JPH0810846A - ストリップの形状矯正装置 - Google Patents
ストリップの形状矯正装置Info
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- JPH0810846A JPH0810846A JP14588494A JP14588494A JPH0810846A JP H0810846 A JPH0810846 A JP H0810846A JP 14588494 A JP14588494 A JP 14588494A JP 14588494 A JP14588494 A JP 14588494A JP H0810846 A JPH0810846 A JP H0810846A
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- Straightening Metal Sheet-Like Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ストリップの反りを適正に矯正して品質の向
上を図ったストリップの形状矯正装置を提供する。 【構成】 走行するストリップ１０の板幅方向各端部に
エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部電磁石１２
ａ，１２ｂをその有効吸引吸引発生部の配設範囲ｗ 1 を
（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２とし、ｗ2 を（Ｗ
／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／２）×０．８５となる
ように配設し、ストリップ１０の反り方向に応じてエッ
ジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部電磁石１２ａ，１
２ｂのうちの対角に位置する電磁石同士によりストリッ
プ１０を吸引して反りを矯正する。
上を図ったストリップの形状矯正装置を提供する。 【構成】 走行するストリップ１０の板幅方向各端部に
エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部電磁石１２
ａ，１２ｂをその有効吸引吸引発生部の配設範囲ｗ 1 を
（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２とし、ｗ2 を（Ｗ
／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／２）×０．８５となる
ように配設し、ストリップ１０の反り方向に応じてエッ
ジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部電磁石１２ａ，１
２ｂのうちの対角に位置する電磁石同士によりストリッ
プ１０を吸引して反りを矯正する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ストリップ鋼板プロセ
スラインにおいて、走行するストリップの反りを部分的
に矯正するストリップの形状矯正装置に関する。
スラインにおいて、走行するストリップの反りを部分的
に矯正するストリップの形状矯正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図６に溶融亜鉛めっきラインの一部を表
す概略、図７に従来のストリップの形状矯正装置の概略
を示す。
す概略、図７に従来のストリップの形状矯正装置の概略
を示す。
【０００３】図６に示すように、溶融ポット１０１内に
は溶融亜鉛１０２が充填されると共に、シンクロール１
０３が回転自在に軸支されている。そして、この溶融ポ
ット１０１の上方には一対のエアノズル１０４及びスト
リップの形状矯正装置１０５が配設され、更に、合金化
炉１０６が配設されている。従って、ストリップ１００
は同図に矢印で示すように走行して溶融ポット１０１内
に導かれ、ここで溶融亜鉛１０２に浸漬して亜鉛めっき
される。そして、亜鉛めっきされたストリップ１００は
この溶融ポット１０１内のシンクロール１０３にて巻回
されて上方に案内され、一対のエアノズル１０４によっ
てストリップ１００の両面にエアが噴射されて亜鉛目付
け量が調整される。このとき、ストリップの形状矯正装
置１０５によってストリップ１００の板幅方向の反りが
矯正され、ストリップ１００の板幅方向での亜鉛目付け
量が一定となる。そして、このストリップ１００は合金
化炉１０６に導かれる。
は溶融亜鉛１０２が充填されると共に、シンクロール１
０３が回転自在に軸支されている。そして、この溶融ポ
ット１０１の上方には一対のエアノズル１０４及びスト
リップの形状矯正装置１０５が配設され、更に、合金化
炉１０６が配設されている。従って、ストリップ１００
は同図に矢印で示すように走行して溶融ポット１０１内
に導かれ、ここで溶融亜鉛１０２に浸漬して亜鉛めっき
される。そして、亜鉛めっきされたストリップ１００は
この溶融ポット１０１内のシンクロール１０３にて巻回
されて上方に案内され、一対のエアノズル１０４によっ
てストリップ１００の両面にエアが噴射されて亜鉛目付
け量が調整される。このとき、ストリップの形状矯正装
置１０５によってストリップ１００の板幅方向の反りが
矯正され、ストリップ１００の板幅方向での亜鉛目付け
量が一定となる。そして、このストリップ１００は合金
化炉１０６に導かれる。
【０００４】上述したストリップの形状矯正装置１０５
は走行するストリップ１００の平面部の両側に対向する
一対の電磁石がストリップ１００の板幅方向に沿って複
