JPH08109395A - 硬質表面用洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 （Ａ）下記一般式（１）で表わされる多鎖型
アミン誘導体、その塩又はその４級化物及び、（Ｂ）金
属イオン封鎖剤、アルカリ剤及び水溶性溶剤から選ばれ
る１種又は２種以上を含有する硬質表面用洗浄剤組成
物。 【化１】 〔Ｒ² 及びＲ³ は-OHを有してもよいＣ１〜２４のアル
キル基又はアルケニル基、Ａは-OH、-COOHもしくは-SO₃
Hを有してもよいＣ１〜６のアルキレン基又はアルケニ
レン基、Ｙ¹ は-COOH、-SO₃H又は-OSO₃H、Ｙ² は-OH、-
OSO₃H又は-OCO-A-COOH、ｎは０又は１、ｐは１〜８の整
数〕 【効果】 洗浄力、仕上り性が優れ、皮膚に対する刺激
性が弱い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は硬質表面用洗浄剤組成
物、更に詳しくは、洗浄力、仕上り性に優れ、かつ皮膚
などに対する刺激の少ない硬質表面用洗浄剤組成物に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来、硬質表面用洗浄剤組成物は、汚れ
の種類及び程度に応じて、以下のものが使い分けられて
いる。即ち、比較的汚れの程度の軽い手あか汚れ、未変
性油汚れに対しては界面活性剤／溶剤系の洗浄剤が、台
所回り等の熱、日光、空気中の酸素などの作用により変
質した油脂汚れ等には界面活性剤／溶剤／アルカリ剤系
の洗浄剤が主に用いられている。

【０００３】ところが、これらの洗浄剤の多くは使用時
において皮膚に対する刺激が強いという問題がある。こ
のような問題から、皮膚に対する刺激性の弱い界面活性
剤を配合した硬質表面用洗浄剤が種々開発されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
従来の洗浄剤は、洗浄力と低皮膚刺激性の両者を充分に
満足できるものではなかった。従って、本発明の目的は
洗浄力、仕上り性に優れ、かつ皮膚に対する刺激性の弱
い硬質表面用洗浄剤組成物を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者は鋭意検討を行った結果、後記一般式（１）で表
わされる多鎖型アミン誘導体に金属イオン封鎖剤、アル
カリ剤又は水溶性溶剤を配合すれば、台所回り、トイレ
回り、浴室内等の硬質表面の汚れに対する洗浄力に優
れ、仕上り性が良好で、かつ皮膚に対する刺激性のない
優れた洗浄剤が得られることを見出し、本発明を完成す
るに至った。

【０００６】すなわち、本発明は、次の成分（Ａ）及び
（Ｂ）：（Ａ）下記一般式（１）；

【０００７】

【化２】

【０００８】〔式中、Ｒ² 及びＲ³ は、同一又は異なっ
て、ヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖もしくは
分岐鎖の炭素数１〜２４のアルキル基又はアルケニル基
を示し、Ａはヒドロキシル基、カルボキシル基もしくは
スルホン酸基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖
の炭素数１〜６のアルキレン基又はアルケニレン基を示
し、Ｙ¹ はカルボキシル基、スルホン酸基又は硫酸残基
を示し、Ｙ² はヒドロキシル基、硫酸残基又は基-OCO-A
-COOHを示し、ｎは０又は１の数を示し、ｐは１〜８の
整数を示す。〕で表される多鎖型アミン誘導体、その塩
又はその４級化物、（Ｂ）金属イオン封鎖剤、アルカリ
剤及び水溶性溶剤から選ばれる１種又は２種以上を含有
する硬質表面用洗浄剤組成物を提供するものである。

【０００９】本発明で用いられる化合物（１）と近い構
造を有する化合物としては、２−ヒドロキシプロパンジ
アミン構造を有する化合物（米国特許第３６５４１５８
号、西独特許第３６０７８８４号、米国特許第４９８２
０００号、特開平１−２３３２６４号、特開平２−２２
３５１５号等）が知られているが、これらの化合物は、
ジアミン構造を有するものであることに加え、カルボキ
シル基、スルホン酸基、硫酸残基等のアニオン性官能基
を有しておらず、本発明化合物とはその構造、機能とも
に大きく異なっている。

【００１０】成分（Ａ）として用いられる多鎖型アミン
誘導体、その塩又はその４級化物は洗浄活性成分として
用いられるものであり、一般式（１）中、Ｒ² 及びＲ³
で示されるヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖も
しくは分岐鎖の炭素数１〜２４のアルキル基又はアルケ
ニル基の具体例としては、以下のものを挙げることがで
きる。

【００１１】直鎖アルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサ
デシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イ
コシル、ヘンイコシル、ドコシル、トリコシル及びテト
ラコシルを挙げることができ、分岐鎖アルキル基として
は、例えばメチルヘキシル、エチルヘキシル、メチルヘ
プチル、エチルヘプチル、メチルノニル、メチルウンデ
シル、メチルヘプタデシル、ヘキシルデシル、オクチル
デシルなどの基を挙げることができる。

【００１２】直鎖アルケニル基としては、例えばエテニ
ル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、
ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデ
セニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、
ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オ
クタデセニル、ノナデセニル、イコセニル、ヘンイコセ
ニル、ドコセニル、トリコセニル、テトラコセニルなど
の基を挙げることができ、分岐鎖アルケニル基として
は、例えばメチルヘキセニル、エチルヘキセニル、メチ
ルヘプテニル、エチルヘプテニル、メチルノネニル、メ
チルウンデセニル、メチルヘプタデセニル、ヘキシルデ
セニル、オクチルデセニルなどの基を挙げることができ
る。

【００１３】ヒドロキシル基で置換された直鎖又は分岐
鎖のアルキル基としては、ヒドロキシル基の置換位置は
特に限定されず、例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、ヒド
ロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシヘプ
チル、ヒドロキシオクチル、ヒドロキシノニル、ヒドロ
キシデシル、ヒドロキシウンデシル、ヒドロキシドデシ
ル、ヒドロキシトリデシル、ヒドロキシテトラデシル、
ヒドロキシペンタデシル、ヒドロキシヘキサデシル、ヒ
ドロキシヘプタデシル、ヒドロキシオクタデシル、ヒド
ロキシノナデシル、ヒドロキシイコシル、ヒドロキシヘ
ンイコシル、ヒドロキシドコシル、ヒドロキシトリコシ
ル、ヒドロキシテトラコシル、ヒドロキシメチルヘキシ
ル、ヒドロキシエチルヘキシル、ヒドロキシメチルヘプ
チル、ヒドロキシエチルヘプチル、ヒドロキシメチルノ
ニル、ヒドロキシメチルウンデシル、ヒドロキシメチル
ヘプタデシル、ヒドロキシヘキシルデシル、ヒドロキシ
オクチルデシルブチルなどの基を挙げることができる。

【００１４】ヒドロキシル基で置換された直鎖又は分岐
鎖のアルケニル基としては、ヒドロキシル基の置換位置
は特に限定されず、例えばヒドロキシエテニル、ヒドロ
キシプロペニル、ヒドロキシブテニル、ヒドロキシペン
テニル、ヒドロキシヘキセニル、ヒドロキシヘプテニ
ル、ヒドロキシオクテニル、ヒドロキシノネニル、ヒド
ロキシデセニル、ヒドロキシウンデセニル、ヒドロキシ
ドデセニル、ヒドロキシトリデセニル、ヒドロキシテト
ラデセニル、ヒドロキシペンタデセニル、ヒドロキシヘ
キサデセニル、ヒドロキシヘプタデセニル、ヒドロキシ
オクタデセニル、ヒドロキシノナデセニル、ヒドロキシ
イコセニル、ヒドロキシヘンイコセニル、ヒドロキシド
コセニル、ヒドロキシトリコセニル、ヒドロキシテトラ
コセニル、ヒドロキシメチルヘキセニル、ヒドロキシエ
チルヘキセニル、ヒドロキシメチルヘプテニル、ヒドロ
キシエチルヘプテニル、ヒドロキシメチルノネニル、ヒ
ドロキシメチルウンデセニル、ヒドロキシメチルヘプタ
デセニル、ヒドロキシヘキシルデセニル、ヒドロキシオ
クチルデセニルなどの基を挙げることができる。

【００１５】これらのうち、Ｒ² 及びＲ³ としては直鎖
もしくは分岐鎖の炭素数６〜２４のアルキル基又はアル
ケニル基、更に直鎖又は分岐鎖の炭素数６〜１２のアル
キル基、特に炭素数６〜１２の直鎖アルキル基が好まし
い。

【００１６】一般式（１）中、Ａで示されるヒドロキシ
ル基、カルボキシル基もしくはスルホン酸基が置換して
いてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数１〜６のアルキ
レン基又はアルケニレン基の具体例としては、以下のも
のを挙げることができる。

【００１７】アルキレン又はアルケニレン基としては、
例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テト
ラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、
メチルエチレン基、エチルエチレン基、エテニレン基、
プロペニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、ヘキ
セニレン基等が挙げられる。このうち炭素数１〜４のも
のが好ましく、炭素数１〜３のものがより好ましく、メ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、エテニレン基
が特に好ましい。

