JPH08110489A - 光ビーム照射装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】単一の発光部を用い、画像情報に基づき必要な
部分のみ高速に光ビームの走査密度の変更を行うこと
で、高品位な画像記録を可能とした光ビーム照射装置を
提供する。 【構成】一定の直線偏光方向の光ビームを発生する半導
体レーザ素子１０１と、半導体レーザ素子１０１から発
生した光ビームの偏光状態を選択的に変更する偏光スイ
ッチ１０３と、光ビームの偏光方向成分に対応して、光
ビームを分離する偏光分離素子１０４と、偏光分離素子
１０４により分離した光ビームの感光体１０９上でのス
ポットの中心位置が所定の解像度に対応した走査線ピッ
チの１／２の距離だけ副走査方向へずれるように光路を
変更するプリズム１０５と、走査密度データに基づき偏
光スイッチ１０３を駆動する偏光スイッチドライバ１５
３とを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はレーザビームプリンタや
ファクシミリ等の画像記録装置に組み込まれる光ビーム
照射装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザプリンタ等の電子写真方式を用い
た画像記録装置では、画像情報に応じてレーザ光源から
発生する光ビームを変調し、この光ビームをポリゴンミ
ラー（回転多面鏡）等の光学系を介して一様に帯電した
感光体に走査露光して静電潜像を形成し、この静電潜像
を帯電した着色粒子（トナー）によって現像し、用紙等
の記録媒体に転写、定着することで画像情報を記録して
いる。

【０００３】このような画像記録装置では、感光体の回
転速度ムラ、あるいはポリゴンミラーの鏡面の倒れ等に
より副走査方向に走査線ピッチの乱れがあると、画像に
縞状の濃度むらが発生し易い。

【０００４】この濃度むらは光ビームのスポット径を副
走査方向へ大きくし、走査線を副走査方向にオーバーラ
ップさせることで低減することが可能であるが、スポッ
ト径を大きくすることは他方で記録の空間分解能を低下
させることになる。

【０００５】この問題を解決する装置として特開平3−1
63478 号公報に開示された光記録装置がある。この装置
では感光体に対する副走査方向の画像記録ピッチよりも
副走査方向の露光ピッチの総和を小さくするように複数
の発光部を配置してなる光源を有し、この光源と回転自
在の感光体との間にポリゴンミラーを回転自在に設け、
連続階調記録と二値化画像記録との記録モード信号に応
じて発光させる発光部の数を変更する光学系制御手段
と、連続階調記録時には発光部のすべてを同一の変調信
号で変調する変調手段を有している。この構成によっ
て、二値化画像記録時には光学系制御手段によって特定
の発光部のみを発光させることにより、感光体に対する
ビーム径を小さくして解像度を向上することができ、ま
た、連続階調記録時には光学系制御手段によって全発光
部を発光させることで感光体に対する副走査方向のビー
ム径を大きくして、副走査方向の露光ピッチに乱れがあ
っても、副走査方向で隣接する露光点の重なり量を多く
してバンディングの発生を抑制することができる。

【０００６】また、感光体の回転速度が一定でない場合
でも、感光体上の光ビームの走査線を一定間隔にするこ
とで良好な印字を得る装置として特開平4−305670 号公
報に開示された印字装置がある。この装置では感光体ド
ラムの回転移動量を検知する移動量検知手段と、光学走
査装置によって走査された光ビームを検知する走査検出
手段と、光学走査装置を所定の走査線上を走査するのに
必要な速度の倍以上の速度で走査駆動させる駆動手段
と、移動量検出信号と走査検出信号に基づき、感光体ド
ラムが所定量回転移動したことを検出したとき光ビーム
の発射手段に印字情報に応じた光ビームを発射させるデ
ータ出力手段を有しており、感光体ドラム上の走査線を
一本形成する間に複数回の光ビームが検出され、この光
ビームが感光体ドラム上の走査すべき位置に来たとき、
印字情報に応じた光ビームを発射させるようにしている
ため、感光体ドラムの回転と光ビームの同期を取ること
ができ、感光体ドラムの速度が一定でない場合でも、感
光体ドラム上に光ビームの走査線を一定間隔にしてむら
のない良好な印字が得られる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】感光体の回転速度むら
等の理由により走査線ピッチが変動すると、副走査方向
に縞状の画像濃度のむらが生じ、良好な画像を得ること
ができないという問題が生じる。

