JPH08104540A - 不透明石英ガラスの製造方法 - Google Patents
不透明石英ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPH08104540A JPH08104540A JP25963594A JP25963594A JPH08104540A JP H08104540 A JPH08104540 A JP H08104540A JP 25963594 A JP25963594 A JP 25963594A JP 25963594 A JP25963594 A JP 25963594A JP H08104540 A JPH08104540 A JP H08104540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- opaque quartz
- heat
- silicon dioxide
- dioxide powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/09—Other methods of shaping glass by fusing powdered glass in a shaping mould
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
- C03B2201/03—Impurity concentration specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/80—Glass compositions containing bubbles or microbubbles, e.g. opaque quartz glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/10—Melting processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】耐熱性型枠内に石英ガラス管を挿入し、その内
部に粒径５０〜２００μｍ、嵩密度１．２〜１．６ｇ／
ｃｍ3の二酸化珪素粉を充填したのち、不活性雰囲気下
で焼結、溶融することを特徴とする気泡直径１０〜３０
０μｍ、気泡密度１００，０００〜１，０００，０００
個／ｃｍ2の独立気泡を含有する不透明石英ガラスの製
造方法。 【効果】本発明の製造方法では、微細な気泡が均一に分
散し、均質で耐熱性の高い不透明石英ガラスが製造でき
る。前記製造方法で得られた不透明石英ガラスは赤外線
散乱及び遮熱性に優れ、かつ高純度であるところから半
導体工業用熱処理炉や治具を形成する素材として有用で
ある。
部に粒径５０〜２００μｍ、嵩密度１．２〜１．６ｇ／
ｃｍ3の二酸化珪素粉を充填したのち、不活性雰囲気下
で焼結、溶融することを特徴とする気泡直径１０〜３０
０μｍ、気泡密度１００，０００〜１，０００，０００
個／ｃｍ2の独立気泡を含有する不透明石英ガラスの製
造方法。 【効果】本発明の製造方法では、微細な気泡が均一に分
散し、均質で耐熱性の高い不透明石英ガラスが製造でき
る。前記製造方法で得られた不透明石英ガラスは赤外線
散乱及び遮熱性に優れ、かつ高純度であるところから半
導体工業用熱処理炉や治具を形成する素材として有用で
ある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高純度で耐熱性及び遮
熱性に優れた不透明石英ガラス、特に熱処理炉の赤外線
散乱および遮熱材料として有用な不透明石英ガラスを効
率よく製造する方法に関する。
熱性に優れた不透明石英ガラス、特に熱処理炉の赤外線
散乱および遮熱材料として有用な不透明石英ガラスを効
率よく製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、石英ガラスは高い純度を有し、し
かも耐熱性に優れているところから半導体工業用の熱処
理炉や熱処理治具として用いられてきた。この半導体工
業用の熱処理炉にあっては炉内の温度分布を均一にする
ことが重要であり、その目的で特開平５−９００号公報
にみるように１００，０００個／ｃｍ3以下の気泡を含
有した不透明石英ガラスで炉芯管を作成したり、あるい
は実開平１−１６２２３４号公報に記載するようにシリ
コンウエハ−を載置するボ−トの両端に６０００個／ｃ
ｍ3未満の気泡を含有する不透明石英ガラスの熱線散乱
板が設けられたりしていた。
かも耐熱性に優れているところから半導体工業用の熱処
理炉や熱処理治具として用いられてきた。この半導体工