【００１８】これらのアルキレン又はアルケニレン基に
は、ヒドロキシル基(-OH)、スルホン酸基（-SO₃H）又は
カルボキシル基（-COOH）が置換し得るが、これらの置
換基は１種又は２種以上を組み合わせて１〜４個置換し
ていてもよい。

【００１９】ヒドロキシ置換アルキレン又はアルケニレ
ン基としては、１−ヒドロキシエチレン基、２−ヒドロ
キシエチレン基、１，２−ジヒドロキシエチレン基、１
−ヒドロキシトリメチレン基、２−ヒドロキシトリメチ
レン基、３−ヒドロキシトリメチレン基、１，２−ジヒ
ドロキシトリメチレン基、１，３−ジヒドロキシトリメ
チレン基、１，２，３−トリヒドロキシトリメチレン
基、１−ヒドロキシテトラメチレン基、２−ヒドロキシ
テトラメチレン基、３−ヒドロキシテトラメチレン基、
４−ヒドロキシテトラメチレン基、１，２−ジヒドロキ
シテトラメチレン基、１，３−ジヒドロキシテトラメチ
レン基、１，４−ジヒドロキシテトラメチレン基、２，
３−ジヒドロキシテトラメチレン基、２，４−ジヒドロ
キシテトラメチレン基、３，４−ジヒドロキシテトラメ
チレン基、１，２，３−トリヒドロキシテトラメチレン
基、２，３，４−トリヒドロキシテトラメチレン基、
１，３，４−トリヒドロキシテトラメチレン基、１，
２，３，４−テトラヒドロキシテトラメチレン基等が挙
げられるが、このうち１，２−ジヒドロキシエチレン
基、１−ヒドロキシエチレン基、２−ヒドロキシエチレ
ン基、２−ヒドロキシトリメチレン基が特に好ましい。

【００２０】スルホン酸基置換アルキレン又はアルケニ
レン基としては、１−スルホエチレン基、２−スルホエ
チレン基、１−スルホトリメチレン基、２−スルホトリ
メチレン基、３−スルホトリメチレン基、１−スルホテ
トラメチレン基、２−スルホテトラメチレン基、３−ス
ルホテトラメチレン基、４−スルホテトラメチレン基、
１，３−ジスルホテトラメチレン基、１，４−ジスルホ
テトラメチレン基、２，３−ジスルホテトラメチレン
基、２，４−ジスルホテトラメチレン基等が挙げられる
が、このうち特に１−スルホエチレン基、２−スルホエ
チレン基が特に好ましい。

【００２１】カルボキシル基が置換したアルキレン又は
アルケニレン基としては、１−カルボキシエチレン基、
２−カルボキシエチレン基、１−カルボキシトリメチレ
ン基、２−カルボキシトリメチレン基、３−カルボキシ
トリメチレン基、１−カルボキシテトラメチレン基等が
挙げられる。これらの中でも１−カルボキシエチレン
基、２−カルボキシエチレン基が好ましい。

【００２２】ヒドロキシ基及びカルボキシル基が置換し
たアルキレン又はアルケニレン基としては、２−カルボ
キシ−１−ヒドロキシトリメチレン基、２−カルボキシ
−１，３−ジヒドロキシトリメチレン基、２−カルボキ
シ−２−ヒドロキシトリメチレン基、３−カルボキシ−
２，４−ジヒドロキシテトラメチレン基などを挙げるこ
とができる。これらのなかでも２−カルボキシ−２−ヒ
ドロキシトリメチレン基が好ましい。

【００２３】ヒドロキシ基及びスルホン酸基が置換した
アルキレン又はアルケニレン基としては、１−ヒドロキ
シ−２−スルホエチレン基、２−ヒドロキシ−１−スル
ホエチレン基、１−ヒドロキシ−２−スルホトリメチレ
ン基、１−ヒドロキシ−３−スルホトリメチレン基、２
−ヒドロキシ−１−スルホトリメチレン基、２−ヒドロ
キシ−３−スルホトリメチレン基、１，２−ジヒドロキ
シ−３−スルホトリメチレン基、１，３−ジヒドロキシ
−２−スルホトリメチレン基、１−ヒドロキシ−２−ス
ルホテトラメチレン基、１−ヒドロキシ−４−スルホテ
トラメチレン基、２−ヒドロキシ−４−スルホテトラメ
チレン基、３−ヒドロキシ−４−スルホテトラメチレン
基等が挙げられる。

【００２４】一般式（１）中、ｐは１〜８の整数を示す
が、１〜５、特に１〜３の整数が好ましい。

【００２５】化合物（１）は、スルホン酸基（-SO
₃H）、硫酸残基（-OSO₃H）又はカルボキシル基（-COO
H）を有するので種々の塩基性物質との間に塩を形成し
得る。例えばアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、ア
ミン塩、塩基性アミノ酸塩、アンモニウム塩などを挙げ
ることができる。具体的には、ナトリウム、カリウム、
リチウム、マグネシウム、カルシウム、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、モノエタノ
ールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、リジン、アルギニン、コリン、アンモニアなどとの
塩を挙げることができ、これらのなかでもアルカリ金属
塩、特にナトリウム塩が好ましい。なお、化合物（１）
は、第３級アミノ基を有するので、式（１）中のｎが０
の場合には、プロトンが第３級アミノ基の窒素原子上に
配位して当該第３級アミノ基がアンモニウムカチオンと
なり、スルホン酸基、硫酸残基又はカルボキシル基がス
ルホン酸アニオン(-SO₃ ^-) 、硫酸アニオン(-OSO₃ ^-) 又
はカルボキシアニオン(-COO^-)となった４級塩構造をと
っていることもある。

【００２６】また、化合物（１）は、必要により第４級
化物とすることもでき、具体的には式（１）中の窒素原
子のすべて又はいずれかが第４級化された化合物が挙げ
られる。当該第４級化のために窒素原子上に結合し得る
基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基もしくは
スルホン酸基が置換していてもよい炭素数１〜６のアル
キル基、ベンジル基又は-(R⁴O)_mH（ここで、Ｒ⁴ は炭素
数２〜４のアルキレン基を、ｍは１〜５０の数を示す）
で示される基が挙げられる。ここで、水酸基、カルボキ
シル基又はスルホン酸基が置換していてもよい炭素数１
〜６のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヒドロキシエチル基、１，２−ジヒド
ロキシプロピル基、カルボキシメチル基、２−ヒドロキ
シ−３−スルホプロピル基等が挙げられる。基-(R⁴O)_mH
で示される基としては、具体的には、ポリオキシエチレ
ン基、ポリオキシプロピレン基等が例示され、就中ｍ＝
１〜２０のものが好ましい。なお、化合物（１）の第４
級化物は、式（１）中のｎが０の場合に存在し得るもの
である。

【００２７】化合物（１）は、例えば次の反応ａ〜反応
ｄに従って製造される。

【００２８】

【化３】

【００２９】〔式中、Ｒ² 、Ｒ³ 及びｐは前記と同じ意
味を示し、Ａ¹ はヒドロキシル基又はカルボキシル基が
置換していてもよい炭素数１〜６のアルキレン基又はア
ルケニレン基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙ³ は
スルホン酸基又はカルボキシル基を示す。〕

【００３０】すなわち、化合物（２）′に化合物（３）
又はその塩を反応させることにより化合物（１ａ）が製
造される。

【００３１】化合物（２）′と化合物（３）又はその塩
との反応は、例えば不活性溶媒の存在下２０〜１５０
℃、好ましくは４０〜１００℃で、pHを８〜１０に保ち
ながら、化合物（２）′に対し、２〜５倍モルの化合物
（３）又はその塩を反応させることによって行われる。
ここで化合物（３）のＸで示されるハロゲン原子として
は、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げら
れ、このうち塩素原子がより好ましい。化合物（３）又
はその塩の具体例としては、クロロ酢酸ナトリウム、３
−クロロ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウ
ム、３−クロロプロピオン酸ナトリウム、４−クロロ−
ｎ−酪酸ナトリウム等が挙げられ、このうちクロロ酢酸
ナトリウム、３−クロロ−２−ヒドロキシプロパンスル
ホン酸ナトリウムがより好ましい。また、ここで用いる
不活性溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒等が挙げられ、
これらは１種又は２種以上を組み合わせて用いることが
できるが、就中、水、低級アルコール又は水と低級アル
コールの混合溶媒が好ましい。なお、本反応においてア
ミン誘導体（２）′に対し化合物（３）を過剰に使用す
ると、式（１ａ）中の窒素原子のすべて又は一部が第４
級化された化合物が生成する。

【００３２】この反応終了後、反応混合物中には目的と
する化合物（１ａ）の他、無機塩、未反応の化合物
（２）′、化合物（２）′に化合物（３）が１モル付加
した化合物及び未反応の化合物（３）が含まれている場
合がある。この際には、反応混合物をそのまま使用でき
る場合を除き、次の方法により精製することができる。
精製方法は、例えば溶媒分別法、イオン交換クロマトグ
ラフィー法、再結晶法、電気透析法等の常法を採用でき
る。また、得られた目的物は遊離塩基として単離しても
よいが、所望の塩基物質で中和する等の通常の手段によ
り塩交換を行い、所望の塩の形態で単離してもよい。こ
こで用いられる塩基物質としては、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウ
ム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、アルカノー
ルアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミンなど）、リジン、アルギニ
ン、コリン等が挙げられ、中でも水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物が好ましい。