【０００８】この問題に対して従来技術が提案されてい
る。しかし、特開平3−163478 号公報に開示されている
光記録装置では光源が複数の発光部で構成されているた
め、光源の構成が複雑大型化する、調整個所が多くなる
等の問題が生じる。また、特開平4−305670 号公報に開
示されている印字装置では、光学走査装置を所定の走査
線上を走査するのに必要な速度の倍以上の速度で走査駆
動させる必要がある。したがって、標準的な記録速度を
維持するためには、ポリゴンミラー（回転多面鏡）を高
速回転させなければならず、この場合、高速回転による
振動，騒音さらには高速回転用モータを用いることによ
るコストアップという問題が生じる。

【０００９】一方、レーザプリンタ等の電子写真方式を
用いた画像記録装置で使用される感光体は多くの場合、
図２の２０１に示すような特性を持つ。ここで２０１は
一様に帯電している感光体をレーザビームで露光した場
合のレーザパワーと感光体表面電位の関係を示してい
る。また、２０２，２０３は感光体をレーザビームで一
様に走査露光するときの副走査方向の合成レーザパワー
分布を示しており、204，２０５はそれぞれ２０２，２
０３に示したレーザパワーで露光したときの感光体表面
電位分布を示している。２０１で示されるように感光体
の多くは、感光体に照射されるレーザパワーが小さいと
きほど、レーザパワーの変化に対する感光体表面電位の
変化が大きいという特性をもつ。したがって、走査線ピ
ッチに対応して周期的に現われるレーザパワーの変動
は、２０２，２０３に示すようにレーザパワーが大きい
ときほど大きいのだが、感光体表面電位の変動はむし
ろ、204，２０５に示すようにレーザパワーが小さいと
きの方が大きくなる。

【００１０】そのため、感光体の回転速度むら等による
走査線ピッチの変動が無くても、中間調画像の記録のた
めにレーザパワーを小さくすると、走査線ピッチに対応
した感光体表面電位の変動が大きくなり、画像に走査線
ピッチに対応した縞状の画像濃度むらが発生し易くなる
という問題が生じる。

【００１１】この感光体表面電位の変動は、感光体上に
三つの電位レベルを形成し、中間電位レベルを非画像部
（白部）とし、高電位部と低電位部でそれぞれ色および
極性の異なるトナーを正規現像もしくは反転現像して画
像を得る画像記録装置についてはさらに重大な問題とな
る。つまり、このような画像記録装置では、非画像部
（白部）を形成すために感光体表面電位を中間電位にす
る必要があるが、この場合、図２の２０４に示すように
感光体表面電位は走査線ピッチに対応して周期的に大き
く変動するため、現像によって非画像部（白部）にもト
ナーが付着してしまう現象、いわゆる、カブリが縞状に
生じるという問題が起こる。

【００１２】本発明の目的は、高品位な画像記録を行う
ことのできる光ビーム照射装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、一定の直線偏光方向の光ビームを発生す
る発光手段と、前記発光手段から発生した光ビームの偏
光状態をこれとは異なる偏光状態に選択的に変更する偏
光状態変更手段と、光ビームの偏光方向成分に対応し
て、光ビームを分離する光ビーム分離手段と、前記光ビ
ーム分離手段により分離した光ビームの被照射体上のス
ポットの中心位置が所定の解像度に対応した走査線ピッ
チより短い距離だけ副走査方向へずれるように光ビーム
の光路を変更する光路変更手段と、前記光ビーム分離手
段により分離した光ビームを被照射体上へ偏向走査する
光ビーム偏向走査手段と、入力装置からの画像情報に基
づき各画素の走査密度データを生成する走査密度データ
生成手段と、前記走査密度データに基づき、前記偏光状
態変更手段を駆動する偏光状態変更手段の駆動手段とを
有し、前記走査密度データに基づき、所定の解像度に対
応する走査線ピッチの間に、さらに光ビームを選択的に
走査露光することで走査密度を可変としたものである。

