JPH08106082A - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示素子及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH08106082A JPH08106082A JP24166694A JP24166694A JPH08106082A JP H08106082 A JPH08106082 A JP H08106082A JP 24166694 A JP24166694 A JP 24166694A JP 24166694 A JP24166694 A JP 24166694A JP H08106082 A JPH08106082 A JP H08106082A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- display device
- substrate
- light control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 印刷法にて製造されたＩＴＯ電極層を有する
少なくとも一方が透明な２枚のガラス基板と、これらの
基板間に支持された調光層を有し、該調光層が、液晶材
料及び透明性固体物質から成る液晶表示素子。更に、Ｉ
ＴＯ電極層の表面をポリアミドもしくはポリイミドによ
りオーバーコートし保護層を設けたガラス基板を用いた
液晶表示素子。 【効果】 印刷法によるＩＴＯ電極付きガラス基板を用
いることにより、液晶表示素子の製造コストの低減を図
ることができる。また、印刷法によるＩＴＯ電極付きガ
ラス基板の表面に、絶縁性の保護膜を設けることによ
り、大型の液晶表示素子の均一性と耐久性を付与でき、
安価な光散乱型液晶表示素子を提供することができる。
少なくとも一方が透明な２枚のガラス基板と、これらの
基板間に支持された調光層を有し、該調光層が、液晶材
料及び透明性固体物質から成る液晶表示素子。更に、Ｉ
ＴＯ電極層の表面をポリアミドもしくはポリイミドによ
りオーバーコートし保護層を設けたガラス基板を用いた
液晶表示素子。 【効果】 印刷法によるＩＴＯ電極付きガラス基板を用
いることにより、液晶表示素子の製造コストの低減を図
ることができる。また、印刷法によるＩＴＯ電極付きガ
ラス基板の表面に、絶縁性の保護膜を設けることによ
り、大型の液晶表示素子の均一性と耐久性を付与でき、
安価な光散乱型液晶表示素子を提供することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大面積になし得る液晶
表示素子に関するもので、更に詳しくは、視野の遮断、
開放及び明りもしくは照明光の透過制限、遮断、透過を
電気的又は熱的に操作し得るものであって、建物の窓や
ショーウインドウなどで視野遮断のスクリーンや、採光
コントロールのカーテンに利用されると共に、文字や図
形を表示し、高速応答性を以って電気的に表示を切り換
えることによって、ＯＡ機器のディスプレイ等のハイイ
ンフォーメーション表示体や広告板、案内板、装飾表示
板等として利用される液晶表示素子に関するものであ
る。
表示素子に関するもので、更に詳しくは、視野の遮断、
開放及び明りもしくは照明光の透過制限、遮断、透過を
電気的又は熱的に操作し得るものであって、建物の窓や
ショーウインドウなどで視野遮断のスクリーンや、採光
コントロールのカーテンに利用されると共に、文字や図
形を表示し、高速応答性を以って電気的に表示を切り換
えることによって、ＯＡ機器のディスプレイ等のハイイ
ンフォーメーション表示体や広告板、案内板、装飾表示
板等として利用される液晶表示素子に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子に要求される重要な特性で
ある低電圧駆動特性、高コントラスト、時分割駆動を可
能にするため、特開平１−１９８７２５号には、液晶材
料が連続層を形成し、この連続層中に、三次元網目状構
造を有する高分子物質を形成して成る液晶表示素子が開
示されている。
ある低電圧駆動特性、高コントラスト、時分割駆動を可
能にするため、特開平１−１９８７２５号には、液晶材
料が連続層を形成し、この連続層中に、三次元網目状構
造を有する高分子物質を形成して成る液晶表示素子が開
示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような液晶表示素
子に用いるＩＴＯ電極付きガラス基板の製法としては、
金属酸化物を真空下高温で蒸発させ基板に付着させる真
空蒸着法、金属化合物を真空中で蒸発させ酸素ガスを吹
き込み基板上で反応・成膜させるＣＶＤ法、真空容器中
で気体をイオン化加速して固体試料に衝突させ基板表面
に成膜するスパッタ法、プラズマグロー放電中・真空下
で加熱された酸化物をイオン化し基板上に析出させるイ
オンプレーティング法、等が実施されているがいずれも
真空工程が必要とされ、基板のコスト高の要因となって
いる。
子に用いるＩＴＯ電極付きガラス基板の製法としては、
金属酸化物を真空下高温で蒸発させ基板に付着させる真
空蒸着法、金属化合物を真空中で蒸発させ酸素ガスを吹
き込み基板上で反応・成膜させるＣＶＤ法、真空容器中
で気体をイオン化加速して固体試料に衝突させ基板表面
に成膜するスパッタ法、プラズマグロー放電中・真空下
で加熱された酸化物をイオン化し基板上に析出させるイ
オンプレーティング法、等が実施されているがいずれも
真空工程が必要とされ、基板のコスト高の要因となって
いる。
【０００４】このような方法で製造されるＩＴＯ電極付
きガラス基板を用いている液晶表示素子の価格を安価に
することには問題があった。本発明が解決しようとする
課題は、これら高価格のＩＴＯ電極付きガラス基板を用
いず、安価な液晶表示素子を提供することにある。
きガラス基板を用いている液晶表示素子の価格を安価に
することには問題があった。本発明が解決しようとする
課題は、これら高価格のＩＴＯ電極付きガラス基板を用
いず、安価な液晶表示素子を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、電極層を有する少なくとも一方が透明な２
枚の基板と、これらの基板間に支持された調光層を有
し、該調光層が、液晶材料及び透明性固体物質から成る
液晶表示素子において、電極層を有する基板が、印刷法
にて製造されたＩＴＯ電極付きガラス基板であることを