【００３３】

【化４】

【００３４】〔式中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ａ¹ 及びｐは前記と
同じ意味を示し、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は同一又は異なって水素
原子又はヒドロキシル基もしくはカルボキシル基が置換
していてもよいアルキル基もしくはアルケニル基を示
し、Ｙ²′はヒドロキシル基又は硫酸残基を示す。〕

【００３５】すなわち、化合物（２）′にエポキシ化合
物（４）を反応させ、得られる化合物（５）に硫酸エス
テル化剤を反応させ、所望により塩基性物質で中和する
ことにより、化合物（１ｂ）が製造される。

【００３６】化合物（２）′とエポキシ化合物（４）と
の反応は、例えば不活性溶媒中、好ましくは１００〜２
００℃、特に好ましくは１３０〜１８０℃で、化合物
（２）′に対して、エポキシ化合物（４）を２〜５倍モ
ル反応させることにより行うのが好ましい。この反応で
使用する不活性溶媒としては、非プロトン性の溶媒であ
れば特に制限されるものではないが、価格や溶解性の点
を考慮すると、低級炭化水素類、芳香族炭化水素類、エ
ーテル類、ハロ炭化水素類などが好ましい。また、この
反応は、エポキシ化合物（４）及び使用した不活性溶媒
の沸点を考慮して、オートクレーブなどの耐圧容器内で
行うことが好ましい。エポキシ化合物（４）としては、
安価であることからエチレンオキシド、プロピレンオキ
シド、ブチレンオキシドが好ましく、特にエチレンオキ
シドが好ましい。

【００３７】次に、このようにして得られた化合物
（５）とClSO₃H、SO₃等の硫酸エステル化剤との反応
は、不活性溶媒中又は無溶媒で、−７５℃〜１５０℃の
温度範囲で行うのが好ましい。ClSO₃HやSO₃の使用量
は、化合物（５）に対して２〜（ｐ＋５）倍モルである
のが好ましい。また、この反応終了後、必要に応じて行
う中和反応では、〔反応ａ〕と同様の塩基物質を用いる
ことができる。

【００３８】なお、上記反応ｂの第１段階においては、
反応点である両末端の窒素原子のうち一方のみが反応し
た化合物をも生成し、また第２段階である硫酸エステル
化においては（ｐ＋３）個のヒドロキシル基のうち一部
のみが硫酸エステル化された化合物を生成する。この反
応生成物はそのまま各種の用途に使用することもできる
が、より高純度のものが必要な場合には、通常の方法、
例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー、蒸留等によ
り精製して用いることもできる。

【００３９】

【化５】

【００４０】〔式中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ａ¹ 、Ｙ² ′及びｐ
は前記と同じ意味を示し、Ｒ⁷ は水素原子又は置換基を
有していてもよいアルキル基を示す。〕

【００４１】すなわち、化合物（２）′にラクトン類又
はオキシカルボン酸類を反応させ、得られるアミドアル
コール（６）に硫酸エステル化剤を反応させ、所望によ
り塩基性物質で中和することにより化合物（１ｃ）が製
造される。

【００４２】化合物（２）′とラクトン類又はオキシカ
ルボン酸類との反応は、例えば不活性溶媒中又は無溶媒
で、好ましくは２０〜１８０℃、特に好ましくは４０〜
１５０℃で、化合物（２）′に対して、ラクトン類又は
オキシカルボン酸類を２〜５倍モル反応させることによ
り行うのが好ましい。この反応で使用する不活性溶媒と
しては、非プロトン性の溶媒であれば特に制限されるも
のではないが、価格や溶解性の点を考慮すると、低級炭
化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ハロ炭化水
素類などが好ましい。この反応に用いるラクトン類及び
オキシカルボン酸類としては、安価であることから、γ
−ラクトン、δ−ラクトン、グリコール酸、乳酸、α−
ヒドロキシ酸及びこれらのメチルエステル、エチルエス
テルなどが好ましい。

【００４３】このようにして得られたアミドアルコール
（６）とClSO₃H、SO₃等の硫酸エステル化剤との反応
は、不活性溶媒中又は無溶媒で、−７５℃〜１５０℃の
温度範囲で行うのが好ましい。ClSO₃HやSO₃の使用量
は、アミドアルコール（６）に対して２〜（ｐ＋５）倍
モルであるのが好ましい。また、この反応終了後、必要
に応じて行う中和反応は、前記反応ａ及びｂの場合と同
様に行うことができる。

【００４４】なお、上記反応ｃの第１段階であるアミド
化においては、反応点である両末端の窒素原子のうち一
方のみが反応した化合物をも生成し、また第２段階であ
る硫酸エステル化においては、（ｐ＋３）個のヒドロキ
シル基のうち一部のみが硫酸エステル化された化合物を
も生成する。この反応生成物はそのまま各種の用途に使
用することもできるが、より高純度のものが必要な場合
には、通常の方法、例えば再結晶、カラムクロマトグラ
フィー、蒸留等により精製して用いることもできる。

【００４５】

【化６】

【００４６】〔式中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ａ¹ 及びｐは前記と
同じ意味を示し、Ｒ⁸ 及びＲ⁹ は水素原子又は置換基を
有していてもよいアルキル基もしくはアルケニル基を示
し、Ａ ² はヒドロキシル基もしくはカルボキシル基が置
換していてもよくスルホン酸基が置換している直鎖もし
くは分岐鎖の炭素数１〜６のアルキレン基を示し、
Ｙ²″はヒドロキシル基又は-OCO-A¹-COOHを示し、
Ｙ²′′′はヒドロキシル基又は-OCO-A²-COOHを示
す。〕

【００４７】すなわち、化合物（２）′に酸無水物、ジ
カルボン酸又はそのエステルを反応させ、エステルを用
いた場合は更に加水分解し、必要に応じて塩基性物質で
中和することにより、化合物（１ｄ）またはその塩を製
造することができる。また、得られた化合物（１ｄ）の
Ａ¹ 中に-CH=CH-がある場合には、これにSO₃、亜硫酸ナ
トリウム、NaHSO₃等のスルホン化剤を反応させ、必要に
応じて塩基性物質で中和することにより化合物（１ｅ）
が製造される。

【００４８】化合物（２）′と酸無水物との反応は、例
えば無水不活性溶媒の存在下、２０〜１５０℃、好まし
くは４０〜１００℃で、化合物（２）′に対して、好ま
しくは２〜（ｐ＋５）倍モルの酸無水物を反応させるこ
とにより行うのが好ましい。ここで用いられる無水不活
性溶媒としては、例えばエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ベンゼン、ピリジン等が挙げられる。なお、本反応
においては、酸無水物が多量に使用されると、（ｐ＋
１）個あるヒドロキシル基のすべて又はその一部が酸無
水物と反応し、基-OCO-A¹-COOHに変換される。

【００４９】また、化合物（２）′とジカルボン酸又は
そのエステルとの反応は、例えば、不活性溶媒中、４０
〜１８０℃、好ましくは８０〜１５０℃で、化合物
（２）′に対して、好ましくは２．０〜５．０倍モルの
ジカルボン酸又はそのエステルを反応させることにより
行うのが好ましい。この反応は、生成してくるアルコー
ル又は水を除去しながら行うのが好ましい。この反応で
用いる不活性溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどを挙げることができる。

【００５０】なお、ジカルボン酸エステルにおいて、式
中、Ｒ⁸ 及びＲ⁹ で示されるアルキル基又はアルケニル
基としては、炭素数１〜５のものを挙げることができる
が、これらのなかでも、メチル基、エチル基が好まし
い。

【００５１】なお、ここでジカルボン酸エステルを用い
た場合には、一般式（７）で表される製造中間体が得ら
れることになり、次いでこれを例えば含水アルコール
中、酸又は塩基触媒下、加水分解することが必要とな
る。

【００５２】

【化７】

【００５３】〔式中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ａ¹ 及びｐは前記と
同じ意味を示し、Ｒ⁸′及びＲ⁹′はＲ ⁸ 又はＲ⁹ に対応
するアルキル基又はアルケニル基を示す。〕

【００５４】次に、Ａ¹ 中に-CH=CH-を有する化合物
（１ｄ）とSO₃、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリ
ウム等のスルホン化剤との反応は、例えば、水中におい
て、３０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃で、化合
物（１ｄ）中の-CH=CH-基に対して１．０〜６．０倍モ
ル、好ましくは１．０〜３．０倍モルのSO₃、亜硫酸ナ
トリウム、亜硫酸水素ナトリウム等を、pH４．０〜１
１．０、好ましくは５．０〜８．０で反応させることに
より行うのが好ましい。

【００５５】得られた化合物（１ｄ）及び（１ｅ）の中
和反応は前記反応ａ〜ｃと同様にして行うことができ
る。また、これらの反応においては、両末端のアミノ基
のうち一方のみがアミド化された化合物等が副生する
が、反応生成物はそのまま各種の用途に使用することも
できる。しかし、より高純度のものが必要な場合には、
通常の方法、例えば再結晶、カラムクロマトグラフィ
ー、電気透析等により精製して用いることもできる。