業用の熱処理炉にあっては炉内の温度分布を均一にする
ことが重要であり、その目的で特開平５−９００号公報
にみるように１００，０００個／ｃｍ3以下の気泡を含
有した不透明石英ガラスで炉芯管を作成したり、あるい
は実開平１−１６２２３４号公報に記載するようにシリ
コンウエハ−を載置するボ−トの両端に６０００個／ｃ
ｍ3未満の気泡を含有する不透明石英ガラスの熱線散乱
板が設けられたりしていた。
【０００３】上記不透明石英ガラス板の製造には中実な
不透明石英ガラスブロックを板状に切り出すのが効率的
であり、そのため原料の二酸化珪素粉を耐熱性型枠に充
填した後に、電気炉で加熱溶融して不透明石英ガラスブ
ロックを製造する方法（以下充填式溶融法という）が採
用されてきた。
不透明石英ガラスブロックを板状に切り出すのが効率的
であり、そのため原料の二酸化珪素粉を耐熱性型枠に充
填した後に、電気炉で加熱溶融して不透明石英ガラスブ
ロックを製造する方法（以下充填式溶融法という）が採
用されてきた。
【０００４】ところが、上記充填式溶融法ではグラファ
イト等の耐熱性型枠内に石英粉を充填し、それを水酸基
の混入の少ない電気溶融法で溶融するため、耐熱性型枠
から不純物がガラス中に混入し異常気泡を発生させた
り、或は原料焼結時に原料が崩れ落ちて不透明石英ガラ
スに亀裂を発生するという欠点があった。
イト等の耐熱性型枠内に石英粉を充填し、それを水酸基
の混入の少ない電気溶融法で溶融するため、耐熱性型枠
から不純物がガラス中に混入し異常気泡を発生させた
り、或は原料焼結時に原料が崩れ落ちて不透明石英ガラ
スに亀裂を発生するという欠点があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】こうした問題点を解決
すべく本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、耐熱性型
枠内に石英ガラス管を挿入し、その内部に特定の二酸化
珪素粉を充填し、それを焼結、溶融することで上記問題
を解決できることを見出し、本発明を完成したものであ
る。すなわち
すべく本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、耐熱性型
枠内に石英ガラス管を挿入し、その内部に特定の二酸化
珪素粉を充填し、それを焼結、溶融することで上記問題
を解決できることを見出し、本発明を完成したものであ
る。すなわち
【０００６】本発明は、高純度で耐熱性及び遮熱性に優
れた不透明石英ガラスを効率よく製造する方法を提供す
ることを目的とする。
れた不透明石英ガラスを効率よく製造する方法を提供す
ることを目的とする。
【０００７】また、本発明は、異常気泡を包含せず、し
かも亀裂の発生のない均質で中実な不透明石英ガラスを
製造する方法を提供することを目的とする。
かも亀裂の発生のない均質で中実な不透明石英ガラスを
製造する方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、耐熱性型枠内に石英ガラス管を挿入し、その内部
に粒径５０〜２００μｍ、嵩密度１．２〜１．６ｇ／ｃ
ｍ3の二酸化珪素粉を充填したのち、不活性雰囲気下で
焼結、溶融することを特徴とする気泡直径１０〜３００
μｍ、気泡密度１００，０００〜１，０００，０００個
／ｃｍ2の気泡を含有する不透明石英ガラスの製造方法
に係る。
明は、耐熱性型枠内に石英ガラス管を挿入し、その内部
に粒径５０〜２００μｍ、嵩密度１．２〜１．６ｇ／ｃ
ｍ3の二酸化珪素粉を充填したのち、不活性雰囲気下で
焼結、溶融することを特徴とする気泡直径１０〜３００
μｍ、気泡密度１００，０００〜１，０００，０００個
／ｃｍ2の気泡を含有する不透明石英ガラスの製造方法
に係る。
【０００９】本発明の製造方法で使用する二酸化珪素粉
は、天然結晶質石英粉及び非晶質粉であって、例えば米
国特許第４，９８３，３７０号明細書に記載の純化法等
でＮａ、Ｋのアルカリ金属元素の濃度を夫々０．５ｐｐ
ｍ以下、Ｆｅ元素濃度を０．２ｐｐｍ以下、Ｍｇ元素濃
度を０．１ｐｐｍ以下、Ｃｕ元素濃度を０．０５ｐｐｍ
以下に純化され、粒度５０〜２００μｍ、嵩密度１．２
〜１．５ｇ／ｃｍ3に調製された二酸化珪素粉である。
二酸化珪素粉の純度が前記範囲を超えると高純度化した
半導体用熱処理炉を形成する不透明石英ガラスとして不
適であり、また粒度が５０μｍ未満では細か過ぎ良好な
不透明化が達成できず、粒度が２００μｍを超えると大
きな気泡が生じ遮熱性に劣る。さらに、嵩密度が１．２
ｇ／ｃｍ3未満では粉体層が断熱材となり焼結が中心ま
で進まず、外周部だけが焼結され、中心部が未溶融とな