特徴とする液晶表示素子を提供する。
するために、電極層を有する少なくとも一方が透明な２
枚の基板と、これらの基板間に支持された調光層を有
し、該調光層が、液晶材料及び透明性固体物質から成る
液晶表示素子において、電極層を有する基板が、印刷法
にて製造されたＩＴＯ電極付きガラス基板であることを
特徴とする液晶表示素子を提供する。
【０００６】本発明の液晶表示素子は、例えば、次の方
法によって製造することができる。即ち、電極層を有す
る少なくとも一方が透明な２枚の基板と、これらの基板
間に、（１）液晶材料、（２）重合性化合物及び重合開
始剤を含有する重合性組成物を含有する調光層形成材料
を挟持した後、紫外線を照射することにより重合性化合
物を重合させて、２枚の基板間に液晶材料及び透明性固
体物質を含有する調光層を形成する液晶表示素子の製造
方法において、電極層を有する基板として、印刷された
ＩＴＯ電極層を有する基板を使用することを特徴とする
液晶表示素子の製造方法。
法によって製造することができる。即ち、電極層を有す
る少なくとも一方が透明な２枚の基板と、これらの基板
間に、（１）液晶材料、（２）重合性化合物及び重合開
始剤を含有する重合性組成物を含有する調光層形成材料
を挟持した後、紫外線を照射することにより重合性化合
物を重合させて、２枚の基板間に液晶材料及び透明性固
体物質を含有する調光層を形成する液晶表示素子の製造
方法において、電極層を有する基板として、印刷された
ＩＴＯ電極層を有する基板を使用することを特徴とする
液晶表示素子の製造方法。
【０００７】本発明で使用する電極層を有する基板は、
例えば、インジウムと錫の有機化合物をバインダーと高
沸点溶剤中に溶かして成るＩＴＯインキをガラス板上へ
スクリーン印刷し、その後、焼成することにより、ガラ
ス基板上に透明導電性膜を成膜する方法により製造され
る。この方法は、真空工程を必要とせず、安価な基板の
供給が可能である。
例えば、インジウムと錫の有機化合物をバインダーと高
沸点溶剤中に溶かして成るＩＴＯインキをガラス板上へ
スクリーン印刷し、その後、焼成することにより、ガラ
ス基板上に透明導電性膜を成膜する方法により製造され
る。この方法は、真空工程を必要とせず、安価な基板の
供給が可能である。
【０００８】また、印刷法によるＩＴＯ電極付きガラス
基板をそのまま用いてもよいが、調光層形成材料の組成
・基板サイズ・注入条件等により、調光層形成材料が注
入時にＩＴＯ面で組成の分離を生じ、でき上がった液晶
表示素子の調光層の一部にムラが発生する現象が見られ
ることがある。そこで、ＩＴＯ電極層の上に保護膜を設
けることにより、調光層形成材料の組成の分離を防止
し、大形パネル作成時に生じ易い外観上の白濁の不均一
性を改良すると共に、保護層を設けることにより液晶表
示素子の耐久性の向上を併せて付与することができる。
基板をそのまま用いてもよいが、調光層形成材料の組成
・基板サイズ・注入条件等により、調光層形成材料が注
入時にＩＴＯ面で組成の分離を生じ、でき上がった液晶
表示素子の調光層の一部にムラが発生する現象が見られ
ることがある。そこで、ＩＴＯ電極層の上に保護膜を設
けることにより、調光層形成材料の組成の分離を防止
し、大形パネル作成時に生じ易い外観上の白濁の不均一
性を改良すると共に、保護層を設けることにより液晶表
示素子の耐久性の向上を併せて付与することができる。
【０００９】そのような保護膜としては、有機高分子化
合物（例えば、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル、セルロース等）、あるいは無機化合物（酸化
珪素、酸化アルミニウム、酸化イットリウム等）、等の
薄膜や、有機物をバインダーとした微細な無機物の薄
膜、シランカップリング剤による表面のコート等が挙げ
られるが、大型パネル作製時の外観上の均一性、耐久性
の点よりポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂が特に好まし
い。
合物（例えば、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル、セルロース等）、あるいは無機化合物（酸化
珪素、酸化アルミニウム、酸化イットリウム等）、等の
薄膜や、有機物をバインダーとした微細な無機物の薄
膜、シランカップリング剤による表面のコート等が挙げ
られるが、大型パネル作製時の外観上の均一性、耐久性
の点よりポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂が特に好まし
い。
【００１０】保護膜の形成法としては、例えば、有機物
や有機物と無機物とを複合させた場合は、モノマーや溶
剤に溶かしたポリマー、無機物を分散させた溶液をスピ
ンコート法・バーコート法・印刷法等でガラス基板上に
塗布した後、硬化あるいは溶剤をとばして薄膜を形成す
る。金属や無機化合物の場合は、蒸着法やスパッタ法が
よく用いられる。保護膜の膜厚は、０．０１〜２μｍの
範囲が好ましく、０．０５〜０．５μｍの範囲が電極層
の保護・耐久性の付与・ムラの防止の点から特に好まし
い。
や有機物と無機物とを複合させた場合は、モノマーや溶
剤に溶かしたポリマー、無機物を分散させた溶液をスピ
ンコート法・バーコート法・印刷法等でガラス基板上に
塗布した後、硬化あるいは溶剤をとばして薄膜を形成す
る。金属や無機化合物の場合は、蒸着法やスパッタ法が
よく用いられる。保護膜の膜厚は、０．０１〜２μｍの
範囲が好ましく、０．０５〜０．５μｍの範囲が電極層
の保護・耐久性の付与・ムラの防止の点から特に好まし
い。
【００１１】このようにして作成した基板を用いて空セ
ルを作成し、空セルに調光層形成材料を注入するが、注
入方法としては、常圧あるいは真空下での毛管現象を利
用した注入法と、空セルを真空中に置き、注入孔部を調
光層形成材料に漬けた状態のまま常圧に戻す真空注入法
があるが、注入時間の短さ、サンプル面積の大きさ、で
き上がりパネルの品質の点等から真空注入法が好まし
い。
ルを作成し、空セルに調光層形成材料を注入するが、注
入方法としては、常圧あるいは真空下での毛管現象を利
用した注入法と、空セルを真空中に置き、注入孔部を調
光層形成材料に漬けた状態のまま常圧に戻す真空注入法
があるが、注入時間の短さ、サンプル面積の大きさ、で
き上がりパネルの品質の点等から真空注入法が好まし
い。
【００１２】空セルの作製には、２枚の基板間に、通常