【００５６】このようにして得られる化合物（１）に４
級化剤を反応させることにより、一般式（１）において
ｎ＝０の場合は（ｐ＋２）個の窒素原子、ｎ＝１の場合
はｐ個の３級アミノ基の窒素原子のすべて又はその一部
が第４級化された化合物が得られる。

【００５７】４級化剤としては、水酸基、カルボキシル
基又はスルホン酸基が置換していてもよい炭素数１〜６
のアルキルハライド、ベンジルハライド、アルキレンオ
キサイド又はその塩が挙げられる。このうち、アルキル
ハライドがより好ましい。ここでアルキル基としてはメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イ
ソプロピル基等が挙げられ、ハロゲンとしては塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。このうちメチルクロライドが
特に好ましい。

【００５８】なお、前記反応ａ〜ｄにおいて化合物
（１）の原料として用いたアミン誘導体（２）′は、例
えば以下の反応式に従って製造することができる。

【００５９】

【化８】

【００６０】〔式中、Ｘ及びｐは前記と同じ意味を示
し、Ｒ¹ 、Ｒ²′及びＲ³′は、同一又は異なって、水素
原子又はヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖もし
くは分岐鎖の炭素数１〜２４のアルキル基もしくはアル
ケニル基を示し、ｒは１〜８の整数、ｓは０〜２の整数
であって、２ｓ＋ｒ＝ｐを満たすものを示す。〕

【００６１】すなわち、アミン誘導体（８）とエピハロ
ヒドリン（９）を反応させて得られるハロヒドリン化合
物（１０）、又はこれに塩基化合物を作用させて得られ
るエポキシ化合物（１１）と、アミン誘導体（１２）と
を反応させることにより、アミン誘導体（２）が得られ
る。ここで、アミン誘導体（２）のうち、一般式（２）
においてＲ¹ が水素原子でＲ²′がＲ² 、Ｒ³′がＲ³ で
あるものがアミン誘導体（２）′である。アミン誘導体
（２）′のうち、Ｒ² 及びＲ³ が直鎖もしくは分岐鎖の
炭素数６〜２４のアルキル基又はアルケニル基であるも
の、更に直鎖又は分岐鎖の炭素数６〜１２のアルキル基
であるもの、特に炭素数６〜１２の直鎖アルキル基であ
るものが好ましい。

【００６２】なお、アミン誘導体（２）のうち、一般式
（２）中、ｐが１の場合においてＲ ³′が水素原子又は
ヒドロキシル基が置換していないアルキル基もしくはア
ルケニル基であり、かつＲ¹ 及びＲ²′が水素原子又は
ヒドロキシル基が置換していてもよい炭素数１〜５のア
ルキル基又はアルケニル基である化合物以外のものは、
文献未記載の新規化合物である。本発明はこの新規アミ
ン誘導体（２）をも提供するものである。

【００６３】上記製造方法において、ハロヒドリン化合
物（１０）の合成に用いられるエピハロヒドリン（９）
のＸで示されるハロゲン原子としては、例えば塩素、臭
素及びヨウ素が挙げられ、好ましくは塩素である。

【００６４】アミン誘導体（８）とエピハロヒドリン
（９）との反応は、例えば無溶媒下、又は低級アルコー
ル、エーテル、芳香族炭化水素もしくはこれらの混合物
等の反応に不活性な溶媒中、好ましくは−２０〜１００
℃、特に好ましくは０〜６０℃で行うことができる。ま
た使用するアミン誘導体（８）とエピハロヒドリン
（９）の量比は、適宜設定することができるが、エピハ
ロヒドリン（９）をアミン誘導体（８）に対して２〜５
倍モル使用するのが好ましい。

【００６５】続くエポキシ化合物（１１）の合成に用い
られる塩基性化合物としては、例えばアルカリ金属水酸
化物、アルカリ金属炭酸塩、アミン類等が好ましく、特
に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。

【００６６】ハロヒドリン化合物（１０）と塩基性化合
物との反応は、例えば水、低級アルコールもしくはこれ
らの混合物等の反応に不活性な溶媒中、好ましくは０〜
８０℃、特に好ましくは２０〜６０℃で行うことができ
る。また使用するハロヒドリン化合物（１０）と塩基性
化合物の量比は、適宜設定することができるが、塩基性
化合物をハロヒドリン化合物（１０）に対して２〜５倍
モル使用するのが好ましい。

【００６７】上記のようにして得られたハロヒドリン化
合物（１０）又はエポキシ化合物（１１）と、アミン誘
導体（１２）との反応は、例えば無溶媒下、又は低級ア
ルコール、エーテル、芳香族炭化水素もしくはこれらの
混合物などの反応に不活性な溶媒中、好ましくは４０〜
１５０℃、特に好ましくは６０〜１００℃で行うことが
できる。また、反応に使用する各化合物の量比は、適宜
設定することができるが、一般には、アミン誘導体（１
２）をハロヒドリン化合物（１０）又はエポキシ化合物
（１１）に対して２〜２０倍モル、特に２〜１０倍モル
使用するのが好ましい。

【００６８】このような反応により、本発明のアミン誘
導体（２）を得ることができるが、反応条件等によって
はこのほかにアミンと酸の塩、無機塩、未反応の各化合
物などが副生、残存することがある。よって、本発明に
おいては、反応生成物をそのまま使用することも可能で
あるが、必要に応じて、溶媒分別法、透析法、再結晶
法、蒸留法、分配クロマトグラフィー法、ゲル濾過法な
ど、公知の方法により更に精製することもできる。

【００６９】以上のようにして得られたアミン誘導体
（２）のうち、一般式（２）においてＲ¹ が水素原子で
Ｒ²′がＲ² 、Ｒ³′がＲ³ である化合物（２）′は、前
述のように反応ａ〜ｄにおける本発明化合物（１）の原
料として有用であるが、一般式（２）においてＲ¹ 及び
Ｒ²′が共に水素原子でない化合物においても、これに
化合物（３）を反応させることにより、４級化物である
本発明化合物（１ａ）′を一段階で製造することがで
き、その原料として有用である。

【００７０】

【化９】

【００７１】〔式中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ａ¹ 及びＹ³ 及びｐ
は前記と同じ意味を示し、Ｒ¹′はＲ¹ に対応するアルキ
ル基又はアルケニル基を示す。〕

【００７２】成分（Ａ）の配合量は特に制限されない
が、洗浄力及び皮膚刺激性の観点から、通常０．１〜５
０重量％（以下、単に％で示す）であるが、０．０１〜
３０％とすることが好ましく、特に０．０３〜１０％、
更に０．０５〜７％とすることが好ましい。

【００７３】本発明に使用される成分（Ｂ）のうち金属
イオン封鎖剤としては、通常使用されるものならばいず
れのものも使用でき特に限定されるものではないが、例
えば以下のものが挙げられる。

【００７４】（１）オルソリン酸、ピロリン酸、トリポ
リリン酸、メタリン酸、ヘキサメタリン酸、フィチン酸
等のリン酸系化合物のアルカリ金属塩又はアルカノール
アミン塩。 （２）エタン−１，１−ジホスホン酸、エタン−１，
１，２−トリホスホン酸、エタン−１−ヒドロキシ−
１，１−ジホスホン酸及びその誘導体、エタンヒドロキ
シ−１，１，２−トリホスホン酸、エタン−１，２−ジ
カルボキシ−１，２−ジホスホン酸、メタンヒドロキシ
ホスホン酸等のホスホン酸のアルカリ金属塩又はアルカ
ノールアミン塩。 （３）２−ホスホノブタン−１，２−ジカルボン酸、１
−ホスホノブタン−２，３，４−トリカルボン酸、α−
メチルホスホノコハク酸等のホスホノカルボン酸のアル
カリ金属塩又はアルカノールアミン塩。 （４）アスパラギン酸、グルタミン酸、グリシン等のア
ミノ酸のアルカリ金属塩又はアルカノールアミン塩。 （５）ニトリロ三酢酸、イミノ二酢酸、エチレンジアミ
ン四酢酸、ヒドロキシエチレンジアミン酢酸、ジエチレ
ントリアミン五酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢
酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、トリエチレンテト
ラミン六酢酸、ジエンコル酸等のアミノポリ酢酸のアル
カリ金属塩又はアルカノールアミン塩。 （６）ジグリコール酸、オキシジコハク酸、カルボキシ
メチルオキシコハク酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュ
ウ酸、リンゴ酸、オキシジコハク酸、グルコン酸、カル
ボキシメチルコハク酸、カルボキシメチル酒石酸等の有
機酸のアルカリ金属塩又はアルカノールアミン塩。 （７）ゼオライトＡに代表されるアルミノケイ酸のアル
カリ金属塩又はアルカノールアミン塩。 （８）アミノポリ（メチレンホスホン酸）及びそのアル
カリ金属塩又はアルカノールアミン塩、ポリエチレンポ
リアミンポリ（メチレンホスホン酸）及びそのアルカリ
金属塩又はアルカノールアミン塩。

【００７５】特にクエン酸あるいはリンゴ酸等のヒドロ
キシカルボン酸、ピロリン酸等の縮合リン酸、エチレン
ジアミン四酢酸あるいはヒドロキシエチレンジアミン酢
酸等のアミノカルボン酸、又はこれらのナトリウム塩、
カリウム塩等のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩もし
くはアルカノールアミン塩等及びそれらの水溶性塩が好
ましいものとして挙げられる。上記金属イオン封鎖剤
は、１種でも、また２種以上を混合して使用してもよ
い。

【００７６】金属イオン封鎖剤の配合量は特に制限され
ないが、洗浄力の観点から通常０．０１〜５０％、好ま
しくは０．５〜２０％、特に好ましくは１〜２０％であ
る。

【００７７】本発明において用いられる成分（Ｂ）のア
ルカリ剤としてはアミン化合物が好ましく、下記一般式
（１５）〜（１８）で表わされるアミン化合物から選ば
れる１種又は２種以上が特に好ましい。

【００７８】

【化１０】

【００７９】〔式中、Ｒ¹³、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁸、Ｒ²⁰、Ｒ²²、
Ｒ²⁴、Ｒ²⁵はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜４のアル
キル基を示し、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁹、Ｒ²¹、Ｒ²³は
それぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素
数２〜３のヒドロキシアルキル基を示す〕

【００８０】一般式（１５）で表わされる化合物として
は、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、Ｎ−メチルプロパノール等が挙げられる。一般
式（１６）で表わされる化合物としては、Ｎ−（β−ア
ミノエチル）エタノールアミン等が挙げられる。一般式
（１７）で表わされる化合物としては、ジエチレントリ
アミン等が挙げられる。また、一般式（１８）で表わさ
れる化合物としては、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリ
ン等が挙げられる。これらの中でもモノエタノールアミ
ン及びモルホリンが特に好ましい。

【００８１】アルカリ剤の配合量は、特に制限されない
が、洗浄力の観点から通常、０．０１〜５０％である
が、好ましくは０．５〜２０％、特に好ましくは１〜２
０％である。

【００８２】本発明に使用される成分（Ｂ）の水溶性溶
剤としては、特に限定されるものではないが、下記一般
式（１９）〜（２２）で表わされるものが好ましい。

【００８３】

【化１１】

【００８４】〔式中、Ｒ²⁶は炭素数３〜８の飽和もしく
は不飽和の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、フェニル
基又はベンジル基を示し、ｒ及びｓはそれぞれ０〜４の
整数を示し、かつ１≦ｒ＋ｓ≦４である。ただし、ｒ×
ｓ≠０のとき、付加されるエチレンオキシド基及びプロ
ピレンオキシド基は任意に配列される〕

【００８５】一般式（１８）で表わされる溶剤の具体例
としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジ−（プロピレンエ
チレングリコール）−モノブチルエーテル、フェニルグ
リコール、フェニルジグリコール、ベンジルグリコー
ル、ベンジルジグリコール等が挙げられる。これらは１
種でも、また２種以上を混合して使用してもよい。

【００８６】

【化１２】

【００８７】〔式中、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸は、同一でも異なって
いてもよい、炭素数１〜６のアルキル基を示す〕

【００８８】これらの具体例としては、１，８−ジメチ
ル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジエチル−２−イ
ミダゾリジノン等が好ましいものとして挙げられる。

【００８９】

【化１３】

【００９０】〔式中、Ｒ²⁹は炭素数１〜６のアルキル基
を示す〕

【００９１】これらの具体例としては、３−メトキシ−
３−メチルブタノール、３−エトキシ−３−メチルブタ
ノールが好ましいものとして挙げられる。

【００９２】

【化１４】HO-R³⁰-OH （２２）

【００９３】〔式中、Ｒ³⁰は炭素数４〜１２の炭化水素
基を示す〕

【００９４】これらの具体例としては、３−メチル−
１，３−ブタンジオール、２，２，４−トリメチル−
１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、１，８−オク
タンジオール等が好ましいものとして挙げられる。これ
らは１種でも、また２種以上を混合して使用してもよ
い。

【００９５】水溶性溶剤の配合量は、特に制限されない
が、洗浄力の観点から通常０．１〜５０％であるが、好
ましくは０．５〜２０％、特に好ましくは１〜２０％で
ある。

【００９６】成分（Ａ）に成分（Ｂ）を配合する場合、
洗浄の対象となる硬質表面の汚れの種類や程度によって
最適な組み合わせが異なる。例えば、比較的軽度の手あ
か汚れ、未変性の油脂汚れなどに対しては、成分（Ａ）
に成分（Ｂ）として水溶性溶剤を配合した洗浄剤組成物
が洗浄力及び仕上り性の面で優れている。台所回り等に
おいて、熱、日光及び空気中の酸素等の作用により変質
した油脂汚れなどに対しては、成分（Ａ）にアルカリ剤
を配合した洗浄剤組成物が洗浄力及び仕上り性の面で優
れており、更に水溶性溶剤を配合するとより効果的であ
る。トイレ回りの便器内の汚れ、浴室内の金属石けん、
特に脂肪酸カルシウム汚れなどに対しては、成分（Ａ）
に金属イオン封鎖剤を配合した洗浄剤組成物が洗浄力の
面で優れており、更に水溶性溶剤を配合するとより効果
的である。トイレ回りの便器内の汚れ、浴室内の金属石
ケン、特に脂肪酸カルシウム汚れなどに対しては、成分
（Ａ）に金属イオン封鎖剤を配合した洗浄剤組成物が洗
浄力の面で優れており、更に水溶性溶剤を配合すること
により効果的である。

【００９７】本発明の硬質表面用洗浄剤組成物には、必
要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲において、
上記以外の界面活性剤を配合することができる。このよ
うな界面活性剤は特に限定されないが、非イオン性、陰
イオン性及び両性界面活性剤からなる群から選ばれる１
種又は２種以上のものが好ましい。具体的には次のもの
が挙げられる。

【００９８】陰イオン性界面活性剤としては、アルキル
ベンゼンスルホン酸塩類、アルキレンオキシド付加アル
キル又はアルケニルエーテル硫酸塩類、アルキル又はア
ルケニル硫酸塩類、オレフィンスルホン酸塩類、アルカ
ンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類、アルキレンオキシド付
加アルキル又はアルケニルエーテルカルボン酸塩類、α
−スルホ脂肪酸塩類及びそのエステル類、ジフェニルエ
ーテルジスルホン酸類等が挙げられる。陰イオン性界面
活性剤の対イオンとしては、ナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属又はアンモニウム塩もしくはモノエタノー
ルアンモニウム、ジエタノールアンモニウム、トリエタ
ノールアンモニウム等のアルカノール置換アンモニウム
塩を挙げることができる。

【００９９】非イオン性界面活性剤としては、ポリオキ
シアルキレンアルキル又はアルケニルエーテル類、ポリ
オキシアルキレンアルキルフェニルエーテル類、蔗糖脂
肪酸エステル類、脂肪酸グリセリンエステル類、アミン
オキシド類、高級脂肪酸アルカノールアミド類又はその
アルキレンオキサイド付加物、次の一般式（２３）で表
わされるアルキルグリコシド等が挙げられる。

【０１００】

【化１５】R³¹(OR³²)_tG_u （２３）

【０１０１】〔式中、Ｒ³¹は炭素数８〜１８の直鎖もし
くは分岐鎖のアルキル基、アルケニル基又はアルキルフ
ェニル基を示し、Ｒ³²は炭素数２〜４のアルキレン基を
示し、Ｇは炭素数５〜６を有する還元糖に由来する残基
を示し、ｔはその平均値が０〜５の数を示し、ｕはその
平均値が１〜１０の数を示す〕

【０１０２】一般式（２３）中、ｔはその平均値が０〜
５であるが、この値が本発明組成物の水溶性及び結晶性
を調整する。つまり、ｔが高い程、水溶性が高くなり且
つ結晶性が低くなる傾向にある。好ましいｔの値は０〜
２であり、特に好ましくは０である。一方、ｕは、その
平均値が１より大きい場合、つまり２糖以上の糖鎖を親
水性基とする一般式（２３）で表わされる界面活性剤を
含有する場合、糖鎖の結合様式は１−２、１−３、１−
４、１−６結合、更にα−、β−ピラノシド結合又はフ
ラノシド結合及びこれらの混合された結合様式を有する
任意の混合物を含むことが可能である。また、一般式
（２３）中のｕの平均値は１〜１０、好ましくは１〜
３、より好ましくは１〜１．５であるが、更に好ましい
平均値は１．１〜１．４である。なお、ｙの測定法はプ
ロトンＮＭＲ法によるものである。

【０１０３】また、一般式（２３）中のＲ³¹は炭素数８
〜１８の直鎖又は分岐鎖を有するアルキル基、アルケニ
ル基又はアルキルフェニル基であるが、溶解性、起泡性
及び洗浄性向上の点から、好ましいのは炭素数１０〜１
４のアルキル基である。また、Ｒ³²は炭素数２〜４のア
ルキレン基であるが、水溶性の点から好ましい炭素数は
２〜３である。更にＧは単糖もしくは２糖以上の原料に
よってその構造が決定されるが、このＧの原料として
は、単糖ではグルコース、フルクトース、ガラクトー
ス、キシロース、マンノース、リキソース、アラビノー
ス等及びこれらの混合物等が、２糖以上ではマルトー
ス、キシロビオース、イソマルトース、セロビオース、
ゲンチビオース、ラクトース、スクロース、ニゲロー
ス、ツラノース、ラフィノース、ゲンチアノース、メレ
ジトース等及びこれらの混合物等が挙げられる。これら
のうち、好ましい単糖類原料は、それらの入手容易性及
びコストの点から、グルコース及びフルクトースであ
り、２糖以上ではマルトース及びスクロースである。こ
の中でも、特に入手容易性の点からグルコースが好まし
い。更に、ペンタエリスリトール・イソステアリルグリ
シジルエーテルの１モル付加体、ソルビトール・イソス
テアリルグリシジルエーテルの１モル付加体、マンニト
ール・２−オクチルドデシルグリシジルエーテルの１モ
ル付加体、メチルグルコシド・イソステアリルグリシジ
ルエーテルの１モル付加体、ジグリセリン・イソステア
リルグリシジルエーテルの１モル付加体、フィタントリ
オール等の１分子中に少なくとも１個の長鎖分岐アルキ
ル基又はアルケニル基及び少なくとも３個の水酸基を有
する非イオン性界面活性剤が挙げられる。