り中実な不透明石英ガラスとならず、嵩密度が１．５ｇ
／ｃｍ3を超える二酸化珪素粉は前記粒度範囲内で調製
することは困難である。前記の純度、粒度及び嵩密度に
調節された二酸化珪素粉を加熱溶融炉内で不活性ガス雰
囲気下、該二酸化珪素粉の溶融温度以下で焼結、溶融す
ると気泡直径１０〜３００μｍ、気泡密度１００，００
０〜１，０００，０００個／ｃｍ3の独立気泡が均一に
分散し、嵩密度１．７〜２．１５ｇ／ｃｍ3の不透明石
英ガラスが得られる。前記不透明石英ガラスは、耐熱性
が高く、高純度で、その上独立気泡が均一に分散してい
るところから遮熱性に優れる。気泡直径及び気泡密度が
前記範囲を逸脱すると、遮熱性が劣るようになり、また
嵩密度が１．７ｇ／ｃｍ3未満では、気泡の数が多く石
英ガラスの機械的強度が低下し、嵩密度が２．１５ｇ／
ｃｍ3を超えると透明度が増し光の散乱効果が低下し遮
熱材としての作用が劣る。
は、天然結晶質石英粉及び非晶質粉であって、例えば米
国特許第４，９８３，３７０号明細書に記載の純化法等
でＮａ、Ｋのアルカリ金属元素の濃度を夫々０．５ｐｐ
ｍ以下、Ｆｅ元素濃度を０．２ｐｐｍ以下、Ｍｇ元素濃
度を０．１ｐｐｍ以下、Ｃｕ元素濃度を０．０５ｐｐｍ
以下に純化され、粒度５０〜２００μｍ、嵩密度１．２
〜１．５ｇ／ｃｍ3に調製された二酸化珪素粉である。
二酸化珪素粉の純度が前記範囲を超えると高純度化した
半導体用熱処理炉を形成する不透明石英ガラスとして不
適であり、また粒度が５０μｍ未満では細か過ぎ良好な
不透明化が達成できず、粒度が２００μｍを超えると大
きな気泡が生じ遮熱性に劣る。さらに、嵩密度が１．２
ｇ／ｃｍ3未満では粉体層が断熱材となり焼結が中心ま
で進まず、外周部だけが焼結され、中心部が未溶融とな
り中実な不透明石英ガラスとならず、嵩密度が１．５ｇ
／ｃｍ3を超える二酸化珪素粉は前記粒度範囲内で調製
することは困難である。前記の純度、粒度及び嵩密度に
調節された二酸化珪素粉を加熱溶融炉内で不活性ガス雰
囲気下、該二酸化珪素粉の溶融温度以下で焼結、溶融す
ると気泡直径１０〜３００μｍ、気泡密度１００，００
０〜１，０００，０００個／ｃｍ3の独立気泡が均一に
分散し、嵩密度１．７〜２．１５ｇ／ｃｍ3の不透明石
英ガラスが得られる。前記不透明石英ガラスは、耐熱性
が高く、高純度で、その上独立気泡が均一に分散してい
るところから遮熱性に優れる。気泡直径及び気泡密度が
前記範囲を逸脱すると、遮熱性が劣るようになり、また
嵩密度が１．７ｇ／ｃｍ3未満では、気泡の数が多く石
英ガラスの機械的強度が低下し、嵩密度が２．１５ｇ／
ｃｍ3を超えると透明度が増し光の散乱効果が低下し遮
熱材としての作用が劣る。
【００１０】上記製造方法で石英ガラス管が挿入される
耐熱性型枠としてはグラファイト型枠が好ましく、また
焼結、溶融する加熱溶融炉としては、ＯＨ基の混入の少
ない電気溶融炉、例えば、高純度カーボン、炭化珪素、
窒化珪素等からなる耐熱型又は耐熱ケースを有する抵抗
加熱式の減圧電気炉が好ましく、特に高純度のグラファ
イトで作成された電気炉が好適である。
耐熱性型枠としてはグラファイト型枠が好ましく、また
焼結、溶融する加熱溶融炉としては、ＯＨ基の混入の少
ない電気溶融炉、例えば、高純度カーボン、炭化珪素、
窒化珪素等からなる耐熱型又は耐熱ケースを有する抵抗
加熱式の減圧電気炉が好ましく、特に高純度のグラファ
イトで作成された電気炉が好適である。
【００１１】上記二酸化珪素粉をガラス化する焼結、溶
融する温度としては１，６００〜２，０００℃、好まし
くは１，７００〜１，８００℃がよい。温度が１，６０
０℃未満では石英粉の溶融が十分に得られず、ガラス体
にクラックが発生する。逆に、溶融温度が、２，０００
℃を超えると溶融が進み過ぎて軟化し、ガラス体中の気
泡が連通し気泡の独立化が低くなる。
融する温度としては１，６００〜２，０００℃、好まし
くは１，７００〜１，８００℃がよい。温度が１，６０
０℃未満では石英粉の溶融が十分に得られず、ガラス体
にクラックが発生する。逆に、溶融温度が、２，０００
℃を超えると溶融が進み過ぎて軟化し、ガラス体中の気
泡が連通し気泡の独立化が低くなる。
【００１２】上記温度範囲で加熱すると嵩密度１．２〜
１．５ｇ／ｃｍ3を有する二酸化珪素粉は１０〜２０％
収縮する。この収縮により型枠と二酸化珪素粉層との間
にすき間が生じ、そこに二酸化珪素粉層の上部から二酸
化珪素粉が落下するいわゆる粉落ちが起こり不透明石英
ガラスに亀裂が入る。本発明では二酸化珪素粉が石英ガ
ラス管内に充填されているので前記温度に加熱される
と、石英ガラス管の粘度ηが例えば１６５０℃で１０8
ポイズ程度となるように低下し、その自重で変形し前記
