ構成
のトランジスタの出力端の充放電は電流源の電流によっ
て行われるため、出力端の電位変化速度は電源電圧の変
動によらず一定であり、電源電圧が高いほど出力電圧の
振幅が大きくなるため、リングオシレータの出力する駆
動パルスの周波数を低くすることができ、逆に閾値電圧
の絶対値が高いときには電流を大きくして遅延時間を短
くし、電源電圧が低いほど出力電圧の振幅が大きくなる
ため、リングオシレータの出力する駆動パルスの周波数
を高くすることができる。したがって、チャージポンプ
回路の能力が高くなったとき、すなわち、電源電圧が高
く、又は閾値の絶対値が低くなったときチャージポンプ
回路の能力を抑えるように駆動パルスの周波数を低く
し、チャージポンプ回路の能力が低くなったとき、すな
わち、電源電圧が低く、又は閾値の絶対値が高くなった
ときチャージポンプ回路の能力を向上するように駆動パ
ルスの周波数を高くすることによって、基板バイアス電
圧発生回路の出力する基板バイアス電圧を一定に保持す
ることができる。
As described above, the absolute value of the threshold voltage is low by inserting the current source at both ends of the transistor of the inverter configuration which constitutes the delay inverter circuit and controlling the current of the current source by the threshold value. Sometimes the current is reduced to increase the delay time, and the output terminal of the inverter is charged and discharged by the current of the current source, so the potential change rate at the output terminal is constant regardless of the fluctuation of the power supply voltage. Yes, the higher the power supply voltage, the larger the amplitude of the output voltage, so the frequency of the drive pulse output by the ring oscillator can be lowered. Conversely, when the absolute value of the threshold voltage is high, the current is increased to increase the delay time. Since the amplitude of the output voltage increases as the power supply voltage decreases, the frequency of the drive pulse output from the ring oscillator can be increased. Kill. Therefore, when the capacity of the charge pump circuit becomes high, that is, when the power supply voltage becomes high or the absolute value of the threshold becomes low, the frequency of the drive pulse is lowered so as to suppress the capacity of the charge pump circuit. Of the substrate bias voltage generating circuit by increasing the frequency of the drive pulse so as to improve the capacity of the charge pump circuit when the capacity of the charge pump circuit is low, that is, when the power supply voltage is low or the absolute value of the threshold value is high. The substrate bias voltage output by can be held constant.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示す基板バイアス電圧
発生回路の回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram of a substrate bias voltage generating circuit showing a first embodiment of the present invention.

【図2】(a)本発明の第1の実施例において電源電圧
が高いときの遅延インバータ回路の遅延時間を示すグラ
フ。 (b)本発明の第1の実施例において電源電圧が低いと
きの遅延インバータ回路の遅延時間を示すグラフ。 (c)本発明の第1の実施例において電源電圧と遅延イ
ンバータ回路の遅延時間との関係を示すグラフ。
FIG. 2A is a graph showing the delay time of the delay inverter circuit when the power supply voltage is high in the first embodiment of the present invention. (B) A graph showing the delay time of the delay inverter circuit when the power supply voltage is low in the first embodiment of the present invention. (C) A graph showing the relationship between the power supply voltage and the delay time of the delay inverter circuit in the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施例においてトランジスタの
閾値電圧と遅延インバータ回路の遅延時間との関係を示
すグラフ。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the threshold voltage of the transistor and the delay time of the delay inverter circuit in the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施例を示す基板バイアス電圧
発生回路の回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram of a substrate bias voltage generating circuit showing a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Q1,Q3,Q5,Q6,Q15,Q16,Q17 N
チャネルMOSトランジスタ Q2,Q4,Q7,Q8,Q9,Q10,Q11,Q1
2,Q13,Q14 PチャネルMOSトランジスタ C1,C2,C3,C4,C5 コンデンサ
Q1, Q3, Q5, Q6, Q15, Q16, Q17 N
Channel MOS transistors Q2, Q4, Q7, Q8, Q9, Q10, Q11, Q1
2, Q13, Q14 P-channel MOS transistors C1, C2, C3, C4, C5 capacitors

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H03K 3/354 A 5/13 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H03K 3/354 A 5/13

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】駆動パルスが入力されこの駆動パルスに応
答して出力電圧を昇圧もしくは降圧するチャージポンプ
回路と、前記駆動パルスを発生するリングオシレータで
あって、奇数段の遅延インバータ回路をリング状に接続
してなるリングオシレータと、前記リングオシレータに
おける各遅延インバータ回路に流れる電流を制御する電
流制御回路とを有することを特徴とする基板バイアス回
路。
1. A charge pump circuit which receives a drive pulse and which raises or lowers an output voltage in response to the drive pulse, and a ring oscillator which generates the drive pulse, wherein a delay inverter circuit of an odd number of stages has a ring shape. 1. A substrate bias circuit, comprising: a ring oscillator connected to each other; and a current control circuit that controls a current flowing through each delay inverter circuit in the ring oscillator.
【請求項2】前記遅延インバータ回路の各々は、ゲート
が第1の制御端に接続され前記第1の電源ライン及び第
1の節点との間に接続された第1のチャネル型の第1の
トランジスタと、ゲートが入力端に接続され前記第1の
節点と第2の節点との間に接続され前記第1のチャネル
型の第2のトランジスタと、ゲートが前記入力端に接続
され前記第2の節点と第3の節点との間に接続された第
2チャネル型の第3のトランジスタと、ゲートが第2の
制御端に接続された前記第3の節点と第2の電源ライン
との間に接続された前記第2チャネル型の第4のトラン
ジスタとからなることを特徴とする請求項1記載の基板
バイアス回路。
2. Each of the delay inverter circuits has a first channel type first gate whose gate is connected to a first control terminal and is connected between the first power supply line and a first node. A transistor; a gate connected to the input end; connected between the first node and the second node; the second transistor of the first channel type; and a gate connected to the input end Between a third transistor of the second channel type connected between the second node and the third node, and between the third node whose gate is connected to the second control end and the second power supply line. 2. The substrate bias circuit according to claim 1, further comprising a second transistor of the second channel type connected to the.
【請求項3】前記電流制御回路はゲートが前記第1の制
御端に接続され前記第1の電源ライン及び前記第1の制
御端の間に接続された前記第1チャネル型の第5のトラ
ンジスタと、ゲートが前記第2の制御端に接続され前記
第1の制御端と前記第2の電源ラインとの間に接続され
た前記第2チャネル型の第6のトランジスタと、ゲート
が前記第2の制御端に接続され前記第2の制御端と前記
第2の電源ラインとの間に接続された前記第2チャネル
型の第7のトランジスタと、ゲートが第3の制御端に接
続され前記第2の制御端と前記第1の電源ラインとの間
に接続された前記第1チャネル型の第8のトランジスタ
と、前記第3の制御端にバイアス電圧を印加する手段と
を有することを特徴とする請求項2記載の基板バイアス
回路。
3. The first channel type fifth transistor having a gate connected to the first control end and connected between the first power supply line and the first control end in the current control circuit. A second channel type sixth transistor having a gate connected to the second control terminal and connected between the first control terminal and the second power supply line; and a gate having the second transistor. The second channel type seventh transistor connected to the second control end and the second power supply line, and the gate connected to the third control end. A second channel-type eighth transistor connected between the second control end and the first power supply line; and means for applying a bias voltage to the third control end. The substrate bias circuit according to claim 2.
【請求項4】前記チャージポンプ回路は、前記駆動パル
スが第1のレベルのときダイオード動作して出力端にバ
イアス電圧を出力する第4の節点と前記出力端との間に
接続された前記第1チャネルの出力トランジスタと、前
記駆動パルスが第2のレベルのときダイオード動作して
前記第4の節点を前記第2の電源ラインに接続する前記
第4の節点と前記第2の電源ラインとの間に接続された
前記第1チャネルのリストアトランジスタとによって構
成されることを特徴とする請求項3記載の基板バイアス
回路。
4. The charge pump circuit includes the fourth node connected between a fourth node that operates as a diode and outputs a bias voltage to an output end when the drive pulse is at a first level, and the output end. A one-channel output transistor, a diode operation when the drive pulse is at the second level, and the fourth node connecting the fourth node to the second power line; and the second power line. The substrate bias circuit according to claim 3, wherein the substrate bias circuit is configured by the restore transistor of the first channel connected in between.
【請求項5】前記バイアス電圧印加手段はゲートが第5
の節点に接続され前記第1の電源ラインと前記第5の節
点との間に接続された前記第1チャネル型の第9のトラ
ンジスタと、ゲートが前記第3の制御端に接続され前記
第5の節点と前記第3の制御端との間に接続された前記
第1チャネルの第10のトランジスタと、前記第3の制
御端と前記第2の電源ラインにせつぞくされた抵抗性素
子とを有することを特徴とする請求項4記載の基板バイ
アス回路。
5. The bias voltage applying means has a fifth gate.
The first channel type ninth transistor connected to the node of the first power supply line and connected between the first power supply line and the fifth node, and the gate connected to the third control end of the fifth transistor. A tenth transistor of the first channel connected between the node and the third control end, and a resistive element connected to the third control end and the second power supply line. The substrate bias circuit according to claim 4, further comprising:
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