【０１０４】両性界面活性剤としては、例えば炭素数１
〜２２の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基
を有するスルホベタイン及びカルボベタイン等が挙げら
れる。

【０１０５】本発明においては、これらの界面活性剤の
うち、洗浄力又は拭き取り性の向上の点から、ジフェニ
ルエーテルジスルホン酸類、高級脂肪酸アルカノールア
ミド類又はそのアルキレンオキサイド付加物、アミンオ
キサイド類、アルキルグリコシド類、スルホベタイン類
又はカルボベタイン類が好ましく、この中でも、特にジ
フェニルエーテルジスルホン酸類、アルキルグリコシド
類が好ましい。

【０１０６】これらの界面活性剤を配合するときの配合
量は、組成物中に０．０１〜２０％、好ましくは０．０
５〜１０％、特に好ましくは０．０５〜５％である。界
面活性剤の配合量が０．０１％未満では、界面活性能が
充分発揮されず配合する意味がなく、また２０％を超え
て配合してもそれ以上の効果は期待されないため、２０
％を超える配合は必要としない。

【０１０７】本発明の硬質表面用洗浄剤組成物は、上記
成分の他、更に必要に応じて、更に系の低温での保存安
定性を向上させるために、通常の分散剤、香料、染料、
顔料、防腐剤等を本発明の効果を損なわない範囲で添加
することができる。

【０１０８】本発明の硬質表面用洗浄剤組成物は、常法
により、上記成分及び水を混合して製造することができ
る。

【０１０９】

【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例の説明に先立ち、各実施例で使用する成分（Ａ）
の合成例について説明する。

【０１１０】合成例１ 反応容器にドデシルアミン２８６．３ｇ（１．５４モ
ル）及びキシレン９０ｇを入れ、８０℃に加熱した。こ
れにＮ，Ｎ−ビス（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピ
ル）ドデシルアミン５７ｇ（０．１５モル）をキシレン
５０ｇに溶解させた溶液を１時間３０分かけて滴下し、
更に４時間熟成した。その後、減圧下でキシレンを留去
し、更に１００℃、０．５mmHgで未反応のドデシルアミ
ンを留去した。残渣にヘキサン５００ml及びアセトン２
０００mlを加えて溶解し、次にキシレン５００ml及び５
％水酸化ナトリウム水溶液５００mlの混合物により、抽
出、洗浄した。その後、キシレン層を分取し、濃縮し
て、次式で表される１５，１９−ジヒドロキシ−１７−
ドデシル−１３，１７，２１−トリアザトリトリアコン
タン４９．５ｇを得た（収率４８％）。

【０１１１】

【化１６】

【０１１２】質量分析（ＦＡＢイオン化法）： ｍ／ｚ：６６９（Ｍ＋Ｈ⁺），ｍ＝Ｃ₄₂Ｈ₈₉Ｎ₃ Ｏ₂ ¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ）：０．８８（ｔ，
９Ｈ，(a)）、１．２８（ｂｒｏａｄ，５４Ｈ，(b)）、
１．４５（ｂｒｏａｄ，６Ｈ，(c)）、２．４５〜２．
７３（ｂｒｏａｄ ｍ，１４Ｈ，(d)）、３．７４
（ｍ，２Ｈ，(e)）

【０１１３】合成例２ 反応容器にオクチルアミン３７１ｇ（２．８７モル）を
入れ、７０℃に加熱した。次に、これにＮ，Ｎ−ビス
（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）ブチルアミン
７０ｇ（０．２７モル）をキシレン５０ｇに溶解させた
溶液を４０分かけて滴下し、更に４時間熟成した。その
後、減圧下でキシレンを留去し、更に７０℃、０．５mm
Hgで未反応のオクチルアミンを留去した。残渣にキシレ
ン４００ml及び５％水酸化ナトリウム水溶液４００mlの
混合物を加え、抽出、洗浄した。その後、キシレン層を
分取し、濃縮して、次式で表される１１，１５−ジヒド
ロキシ−１３−ブチル−９，１３，１７−トリアザペン
タトコサン９９．８ｇを得た（収率８２％）。

【０１１４】

【化１７】

【０１１５】質量分析（ＦＡＢイオン化法）：ｍ／ｚ：
４４５（Ｍ＋Ｈ⁺），ｍ＝Ｃ₂₆Ｈ₅₇Ｏ₂ Ｎ₃ ¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，δｐｐｍ）：０．８５
（ｔ，９Ｈ，(a)）、１．２２（ｂｒｏａｄ，２２Ｈ，
(b)）、１．２６〜１．３３（ｂｒｏａｄ，６Ｈ，
(c)）、２．４０〜２．７１（ｂｒｏａｄｍ，１４Ｈ，
(d)）、３．７７（ｍ，２Ｈ，(e)）

【０１１６】合成例３ 反応容器にドデシルアミン２８０ｇ（１．５１モル）及
びキシレン１００ｇを入れ、７０℃に加熱した。これに
Ｎ，Ｎ−ビス（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）
ヒドロキシエチルアミン３８．５ｇ（０．１８モル）を
キシレン２０ｇに溶解させた溶液を３０分かけて滴下
し、更に４時間熟成した。その後、減圧下でキシレンを
留去し、更に１００℃、０．５mmHgで未反応のドデシル
アミンを留去した。残渣にヘキサン５００ml及び５％水
酸化ナトリウム水溶液５００mlの混合物により、抽出、
洗浄した。その後、キシレン層を分取し、濃縮して、次
式で表される１５，１９−ジヒドロキシ−１７−ヒドロ
キシエチル−１３，１７，２１−トリアザトリトリアコ
ンタン７５．６ｇを得た（収率７７％）。

【０１１７】

【化１８】

【０１１８】質量分析（ＦＡＢイオン化法）： ｍ／ｚ：５４５（Ｍ＋Ｈ⁺），ｍ＝Ｃ₃₂Ｈ₆₉Ｏ₃Ｎ₃ ¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ）：０．８８（ｔ，
６Ｈ，(a)）、１．２５（ｂｒｏａｄ，３６Ｈ，(b)）、
１．２９（ｂｒｏａｄ，４Ｈ，(c)）、２．４１〜２．
８０（ｂｒｏａｄ ｍ，１４Ｈ，(d)）、３．３９（ｂ
ｒｏａｄ ｔ，２Ｈ，(f)）、３．７５（ｍ，２Ｈ，
(e)）

【０１１９】合成例４ 反応容器にオクチルアミン２７５ｇ（２．２モル）を入
れ、７０℃に加熱した。次に、これにＮ，Ｎ−ビス（３
−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）ヒドロキシエチル
アミン３６ｇ（０．１７モル）をキシレン３０ｇに溶解
させた溶液を４０分かけて滴下し、更に４時間熟成し
た。その後、減圧下でキシレンを留去し、更に７０℃、
０．５mmHgで未反応のオクチルアミンを留去した。残渣
にキシレン５００ml及び５％水酸化ナトリウム水溶液５
００mlの混合物を加え、抽出、洗浄した。その後、キシ
レン層を分取し、濃縮して、次式で表される１１，１５
−ジヒドロキシ−１３−ヒドロキシエチル−９，１３，
２１−トリアザペンタトコサン化合物５０．７ｇを得た
（収率６９％）。

【０１２０】

【化１９】

【０１２１】質量分析（ＦＡＢイオン化法） ｍ／ｚ：４３２，ｍ＝Ｃ₂₄Ｈ₅₃Ｏ₃Ｎ₃ ¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ）：０．８６（ｔ，
６Ｈ，(a)）、１．２５（ｂｒｏａｄ，２０Ｈ，(b)）、
１．２７（ｂｒｏａｄ，４Ｈ，(c)）、２．４０〜２．
８０（ｂｒｏａｄ ｍ，１４Ｈ，(d)）、３．４１（ｂ
ｒｏａｄ ｔ，２Ｈ，(f)）、３．７７（ｍ，２Ｈ，
(e)）

【０１２２】合成例５ 反応容器に、１５，１９−ジヒドロキシ−１７−ドデシ
ル−１３，１７，２１−トリアザトリトリアコンタン１
６．６ｇ（０．０２５モル）及びキシレン２００ｇを入
れ、５０℃に保温した。エピクロロヒドリン６．９ｇ
（０．０７５モル）を１時間１０分かけて滴下し、３６
時間熟成した。その後室温において、減圧下、溶媒及び
未反応のエピクロロヒドリンを留去し、次式で表される
１５，１９−ジヒドロキシ−１３，２１−ビス（３−ク
ロロ−２−ヒドロキシプロピル）−１７−ドデシル−１
３，１７，２１−トリアザトリトリアコンタン２１．２
ｇを得た。

【０１２３】

【化２０】

【０１２４】¹H-NMR(CDCl₃,δppm)：0.90(t,(a),9H),1.
25(br,(b),54H),1.41(br,(c),6H),2.46-2.80(br,m,(d),
18H),3.58(m,(g),4H),3.75(m,(e),2H),3.90(m,(f),2H). 質量分析（FABイオン化法）： m/z：852(M+H⁺), m＝C₄₈H₉₉N₃O₄Cl₂

【０１２５】合成例６ 反応容器に、合成例１と同様にして得た１５，１９−ジ
ヒドロキシ−１３，２１−ビス（３−クロロ−２−ヒド
ロキシプロピル）−１７−ドデシル−１３，１７，２１
−トリアザトリトリアコンタン５ｇ（５．９mmol）、エ
タノール２０ｇ及び水１０ｇ入れ、５０℃に保温した。
これに１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を１１．８ml入れ、
２０分攪拌した後、減圧下、溶媒を留去し、エタノール
５０mlを加え、不溶部をろ別した。その後減圧下にてエ
タノールを留去し、次式で表される１３，１７，２１−
トリアザ−１７−ドデシル−１３，２１−ビス（２，３
−エポキシプロピル）−１５，１９−ジヒドロキシトリ
トリアコンタン４．６ｇを得た。

【０１２６】

【化２１】

【０１２７】¹H-NMR(CDCl₃,δppm)：0.95(t,(a),9H),1.
31(br,(b),54H),1.44(br,(c),6H),2.44-2.82(m,(d),22
H),3.15(m,(f),2H),3.77(m,(e),2H). 質量分析（FABイオン化法）： m/z：779(M+H⁺), m＝C₄₈H₉₇N₃O₄

【０１２８】合成例７ 反応容器にドデシルアミン７７ｇ（０．４２モル）及び
エタノール１００ｇを入れ、７５℃に加熱した。これ
に、合成例１と同様にして得た１５，１９−ジヒドロキ
シ−１３，２１−ビス（３−クロロ−２−ヒドロキシプ
ロピル）−１７−ドデシル−１３，１７，２１−トリア
ザトリトリアコンタン２１．２ｇ（０．０２５モル）を
エタノール５０ｇに溶解させた溶液を３０分かけて滴下
し、更に５時間熟成した。その後、減圧下でエタノール
を留去し、更に１００℃、０．５mmHgで未反応のドデシ
ルアミンを留去した。残渣にヘキサン５００ml及び５％
水酸化ナトリウム水溶液５００mlの混合物により、抽出
・洗浄した。ヘキサン層を分取し、濃縮して次式で表さ
れる１５，１９，２３，２７−テトラヒドロキシ−１
７，２１，２５−トリドデシル−１３，１７，２１，２
５，２９−ペンタアザヘンテトラコンタン２１．１ｇ
（収率７３．５％）を得た。

【０１２９】

【化２２】

【０１３０】¹H-NMR(CDCl₃,δppm)：0.82(t,(a),15H),
1.22(br,(b),90H),1.35(br,(c),10H),2.35,2.60(br,m,
(d),26H),3.67(br,m,(e),4H).

【０１３１】合成例８ 反応容器にＮ−ヒドロキシエチル−ドデシルアミン３５
ｇ（０．１５mol）及びエタノール５０ｇを入れ７５℃
に加熱した。これに、合成例１と同様にして得た１５，
１９−ジヒドロキシ−１３，２１−ビス（３−クロロ−
２−ヒドロキシプロピル）−１７−ドデシル−１３，１
７，２１−トリアザトリトリアコンタン１２．８ｇ
（０．０１５mol）をエタノール３０ｇに溶解させた溶
液を３０分かけて滴下し、更に７時間熟成した。その
後、減圧下にて、エタノール及び未反応のＮ−ヒドロキ
シエチル−ドデシルアミンを留去した。残渣にキシレン
５００ml及び５％水酸化ナトリウム溶液５００mlを加
え、抽出・洗浄した。キシレン層を分取し、濃縮して次
式で表される１５，１９，２３，２７−テトラヒドロキ
シ−１７，２１，２５−トリデシル−１３，２９−ジ
（ヒドロキシエチル）−１３，１７，２１，２５，２９
−ペンタアザヘンテトラコンタン１１．４ｇ（収率６１
％）を得た。

【０１３２】

【化２３】

【０１３３】¹H-NMR(CDCl₃,δppm)：0.88(t,(a),15H),
1.28(br,(b),90H),1.42(br,(c),10H),2.40-2.61(br,m,
(d),30H),3.58(br,m,(e),4H),3.70(br,m,(f),4H).

【０１３４】合成例９ ６，１０−ジヒドロキシ−３，１３−ジオキソ−４，
８，１２−トリオクチル−４，８，１２−トリアザ−
１，１５−ペンタデカンジカルボン酸ナトリウム塩の製
造：反応容器に１１，１５−ジヒドロキシ−１３−オク
チル−９，１３，１７−トリアザペンタトコサン１７．
５ｇ（０．０３５モル）及び無水コハク酸７．６ｇ
（０．０７モル）を入れ、ジエチルエーテル１００mlを
３０分かけて滴下し、還流温度で４時間攪拌した。その
後、水を加え、水層のpHが中性になるまで水洗し、エー
テル層に亜硫酸ナトリウムを加えて脱水し、濾過後、減
圧下エーテルを留去した。残渣に水酸化ナトリウム水溶
液を加えて溶解させ、pHを７に調整して、凍結乾燥する
ことにより、６，１０−ジヒドロキシ−３，１３−ジオ
キソ−４，８，１２−トリオクチル−４，８，１２−ト
リアザ−１，１５−ペンタデカンジカルボン酸ナトリウ
ムを２４ｇ得た（単離収率９６％）。図１に、この化合
物の ¹H-NMR（溶媒：D₂O）チャートを記す。

【０１３５】

【化２４】

【０１３６】合成例１０ ６−ブチル−４，８−ジヒドロキシ−２，１０−ジオク
チル−２，６，１０−トリアザ−１，１１−ウンデカン
ジカルボン酸の製造：反応容器に１３−ブチル−１１，
１５−ジヒドロキシ−９，１３，１７−トリアザペンタ
トコサン１８．６ｇ（０．０４モル）、エタノール１０
０ｇ及び水５０ｇを入れ、７０℃に昇温した。その後、
クロロ酢酸ナトリウム４３ｇ（０．３７モル）水溶液を
加え、pHを９に維持して２０時間攪拌した。反応終了後
エタノールを減圧下にて留去し、水で１０％に希釈し
た。pHを７に調整し、電気透析により脱塩し、凍結乾燥
することにより、６−ブチル−４，８−ジヒドロキシ−
２，１０−ジオクチル−２，６，１０−トリアザ−１，
１１−ウンデカンジカルボン酸を２０．２ｇ得た（単離
収率８５％）。以下に¹H-NMRデータを示す。

【０１３７】¹H-NMR(D₂O)：δ(ppm) 0.85（三重線,9H,a) 1.27（巾広い一重線,22H,b) 1.60（巾広い一重線,6H,c) 2.80〜3.20（複雑な多重線,14H,d) 3.51（複雑な多重線,2H,e) 4.00（巾広い一重線,4H,f)

【０１３８】

【化２５】

【０１３９】合成例１１ １，１５−ジカルボキシ−６，１０−ジヒドロキシ−
３，１３−ジオキソ−４，８，１２−トリオクチル−
４，８，１２−トリアザ−１，１５−ペンタデカンジス
ルホン酸ナトリウムの製造：反応容器に１１，１５−ジ
ヒドロキシ−１３−オクチル−９，１３，１７−トリア
ザペンタトコサン８ｇ（０．０１６モル）に、無水マレ
イン酸３．２ｇ（０．０３２モル）をクロロホルムに溶
かした溶液を１時間かけて滴下した。５０℃に昇温し、
６時間攪拌した。その後溶媒を減圧下にて留去し、残渣
に亜硫酸ナトリウム６．０ｇ（０．０４８モル）を１５
０mlの水に溶かした溶液を加え、６０℃にて７時間反応
させた。反応終了後、更に１００mlの水を加え、pHを７
に調整した後、電気透析により脱塩し、凍結乾燥するこ
とにより、１，１５−ジカルボキシ−６，１０−ジヒド
ロキシ−３，１３−ジオキソ−４，８，１２−トリオク
チル−４，８，１２−トリアザ−１，１５−ペンタデカ
ンジスルホン酸ナトリウム１０．６ｇを得た（単離収率
７１％）。以下に1N HClで処理した化合物の¹H-NMRデー
タを示す。

【０１４０】¹H-NMR(CDCl₃) ：δ(ppm) 0.88（三重線,9H,a) 1.26（巾広い一重線,30H,b) 1.58（巾広い一重線,6H,c) 2.65〜3.15（複雑な多重線,10H,e) 3.20〜3.84（複雑な多重線,12H,d)

【０１４１】

【化２６】

【０１４２】合成例１２ ３，７，１１−トリドデシル−３，７，１１−トリアザ
−１，５，９，１３−トリデカンテトラサルフェートの
製造：反応容器に３，７，１１−トリドデシル−３，
７，１１−トリアザ−１，５，９，１３−トリデカンテ
トラオール２２．７ｇ（０．０３モル）及びジクロロメ
タン１５０mlを入れ、窒素気流下、氷冷しながらクロロ
スルホン酸８．８ml（０．１３モル）を滴下した。その
後、徐々に室温まで戻し、窒素気流により発生する塩酸
及びジクロロメタンを除去した。残渣に水を加えて溶解
し、更に１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH７に調
整した。その後、脱塩装置（マイクロアシライザーＧ
３，旭化成社製）により脱塩し、更にそれを凍結乾燥機
により乾燥し、標記化合物２８．１ｇ（収率８５．５
％）を得た。

【０１４３】この化合物は薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝１／１）による測
定の結果、単一スポット（Ｒｆ＝０．２）であることを
確認した。また、この化合物のＩＲスペクトルは次の通
りであった。

【０１４４】IR(KBr錠剤法,cm^-1):1388,1190（ν_s=o）

【０１４５】合成例１３ ３，７，１１，１５，１９−ペンタドデシル−３，７，
１１，１５，１９−ペンタアザ−１，５，９，１３，１
７，２１−ヘニコサンヘキササルフェートの製造：反応
容器に３，７，１１，１５，１９−ペンタドデシル−
３，７，１１，１５，１９−ペンタアザ−１，５，９，
１３，１７，２１−ヘニコサンヘキサオール１２．４ｇ
（０．０１モル）及びジクロロメタン１５０mlを入れ、
窒素気流下、氷冷しながらクロロスルホン酸４．４ml
（０．０７モル）を滴下した。その後、徐々に室温まで
戻し、窒素気流により発生する塩酸及びジクロロメタン
を除去した。残渣に水を加えて懸濁させ、１Ｎ水酸化ナ
トリウム水溶液を用いてpH７に調整した。その後、脱塩
装置（マイクロアシライザーＧ３，旭化成社製）により
脱塩し、更にそれを凍結乾燥機により乾燥し、標記化合
物１７．０ｇ（収率９７％）を得た。

【０１４６】この化合物は薄層クロマトグラフィー（展
開溶媒：クロロホルム／メタノール＝１／１）による測
定の結果、単一スポット（Ｒｆ＝０．２）であることを
確認した。また、この化合物のＩＲスペクトルは次の通
りであった。

【０１４７】IR(KBr錠剤法,cm^-1):1390,1182（ν_s=o）

【０１４８】試験例１ 下記の方法により、皮膚に対する刺激性を検討した。 （試験方法）モルモット（ｎ＝５）の側腹部の毛を剃毛
した後、１０％試料溶液３０mgを直径約２cmの円形状に
塗布した（計８回）。１日１回塗布を４日間繰り返した
のち、塗布皮膚部の状態を判定した。判定は５段階評価
で行いモルモットの数の平均を算出した。

【０１４９】

【表１】

【０１５０】

【表２】

【０１５１】表２より化合物（１）はラウリル硫酸トリ
エタノールアミンに比べて明らかに皮膚刺激性が弱いこ
とが判明した。

【０１５２】実施例１ 表３に示す組成の硬質表面用洗浄剤組成物を調製し、実
際に手あか汚れやドロ、ヤニ汚れのついた家庭の窓ガラ
スを洗浄し、その洗浄力及び仕上り性について下記評価
方法により評価を行った。

【０１５３】（洗浄力及び仕上り性の評価方法）洗浄液
を市販のスプレーヤーで２mlスプレーし、乾いたタオル
で拭き取った後に、下記の評価基準にて官能評価をする
ことにより行った。

【０１５４】評価基準 ・洗浄力 ○：汚れが８割以上落ちる。 △：汚れが３割以上８割未満落ちる。 ×：汚れがほとんど落ちない。

【０１５５】・仕上り性 ○：拭きすじがほとんどない。 △：やや拭きすじが残る。 ×：拭きすじが残る。

【０１５６】

【表３】

【０１５７】実施例２〜７ 表４に示す組成の硬質表面用洗浄剤組成物を調製し、洗
浄力について下記評価方法により評価を行った。

【０１５８】（評価方法）天ぷら油を２００〜２２０℃
で２０hrs 加熱した後、１００℃で空気を吹き込みなが
ら１０hrs 処理して油を劣化させた。この劣化した油
を、ステンレス板の表面に５ｇ塗布し、室温に１ケ月放
置した。この汚れに各組成物を滴下し、５分間放置後、
乾いたタオルで拭き取った後に、下記の評価基準にて官
能評価を行った。

【０１５９】・洗浄力 ◎：汚れ落ちが非常に良好である。 ○：汚れ落ちが良好である。 △：汚れが落ちない箇所が有る。 ×：ほとんど汚れが落ちない。

【０１６０】

【表４】

【０１６１】実施例８〜１０ 表５に示す硬質表面用洗浄剤組成物を調製し、洗浄力に
ついて下記評価方法により評価を行った。

【０１６２】（評価方法）洗浄力の評価は、こすった程
度では落ちない風呂汚れが付着している鋳鉄ホーロー浴
槽を、評価用洗浄剤を含ませたウレタン製のスポンジに
約５００ｇの荷重をかけ５往復こすった後の浴槽表面の
汚れの除去状態を視覚によって下記の５段階に評価し
た。

【０１６３】・洗浄力 ５：汚れ落ちが非常に良好である。 ４：汚れ落ちが良好である。 ３：汚れ落ちにむらがある。 ２：若干汚れが落ちる程度である。 １：ほとんど汚れが落ちない。

【０１６４】また、スポンジでこすっている時の泡立ち
性（すべり易さ）についても同時に評価した。

【０１６５】

【表５】

【０１６６】実施例１１〜１５ 表６に示す硬質表面用洗浄剤組成物を調製し、洗浄力に
ついて下記評価方法により評価を行った。

【０１６７】（評価方法）実際の家庭の非水洗の小便器
用トイレ汚れに、各組成物を１０ｇ塗布し、枝つきブラ
シにより１０回こすり、下記の評価基準にて官能評価を
行った。

【０１６８】・洗浄力 ○：汚れ落ちが良好である。 △：汚れ落ちがやや良好である。 ×：汚れがほとんど落ちない。

【０１６９】

【表６】

【０１７０】実施例１〜１５より、本発明の硬質表面用
洗浄剤組成物は、手あか汚れやドロ、ヤニ汚れのついた
ガラス、油汚れのついた台所回り、浴室、トイレ等の種
々の硬質表面の汚れに対する洗浄力に優れ、かつ仕上り
性、泡のすべり性が良好であることがわかる。

【０１７１】

【発明の効果】本発明の硬質表面用洗浄剤組成物は、台
所回り、浴室、トイレ、窓ガラス等の硬質表面の汚れに
対する洗浄力に優れ、仕上り性が良好で、しかも皮膚に
対する刺激性が少ないものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】合成例９で得られた化合物の¹Ｈ−ＮＭＲチャ
ートである。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次の成分（Ａ）及び（Ｂ）：（Ａ）下記
   一般式（１）； 【化１】 〔式中、Ｒ² 及びＲ³ は、同一又は異なって、ヒドロキ
   シル基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素
   数１〜２４のアルキル基又はアルケニル基を示し、Ａは
   ヒドロキシル基、カルボキシル基もしくはスルホン酸基
   が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数１〜
   ６のアルキレン基又はアルケニレン基を示し、Ｙ¹ はカ
   ルボキシル基、スルホン酸基又は硫酸残基を示し、Ｙ²
   はヒドロキシル基、硫酸残基又は基-OCO-A-COOHを示
   し、ｎは０又は１の数を示し、ｐは１〜８の整数を示
   す。〕で表される多鎖型アミン誘導体、その塩又はその
   ４級化物、（Ｂ）金属イオン封鎖剤、アルカリ剤及び水
   溶性溶剤から選ばれる１種又は２種以上を含有する硬質
   表面用洗浄剤組成物。
2. 【請求項２】 Ｙ¹ がスルホン酸基又は硫酸残基であ
   り、Ｙ² がヒドロキシル基又は硫酸残基である請求項１
   記載の硬質表面用洗浄剤組成物。
3. 【請求項３】 Ｙ¹ がカルボキシル基であり、Ｙ² がヒ
   ドロキシル基又は基-OCO-A-COOHである請求項１記載の
   硬質表面用洗浄剤組成物。
4. 【請求項４】 Ｒ² 及びＲ³ が、炭素数６〜２４の直鎖
   もしくは分岐鎖のアルキル又はアルケニル基である請求
   項１〜３のいずれかの項記載の硬質表面用洗浄剤組成
   物。
5. 【請求項５】 成分（Ａ）が遊離塩基又は塩の形態であ
   る請求項１〜４のいずれかの項記載の硬質表面用洗浄剤
   組成物。
6. 【請求項６】 成分（Ａ）を０．１〜５０重量％、成分
   （Ｂ）を０．０１〜５０重量％含有するものである請求
   項１〜５のいずれかの項記載の硬質表面用洗浄剤組成
   物。