すき間を埋めることになる。そのため本発明で得られた
不透明石英ガラスには亀裂が入ることがない。また二酸
化珪素粉を石英ガラスが保護しているのでグラファイト
の汚染物質が不透明石英ガラスに影響することがない。
１．５ｇ／ｃｍ3を有する二酸化珪素粉は１０〜２０％
収縮する。この収縮により型枠と二酸化珪素粉層との間
にすき間が生じ、そこに二酸化珪素粉層の上部から二酸
化珪素粉が落下するいわゆる粉落ちが起こり不透明石英
ガラスに亀裂が入る。本発明では二酸化珪素粉が石英ガ
ラス管内に充填されているので前記温度に加熱される
と、石英ガラス管の粘度ηが例えば１６５０℃で１０8
ポイズ程度となるように低下し、その自重で変形し前記
すき間を埋めることになる。そのため本発明で得られた
不透明石英ガラスには亀裂が入ることがない。また二酸
化珪素粉を石英ガラスが保護しているのでグラファイト
の汚染物質が不透明石英ガラスに影響することがない。
【００１３】上記焼結、溶融時に使用する不活性ガスと
しては窒素ガスがよい。この不活性ガス雰囲気下で焼結
することにより活性なガスが不活性ガスと置換され気泡
中の活性ガスが少なくなる。
しては窒素ガスがよい。この不活性ガス雰囲気下で焼結
することにより活性なガスが不活性ガスと置換され気泡
中の活性ガスが少なくなる。
【００１４】
【実施例】以下に本発明を具体例に従って詳細に説明す
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１５】また、本発明でいう気泡密度とはＤＩＮ５
８９２７に準じ、一定体積の不透明石英ガラスの薄片を
透過光で写真に撮り、含まれている気泡の個数を数え、
その個数を不透明石英ガラス１ｃｍ3に換算した値であ
る。
８９２７に準じ、一定体積の不透明石英ガラスの薄片を
透過光で写真に撮り、含まれている気泡の個数を数え、
その個数を不透明石英ガラス１ｃｍ3に換算した値であ
る。
【００１６】実施例１ 図１に示す内径２７０ｍｍ、高さ３００ｍｍのグラファ
イト製型枠内２に外径２７０ｍｍ、肉厚４ｍｍ、高さ３
００ｍｍの石英ガラス管３を挿入した。この石英ガラス
管３の内部に粒径が５０〜２００μｍ、平均粒径が約１
００μｍ、嵩密度１．４ｇ／ｃｍ3の天然石英結晶粉１
を充填しヒーター５付き電気炉４内に設置し、１０〜２
ｔｏｒｒ以下に真空排気して粒子間に残留している空気
を除去した。次いで、炉内を窒素で真空破壊し、５ｌ／
ｍｉｎの流量で窒素ガスを流しながら１，２００℃まで
を１２０分で、１，２００℃から１，６３０℃までを９
０分で、１，６３０℃から１，７５０℃までを２４０分
で昇温させ、次いで１７５０℃に保持しながら６０分加
熱した後、加熱を止めて室温まで冷却し、不透明石英ガ
ラスブロックを取り出した。得られた不透明石英ガラス
ブロックから約４ｍｍの円板を切り出し、表面を酸水素
火炎にて焼き仕上げサンプルを作成した。そのサンプル
の２μｍの赤外線透過率を測定したところ、透過率が５
％以下であり、また異常な発泡や異物は発見できなかっ
た。
イト製型枠内２に外径２７０ｍｍ、肉厚４ｍｍ、高さ３
００ｍｍの石英ガラス管３を挿入した。この石英ガラス
管３の内部に粒径が５０〜２００μｍ、平均粒径が約１
００μｍ、嵩密度１．４ｇ／ｃｍ3の天然石英結晶粉１
を充填しヒーター５付き電気炉４内に設置し、１０〜２
ｔｏｒｒ以下に真空排気して粒子間に残留している空気
を除去した。次いで、炉内を窒素で真空破壊し、５ｌ／
ｍｉｎの流量で窒素ガスを流しながら１，２００℃まで
を１２０分で、１，２００℃から１，６３０℃までを９
０分で、１，６３０℃から１，７５０℃までを２４０分
で昇温させ、次いで１７５０℃に保持しながら６０分加
熱した後、加熱を止めて室温まで冷却し、不透明石英ガ
ラスブロックを取り出した。得られた不透明石英ガラス
ブロックから約４ｍｍの円板を切り出し、表面を酸水素
火炎にて焼き仕上げサンプルを作成した。そのサンプル
の２μｍの赤外線透過率を測定したところ、透過率が５
％以下であり、また異常な発泡や異物は発見できなかっ
た。
【００１７】上記円板についてその外周部及び中心部の
不純物含有量を測定したところ表１のとおりであった。
不純物含有量を測定したところ表１のとおりであった。
【００１８】実施例２ 実施例１において粒度が１００μｍ以下、嵩密度が１．
２ｇ／ｃｍ3の天然石英結晶粉を使用する以外同様にし
て、不透明石英ガラス製造した。得られた不透明石英ガ
ラスブロックから円板を切り出しサンプルを作成し、実
施例１と同様に赤外線の透過率を測定したところ、透過
率は５％以下であったが、微細な気泡の塊の白点が１５
ヶ確認された。
２ｇ／ｃｍ3の天然石英結晶粉を使用する以外同様にし