周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを
介在させるのが望ましく、スペーサーとしては、例え
ば、マイラー、アルミナ、ポリマ−ビ−ズ等種々の液晶
セル用のものを用いることができる。
周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを
介在させるのが望ましく、スペーサーとしては、例え
ば、マイラー、アルミナ、ポリマ−ビ−ズ等種々の液晶
セル用のものを用いることができる。
【００１３】スペーサーを挟み込んだ２枚の基板は、注
入孔部を残し周辺部を熱硬化型、あるいは紫外線硬化型
のシール剤を用いシールし空セルを作製する。
入孔部を残し周辺部を熱硬化型、あるいは紫外線硬化型
のシール剤を用いシールし空セルを作製する。
【００１４】本発明で使用する液晶材料は、単一の液晶
性化合物であることを要しないのは勿論で、２種以上の
液晶化合物や液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であ
っても良く、通常この技術分野で液晶材料として認識さ
れるものであれば良く、そのうちの正の誘電率異方性を
有するものが好ましい。用いられる液晶としては、ネマ
チック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が
好ましく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を
改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチ
ック液晶、カイラルスメクチック液晶等、カイラル化合
物や２色性染料等が適宜含まれていてもよい。
性化合物であることを要しないのは勿論で、２種以上の
液晶化合物や液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であ
っても良く、通常この技術分野で液晶材料として認識さ
れるものであれば良く、そのうちの正の誘電率異方性を
有するものが好ましい。用いられる液晶としては、ネマ
チック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が
好ましく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を
改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチ
ック液晶、カイラルスメクチック液晶等、カイラル化合
物や２色性染料等が適宜含まれていてもよい。
【００１５】液晶材料としては、安息香酸エステル系、
シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニル系、
ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、ビフェ
ニルシクロヘキサン酸系、ピリミジン系、ジオキサン
系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、トラン
系等の各種液晶化合物が使用される。例えば、４−置換
安息香酸４´−置換フェニルエステル、４−置換シクロ
ヘキサンカルボン酸４´−置換フェニルエステル、４−
置換シクロヘキサンカルボン酸４´−置換ビフェニルエ
ステル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキ
シ）安息香酸４´−置換フェニルエステル、４−（４−
置換シクロヘキシル）安息香酸４´−置換シクロヘキシ
ルエステル、４−置換４´−置換ビフェニル、４−置換
フェニル４´−置換シクロヘキサン、４−置換４″−置
換タ−フェニル、４−置換ビフェニル４´−置換ビフェ
ニル４´−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニ
ル）−５−置換ピリミジンなどを挙げることができる。
シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニル系、
ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、ビフェ
ニルシクロヘキサン酸系、ピリミジン系、ジオキサン
系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、トラン
系等の各種液晶化合物が使用される。例えば、４−置換
安息香酸４´−置換フェニルエステル、４−置換シクロ
ヘキサンカルボン酸４´−置換フェニルエステル、４−
置換シクロヘキサンカルボン酸４´−置換ビフェニルエ
ステル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキ
シ）安息香酸４´−置換フェニルエステル、４−（４−
置換シクロヘキシル）安息香酸４´−置換シクロヘキシ
ルエステル、４−置換４´−置換ビフェニル、４−置換
フェニル４´−置換シクロヘキサン、４−置換４″−置
換タ−フェニル、４−置換ビフェニル４´−置換ビフェ
ニル４´−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニ
ル）−５−置換ピリミジンなどを挙げることができる。
【００１６】調光層中に占める液晶材料の比率は、６０
〜９５重量％の範囲が好ましく、７５〜８５重量％の範
囲が特に好ましい。（以下、「％」は、「重量％」を意
味する。）これは液晶材料が多すぎたり少なすぎる場
合、液晶材料と透明性固体物質の分散状態が均一になら
ないので、光散乱による調光機能が発現しなくなり、好
ましくない。
〜９５重量％の範囲が好ましく、７５〜８５重量％の範
囲が特に好ましい。（以下、「％」は、「重量％」を意
味する。）これは液晶材料が多すぎたり少なすぎる場
合、液晶材料と透明性固体物質の分散状態が均一になら
ないので、光散乱による調光機能が発現しなくなり、好
ましくない。
【００１７】前記調光層中に形成される透明性固体物質
は、ポリマ−中に液晶材料が球状となって分散するもの
でもよいが、三次元網目構造を有するものがより好まし
い。
は、ポリマ−中に液晶材料が球状となって分散するもの
でもよいが、三次元網目構造を有するものがより好まし
い。
【００１８】この透明性固体物質の三次元網目状部分に
は、液晶材料が充填され、且つ、液晶材料が連続層を形
成することが好ましく、液晶材料の無秩序な状態を形成
することにより、光学的境界面を形成し、光の散乱を発
現させる上で効果的である。
は、液晶材料が充填され、且つ、液晶材料が連続層を形
成することが好ましく、液晶材料の無秩序な状態を形成
することにより、光学的境界面を形成し、光の散乱を発
現させる上で効果的である。
【００１９】本発明の液晶表示素子の調光層を構成する
透明性固体物質としては、合成樹脂が好適である。三次
元網目構造を形成する方法としては、セル中に封入され
た液晶材料、高分子形成性モノマー及び／又はオリゴマ
ーから成る重合性組成物及び重合開始剤を含有する調光
層形成材料を等方性液体状態に保持しながら紫外線を照
射し、光重合性組成物を重合させる方法が挙げられる。
透明性固体物質としては、合成樹脂が好適である。三次
元網目構造を形成する方法としては、セル中に封入され
た液晶材料、高分子形成性モノマー及び／又はオリゴマ
ーから成る重合性組成物及び重合開始剤を含有する調光
層形成材料を等方性液体状態に保持しながら紫外線を照
射し、光重合性組成物を重合させる方法が挙げられる。
【００２０】透明性固体物質を形成する高分子形成モノ
マ−としては、例えば、スチレン、クロロスチレン、α
−メチルスチレン、ジビニルベンゼン；置換基として、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチ
ルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキ
シエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、アルリ
ル、メタリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２
−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル
の如き基を有するアクリレート、メタクリレート又はフ
マレート；エチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、１，３−ブチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリ
コール、トリメチロールプロパン、グリセリン及びペン
タエリスリトール等のポリ（メタ）アクリレート又はポ
リ（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、酪酸ビニル又は
安息香酸ビニル、アクリロニトリル、セチルビニルエー
テル、リモネン、シクロヘキセン、ジアリルフタレー
ト、２−、３−又は４−ビニルピリジン、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒドロキシ
エチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエーテル
化合物；トリメチロールプロパン１モルに３モル以上の
エチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付
加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレー
ト；ネオペンチルグリコール１モルに２モル以上のエチ
レンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加し
て得たジオールのジ（メタ）アクリレート；２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート１モルとフェニルイソ
シアネート若しくはｎ−ブチルイソシアネート１モルと
の反応生成物；ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）
アクリレート；トリス−（ヒドロキシエチル）−イソシ
アヌル酸のポリ（メタ）アクリレート；トリス−（ヒド
ロキシエチル）−リン酸のポリ（メタ）アクリレート；
ジ−（ヒドロキシエチル）−ジシクロペンタジエンのモ
ノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート；
ピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレ
ート；カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステ
ルネオペンチルグリコールジアクリレート；直鎖脂肪族
ジアクリレート；ポリオレフィン変性ネオペンチルグリ
コールジアクリレート等を挙げることができる。
マ−としては、例えば、スチレン、クロロスチレン、α
−メチルスチレン、ジビニルベンゼン；置換基として、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチ
ルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキ
シエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、アルリ
ル、メタリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２
−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル
の如き基を有するアクリレート、メタクリレート又はフ
マレート；エチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、１，３−ブチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリ
コール、トリメチロールプロパン、グリセリン及びペン
タエリスリトール等のポリ（メタ）アクリレート又はポ
リ（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、酪酸ビニル又は
安息香酸ビニル、アクリロニトリル、セチルビニルエー
テル、リモネン、シクロヘキセン、ジアリルフタレー
ト、２−、３−又は４−ビニルピリジン、アクリル酸、
メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒドロキシ
エチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエーテル
化合物；トリメチロールプロパン１モルに３モル以上の
エチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付
加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレー
ト；ネオペンチルグリコール１モルに２モル以上のエチ
レンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加し
て得たジオールのジ（メタ）アクリレート；２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート１モルとフェニルイソ
シアネート若しくはｎ−ブチルイソシアネート１モルと
の反応生成物；ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）
アクリレート；トリス−（ヒドロキシエチル）−イソシ
アヌル酸のポリ（メタ）アクリレート；トリス−（ヒド
ロキシエチル）−リン酸のポリ（メタ）アクリレート；
ジ−（ヒドロキシエチル）−ジシクロペンタジエンのモ
ノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート；
ピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレ
ート；カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステ
ルネオペンチルグリコールジアクリレート；直鎖脂肪族
ジアクリレート；ポリオレフィン変性ネオペンチルグリ
コールジアクリレート等を挙げることができる。
【００２１】高分子形成性オリゴマーとしては、例え
ば、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メ
タ）アクリレ−ト、ポリウレタン（メタ）アクリレ−
ト、ポリエ−テル（メタ）アクリレ−ト等を用いること
ができる。
ば、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メ
タ）アクリレ−ト、ポリウレタン（メタ）アクリレ−
ト、ポリエ−テル（メタ）アクリレ−ト等を用いること
ができる。
【００２２】光重合開始剤としては、例えば、２，４，
６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メ
ルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製「イ
ルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジルジメ
チルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア６５
１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイギー
社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチルチオ
キサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）と
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カ
ヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサ
ントン（ワードプレキンソツプ社製「カンタキュアーＩ
ＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合
物等が挙げられる。
６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メ
ルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製「イ
ルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジルジメ
チルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア６５
１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイギー
社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチルチオ
キサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）と
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カ
ヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサ
ントン（ワードプレキンソツプ社製「カンタキュアーＩ
ＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合
物等が挙げられる。
【００２３】本発明の液晶表示素子は、前述方法にて作
製した空セルを、排気可能な容器に入れ、この容器内の
空気の排気を行った後、空セルの注入孔を調光層形成材
料中に浸し、この状態を保ちながら容器内を窒素ガス等
の不活性乾燥ガスを用い大気圧に戻し、調光層形成材料
をセル中に注入する。次に、注入孔部分に紫外線硬化型
の封孔剤を塗布し、封孔する。
製した空セルを、排気可能な容器に入れ、この容器内の
空気の排気を行った後、空セルの注入孔を調光層形成材
料中に浸し、この状態を保ちながら容器内を窒素ガス等
の不活性乾燥ガスを用い大気圧に戻し、調光層形成材料
をセル中に注入する。次に、注入孔部分に紫外線硬化型
の封孔剤を塗布し、封孔する。
【００２４】セルに封入された調光層形成材料中及び封
孔剤に対し、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタ
ルハライドランプ等を用い重合用エネルギーを供給し、
重合性組成物を重合させることにより、液晶材料及び透
明性固体物質から成る調光層を形成すると同時に封孔剤
も併せて硬化させ、液晶表示素子を製造する。
孔剤に対し、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタ
ルハライドランプ等を用い重合用エネルギーを供給し、
重合性組成物を重合させることにより、液晶材料及び透
明性固体物質から成る調光層を形成すると同時に封孔剤
も併せて硬化させ、液晶表示素子を製造する。
【００２５】このようにして印刷法により作成したＩＴ
Ｏ電極付きガラス基板を用いると、ＩＴＯ成膜時に真空
工程を必要とする基板を用いた場合よりも、安価な液晶
表示素子を提供できる。
Ｏ電極付きガラス基板を用いると、ＩＴＯ成膜時に真空
工程を必要とする基板を用いた場合よりも、安価な液晶
表示素子を提供できる。
【００２６】
【実施例】以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に
具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。
具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。
【００２７】以下、実施例において「％」は「重量％」
を表わし、評価特性の各々は以下の記号及び内容を意味
する。 Ｔ0 ：白濁度；印加電圧０の時の光透過率（％） Ｔ100 ：透明度；印加電圧を増加させていき光透過率が
ほとんど増加しなくなった時の光透過率（％） Ｖ10 ：しきい値；Ｔ0を０％、Ｔ100を１００％とした
とき光透過率が１０％となる印加電圧（Ｖrms）、周波
数５０Ｈｚ Ｖ90 ：飽和電圧；上記と同様にして、光透過率が９０
％となる印加電圧（Ｖrms）、周波数５０Ｈｚ ＣＲ ：コントラスト＝Ｔ100／Ｔ0 電流値：１０×３０cm角の液晶表示素子に２４Ｖ、５０
Ｈｚの電圧を印加した場合に素子内を流れる電流の値、
単位ｍＡ又、紫外線の照度はウシオ電機社製の受光器Ｕ
ＶＤ−３６５ＰＤ付きユニメータ（ＵＩＴ−１０１）を
用いて測定した。
を表わし、評価特性の各々は以下の記号及び内容を意味
する。 Ｔ0 ：白濁度；印加電圧０の時の光透過率（％） Ｔ100 ：透明度；印加電圧を増加させていき光透過率が
ほとんど増加しなくなった時の光透過率（％） Ｖ10 ：しきい値；Ｔ0を０％、Ｔ100を１００％とした
とき光透過率が１０％となる印加電圧（Ｖrms）、周波
数５０Ｈｚ Ｖ90 ：飽和電圧；上記と同様にして、光透過率が９０
％となる印加電圧（Ｖrms）、周波数５０Ｈｚ ＣＲ ：コントラスト＝Ｔ100／Ｔ0 電流値：１０×３０cm角の液晶表示素子に２４Ｖ、５０
Ｈｚの電圧を印加した場合に素子内を流れる電流の値、
単位ｍＡ又、紫外線の照度はウシオ電機社製の受光器Ｕ
ＶＤ−３６５ＰＤ付きユニメータ（ＵＩＴ−１０１）を
用いて測定した。
【００２８】（実施例１）１０×３０cm角の印刷法によ
り製造されたＩＴＯ電極付きガラス基板（抵抗値１ｋΩ
／□、）を用い、直径１３μｍの球状スペーサーとし
て、ミクロパールＳＰ（積水ファイン社製）を、シール
剤として熱硬化型のシール剤ＤＳＡ−００２（ロディク
社製）を用い空セルを作成した。
り製造されたＩＴＯ電極付きガラス基板（抵抗値１ｋΩ
／□、）を用い、直径１３μｍの球状スペーサーとし
て、ミクロパールＳＰ（積水ファイン社製）を、シール
剤として熱硬化型のシール剤ＤＳＡ−００２（ロディク
社製）を用い空セルを作成した。
【００２９】次に、液晶材料として「ＰＮ−００１」
（ロデック社製）８０．０％、重合性組成物として「カ
ヤラッド（KAYARAD）−ＨＸ−６２０」 （日本化薬社製
カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオ
ペンチルグリコールジアクリレート）１１．８％、ラウ
リルアクリレート（共栄社油脂社製）７．８％及び光開
始剤として「イルガキュア６５１」（チバ・ガイギー社
製ベンジルジメチルケタール）０．４％から成る調光層
形成材料を調製した。
（ロデック社製）８０．０％、重合性組成物として「カ
ヤラッド（KAYARAD）−ＨＸ−６２０」 （日本化薬社製
カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオ
ペンチルグリコールジアクリレート）１１．８％、ラウ
リルアクリレート（共栄社油脂社製）７．８％及び光開
始剤として「イルガキュア６５１」（チバ・ガイギー社
製ベンジルジメチルケタール）０．４％から成る調光層
形成材料を調製した。
【００３０】調光層形成材料を満たした器と、前述の１
０×３０cm角空セルとを、空セルの注入孔が下部になる
ように、排気可能な容器内に配置した。次に、排気可能
な容器を４０℃に保ちながら、この容器内の空気を１０
-2Ｔｏｒｒ程度まで排気し、その後、空セルの注入孔を
調光層形成材料中に漬けた。この状態を保ちながら容器
内に窒素ガスを導入して常圧まで戻すことによってセル
内に調光層形成材料を注入した。
０×３０cm角空セルとを、空セルの注入孔が下部になる
ように、排気可能な容器内に配置した。次に、排気可能
な容器を４０℃に保ちながら、この容器内の空気を１０
-2Ｔｏｒｒ程度まで排気し、その後、空セルの注入孔を
調光層形成材料中に漬けた。この状態を保ちながら容器
内に窒素ガスを導入して常圧まで戻すことによってセル
内に調光層形成材料を注入した。
【００３１】次に、パネルを４０℃に保ちながら、注入
孔部分を紫外線硬化型封孔剤「フォトレックスＡ−７０
４」（積水ファイン社製）を塗布した。その後、セル全
体を３６．３℃に保ちながら、 ３０ｍＷ／cm2の強度の
紫外線を６０秒間照射して、重合性組成物を重合させ
て、液晶材料と透明性固体物質から成る調光層を有する
液晶表示素子を作成した。
孔部分を紫外線硬化型封孔剤「フォトレックスＡ−７０
４」（積水ファイン社製）を塗布した。その後、セル全
体を３６．３℃に保ちながら、 ３０ｍＷ／cm2の強度の
紫外線を６０秒間照射して、重合性組成物を重合させ
て、液晶材料と透明性固体物質から成る調光層を有する
液晶表示素子を作成した。
【００３２】得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微
鏡で観察した結果、三次元網目状の透明性固体物質を確
認することができた。
鏡で観察した結果、三次元網目状の透明性固体物質を確
認することができた。
【００３３】得られた液晶表示素子は、注入孔の対角側
に数ミリの白濁不良部が存在するものの、全体的に白濁
は均一で、電圧をかけると全面とも均一に透明となっ
た。
に数ミリの白濁不良部が存在するものの、全体的に白濁
は均一で、電圧をかけると全面とも均一に透明となっ
た。
【００３４】得られた液晶表示素子の印加電圧と光透過
率の関係を測定した結果、Ｔ0＝５．５％、Ｔ100＝８
７．０％、ＣＲ＝１６．０、Ｖ10＝１０．４Ｖrms、Ｖ
90＝１５．３Ｖrms、電流値＝２．５ｍＡであった。
率の関係を測定した結果、Ｔ0＝５．５％、Ｔ100＝８
７．０％、ＣＲ＝１６．０、Ｖ10＝１０．４Ｖrms、Ｖ
90＝１５．３Ｖrms、電流値＝２．５ｍＡであった。
【００３５】なお、使用した液晶材料「ＰＮ−００１」
の物性値を以下の通りであった。
の物性値を以下の通りであった。
【００３６】（実施例２）実施例１において、印刷法に
よるＩＴＯガラス電極付き基板の表面をポリアミド樹脂
にてオーバーコートしたＩＴＯ電極付きガラス基板を用
いた以外は、実施例１と同様にして、液晶表示素子を作
成した。
よるＩＴＯガラス電極付き基板の表面をポリアミド樹脂
にてオーバーコートしたＩＴＯ電極付きガラス基板を用
いた以外は、実施例１と同様にして、液晶表示素子を作
成した。
【００３７】得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微
鏡で観察した結果、三次元網目状の透明性固体物質を確
認することができた。
鏡で観察した結果、三次元網目状の透明性固体物質を確
認することができた。
【００３８】得られた表示素子は、実施例１に比べ注入
孔対角部の白濁不良は存在せず、より白濁の均一な液晶
表示素子が得られた。
孔対角部の白濁不良は存在せず、より白濁の均一な液晶
表示素子が得られた。
【００３９】得られた液晶表示素子の印加電圧と光透過
率の関係を測定した結果、Ｔ0＝５．１％、Ｔ100＝８
８．０％、ＣＲ＝１７．３、Ｖ10＝７．２Ｖrms、Ｖ90
＝１０．７Ｖrms、電流値＝２．２ｍＡであった。
率の関係を測定した結果、Ｔ0＝５．１％、Ｔ100＝８
８．０％、ＣＲ＝１７．３、Ｖ10＝７．２Ｖrms、Ｖ90
＝１０．７Ｖrms、電流値＝２．２ｍＡであった。
【００４０】ＩＴＯ面を絶縁性のポリアミド樹脂にてオ
ーバーコートすることにより空セルの抵抗値が数ＭΩか
ら数十ＭΩへと向上し、調光層にかかる電界のロスを防
止できる結果、駆動電圧の低下が図られている。
ーバーコートすることにより空セルの抵抗値が数ＭΩか
ら数十ＭΩへと向上し、調光層にかかる電界のロスを防
止できる結果、駆動電圧の低下が図られている。
【００４１】実施例１で得られた液晶表示素子Ｂと、実
施例２で得られた液晶表示素子Ｄとを、８０℃の温度条
件下で１０００時間保存し、実施前後の電気光学特性の
変化を比較した。
施例２で得られた液晶表示素子Ｄとを、８０℃の温度条
件下で１０００時間保存し、実施前後の電気光学特性の
変化を比較した。
【００４２】
【表１】
【００４３】表１に示した結果から、印刷法により作成
したＩＴＯ電極付きガラス基板を単に用いた場合、８０
℃にて１０００時間保存後では、駆動電圧、電流値の上
昇が見られる。
したＩＴＯ電極付きガラス基板を単に用いた場合、８０
℃にて１０００時間保存後では、駆動電圧、電流値の上
昇が見られる。
【００４４】しかしながら、印刷法によるＩＴＯ電極付
きガラス基板の表面をポリアミド樹脂にてオーバーコー
トした基板を用いた場合、耐熱試験の実施後も、特性の
劣化は見られず、本液晶表示素子の耐久性を向上させる
ことができることが理解できる。
きガラス基板の表面をポリアミド樹脂にてオーバーコー
トした基板を用いた場合、耐熱試験の実施後も、特性の
劣化は見られず、本液晶表示素子の耐久性を向上させる
ことができることが理解できる。
【００４５】
【発明の効果】本発明のごとく印刷法によるＩＴＯ電極
付きガラス基板を用いることにより、液晶表示素子の製
造コストの低減を図ることができる。また、印刷法によ
るＩＴＯ電極付きガラス基板の表面に、絶縁性の保護膜
を設けることにより、大型の液晶表示素子の均一性と耐
久性を付与でき、安価な光散乱型液晶表示素子を提供す
ることができる。
付きガラス基板を用いることにより、液晶表示素子の製
造コストの低減を図ることができる。また、印刷法によ
るＩＴＯ電極付きガラス基板の表面に、絶縁性の保護膜
を設けることにより、大型の液晶表示素子の均一性と耐
久性を付与でき、安価な光散乱型液晶表示素子を提供す
ることができる。
【００４６】従って、本発明の液晶表示素子は、案内表
示板、各種標識用表示素子、調光ガラス等として有用で
ある。
示板、各種標識用表示素子、調光ガラス等として有用で
ある。
Claims (8)
- 【請求項１】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
２枚の基板と、これらの基板間に支持された調光層を有
し、該調光層が、液晶材料及び透明性固体物質から成る
液晶表示素子において、電極層を有する基板が、印刷法
にて製造されたＩＴＯ電極付きガラス基板であることを
特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項２】 印刷法にて製造されたＩＴＯ電極付きガ
ラス基板が、その表面に保護膜を有する基板であること
を特徴とする請求項１の液晶表示素子。 - 【請求項３】 保護膜がポリアミド樹脂又はポリイミド
樹脂より成ることを特徴とする請求項２の液晶表示素
子。 - 【請求項４】 調光層が液晶材料の連続層と三次元網目
状の透明性固体物質を有することを特徴とする請求項
１、２又は３記載の液晶表示素子。 - 【請求項５】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
２枚の基板と、これらの基板間に、（１）液晶材料、
（２）重合性化合物及び重合開始剤を含有する重合性組
成物を含有する調光層形成材料を挟持した後、紫外線を
照射することにより重合性化合物を重合させて、２枚の
基板間に液晶材料及び透明性固体物質を含有する調光層
を形成する液晶表示素子の製造方法において、電極層を
有する基板として、印刷されたＩＴＯ電極層を有する基
板を使用することを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。 - 【請求項６】 印刷法にて製造されたＩＴＯ電極付きガ
ラス基板の表面に保護膜を設けた基板を使用することを
特徴とする請求項５の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項７】 保護膜がポリアミド樹脂又はポリイミド
樹脂より成ることを特徴とする請求項６の液晶表示素子