【００１４】さらに、前記光ビームの被照射体上での結
像スポットの副走査方向のスポット径を、所定の解像度
に対応する走査線ピッチの０.８〜１.２倍としたもので
ある。

【００１５】

【作用】一定の直線偏光方向の光ビームを放射する発光
手段から出た光ビームは、偏光状態変更手段で、任意の
偏光状態に変更される。

【００１６】偏光状態変更手段を通過した光ビームは光
ビーム分離手段に入射し、その偏光方向成分に対応し
て、Ｐ偏光とＳ偏光の２本の光ビームに分離される。

【００１７】したがって、光ビーム分離手段に入射する
光ビームがＳ偏光のときは光ビームは１本だけ出射し、
入射する光ビームの偏光状態がＳ偏光に対して４５°回
転した直線偏光、もしくは、円偏光のときは、同じパワ
ーのＳ偏光およびＰ偏光の２本の光ビームが出射する。

【００１８】このとき、分離された２本の光ビームは、
光ビーム偏向走査手段により被照射体上へ偏向走査され
るのだが、２本の光ビームの被照射体上のスポットの中
心位置は所定の解像度に対応した走査線ピッチの１／２
の距離だけ副走査方向にずれた位置を走査するよう光路
変更手段により設定されている。

【００１９】したがって、画像情報に基づいて走査密度
データ生成手段により生成された走査密度データに基づ
き、偏光状態変更手段を駆動し、光ビームの偏光状態を
変更すれば、所定の解像度に対応した走査線ピッチ内
に、さらに光ビームを選択的に走査することができる。
つまり、走査密度を選択的に各画素ごとで切り替えるこ
とが可能となる。

【００２０】よって、単一の発光部を用い、偏向走査装
置を高速化しなくても、画像情報に基づき必要な部分の
み光ビームの走査密度の変更を行うことが可能になる。

【００２１】さらに、光ビームの被照射体上での副走査
方向のスポット径を、所定の解像度に対応した走査線ピ
ッチと同程度とし、微小ドット等を記録するときに所定
の解像度に対応した走査密度で走査露光すれば解像性の
高い画像が得られ、副走査方向に連続なドット集合等を
記録するときに２倍の走査密度で走査露光すれば濃度む
らのない画像を得られる。したがって、高品質，高解像
度の記録を行うことが可能となる。

【００２２】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明
する。図１は本発明の光ビーム照射装置の一実施例の要
部のブロック図である。

【００２３】マイクロコンピュータやワードプロセッサ
等の情報処理装置１５０から入力される画像情報は、プ
リンタコントローラ部１５１のデータ処理部１５２で処
理される。処理された画像情報に基づき半導体レーザ素
子ドライバ１５４と偏光スイッチドライバ１５３がそれ
ぞれ半導体レーザ素子１０１と偏光スイッチ１０３を駆
動する。また、プリンタコントローラ部１５１からの信
号によりモータドライバ１５５がモータ１０７を駆動
し、ポリゴンミラー１０６を等速回転させる。

【００２４】半導体レーザ素子１０１から放射されるレ
ーザビームは、コリメータレンズ１０２で平行光束にさ
れ、偏光スイッチ１０３，偏光分離素子１０４，プリズ
ム１０５，を透過し、ポリゴンミラー１０６に到達す
る。ポリゴンミラー１０６はモータ１０７によって等速
回転するのでレーザビームは一定の角速度で偏向走査さ
れ、ｆθレンズ１０８（ａ），１０８（ｂ）の補正によ
り回転する非照射体（感光体）１０９上を一定の線速度
で露光走査して画像を書き込む。

【００２５】画像情報に基づきレーザパワー変調もしく
は点灯時間変調（パルス幅変調）されて半導体レーザ素
子１０１から放射されるレーザビームは性質上、半導体
レーザ素子１０１の接合面と平行な偏光方向の直線偏光
である。ここでは、半導体レーザ素子１０１から出射す
るレーザビームの偏光方向が、偏光分離素子１０４のＳ
偏光方向と同じとなるように半導体レーザ素子１０１を
設置する。以後、Ｓ偏光，Ｐ偏光は偏光分離素子１０４
を基準として考える。半導体レーザ素子１０１から放射
されたレーザビームはコリメータレンズ１０２を透過し
て、偏光スイッチ１０３に入射する。