て、不透明石英ガラス製造した。得られた不透明石英ガ
ラスブロックから円板を切り出しサンプルを作成し、実
施例１と同様に赤外線の透過率を測定したところ、透過
率は５％以下であったが、微細な気泡の塊の白点が１５
ヶ確認された。
【００１９】上記円板についてその外周部及び中心部の
不純物含有量を測定したところ表１のとおりであった。
不純物含有量を測定したところ表１のとおりであった。
【００２０】比較例１ 石英ガラス管を使用しないで実施例１の条件で不透明石
英ガラスを製造した。得られた不透明石英ガラスブロッ
クから円板を切り出しサンプルを作成し、実施例１と同
様に赤外線の透過率を測定したところ、不透明石英ガラ
ス円板の８０％が透過率５％以下であったが、残りの２
０％は透過率が５〜２０％であった。また周縁部に直径
３ｍｍ以上の気泡が２０ヶ確認された。この石英ガラス
円板について外周部及び中心部の不純物含有量を測定し
た。その結果は表１のとおりであった。
英ガラスを製造した。得られた不透明石英ガラスブロッ
クから円板を切り出しサンプルを作成し、実施例１と同
様に赤外線の透過率を測定したところ、不透明石英ガラ
ス円板の８０％が透過率５％以下であったが、残りの２
０％は透過率が５〜２０％であった。また周縁部に直径
３ｍｍ以上の気泡が２０ヶ確認された。この石英ガラス
円板について外周部及び中心部の不純物含有量を測定し
た。その結果は表１のとおりであった。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【発明の効果】本発明の製造方法では、微細な気泡が均
一に分散し、均質で耐熱性の高い不透明石英ガラスが製
造できる。前記製造方法で得られた不透明石英ガラスは
赤外線散乱及び遮熱性に優れ、かつ高純度であるところ
から半導体工業用熱処理炉や治具を形成する素材として
有用である。
一に分散し、均質で耐熱性の高い不透明石英ガラスが製
造できる。前記製造方法で得られた不透明石英ガラスは
赤外線散乱及び遮熱性に優れ、かつ高純度であるところ
から半導体工業用熱処理炉や治具を形成する素材として
有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における天然石英結晶粉を充填した電気
炉の概略断面図である。
炉の概略断面図である。
１ 天然石英結晶粉 ２ グラファイト型枠 ３ 石英ガラス管 ４ 電気炉 ５ ヒーター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関根 仁 福島県郡山市田村町金屋字川久保88 信越 石英株式会社石英技術研究所内 (72)発明者 横田 透 福島県郡山市田村町金屋字川久保88 信越 石英株式会社石英技術研究所内 (72)発明者 神山 英子 福島県郡山市田村町金屋字川久保88 信越 石英株式会社石英技術研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】耐熱性型枠内に石英ガラス管を挿入し、そ
の内部に粒径５０〜２００μｍ、嵩密度１．２〜１．６
ｇ／ｃｍ3の二酸化珪素粉を充填したのち、不活性雰囲
気下で焼結、溶融することを特徴とする不透明石英ガラ
スの製造方法。 - 【請求項２】不透明石英ガラスの気泡直径が１０〜３０
０μｍ、気泡密度が１００，０００〜１，０００，００
０個／ｃｍ2であることを特徴とする請求項１記載の不
透明石英ガラスの製造方法。 - 【請求項３】二酸化珪素粉のナトリウムおよびカリウム
元素濃度が０．５ｐｐｍ以下、Ｆｅ元素濃度が０．２ｐ
ｐｍ以下、Ｍｇ元素濃度が０．１ｐｐｍ以下、Ｃｕ元素
濃度が０．０５ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求
項１または２記載の不透明石英ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25963594A JP3449654B2 (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 不透明石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25963594A JP3449654B2 (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 不透明石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08104540A true JPH08104540A (ja) | 1996-04-23 |
| JP3449654B2 JP3449654B2 (ja) | 2003-09-22 |
Family
ID=17336808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25963594A Expired - Fee Related JP3449654B2 (ja) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | 不透明石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3449654B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0816297A1 (en) * | 1996-07-04 | 1998-01-07 | Tosoh Corporation | Opaque quartz glass and process for production thereof |
| US5772714A (en) * | 1995-01-25 | 1998-06-30 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Process for producing opaque silica glass |
| EP0909743A1 (en) * | 1997-10-16 | 1999-04-21 | Tosoh Corporation | Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same |
| US6405563B1 (en) | 1997-10-16 | 2002-06-18 | Tosoh Corporation | Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same |
| JP2021024750A (ja) * | 2019-07-31 | 2021-02-22 | 東ソ−・エスジ−エム株式会社 | 多層構造石英ガラス材の製造方法 |
| CN117303719A (zh) * | 2023-08-17 | 2023-12-29 | 浙江大学 | 一种高纯不透明石英玻璃锭及其制备方法 |
| CN119241046A (zh) * | 2024-09-26 | 2025-01-03 | 浙江大学杭州国际科创中心 | 不透明石英玻璃及其制备方法 |
-
1994
- 1994-09-30 JP JP25963594A patent/JP3449654B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5772714A (en) * | 1995-01-25 | 1998-06-30 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Process for producing opaque silica glass |
| US5977000A (en) * | 1995-01-25 | 1999-11-02 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | High purity opaque silica glass |
| EP0816297A1 (en) * | 1996-07-04 | 1998-01-07 | Tosoh Corporation | Opaque quartz glass and process for production thereof |
| EP0909743A1 (en) * | 1997-10-16 | 1999-04-21 | Tosoh Corporation | Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same |
| US6312775B1 (en) | 1997-10-16 | 2001-11-06 | Tosoh Quartz Corporation | Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same |
| US6405563B1 (en) | 1997-10-16 | 2002-06-18 | Tosoh Corporation | Opaque silica glass article having transparent portion and process for producing same |