数組配設されて構成されている。即ち、図７に示すよう
に、走行するストリップ１００の板幅方向中心部にはそ
の平面部の両側に対向するように一対の中心部電磁石１
１１ａ，１１１ｂが配設されている。また、ストリップ
１００の板幅方向エッジ部にはその平面部の両側に対向
するように一対のエッジ部電磁石１１２ａ，１１２ｂが
配設されている。更に、ストリップ１００の板幅方向の
中心部電磁石１１１ａ，１１１ｂとエッジ部電磁石１１
２ａ，１１２ｂとの間にはその平面部の両側に対向する
ように一対の中間部電磁石１１３ａ，１１３ｂが配設さ
れている。この対向する各電磁石１１１ａと１１１ｂ、
１１２ａと１１２ｂ、１１３ａと１１３ｂとの距離は同
様となっており、且つ、隣接する各電磁石１１１ａ，１
１１ｂと１１２ａ，１１２ｂと１１３ａ，１１３ｂはス
トリップ１００の板幅Ｗに対して均等配分されるされる
ようにその間隔（ｄ1 ＝ｄ2 ）が同様となっている。
は走行するストリップ１００の平面部の両側に対向する
一対の電磁石がストリップ１００の板幅方向に沿って複
数組配設されて構成されている。即ち、図７に示すよう
に、走行するストリップ１００の板幅方向中心部にはそ
の平面部の両側に対向するように一対の中心部電磁石１
１１ａ，１１１ｂが配設されている。また、ストリップ
１００の板幅方向エッジ部にはその平面部の両側に対向
するように一対のエッジ部電磁石１１２ａ，１１２ｂが
配設されている。更に、ストリップ１００の板幅方向の
中心部電磁石１１１ａ，１１１ｂとエッジ部電磁石１１
２ａ，１１２ｂとの間にはその平面部の両側に対向する
ように一対の中間部電磁石１１３ａ，１１３ｂが配設さ
れている。この対向する各電磁石１１１ａと１１１ｂ、
１１２ａと１１２ｂ、１１３ａと１１３ｂとの距離は同
様となっており、且つ、隣接する各電磁石１１１ａ，１
１１ｂと１１２ａ，１１２ｂと１１３ａ，１１３ｂはス
トリップ１００の板幅Ｗに対して均等配分されるされる
ようにその間隔（ｄ1 ＝ｄ2 ）が同様となっている。
【０００５】また、対向する電磁石の一方の電磁石１１
１ａ、１１２ａ、１１３ａの中心部には渦電流型または
レーザ型の距離センサ１１１ｃ、１１２ｃ、１１３ｃが
それぞれ内蔵されている。
１ａ、１１２ａ、１１３ａの中心部には渦電流型または
レーザ型の距離センサ１１１ｃ、１１２ｃ、１１３ｃが
それぞれ内蔵されている。
【０００６】従って、電磁石１１１ａ、１１２ａ、１１
３ａと電磁石１１１ｂ、１１２ｂ、１１３ｂとの間を走
行するストリップ１００に対し、板幅方向の反りが矯正
されるように吸引力を作用させることでストリップ１０
０はほぼ平面となる。即ち、図７に実線で示す反ったス
トリップ１００に対して距離センサ１１１ｃ、１１２
ｃ、１１３ｃによって反り量を検出しながら、ストリッ
プ１００のエッジ部では電磁石１１２ａの吸引力を大き
くし、中心部及び中間部では電磁石１１１ｂ，１１３ｂ
の吸引力を大きくし、図７に二点鎖線で示すように、ス
トリップ１００をほぼ平面となるように吸引矯正する。
３ａと電磁石１１１ｂ、１１２ｂ、１１３ｂとの間を走
行するストリップ１００に対し、板幅方向の反りが矯正
されるように吸引力を作用させることでストリップ１０
０はほぼ平面となる。即ち、図７に実線で示す反ったス
トリップ１００に対して距離センサ１１１ｃ、１１２
ｃ、１１３ｃによって反り量を検出しながら、ストリッ
プ１００のエッジ部では電磁石１１２ａの吸引力を大き
くし、中心部及び中間部では電磁石１１１ｂ，１１３ｂ
の吸引力を大きくし、図７に二点鎖線で示すように、ス
トリップ１００をほぼ平面となるように吸引矯正する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来のストリップの形状矯正装置１０５にあっては、スト
リップ１００の板幅方向に沿って中心部電磁石１１１
ａ，１１１ｂ、エッジ部電磁石１１２ａ，１１２ｂ、中
間部電磁石１１３ａ，１１３ｂが配設されており、それ
ぞれの間隔は均等となっている。そのため、ストリップ
矯正時にストリップ１００に対する電磁石の吸引力が適
切に作用せず、残留応力によってストリップ１００の矯
正目標位置Ａに対してエッジ部側残留変形量α1 及び中
間部側残留変形量α2 が大きくなって反りが許容値を越
えてしまう。このようにストリップ１００の反りが許容
値を越えると、ストリップ１００の板幅方向での亜鉛目
付け量がばらつき、製品の品質が低下してしまうという
問題があった。
来のストリップの形状矯正装置１０５にあっては、スト
リップ１００の板幅方向に沿って中心部電磁石１１１
ａ，１１１ｂ、エッジ部電磁石１１２ａ，１１２ｂ、中
間部電磁石１１３ａ，１１３ｂが配設されており、それ
ぞれの間隔は均等となっている。そのため、ストリップ
矯正時にストリップ１００に対する電磁石の吸引力が適
切に作用せず、残留応力によってストリップ１００の矯
正目標位置Ａに対してエッジ部側残留変形量α1 及び中
間部側残留変形量α2 が大きくなって反りが許容値を越
えてしまう。このようにストリップ１００の反りが許容
値を越えると、ストリップ１００の板幅方向での亜鉛目
付け量がばらつき、製品の品質が低下してしまうという
問題があった。
【０００８】本発明はこのような問題点を解決するもの
であって、ストリップの反りを適正に矯正して品質の向
上を図ったストリップの形状矯正装置を提供することを
目的とする。
であって、ストリップの反りを適正に矯正して品質の向
上を図ったストリップの形状矯正装置を提供することを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めの本発明のストリップの形状矯正装置は、走行するス
トリップの平面部の両側に互いに対向する一対の電磁石
を前記ストリップの板幅方向各端部にそれぞれ二組配設
すると共に、前記ストリップの平面部に対向する距離セ
ンサを前記ストリップの板幅方向中心部に配設し、該距
離センサの検出結果に応じて前記各二組の電磁石のうち
の対角に位置する電磁石同士を作動させるようにしたこ
とを特徴とするものである。
めの本発明のストリップの形状矯正装置は、走行するス
トリップの平面部の両側に互いに対向する一対の電磁石
を前記ストリップの板幅方向各端部にそれぞれ二組配設
すると共に、前記ストリップの平面部に対向する距離セ
ンサを前記ストリップの板幅方向中心部に配設し、該距
離センサの検出結果に応じて前記各二組の電磁石のうち
の対角に位置する電磁石同士を作動させるようにしたこ
とを特徴とするものである。
【００１０】また、本発明のストリップの形状矯正装置
は、走行するストリップの平面部の両側に互いに対向す
る一対の電磁石が前記ストリップの板幅方向に沿って複
数組配設されると共に、前記ストリップの平面部に対向
する距離センサが前記ストリップの板幅方向中心部に配
設されたストリップの形状矯正装置において、前記スト
リップの板幅をＷとし、前記ストリップの板幅方向中心
位置を０としたとき、前記ストリップの各エッジ側に配
設された第１の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲ｗ
1 を（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２とし、前記第
１の電磁石対に対して前記ストリップの板幅方向中心側
に隣接した第２の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲
ｗ2 を（Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／２）×０．
８５としたことを特徴とするものである。
は、走行するストリップの平面部の両側に互いに対向す
る一対の電磁石が前記ストリップの板幅方向に沿って複
数組配設されると共に、前記ストリップの平面部に対向
する距離センサが前記ストリップの板幅方向中心部に配
設されたストリップの形状矯正装置において、前記スト
リップの板幅をＷとし、前記ストリップの板幅方向中心
位置を０としたとき、前記ストリップの各エッジ側に配
設された第１の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲ｗ
1 を（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２とし、前記第
１の電磁石対に対して前記ストリップの板幅方向中心側
に隣接した第２の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲
ｗ2 を（Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／２）×０．
８５としたことを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】走行するストリップに対して距離センサにより
両者の距離間を検出することで、ストリップの反り方向
を検出し、ストリップの板幅方向各端部にそれぞれ二組
配設された互いに対向する一対の電磁石のうち、ストリ
ップの反り方向に応じて対角に位置する電磁石同士を作
動させ、ストリップの各エッジ及びエッジと中心との各
中間部はそれぞれ作動する各電磁石によって互いに逆方
向に吸引されて矯正目標位置に引き寄せられることで、
ストリップに均一なモーメントを発生させる。その結
果、ストリップは中心部でも全域にわたって反りの曲率
を０に近づけるように移動し、矯正目標位置からの変位
が小さくなってその反りが矯正される。
両者の距離間を検出することで、ストリップの反り方向
を検出し、ストリップの板幅方向各端部にそれぞれ二組
配設された互いに対向する一対の電磁石のうち、ストリ
ップの反り方向に応じて対角に位置する電磁石同士を作
動させ、ストリップの各エッジ及びエッジと中心との各
中間部はそれぞれ作動する各電磁石によって互いに逆方
向に吸引されて矯正目標位置に引き寄せられることで、
ストリップに均一なモーメントを発生させる。その結
果、ストリップは中心部でも全域にわたって反りの曲率
を０に近づけるように移動し、矯正目標位置からの変位
が小さくなってその反りが矯正される。
【００１２】また、ストリップの各エッジ側に配設され
た第１の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲ｗ1 を
（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２とし、ストリップ
の板幅方向中心側の第２の電磁石対の有効吸引発生部の
配設範囲ｗ2 を（Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／
２）×０．８５としたことで、距離センサが検出したス
トリップの反り方向に応じて適正な位置に配設された各
電磁石が作動し、ストリップの各エッジ及びエッジと中
心との各中間部が矯正目標位置に引き寄せられること
で、ストリップは全域にわたって反りの曲率を０に近づ
けるように移動し、矯正目標位置からの変位が小さくな
ってその反りが矯正される。
た第１の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲ｗ1 を
（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２とし、ストリップ
の板幅方向中心側の第２の電磁石対の有効吸引発生部の
配設範囲ｗ2 を（Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／
２）×０．８５としたことで、距離センサが検出したス
トリップの反り方向に応じて適正な位置に配設された各
電磁石が作動し、ストリップの各エッジ及びエッジと中
心との各中間部が矯正目標位置に引き寄せられること
で、ストリップは全域にわたって反りの曲率を０に近づ
けるように移動し、矯正目標位置からの変位が小さくな
ってその反りが矯正される。
【００１３】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
【００１４】図１に本発明の一実施例に係るストリップ
の形状矯正装置の概略、図２に本実施例のストリップの
形状矯正装置における電磁石の配設範囲を説明する概
略、図３にストリップの板長さ方向における反り分布を
表すグラフ、図４にストリップの板幅方向における反り
量を表すグラフ、図５にストリップの板長さ方向におけ
る反り量を表すグラフを示す。
の形状矯正装置の概略、図２に本実施例のストリップの
形状矯正装置における電磁石の配設範囲を説明する概
略、図３にストリップの板長さ方向における反り分布を
表すグラフ、図４にストリップの板幅方向における反り
量を表すグラフ、図５にストリップの板長さ方向におけ
る反り量を表すグラフを示す。
【００１５】本実施例のストリップの形状矯正装置は、
走行するストリップの平面部の両側に互いに対向する一
対の電磁石をこのストリップの板幅方向各端部にそれぞ
れ二組配設すると共に、距離センサをストリップの板幅
方向中心部及び各端部にそれぞれ配設し、その距離セン
サの検出結果からわかるストリップの反り方向に応じて
各二組の電磁石のうちの対角に位置する電磁石同士を作
動させ、ストリップの所定の位置を吸引して矯正目標位
置に引き寄せて反りを矯正するものである。
走行するストリップの平面部の両側に互いに対向する一
対の電磁石をこのストリップの板幅方向各端部にそれぞ
れ二組配設すると共に、距離センサをストリップの板幅
方向中心部及び各端部にそれぞれ配設し、その距離セン
サの検出結果からわかるストリップの反り方向に応じて
各二組の電磁石のうちの対角に位置する電磁石同士を作
動させ、ストリップの所定の位置を吸引して矯正目標位
置に引き寄せて反りを矯正するものである。
【００１６】即ち、図１に示すように、走行するストリ
ップ１０の板幅方向エッジ部にはその平面部の両側に互
いに対向するように一対のエッジ部電磁石１１ａ，１１
ｂがそれぞれ配設されている。エッジ部電磁石１１ａ，
１１ｂに隣接してストリップ１０の板幅方向の中心部と
エッジ部との間に位置し、ストリップ１０の平面部の両
側に互いに対向するように一対の中間部電磁石１２ａ，
１２ｂが配設されている。この対向する各電磁石１１ａ
と１１ｂ、１２ａと１２ｂとの距離は同様となっている
が、各電磁石１１ａ，１１ｂ及び１２ａ，１２ｂの配設
位置はストリップ１０の板幅Ｗに対して後述する位置と
なっている。また、対向する各電磁石１１ａ，１１ｂと
１２ａ，１２ｂとの一方の電磁石１１ａ、１２ａの中心
部には渦電流型またはレーザ型の距離センサ１１ｃ、１
２ｃがそれぞれ内蔵されると共に、ストリップ１０の板
幅方向中心部にも距離センサ１３が配設されている。
ップ１０の板幅方向エッジ部にはその平面部の両側に互
いに対向するように一対のエッジ部電磁石１１ａ，１１
ｂがそれぞれ配設されている。エッジ部電磁石１１ａ，
１１ｂに隣接してストリップ１０の板幅方向の中心部と
エッジ部との間に位置し、ストリップ１０の平面部の両
側に互いに対向するように一対の中間部電磁石１２ａ，
１２ｂが配設されている。この対向する各電磁石１１ａ
と１１ｂ、１２ａと１２ｂとの距離は同様となっている
が、各電磁石１１ａ，１１ｂ及び１２ａ，１２ｂの配設
位置はストリップ１０の板幅Ｗに対して後述する位置と
なっている。また、対向する各電磁石１１ａ，１１ｂと
１２ａ，１２ｂとの一方の電磁石１１ａ、１２ａの中心
部には渦電流型またはレーザ型の距離センサ１１ｃ、１
２ｃがそれぞれ内蔵されると共に、ストリップ１０の板
幅方向中心部にも距離センサ１３が配設されている。
【００１７】ここで、エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及
び中間部電磁石１２ａ，１２ｂの配設位置について説明
する。図１及び図２に示すように、ストリップ１０の板
幅をＷ、エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂの有効吸引吸引
発生部の配設範囲をｗ1 、中間部電磁石１２ａ，１２ｂ
の有効吸引発生部の配設範囲をｗ2 とする。そして、ス
トリップ１０の板幅方向中心位置を０としたとき、この
中心位置０からエッジ部電磁石１１ａ，１１ｂの有効吸
引吸引発生部の配設範囲ｗ1 におけるエッジ部側端部ま
での距離をｘ1 、中心位置０からエッジ部電磁石１１
ａ，１１ｂの有効吸引吸引発生部の配設範囲ｗ1 におけ
る中間部側端部までの距離をｘ2 、また、中心位置０か
ら中間部電磁石１２ａ，１２ｂの有効吸引吸引発生部の
配設範囲ｗ 2 におけるエッジ部側端部までの距離を
ｘ3 、中心位置０から中間部電磁石１２ａ，１２ｂの有
効吸引吸引発生部の配設範囲ｗ2 における中間部側端部
までの距離をｘ4 とすると、この各距離ｘ1 ，ｘ2 ，ｘ
3 ，ｘ4 は以下に示す範囲となる。
び中間部電磁石１２ａ，１２ｂの配設位置について説明
する。図１及び図２に示すように、ストリップ１０の板
幅をＷ、エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂの有効吸引吸引
発生部の配設範囲をｗ1 、中間部電磁石１２ａ，１２ｂ
の有効吸引発生部の配設範囲をｗ2 とする。そして、ス
トリップ１０の板幅方向中心位置を０としたとき、この
中心位置０からエッジ部電磁石１１ａ，１１ｂの有効吸
引吸引発生部の配設範囲ｗ1 におけるエッジ部側端部ま
での距離をｘ1 、中心位置０からエッジ部電磁石１１
ａ，１１ｂの有効吸引吸引発生部の配設範囲ｗ1 におけ
る中間部側端部までの距離をｘ2 、また、中心位置０か
ら中間部電磁石１２ａ，１２ｂの有効吸引吸引発生部の
配設範囲ｗ 2 におけるエッジ部側端部までの距離を
ｘ3 、中心位置０から中間部電磁石１２ａ，１２ｂの有
効吸引吸引発生部の配設範囲ｗ2 における中間部側端部
までの距離をｘ4 とすると、この各距離ｘ1 ，ｘ2 ，ｘ
3 ，ｘ4 は以下に示す範囲となる。
【００１８】ｘ1 ＝Ｗ／２ ｘ2 ≧（Ｗ／２）×０．８５ ｘ3 ≦（Ｗ／２）×０．８５ ｘ4 ≧（Ｗ／２）×０．５５
【００１９】即ち、ストリップ１０の板幅方向中心位置
を０としたとき、エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂの有効
吸引吸引発生部の配設範囲ｗ1 及び中間部電磁石１２
ａ，１２ｂの有効吸引発生部の配設範囲をｗ2 は以下に
示すものと規定することが出きる。 （Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２ （Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／２）×０．８５
を０としたとき、エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂの有効
吸引吸引発生部の配設範囲ｗ1 及び中間部電磁石１２
ａ，１２ｂの有効吸引発生部の配設範囲をｗ2 は以下に
示すものと規定することが出きる。 （Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２ （Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／２）×０．８５
【００２０】このように本実施例ストリップの形状矯正
装置では、エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂの有効吸引吸
引発生部の配設範囲ｗ1 及び中間部電磁石１２ａ，１２
ｂの有効吸引発生部の配設範囲をｗ2 を前述したように
規定し、このエッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部
電磁石１２ａ，１２ｂをそれぞれストリップ１０の板幅
方向エッジ側に配設すると共に両者の間隔を小さくして
いる。
装置では、エッジ部電磁石１１ａ，１１ｂの有効吸引吸
引発生部の配設範囲ｗ1 及び中間部電磁石１２ａ，１２
ｂの有効吸引発生部の配設範囲をｗ2 を前述したように
規定し、このエッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部
電磁石１２ａ，１２ｂをそれぞれストリップ１０の板幅
方向エッジ側に配設すると共に両者の間隔を小さくして
いる。
【００２１】従って、走行するストリップ１０に初期反
りＣ0 がある場合、各距離センサ１１ｃ，１２ｃ，１３
によってその反り方向を検出し、エッジ部電磁石１１
ａ、１１１ｂ、中間部電磁石１２ａ，１２の一方を選択
して作動させる。例えば、図１及び図２に実線で示すよ
うに、ストリップ１０の中央部が各電磁石１１ａ，１２
ａ側に、エッジ部が各電磁石１１ｂ，１２ｂ側に位置す
るような反りであった場合、ストリップ１０のエッジ部
では電磁石１１ａの吸引力を大きくし、中間部では電磁
石１２ｂの吸引力を大きくする。
りＣ0 がある場合、各距離センサ１１ｃ，１２ｃ，１３
によってその反り方向を検出し、エッジ部電磁石１１
ａ、１１１ｂ、中間部電磁石１２ａ，１２の一方を選択
して作動させる。例えば、図１及び図２に実線で示すよ
うに、ストリップ１０の中央部が各電磁石１１ａ，１２
ａ側に、エッジ部が各電磁石１１ｂ，１２ｂ側に位置す
るような反りであった場合、ストリップ１０のエッジ部
では電磁石１１ａの吸引力を大きくし、中間部では電磁
石１２ｂの吸引力を大きくする。
【００２２】すると、ストリップ１０のエッジ部は電磁
石１１ａの吸引力Ｐ1 によって吸引され、矯正目標位置
Ａに引き寄せられる一方、ストリップ１０の中間部は電
磁石１２ｂの吸引力Ｐ2 によって吸引され、矯正目標位
置Ａに引き寄せられる。このようにストリップ１０の各
エッジ部及び各中間部はそれぞれ作動する各電磁石１１
ａ，１２ｂによって互いに逆方向に吸引されて矯正目標
位置Ａに引き寄せられることで、このストリップ１０に
均一なモーメントを発生させる。その結果、ストリップ
１０は中心部でも全域にわたって反りの曲率を０に近づ
けるように移動し、矯正目標位置Ａからの変位が小さく
なってその反りが矯正される。
石１１ａの吸引力Ｐ1 によって吸引され、矯正目標位置
Ａに引き寄せられる一方、ストリップ１０の中間部は電
磁石１２ｂの吸引力Ｐ2 によって吸引され、矯正目標位
置Ａに引き寄せられる。このようにストリップ１０の各
エッジ部及び各中間部はそれぞれ作動する各電磁石１１
ａ，１２ｂによって互いに逆方向に吸引されて矯正目標
位置Ａに引き寄せられることで、このストリップ１０に
均一なモーメントを発生させる。その結果、ストリップ
１０は中心部でも全域にわたって反りの曲率を０に近づ
けるように移動し、矯正目標位置Ａからの変位が小さく
なってその反りが矯正される。
【００２３】従って、図１に二点鎖線で示すように、ス
トリップ１０は中心部は矯正目標位置Ａからの変位がほ
ぼなくなり、矯正目標位置Ａからのエッジ部側残留変形
量α 1 及び中間部側残留変形量α2 を小さくして矯正反
りＣ＝α1 ＋α2 を許容値以下とすることができる。
トリップ１０は中心部は矯正目標位置Ａからの変位がほ
ぼなくなり、矯正目標位置Ａからのエッジ部側残留変形
量α 1 及び中間部側残留変形量α2 を小さくして矯正反
りＣ＝α1 ＋α2 を許容値以下とすることができる。
【００２４】ところで、実験の結果、ストリップ１０の
板長さ方向の反り分布において、図３のグラフに示すよ
うに、配設された電磁石の中心位置としての矯正位置Ｃ
m からのストリップ１０の走行方向前後方向での矯正有
効範囲Ｌは板幅Ｗの５倍となる。即ち、Ｌ≦５Ｗであ
る。
板長さ方向の反り分布において、図３のグラフに示すよ
うに、配設された電磁石の中心位置としての矯正位置Ｃ
m からのストリップ１０の走行方向前後方向での矯正有
効範囲Ｌは板幅Ｗの５倍となる。即ち、Ｌ≦５Ｗであ
る。
【００２５】また、ストリップ１０の板幅方向における
反り量において、図４のグラフに示すように、板幅１８
３０mm、板厚１．０mm、張力１．８kgf/mm板幅方向中心
部とエッジ部との温度差４．７℃のとき、初期反りＣ0
＝５．３３mmのストリップ１０に対して本実施例のスト
リップの形状矯正装置により反りを矯正すると、矯正反
りＣ＝１．３８mmとなる。
反り量において、図４のグラフに示すように、板幅１８
３０mm、板厚１．０mm、張力１．８kgf/mm板幅方向中心
部とエッジ部との温度差４．７℃のとき、初期反りＣ0
＝５．３３mmのストリップ１０に対して本実施例のスト
リップの形状矯正装置により反りを矯正すると、矯正反
りＣ＝１．３８mmとなる。
【００２６】更に、ストリップ１０の板長さ方向におけ
る反り量において、図５のグラフに示すように、初期反
りＣ0 は−３mm以上のストリップ１０に対して本実施例
のストリップの形状矯正装置及びエアノズルからのエア
の噴射によって反りを矯正すると、矯正反りＣは−１mm
前後となる。
る反り量において、図５のグラフに示すように、初期反
りＣ0 は−３mm以上のストリップ１０に対して本実施例
のストリップの形状矯正装置及びエアノズルからのエア
の噴射によって反りを矯正すると、矯正反りＣは−１mm
前後となる。
【００２７】このように本実施例のストリップの形状矯
正装置にあっては、走行するストリップ１０の平面部の
両側に互いに対向してストリップ１０の板幅方向各端部
にそれぞれエッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部電
磁石１２ａ，１２ｂをその有効吸引吸引発生部の配設範
囲ｗ1 ，ｗ2 が （Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２ （Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／２）×０．８５ となるように配設すると共に、距離センサ１３をストリ
ップ１０の板幅方向中心部に配設し、その距離センサ１
３によって検出されたストリップ１０の反り方向に応じ
てエッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部電磁石１２
ａ，１２ｂのうちの対角に位置する電磁石同士を作動さ
せ、ストリップ１０を吸引して矯正目標位置Ａに引き寄
せて反りを矯正している。
正装置にあっては、走行するストリップ１０の平面部の
両側に互いに対向してストリップ１０の板幅方向各端部
にそれぞれエッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部電
磁石１２ａ，１２ｂをその有効吸引吸引発生部の配設範
囲ｗ1 ，ｗ2 が （Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２ （Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ／２）×０．８５ となるように配設すると共に、距離センサ１３をストリ
ップ１０の板幅方向中心部に配設し、その距離センサ１
３によって検出されたストリップ１０の反り方向に応じ
てエッジ部電磁石１１ａ，１１ｂ及び中間部電磁石１２
ａ，１２ｂのうちの対角に位置する電磁石同士を作動さ
せ、ストリップ１０を吸引して矯正目標位置Ａに引き寄
せて反りを矯正している。
【００２８】従って、ストリップ１０の反りを矯正目標
位置Ａにほぼ近い位置に矯正することができ、溶融亜鉛
めっきラインに適用した場合に、矯正されたストリップ
１０とエアノズルとの距離をした幅方向で一定とし、こ
のエアノズルからストリップ１０の両面にエアが噴射さ
れることで、亜鉛めっきの目付け量をストリップ１０の
板幅全幅にわたって均一にし、その品質を向上すること
ができる。
位置Ａにほぼ近い位置に矯正することができ、溶融亜鉛
めっきラインに適用した場合に、矯正されたストリップ
１０とエアノズルとの距離をした幅方向で一定とし、こ
のエアノズルからストリップ１０の両面にエアが噴射さ
れることで、亜鉛めっきの目付け量をストリップ１０の
板幅全幅にわたって均一にし、その品質を向上すること
ができる。
【００２９】
【発明の効果】以上、実施例を挙げて詳細に説明したよ
うに本発明のストリップの形状矯正装置によれば、走行
するストリップの平面部の両側に互いに対向する一対の
電磁石をストリップの板幅方向各端部にそれぞれ二組配
設すると共にストリップの平面部に対向する距離センサ
をストリップの板幅方向中心部に配設し、距離センサの
検出結果に応じて各二組の電磁石のうちの対角に位置す
る電磁石同士を作動させるようにしたので、走行するス
トリップの反り方向に対して二組配設された一対の電磁
石のうち対角に位置する電磁石同士を作動させ、ストリ
ップの各エッジ及び各中間部をそれぞれ互いに逆方向に
吸引して矯正目標位置に引き寄せら、ストリップを全域
にわたってその反りを矯正することができる。その結
果、ストリップの品質の向上を図ることができる。
うに本発明のストリップの形状矯正装置によれば、走行
するストリップの平面部の両側に互いに対向する一対の
電磁石をストリップの板幅方向各端部にそれぞれ二組配
設すると共にストリップの平面部に対向する距離センサ
をストリップの板幅方向中心部に配設し、距離センサの
検出結果に応じて各二組の電磁石のうちの対角に位置す
る電磁石同士を作動させるようにしたので、走行するス
トリップの反り方向に対して二組配設された一対の電磁
石のうち対角に位置する電磁石同士を作動させ、ストリ
ップの各エッジ及び各中間部をそれぞれ互いに逆方向に
吸引して矯正目標位置に引き寄せら、ストリップを全域
にわたってその反りを矯正することができる。その結
果、ストリップの品質の向上を図ることができる。
【００３０】また、本発明のストリップの形状矯正装置
によれば、ストリップの板幅をＷとしてその板幅方向中
心位置を０としたときにストリップの各エッジ側に配設
された第１の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲ｗ1
を（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ 1 ≦Ｗ／２とし、第１の電
磁石対に対してストリップの板幅方向中心側に隣接した
第２の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲ｗ2 を（Ｗ
／２）×０．５５≦ｗ 2 ≦（Ｗ／２）×０．８５とした
ので、ストリップの各エッジ及び各中間部を矯正目標位
置に吸引してストリップに均一なモーメントを発生さ
せ、ストリップを全域にわたって矯正目標位置からの変
位を小さくしてその反りを矯正することができる。
によれば、ストリップの板幅をＷとしてその板幅方向中
心位置を０としたときにストリップの各エッジ側に配設
された第１の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲ｗ1
を（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ 1 ≦Ｗ／２とし、第１の電
磁石対に対してストリップの板幅方向中心側に隣接した
第２の電磁石対の有効吸引発生部の配設範囲ｗ2 を（Ｗ
／２）×０．５５≦ｗ 2 ≦（Ｗ／２）×０．８５とした
ので、ストリップの各エッジ及び各中間部を矯正目標位
置に吸引してストリップに均一なモーメントを発生さ
せ、ストリップを全域にわたって矯正目標位置からの変
位を小さくしてその反りを矯正することができる。
【図１】本発明の一実施例に係るストリップの形状矯正
装置の概略図である。
装置の概略図である。
【図２】本実施例のストリップの形状矯正装置における
電磁石の配設範囲を説明する概略図である。
電磁石の配設範囲を説明する概略図である。
【図３】ストリップの板長さ方向における反り分布を表
すグラフである。
すグラフである。
【図４】ストリップの板幅方向における反り量を表すグ
ラフである。
ラフである。
【図５】ストリップの板長さ方向における反り量を表す
グラフである。
グラフである。
【図６】溶融亜鉛めっきラインの一部を表す概略図であ
る。
る。
【図７】従来のストリップの形状矯正装置の概略図であ
る。
る。
１１ａ，１１ｂ エッジ部側電磁石 １２ａ，１２ｂ 中間部側電磁石 １１ｃ，１２ｃ，１３ 距離センサ Ｗ ストリップの板幅 ｗ1 エッジ部電磁石の有効吸引吸引発生部の配設範囲 ｗ2 中間部電磁石の有効吸引発生部の配設範囲 ｘ1 板幅中心位置からエッジ部電磁石の有効吸引吸引
発生部の配設範囲におけるエッジ部側端部までの距離 ｘ2 板幅中心位置からエッジ部電磁石の有効吸引吸引
発生部の配設範囲における中間部側端部までの距離 ｘ3 板幅中心位置から中間部電磁石の有効吸引吸引発
生部の配設範囲におけるエッジ部側端部までの距離 ｘ4 板幅中心位置から中間部電磁石の有効吸引吸引発
生部の配設範囲における中間部側端部までの距離 Ｐ1 エッジ部側電磁石の吸引力 Ｐ2 中間部側電磁石の吸引力 α1 エッジ部側残留変形量 α2 中間部側残留変形量 Ｃ0 初期反り Ｃ 矯正反り
発生部の配設範囲におけるエッジ部側端部までの距離 ｘ2 板幅中心位置からエッジ部電磁石の有効吸引吸引
発生部の配設範囲における中間部側端部までの距離 ｘ3 板幅中心位置から中間部電磁石の有効吸引吸引発
生部の配設範囲におけるエッジ部側端部までの距離 ｘ4 板幅中心位置から中間部電磁石の有効吸引吸引発
生部の配設範囲における中間部側端部までの距離 Ｐ1 エッジ部側電磁石の吸引力 Ｐ2 中間部側電磁石の吸引力 α1 エッジ部側残留変形量 α2 中間部側残留変形量 Ｃ0 初期反り Ｃ 矯正反り
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森井 茂樹 広島県広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 井上 淳司 広島県広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 時安 孝一 広島県広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 走行するストリップの平面部の両側に互
いに対向する一対の電磁石を前記ストリップの板幅方向
各端部にそれぞれ二組配設すると共に、前記ストリップ
の平面部に対向する距離センサを前記ストリップの板幅
方向中心部に配設し、該距離センサの検出結果に応じて
前記各二組の電磁石のうちの対角に位置する電磁石同士
を作動させるようにしたことを特徴とするストリップの
形状矯正装置。 - 【請求項２】 走行するストリップの平面部の両側に互
いに対向する一対の電磁石が前記ストリップの板幅方向
に沿って複数組配設されると共に、前記ストリップの平
面部に対向する距離センサが前記ストリップの板幅方向
中心部に配設されたストリップの形状矯正装置におい
て、前記ストリップの板幅をＷとし、前記ストリップの
板幅方向中心位置を０としたとき、前記ストリップの各
エッジ側に配設された第１の電磁石対の有効吸引発生部
の配設範囲ｗ1 を（Ｗ／２）×０．８５≦ｗ1 ≦Ｗ／２
とし、前記第１の電磁石対に対して前記ストリップの板
幅方向中心側に隣接した第２の電磁石対の有効吸引発生
部の配設範囲ｗ2 を（Ｗ／２）×０．５５≦ｗ2 ≦（Ｗ
／２）×０．８５としたことを特徴とするストリップの
形状矯正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14588494A JP3268125B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | ストリップの形状矯正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14588494A JP3268125B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | ストリップの形状矯正装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0810846A true JPH0810846A (ja) | 1996-01-16 |
| JP3268125B2 JP3268125B2 (ja) | 2002-03-25 |
Family
ID=15395284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14588494A Expired - Fee Related JP3268125B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | ストリップの形状矯正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3268125B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003105515A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 鋼板形状矯正装置及び方法 |
| JP2008506839A (ja) * | 2004-07-13 | 2008-03-06 | アーベーベー・アーベー | 金属の対象物を安定させるためのデバイス及び方法 |
| CN111344077A (zh) * | 2017-11-24 | 2020-06-26 | 普锐特冶金技术日本有限公司 | 金属板的形状测量装置、板翘曲矫正装置及连续镀敷处理设备、以及金属板的板翘曲矫正方法 |
-
1994
- 1994-06-28 JP JP14588494A patent/JP3268125B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003105515A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 鋼板形状矯正装置及び方法 |
| JP2008506839A (ja) * | 2004-07-13 | 2008-03-06 | アーベーベー・アーベー | 金属の対象物を安定させるためのデバイス及び方法 |
| CN111344077A (zh) * | 2017-11-24 | 2020-06-26 | 普锐特冶金技术日本有限公司 | 金属板的形状测量装置、板翘曲矫正装置及连续镀敷处理设备、以及金属板的板翘曲矫正方法 |
| EP3685932A4 (en) * | 2017-11-24 | 2020-08-19 | Primetals Technologies Japan, Ltd. | METAL PLATE SHAPE MEASUREMENT DEVICE, PLATE WARPING CORRECTION DEVICE, CONTINUOUS PLATING EQUIPMENT, AND METAL PLATE Warping Correction Method |
| JPWO2019102578A1 (ja) * | 2017-11-24 | 2020-11-19 | Ｐｒｉｍｅｔａｌｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｊａｐａｎ株式会社 | 金属板の形状計測装置、板反り矯正装置及び連続めっき処理設備並びに金属板の板反り矯正方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3268125B2 (ja) | 2002-03-25 |
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