【００２６】偏光スイッチ１０３は電圧を印加すると、
その印加された部分に光学的異方性を生じ、入射する光
ビームの偏光状態を高速に変更することができる素子で
ある。具体的にはＫＤＰ（ＫＨＰＯ₄ ）やＰＬＺＴ等の
バルク型構成のものや、例えばＬｉＮｂＯ₃ 基板上にＴ
ｉの拡散光導波路を形成した導波路型構成のものを用い
ることができる。また、本スイッチの目的は偏光状態を
変化させることなので、機械的または磁気的な効果を用
いた方法であってもよい。偏光スイッチドライバ１５３
により偏光スイッチ１０３に印加される制御電圧は、レ
ーザビームの偏光状態をＳ偏光方向成分と、Ｐ偏光方向
成分が同じになるように偏光状態をＳ偏光から４５°回
転した直線偏光、または円偏光に成るよう設定される。
また、制御電圧が印加されないときは偏光スイッチ１０
３から出射するレーザビームの偏光状態がオフセット電
圧や素子構成等により、入射したときと同じ偏光状態と
成るように設定される。

【００２７】したがって、画像情報に基づき偏光スイッ
チドライバ１５３によって、偏光スイッチ１０３に制御
電圧が印加されると、半導体レーザ素子１０１から出射
し、偏光スイッチ１０３に入射するＳ偏光のレーザビー
ムは、偏光スイッチ１０３により、その偏光方向を４５
°回転、または円偏光に変更され、制御電圧が印加され
ないとレーザビームの偏光状態は変更されず、Ｓ偏光の
まま偏光スイッチ103から出射する。

【００２８】偏光分離素子１０３を透過したレーザビー
ムは偏光分離素子１０４に入射する。 偏光分離素子１
０４は複屈折を利用し入射光をその偏光方向成分に応じ
て分離することができる素子であり、具体的にはウォラ
ストンプリズム等が使用できる。ここでは偏光分離素子
１０４は入射するレーザビームを、Ｓ偏光方向成分とＰ
偏光方向成分のレーザビームに分離するので、偏光スイ
ッチ１０３に制御電圧が印加されず偏光分離素子１０４
に入射するレーザビームがＳ偏光のままの時は出射する
レーザビームは一本であり、偏光スイッチ１０３に適切
な制御電圧が印加され、偏光分離素子１０４に入射する
レーザビームがＳ偏光から４５°回転した直線偏光、も
しくは円偏光に変更された場合は、同じパワーのＳ偏光
およびＰ偏光の２本のレーザビームが分離出射する。

【００２９】また、偏光分離素子１０４で分離された２
本のレーザビームは感光体１０９上での結像スポットの
中心位置が所定の解像度に対応した走査線ピッチの１／
２の距離だけ副走査方向にずれた位置を走査するように
プリズム１０５により設定される。つまり、偏光分離素
子１０４から出射するレーザビームが１本のときは、所
定の解像度に対応した走査密度で走査露光し、偏光分離
素子１０４から出射するレーザビームが２本の時は所定
の解像度に対応した走査線ピッチの中央に、さらにレー
ザビームが走査露光されるので走査密度が２倍になる。

【００３０】このような構成により、情報処理装置１５
０から入力された画像情報を基にプリンタコントローラ
部１５１のデータ処理部１５２で生成される画素単位の
走査密度データに基づき偏光スイッチドライバ１５３に
よって偏光スイッチ１０３に印加される制御電圧をオ
ン，オフするだけで、単一の半導体レーザ素子１０１か
ら出射したレーザビームを２本または１本のレーザビー
ムに高速切換えできるので、画素単位での走査密度の変
更が可能となる。

【００３１】次に走査密度を高くすることの効果につい
て説明する。

【００３２】図３（ａ）は感光体表面電位が中間電位レ
ベルになるように走査線ピッチの約１.５ 倍のスポット
径で連続走査露光したときの副走査方向の合成レーザパ
ワーの分布を示し、図３（ｂ）は図３（ａ）のレーザパ
ワーで感光体表面を露光したときの副走査方向の感光体
表面電位分布を示している。

【００３３】また、図４（ａ）は感光体表面電位が中間
電位になるように図３（ａ）の場合の２倍の走査密度
で、図３の場合の走査線ピッチの約１倍のスポット径で
連続走査露光したときの副走査方向の合成レーザパワー
の分布を示している。図４(ｂ)は図４（ａ）の合成レー
ザパワーで感光体表面を露光したときの副走査方向の感
光体表面電位分布を示している。

【００３４】図３と図４を比べると、図４の方がスポッ
ト径が小さいにもかかわらず感光体表面電位の変動が極
めて小さい。

【００３５】したがって、走査密度を高くすることで、
感光体表面電位の変動が小さくなり、副走査方向の画像
濃度むらの極めて少ない中間調画像を得ることが可能と
なる。また、感光体に３レベルの電位を形成して中間電
位レベルを非画像部（白部）とする画像記録装置では、
中間電位の安定により、かぶりのない非画像部(白部)を
得ることができる。一方、この場合、感光体１０９の回
転速度の変動等による走査線ピッチの変動があっても感
光体表面電位の変動は小さくおさえられるので走査線ピ
ッチの変動による画像濃度むらの発生も押さえることが
できる。

【００３６】ところで、一般に用いられている光ビーム
では、走査線同士をオーバーラップさせることで濃度変
動のない安定した画像を得るために、副走査方向のスポ
ット径が所定の解像度に対応した走査線ピッチの１.２
倍〜１.５倍のものが用いられる。

【００３７】これに対して走査密度を上げることで、副
走査方向のスポット径を所望の解像度に対応した走査線
ピッチの１倍程度（０.８〜１.２）の微小スポットにし
ても感光体表面電位の変動は小さく安定した中間調記録
が可能となる。また、この微小スポットを用いて、所定
の解像度に対応した走査密度で走査露光すれば、微小ド
ットや細線の再現性が良くなり、解像性は向上する。

【００３８】したがって、記録すべき画像が副走査方向
に隣り合う画素で同一濃度、もしくは濃度が連続して変
化する場合には、副走査方向に隣り合う画素と画素の間
にもう１点露光する。つまり、走査密度を所定の解像度
に対応した走査密度の２倍とし、そうでない場合は所定
の解像度に対応した走査密度とする走査密度データをデ
ータ処理部１５２で生成する。すなわち、記録すべき画
像が、例えば、中間調画像やべた画像などのドット集合
の場合は偏光スイッチ１０３に適切な制御電圧を印加し
て走査密度を２倍にすることで濃度むらのない安定した
画像を得ることができ、微小ドットや主走査方向に連続
な細線等の場合は偏光スイッチ１０３に制御電圧を印加
せず、所望の解像度に対応した走査密度で走査露光する
ことで、解像度の高い鮮明な画像を得ることができる。

【００３９】尚、半導体レーザ素子１０１から放射され
るレーザビームは画像情報に基づきレーザパワー変調も
しくはパルス幅変調が行われ得るが、偏光分離素子１０
４により分離された２本の光ビームについては個別に制
御する必要はない。

【００４０】また、感光体に３レベルの電位を形成し、
中間電位レベルを非画像部（白部）とし、高電位部と低
電位部を画像部とする画像記録装置では、画像部につい
ては所望の解像度に対応した走査密度で走査露光するこ
とで解像度の高い画像を再現し、非画像部（白部）につ
いては走査密度を２倍にすることでかぶりのない非画像
部（白部）を得て、解像度の高い画像部とかぶりの無い
非画像部が両立した高品位な画像を得ることも可能であ
る。

【００４１】また、実施例と同じ構成で、偏光スイッチ
ドライバ１５３から偏光スイッチ１０３に印加する制御
電圧を、偏光スイッチ１０３に入射するレーザビームの
偏光方向が制御電圧印加により９０°回転するように設
定する。この場合、偏光スイッチ１０３に印加する制御
電圧をオン，オフすることで、偏光スイッチ１０３を透
過するレーザビームの偏光方向がＰ偏光，Ｓ偏光となる
ため、偏光分離素子１０４からは異なる方向にレーザビ
ームが１本ずつ出射することになる。したがって、レー
ザビームの走査位置を高速に所望の解像度に対応した走
査線ピッチの１／２の距離だけ副走査方向にずらすこと
が可能となる。この場合、斜め線等を記録するときに、
段差や隙間を小さくすることができるので画質を向上す
ることが可能である。

【００４２】また、同様に、偏光スイッチ１０３に印加
する制御電圧を連続的に変えてレーザビームの偏光状態
を変更することで、レーザビームのＳ偏光成分と、Ｐ偏
光成分の比を変えれば、偏光分離素子１０４で分離した
２本のレーザビームのパワーの割合を変えることができ
る。これを利用することで斜め線等の再現性を向上し、
高品位な画像を記録することも可能である。

【００４３】本実施例によれば、単一の発光部を用い、
偏向走査装置を高速化しなくても、画像情報に応じて必
要な箇所だけ選択的に光ビームの走査密度を変えること
が可能である。光ビームの走査密度を高くすれば副走査
方向のスポット径が所定の解像度に対応した走査線ピッ
チの長さと同程度の光ビームであっても中間調画像やべ
た画像などのドット集合の再現性は低下しない。また、
この微小スポットを用い所望の解像度に対応した走査密
度で走査露光すれば微小ドットの再現性が向上する。よ
って解像度の高い鮮明な画像と中間階調画像が両立した
高品位な画像記録が可能となる。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば、単一の発光部を用い、
偏向走査装置を高速化しなくても、画像情報に応じて必
要な箇所だけ選択的に光ビームの走査密度を変えること
が可能である。光ビームの走査密度を高くすれば副走査
方向のスポット径が所定の解像度に対応した走査線ピッ
チの長さと同程度の光ビームであっても中間調画像やべ
た画像といったドット集合の濃度むらは現れない。ま
た、この微小スポットを用い所望の解像度に対応した走
査線密度で走査露光すれば微小ドットの再現性が向上す
る。よって解像度の高い鮮明な画像と中間階調画像が両
立した高品位な画像記録が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光ビーム照射装置の一実施例のブロッ
ク図。

【図２】レーザパワーと感光体表面電位の関係を示す特
性図。

【図３】従来の方法で露光したときの副走査方向位置に
対するレーザーパワーと感光対表面電位の分布図。

【図４】２倍の走査密度で露光したときの副走査方向位
置に対するレーザーパワーと感光対表面電位の分布図。

【符号の説明】

１０１…半導体レーザ素子、１０２…コリメータレン
ズ、１０３…偏光スイッチ、１０４…偏光分離素子、１
０５…プリズム、１０６…ポリゴンミラー、107…モー
タ、１０８（ａ)，(ｂ）…ｆθレンズ、１５２…データ
処理部、１５３…偏向スイッチドライバ、１５４…半導
体レーザ素子ドライバ。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一定の直線偏光方向の光ビームを発生する
   発光手段と、前記発光手段から発生した光ビームの偏光
   状態をこれとは異なる偏光状態に選択的に変更する偏光
   状態変更手段と、前記光ビームの偏光方向成分に対応し
   て、前記光ビームを分離する光ビーム分離手段と、前記
   光ビーム分離手段により分離した光ビームの被照射体上
   のスポットの中心位置が所定の解像度に対応した走査線
   ピッチより短い距離だけ副走査方向へずれるように光ビ
   ームの光路を変更する光路変更手段と、前記光ビーム分
   離手段により分離した光ビームを被照射体上へ偏向走査
   する光ビーム偏向走査手段と、入力装置からの画像情報
   に基づき各画素の走査密度データを生成する走査密度デ
   ータ生成手段と、前記走査密度データに基づき、前記偏
   光状態変更手段を駆動する偏光状態変更手段の駆動手段
   とを有し、前記走査密度データに基づき、所定の解像度
   に対応する走査線ピッチの間に、さらに光ビームを選択
   的に走査露光することで走査密度を可変としたことを特
   徴とする光ビーム照射装置。
2. 【請求項２】所定の解像度に対応する走査線ピッチの間
   に、さらに光ビームを選択的に走査露光することができ
   る光ビーム照射装置において、前記光ビーム照射装置の
   前記光ビームの被照射体上での結像スポットの副走査方
   向のスポット径を、所定の解像度に対応する走査線ピッ
   チの０.８〜１.２倍とすることを特徴とする光ビーム照
   射装置。