| JP2021024750A (ja) * | 2019-07-31 | 2021-02-22 | 東ソ−・エスジ−エム株式会社 | 多層構造石英ガラス材の製造方法 |
| CN117303719A (zh) * | 2023-08-17 | 2023-12-29 | 浙江大学 | 一种高纯不透明石英玻璃锭及其制备方法 |
| CN119241046A (zh) * | 2024-09-26 | 2025-01-03 | 浙江大学杭州国际科创中心 | 不透明石英玻璃及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3449654B2 (ja) | 2003-09-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5977000A (en) | High purity opaque silica glass | |
| JP4951040B2 (ja) | シリカ容器及びその製造方法 | |
| JPWO2008069194A1 (ja) | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 | |
| JPWO2010137221A1 (ja) | シリカ容器及びその製造方法 | |
| JP2013121902A (ja) | 単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 | |
| JP4014724B2 (ja) | シリカガラスの製造方法 | |
| JP3449654B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
| JP3368547B2 (ja) | 不透明石英ガラスおよびその製造方法 | |
| JPS62212234A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JP2829227B2 (ja) | 不透明石英ガラス | |
| JPS62105936A (ja) | 平板状石英ガラスの製造方法 | |
| JP3478616B2 (ja) | 石英ガラスブロック複合体の製造方法 | |
| JP3394320B2 (ja) | 透明層と不透明層とを有する積層石英ガラス部材の製造方法 | |
| JPS62212236A (ja) | ガラスの製造法 | |
| EP0728709B1 (en) | Opaque silica glass and the production process therefor | |
| JP3050352B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
| JP3050353B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
| JP3187510B2 (ja) | 半導体ウエハ熱処理用部材の製造方法 | |
| JP4035793B2 (ja) | 透明部を有する不透明石英ガラスリングの製造方法 | |
| JP3050351B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
| JP3665664B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
| JP3048800B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
| JP3693772B2 (ja) | 不透明石英ガラス円筒の製造方法 | |
| JP3121733B2 (ja) | 高純度合成クリストバライト粉、その製造方法及びシリカガラス | |
| JP3371399B2 (ja) | クリストバライト結晶相含有シリカガラスおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080711 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080711 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090711 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090711 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100711 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |