JPH08100288A - 金属メッシュ箔の製造法 - Google Patents
金属メッシュ箔の製造法Info
- Publication number
- JPH08100288A JPH08100288A JP23702694A JP23702694A JPH08100288A JP H08100288 A JPH08100288 A JP H08100288A JP 23702694 A JP23702694 A JP 23702694A JP 23702694 A JP23702694 A JP 23702694A JP H08100288 A JPH08100288 A JP H08100288A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- foil
- drum
- mesh
- metal mesh
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 安価で長尺化が可能なメッシュパターンを有
する金属箔を製造すること。 【構成】 外周面に絶縁性材料を所定のパターンで埋設
した金属製ドラムに電気めっきによりめっき層を形成
し、該めっき層がめっき液中から空気中に出た所から剥
離界面までの範囲を０℃〜１５℃の冷水でめっき層およ
び表面を洗浄することを特徴とする金属メッシュ箔の製
造方法。
する金属箔を製造すること。 【構成】 外周面に絶縁性材料を所定のパターンで埋設
した金属製ドラムに電気めっきによりめっき層を形成
し、該めっき層がめっき液中から空気中に出た所から剥
離界面までの範囲を０℃〜１５℃の冷水でめっき層およ
び表面を洗浄することを特徴とする金属メッシュ箔の製
造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属箔に所定のパター
ンで多数の孔を有する金属メッシュ箔の製造法に関する
ものである。
ンで多数の孔を有する金属メッシュ箔の製造法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、金属メッシュ箔を製造する方法と
して、(1) 金属箔をエッチングして孔を形成する方法。
(2) 絶縁基体上に導電性材料でマスターメッシュパター
ンを形成後、その上に電気めっきして金属メッシュ層を
形成し、該層を剥離することにより金属メッシュ箔を得
る方法。(3) 導電基体上にフォトレジスト等の絶縁性材
料で非めっきパターン部を形成後、電気めっきすること
により金属メッシュ層を形成し、該層を剥離することに
より金属メッシュ箔を得る方法。(4) 導電基体に凹部を
設け、凹部の中に絶縁性材料を充填することによりメッ
シュパターンを形成後、電気めっきすることにより金属
メッシュ層を形成し、該層を剥離することにより金属メ
ッシュ箔を得る方法等がある。
して、(1) 金属箔をエッチングして孔を形成する方法。
(2) 絶縁基体上に導電性材料でマスターメッシュパター
ンを形成後、その上に電気めっきして金属メッシュ層を
形成し、該層を剥離することにより金属メッシュ箔を得
る方法。(3) 導電基体上にフォトレジスト等の絶縁性材
料で非めっきパターン部を形成後、電気めっきすること
により金属メッシュ層を形成し、該層を剥離することに
より金属メッシュ箔を得る方法。(4) 導電基体に凹部を
設け、凹部の中に絶縁性材料を充填することによりメッ
シュパターンを形成後、電気めっきすることにより金属
メッシュ層を形成し、該層を剥離することにより金属メ
ッシュ箔を得る方法等がある。
【０００３】上述(1) の方法は、エッチング除去される
面積が少ない場合は特に有効な手段であるが、エッチン
グレジストやエッチング廃液の処理問題等により製造コ
ストが高い。(2) の方法は 400〜500 メッシュの金属箔
が製造可能であるが、金属箔を絶縁基体から剥離すると
き、マスターメッシュパターンが破壊され、次に箔を作
るためには、新たにパターンを形成し直す必要がある。
そのため、シート状の箔しか製造できず、かつ、高コス
トである。(3) の方法も(2) と同様の理由でシート状の
箔しかできず、かつ、高コストである。(4) の方法は絶
縁性材料の基体凹部に埋め込まれているため、箔の剥離
に伴うメッシュパターンの破壊は起こらない。よって、
容易に連続した（エンドレス）金属メッシュ箔が製造で
きる。しかし、箔を製造するうちに導電基体からメッシ
ュ層を剥離する時、埋め込まれた絶縁性材料がメッシュ
層にくっついたまま該基体から抜け落ち、メッシュ箔の
孔が塞がったものができたり、箔が破れたりする問題を
有している。
面積が少ない場合は特に有効な手段であるが、エッチン
グレジストやエッチング廃液の処理問題等により製造コ
ストが高い。(2) の方法は 400〜500 メッシュの金属箔
が製造可能であるが、金属箔を絶縁基体から剥離すると
き、マスターメッシュパターンが破壊され、次に箔を作
るためには、新たにパターンを形成し直す必要がある。
そのため、シート状の箔しか製造できず、かつ、高コス
トである。(3) の方法も(2) と同様の理由でシート状の
箔しかできず、かつ、高コストである。(4) の方法は絶
縁性材料の基体凹部に埋め込まれているため、箔の剥離
に伴うメッシュパターンの破壊は起こらない。よって、
容易に連続した（エンドレス）金属メッシュ箔が製造で
きる。しかし、箔を製造するうちに導電基体からメッシ
ュ層を剥離する時、埋め込まれた絶縁性材料がメッシュ
層にくっついたまま該基体から抜け落ち、メッシュ箔の
孔が塞がったものができたり、箔が破れたりする問題を
有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述(4) の課
題に鑑みてなされたものであり、連続した金属メッシュ
箔の長尺化を可能にし、かつ、安価な箔の製造方法を提
供することを目的とする。
題に鑑みてなされたものであり、連続した金属メッシュ
箔の長尺化を可能にし、かつ、安価な箔の製造方法を提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するための手段として、金属製ドラムの外周面に絶縁
性材料を所定のパターンに埋設し、該ドラムを一定のス
ピードで回転させ、電気めっきにより所定の厚さの金属
層を形成し、該金属層をドラム外周面から剥離すること
により金属メッシュ箔を製造する方法において、該金属
箔がめっき液中より空気中に出た所から箔とドラムとの
剥離界面までの範囲を０℃〜１５℃の冷水で洗浄及び冷
却することを特徴とする金属メッシュ箔の製造法であ
る。
決するための手段として、金属製ドラムの外周面に絶縁
性材料を所定のパターンに埋設し、該ドラムを一定のス
ピードで回転させ、電気めっきにより所定の厚さの金属
層を形成し、該金属層をドラム外周面から剥離すること
により金属メッシュ箔を製造する方法において、該金属
箔がめっき液中より空気中に出た所から箔とドラムとの
剥離界面までの範囲を０℃〜１５℃の冷水で洗浄及び冷
却することを特徴とする金属メッシュ箔の製造法であ
る。
【０００６】本発明によれば、電気めっき中に発熱した
金属製ドラム、絶縁性材料、及び金属箔が洗浄・冷却さ
れ、箔と絶縁性材料、箔とドラムの密着力が極端に小さ
くなり、剥離時に埋め込んだ絶縁性材料が抜け落ちるこ
とがなく金属メッシュ箔を連続的に、かつ、長期に渡り
製造できる。
金属製ドラム、絶縁性材料、及び金属箔が洗浄・冷却さ
れ、箔と絶縁性材料、箔とドラムの密着力が極端に小さ
くなり、剥離時に埋め込んだ絶縁性材料が抜け落ちるこ
とがなく金属メッシュ箔を連続的に、かつ、長期に渡り
製造できる。
【０００７】以下、本発明の一例を図１により説明す
る。電解槽１の底部に陽極２を設け、その上部に絶縁性
材料を所定のパターンで埋設した金属製ドラム４が水平
回転できる様に配置される。該電解槽１にめっき液３が
所定の高さまで供給される。金属製ドラム４を一定のス
ピードで回転させながら、陰極として電流を流すと該ド
ラム４外周面にめっき液から還元された金属が所定の厚
さに析出する。該ドラム４の外周面と共にめっき液中か
ら空気中にでた金属メッシュ箔８は冷水シャワー６と該
冷水がめっき液に混入しないために設けられた遮蔽板７
の間で冷却及び洗浄され、巻き取られる。
る。電解槽１の底部に陽極２を設け、その上部に絶縁性
材料を所定のパターンで埋設した金属製ドラム４が水平
回転できる様に配置される。該電解槽１にめっき液３が
所定の高さまで供給される。金属製ドラム４を一定のス
ピードで回転させながら、陰極として電流を流すと該ド
ラム４外周面にめっき液から還元された金属が所定の厚
さに析出する。該ドラム４の外周面と共にめっき液中か
ら空気中にでた金属メッシュ箔８は冷水シャワー６と該
冷水がめっき液に混入しないために設けられた遮蔽板７
の間で冷却及び洗浄され、巻き取られる。
【０００８】電気めっき中の発熱は一般に知られるとこ
ろであるが、本発明による冷水工程がない場合、電気め
っき中に発熱した金属製ドラム、絶縁性材料及び金属箔
は空気中にさらされている間でも温度があまり下がらな
い状態で金属箔がドラムより剥離される。めっき液が高
温のときは特に顕著である。絶縁性材料として一般にエ
ポキシ樹脂やビニル樹脂が使用されるが、該樹脂は金属
製ドラムとの密着力を得るため、高耐熱性樹脂は使用さ
れない。よって高温では軟化状態と考えられる。そして
金属めっき層は最初のうちは導電部に析出するが、めっ
き時間と共に絶縁部に浸出していき（めっきの回り込
み）、埋め込まれた樹脂の上に金属めっき層が被った様
な状態になる。樹脂が軟化状態にある場合、めっき層と
樹脂に隙間がなく非常に大きな密着力が働いている。そ
して、金属めっき層がドラム外周面より剥離される時、
前記密着力のために金属製ドラムからの樹脂抜け落ち現
象が起こる。
ろであるが、本発明による冷水工程がない場合、電気め
っき中に発熱した金属製ドラム、絶縁性材料及び金属箔
は空気中にさらされている間でも温度があまり下がらな
い状態で金属箔がドラムより剥離される。めっき液が高
温のときは特に顕著である。絶縁性材料として一般にエ
ポキシ樹脂やビニル樹脂が使用されるが、該樹脂は金属
製ドラムとの密着力を得るため、高耐熱性樹脂は使用さ
れない。よって高温では軟化状態と考えられる。そして
金属めっき層は最初のうちは導電部に析出するが、めっ
き時間と共に絶縁部に浸出していき（めっきの回り込
み）、埋め込まれた樹脂の上に金属めっき層が被った様
な状態になる。樹脂が軟化状態にある場合、めっき層と
樹脂に隙間がなく非常に大きな密着力が働いている。そ
して、金属めっき層がドラム外周面より剥離される時、
前記密着力のために金属製ドラムからの樹脂抜け落ち現
象が起こる。
【０００９】本発明の冷却・洗浄工程を設けると金属め
っき層の剥離時には樹脂と金属めっき層は急激に冷やさ
れており、互いの冷却速度の違いにより、めっき層と樹
脂の間に隙間を生じさせ、密着力の大幅な減少が達成で
き、埋め込まれた樹脂が金属製ドラムより抜け落ちるこ
とがなくなり、メッシュの孔が塞がることがない連続し
た金属メッシュ箔を長期に渡り、安価に製造できるよう
になった。
っき層の剥離時には樹脂と金属めっき層は急激に冷やさ
れており、互いの冷却速度の違いにより、めっき層と樹
脂の間に隙間を生じさせ、密着力の大幅な減少が達成で
き、埋め込まれた樹脂が金属製ドラムより抜け落ちるこ
とがなくなり、メッシュの孔が塞がることがない連続し
た金属メッシュ箔を長期に渡り、安価に製造できるよう
になった。
【００１０】
実施例(1) 直径３００mmのドラムを使用し、以下の条件で２０μm
厚、４０メッシュで六角形の孔を有するニッケルメッシ
ュ箔を得た。 ドラム回転スピード ２５mm／min めっき液 スルファミン酸ニッケル ３５０ｇ／ｌ ほう酸 ４０ｇ／ｌ ｐＨ ５ 温度 ５０℃ 電流密度 ５Ａ／dm2 冷水温度 １５℃ 埋め込み樹脂 エポキシ樹脂 実施例(2) 実施例(1) のうち冷水温度のみ５℃とし、２０μm 厚さ
のニッケルメッシュ箔を得た。 比較例(1) 実施例(1) のうち温度２０〜２５℃（室温）の水を使用
して、２０μm 厚さのニッケルメッシュ箔を得た。 比較例(2) 実施例(1) のうち、冷水工程を除いた。
厚、４０メッシュで六角形の孔を有するニッケルメッシ
ュ箔を得た。 ドラム回転スピード ２５mm／min めっき液 スルファミン酸ニッケル ３５０ｇ／ｌ ほう酸 ４０ｇ／ｌ ｐＨ ５ 温度 ５０℃ 電流密度 ５Ａ／dm2 冷水温度 １５℃ 埋め込み樹脂 エポキシ樹脂 実施例(2) 実施例(1) のうち冷水温度のみ５℃とし、２０μm 厚さ
のニッケルメッシュ箔を得た。 比較例(1) 実施例(1) のうち温度２０〜２５℃（室温）の水を使用
して、２０μm 厚さのニッケルメッシュ箔を得た。 比較例(2) 実施例(1) のうち、冷水工程を除いた。
【００１１】上述した実施例及び比較例において、金属
製ドラムに埋設されたエポキシ樹脂がドラムより抜け落
ちるまでの箔長さを表１に示す。
製ドラムに埋設されたエポキシ樹脂がドラムより抜け落
ちるまでの箔長さを表１に示す。
【００１２】
【表１】
【００１３】以上のように、本発明によれば埋設された
樹脂が抜け落ちにくいことがわかる。なお、本発明は電
気めっきできる全ての金属について応用可能であり、実
施例に拘束されるものではない。
樹脂が抜け落ちにくいことがわかる。なお、本発明は電
気めっきできる全ての金属について応用可能であり、実
施例に拘束されるものではない。
【００１４】
【発明の効果】冷水をかけることにより、金属めっき層
と絶縁性材料との密着力が減少し、埋設された絶縁性材
料が金属性ドラムから抜け落ちることなく、長尺の安価
な金属メッシュ箔が連続的に製造できる。
と絶縁性材料との密着力が減少し、埋設された絶縁性材
料が金属性ドラムから抜け落ちることなく、長尺の安価
な金属メッシュ箔が連続的に製造できる。
【図１】本発明の実施例に係わる金属メッシュ箔製造装
置の垂直断面図である。
置の垂直断面図である。
１：電解槽 ２：陽極 ３：めっき液 ４：金属製ドラム ５：絶縁性材料（エポキシ樹脂） ６：冷水供給装置 ７：遮蔽板 ８：金属メッシュ箔
Claims (1)
- 【請求項１】 外周面に絶縁性材料を所定のパターンで
埋設した金属製ドラムを一定のスピードで回転させなが
ら電気めっきすることにより金属めっき層を形成し、該
ドラム外周面から剥離することにより連続した金属メッ
シュ箔を製造する方法において、該金属めっき層がめっ
き液中から空気中に出た所からドラムより剥離される界
面までの範囲を０℃〜１５℃の冷水で金属メッシュ層及
びドラム表面を洗浄することを特徴とする金属メッシュ
箔の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23702694A JPH08100288A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 金属メッシュ箔の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23702694A JPH08100288A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 金属メッシュ箔の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08100288A true JPH08100288A (ja) | 1996-04-16 |
Family
ID=17009298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23702694A Pending JPH08100288A (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 金属メッシュ箔の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08100288A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002038834A1 (en) * | 2000-11-13 | 2002-05-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Porous nickel foil for alkaline battery cathode, production method therefor and production device therefor |
| DE10229166A1 (de) * | 2002-06-28 | 2004-01-29 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung galvanisch abgeschiedener Antennen für RF-ID-Etiketten mittels selektiv eingebrachtem Kleber |
| KR100704685B1 (ko) * | 2005-03-26 | 2007-04-06 | 한국기계연구원 | 메쉬형 회전 음극드럼 도금법에 의한 연속 금속메쉬 제조장치 |
| KR100822092B1 (ko) * | 2007-02-07 | 2008-04-15 | 엘에스전선 주식회사 | 미세 회로용 동박 제조 방법 및 장치, 이를 이용하여제조된 동박 |
| KR101132339B1 (ko) * | 2009-09-28 | 2012-04-05 | (주)이모트 | 금속메쉬 연속제조 장치 및 방법 |
| CN104993153A (zh) * | 2015-07-13 | 2015-10-21 | 深圳市信宇人科技有限公司 | 一种微孔铜箔的制作方法、微孔铜箔及其制作设备 |
-
1994
- 1994-09-30 JP JP23702694A patent/JPH08100288A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002038834A1 (en) * | 2000-11-13 | 2002-05-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Porous nickel foil for alkaline battery cathode, production method therefor and production device therefor |
| US7998329B2 (en) | 2000-11-13 | 2011-08-16 | Panasonic Corporation | Porous nickel foil for negative electrode of alkaline battery, production method therefor and production device therefor |
| DE10229166A1 (de) * | 2002-06-28 | 2004-01-29 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung galvanisch abgeschiedener Antennen für RF-ID-Etiketten mittels selektiv eingebrachtem Kleber |
| WO2004003258A3 (de) * | 2002-06-28 | 2005-03-03 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur herstellung galvanisch abgeschiedener antennen für rf-id-etiketten mittels selektiv eingebrachtem kleber |
| DE10229166B4 (de) * | 2002-06-28 | 2006-03-09 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Metallschicht |
| KR100704685B1 (ko) * | 2005-03-26 | 2007-04-06 | 한국기계연구원 | 메쉬형 회전 음극드럼 도금법에 의한 연속 금속메쉬 제조장치 |
| KR100822092B1 (ko) * | 2007-02-07 | 2008-04-15 | 엘에스전선 주식회사 | 미세 회로용 동박 제조 방법 및 장치, 이를 이용하여제조된 동박 |
| KR101132339B1 (ko) * | 2009-09-28 | 2012-04-05 | (주)이모트 | 금속메쉬 연속제조 장치 및 방법 |
| CN104993153A (zh) * | 2015-07-13 | 2015-10-21 | 深圳市信宇人科技有限公司 | 一种微孔铜箔的制作方法、微孔铜箔及其制作设备 |
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