の製造方法。 - 【請求項８】 ２枚の基板が、一定の基板間隔を空けた
上で、その周囲を、調光層形成材料を注入する注入口を
除いて、シール化剤でシールしたセル形状とし、該セル
中に真空注入法を用いて調光層形成材料を２枚の基板間
に挟持することを特徴とする請求項５、６又は７記載の
液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24166694A JPH08106082A (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24166694A JPH08106082A (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08106082A true JPH08106082A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17077718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24166694A Pending JPH08106082A (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-05 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08106082A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020068695A (ko) * | 2001-02-22 | 2002-08-28 | 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 | 액정표시장치의 컬러필터 오버코팅재 |
| JP2007065286A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | 高分子分散型液晶表示素子 |
| JP2010244066A (ja) * | 1996-07-19 | 2010-10-28 | E Ink Corp | 電子的にアドレス指定可能なマイクロカプセル化されたインクおよびそのディスプレイ |
-
1994
- 1994-10-05 JP JP24166694A patent/JPH08106082A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010244066A (ja) * | 1996-07-19 | 2010-10-28 | E Ink Corp | 電子的にアドレス指定可能なマイクロカプセル化されたインクおよびそのディスプレイ |
| KR20020068695A (ko) * | 2001-02-22 | 2002-08-28 | 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 | 액정표시장치의 컬러필터 오버코팅재 |
| JP2007065286A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Dainippon Ink & Chem Inc | 高分子分散型液晶表示素子 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2049410C (en) | Liquid crystal device and process for producing the same | |
| US5304323A (en) | Liquid crystal devices and process for producing the same | |
| HK1000018B (en) | Liquid crystal device and process for producing the same | |
| US5378391A (en) | Liquid crystal film | |
| JPH08106082A (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JP3508176B2 (ja) | 液晶デバイス | |
| JPH05203928A (ja) | 液晶デバイスの製造方法 | |
| JP3401681B2 (ja) | 液晶デバイス | |
| JP3598614B2 (ja) | 液晶デバイス及びその製造方法 | |
| JP3489129B2 (ja) | 液晶デバイス | |
| JP3427905B2 (ja) | 液晶デバイス | |
| JP3401680B2 (ja) | 液晶デバイス | |
| JPH1062761A (ja) | 液晶デバイス及びその製造方法 | |
| JP3214118B2 (ja) | 液晶デバイスの製造方法 | |
| JP3055208B2 (ja) | 液晶デバイスの製造方法 | |
| JPH0553098A (ja) | 液晶デバイスの製造方法 | |
| JP3673874B2 (ja) | 液晶表示素子 | |
| JP3613357B2 (ja) | 光散乱型液晶デバイス | |
| JPH08271846A (ja) | 液晶デバイスの製造方法 | |
| JPH11349949A (ja) | 高分子分散型液晶素子およびその製造方法 | |
| JP3077402B2 (ja) | 液晶デバイスの製造方法 | |
| JPH0566387A (ja) | 液晶デバイスの製造方法 | |
| JPH07181465A (ja) | 液晶デバイス及びその製造方法 | |
| KR19980067504A (ko) | 고분자 분산형 액정표시소자 | |
| JPH0667163A (ja) | 液晶デバイスの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Effective date: 20050606 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050615 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20051205 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |