JPH08110609A - 画像形成方法及びそれに用いる画像形成材料 - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 非画像部に着色が無く高コントラストの画像
を与える画像形成材料及び画像形成方法を提供する。 【構成】 1)アンモニア又は一級アミンが配位したコ
バルト(III)錯体、アンモニア又は一級アミンにより発
色或いは消色する化合物及び光により前記コバルト(II
I)錯体を(II)錯体に還元しうる光還元性センサー化合物
類を含有する第1の画像形成層に、前記光還元性センサ
ー化合物類とは異なる波長領域に感光する光還元性セン
サー化合物類を含有する第2の画像形成層を直接又は間
接に積層して、2)第2の画像形成層の光還元性センサ
ー化合物類のみを感光させる波長領域の光で像様に露光
した後、3)加熱現像して第2の画像形成層に画像を形
成し、4)該画像をマスクとして第1の画像形成層の光
還元性センサー化合物類を感光させる波長領域の光を照
射し、5)加熱現像して第1の画像形成層に画像を形成
した後、6)第2の画像形成層を剥離する。
を与える画像形成材料及び画像形成方法を提供する。 【構成】 1)アンモニア又は一級アミンが配位したコ
バルト(III)錯体、アンモニア又は一級アミンにより発
色或いは消色する化合物及び光により前記コバルト(II
I)錯体を(II)錯体に還元しうる光還元性センサー化合物
類を含有する第1の画像形成層に、前記光還元性センサ
ー化合物類とは異なる波長領域に感光する光還元性セン
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した後、3)加熱現像して第2の画像形成層に画像を形
成し、4)該画像をマスクとして第1の画像形成層の光
還元性センサー化合物類を感光させる波長領域の光を照
射し、5)加熱現像して第1の画像形成層に画像を形成
した後、6)第2の画像形成層を剥離する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な画像形成材料及び
画像形成方法に関し、詳しくはコバルト(III)錯体を利
用した高感度で且つ高解像度な画像形成材料及びそれを
用いる画像形成方法に関する。
画像形成方法に関し、詳しくはコバルト(III)錯体を利
用した高感度で且つ高解像度な画像形成材料及びそれを
用いる画像形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、コバルト(III)錯体は配位子の安
定度定数の低いコバルト(II)錯体に光により容易に還元
されることが知られており、特公昭54-2091号、同54-10
856号、同54-10857号等では樹脂バインダー中に、コバ
ルト(III)錯体、光還元剤及び2価以下のコバルトとキ
レートを形成する化合物を含有する画像形成材料が提案
されている。これらの特許に記載の材料は、微量のエネ
ルギーで潜像形成可能であり簡易な乾式処理で画像を形
成できる点で優れているが、コバルト(III)錯体はそれ
自身感光性に乏しく、ナフトキノン誘導体等の紫外光に
感応する還元剤等が用いられる。しかしながら、分光増
感剤を用いて可視光以上の長波長の光に対する感光性を
付与しようとすると、分光増感剤の有する色のために未
露光部に着色が有り、画像のコントラストが減少すると
いう問題があった。
定度定数の低いコバルト(II)錯体に光により容易に還元
されることが知られており、特公昭54-2091号、同54-10
856号、同54-10857号等では樹脂バインダー中に、コバ
ルト(III)錯体、光還元剤及び2価以下のコバルトとキ
レートを形成する化合物を含有する画像形成材料が提案
されている。これらの特許に記載の材料は、微量のエネ
ルギーで潜像形成可能であり簡易な乾式処理で画像を形
成できる点で優れているが、コバルト(III)錯体はそれ
自身感光性に乏しく、ナフトキノン誘導体等の紫外光に
感応する還元剤等が用いられる。しかしながら、分光増
感剤を用いて可視光以上の長波長の光に対する感光性を
付与しようとすると、分光増感剤の有する色のために未
露光部に着色が有り、画像のコントラストが減少すると
いう問題があった。
【0003】この欠点を改善する方法として、分光増感
剤の色を消去する試みが有るが、感光性との両立が難し
く実現には至っていないのが現状である。
剤の色を消去する試みが有るが、感光性との両立が難し
く実現には至っていないのが現状である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
よりなされたものであり、その目的は、第1には、安全
で簡易な乾式処理で画像を形成できる画像形成方法、及
び解像度、感度の良好な画像形成材料を提供することに
あり、第2には、非画像部に着色が無く高コントラスト
の画像を与える画像形成材料及び画像形成方法を提供す
ることにある。
よりなされたものであり、その目的は、第1には、安全
で簡易な乾式処理で画像を形成できる画像形成方法、及
び解像度、感度の良好な画像形成材料を提供することに
あり、第2には、非画像部に着色が無く高コントラスト
の画像を与える画像形成材料及び画像形成方法を提供す
ることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、支持体上に、アンモニア又は一級アミンが配位し
たコバルト(III)錯体、アンモニア又は一級アミンによ
り発色或いは消色する化合物及び光により前記コバルト
(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元しうる光還元性セ
ンサー化合物類を含有する第1の画像形成層、及び、ア
ンモニア又は一級アミンが配位したコバルト(III)錯
体、アンモニア又は一級アミンにより発色或いは消色す
る化合物及び前記光還元性センサー化合物類とは異なる
波長領域に感光してコバルト(III)錯体をコバルト(II)
錯体に還元しうる光還元性センサー化合物類を含有する
第2の画像形成層を有する画像形成材料、及び 1)アンモニア又は一級アミンが配位したコバルト(II
I)錯体、アンモニア又は一級アミンにより発色或いは消
色する化合物及び光により前記コバルト(III)錯体をコ
バルト(II)錯体に還元しうる光還元性センサー化合物類
を含有する第1の画像形成層に、アンモニア又は一級ア
ミンが配位したコバルト(III)錯体、アンモニア又は一
級アミンにより発色或いは消色する化合物及び前記光還
元性センサー化合物類とは異なる波長領域に感光してコ
バルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元しうる光還
元性センサー化合物類を含有する第2の画像形成層を直
接又は間接に積層して、2)第2の画像形成層に含有さ
れる光還元性センサー化合物類のみを感光させる感光波
長領域の光で像様に露光した後、3)加熱現像して第2
の画像形成層に画像を形成し、4)該画像をマスクとし
て第1の画像形成層に含有される光還元性センサー化合
物類を感光させる感光波長領域の光を照射し、5)加熱
現像して第1の画像形成層に画像を形成した後、6)第
2の画像形成層を剥離する画像形成方法により上記目的
を達成できることを見出した。
結果、支持体上に、アンモニア又は一級アミンが配位し
たコバルト(III)錯体、アンモニア又は一級アミンによ
り発色或いは消色する化合物及び光により前記コバルト
(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元しうる光還元性セ
ンサー化合物類を含有する第1の画像形成層、及び、ア
ンモニア又は一級アミンが配位したコバルト(III)錯
体、アンモニア又は一級アミンにより発色或いは消色す
る化合物及び前記光還元性センサー化合物類とは異なる
波長領域に感光してコバルト(III)錯体をコバルト(II)
錯体に還元しうる光還元性センサー化合物類を含有する
第2の画像形成層を有する画像形成材料、及び 1)アンモニア又は一級アミンが配位したコバルト(II
I)錯体、アンモニア又は一級アミンにより発色或いは消
色する化合物及び光により前記コバルト(III)錯体をコ
バルト(II)錯体に還元しうる光還元性センサー化合物類
を含有する第1の画像形成層に、アンモニア又は一級ア
ミンが配位したコバルト(III)錯体、アンモニア又は一
級アミンにより発色或いは消色する化合物及び前記光還
元性センサー化合物類とは異なる波長領域に感光してコ
バルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元しうる光還
元性センサー化合物類を含有する第2の画像形成層を直
接又は間接に積層して、2)第2の画像形成層に含有さ
れる光還元性センサー化合物類のみを感光させる感光波
長領域の光で像様に露光した後、3)加熱現像して第2
の画像形成層に画像を形成し、4)該画像をマスクとし
て第1の画像形成層に含有される光還元性センサー化合
物類を感光させる感光波長領域の光を照射し、5)加熱
現像して第1の画像形成層に画像を形成した後、6)第
2の画像形成層を剥離する画像形成方法により上記目的
を達成できることを見出した。
【0006】以下、本発明について詳述する。
【0007】本発明の画像形成材料に用いる支持体とし
ては、普通紙、合成紙(例えばポリプロピレンを主成分
とする合成紙、片面或いは両面に多孔質構造の顔料塗工
層を設けた合成紙等)、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル等のアクリル系樹脂、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等の
ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリ弗化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイロ
ン、芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバン
酸、フェノキシ樹脂、、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
メラミン樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、フッ素
樹脂、シリコーン樹脂等の各種樹脂のフィルム或いはシ
ート、更にはこれらの樹脂を2層以上積層してなるフィ
ルム或いはシート、或いは各種高分子材料、金属、セラ
ミック、或いは木材パルプ、セルロースパルプ、サルフ
ァイトパルプ等で抄造された紙等に上記樹脂層を積層し
たフィルム又はシート等を挙げることができる。
ては、普通紙、合成紙(例えばポリプロピレンを主成分
とする合成紙、片面或いは両面に多孔質構造の顔料塗工
層を設けた合成紙等)、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル等のアクリル系樹脂、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等の
ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリ弗化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイロ
ン、芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバン
酸、フェノキシ樹脂、、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
メラミン樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、フッ素
樹脂、シリコーン樹脂等の各種樹脂のフィルム或いはシ
ート、更にはこれらの樹脂を2層以上積層してなるフィ
ルム或いはシート、或いは各種高分子材料、金属、セラ
ミック、或いは木材パルプ、セルロースパルプ、サルフ
ァイトパルプ等で抄造された紙等に上記樹脂層を積層し
たフィルム又はシート等を挙げることができる。
【0008】樹脂からなるものは、シート或いはフィル
ム状に延伸し、ヒートセットしたものが寸法安定性の面
から好ましい。形成した画像を反射画像とする場合に
は、画像の鮮明性を高めるために、白色顔料、例えばチ
タンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリ
ウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等を添
加せしめたものが好ましい。
ム状に延伸し、ヒートセットしたものが寸法安定性の面
から好ましい。形成した画像を反射画像とする場合に
は、画像の鮮明性を高めるために、白色顔料、例えばチ
タンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリ
ウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等を添
加せしめたものが好ましい。
【0009】本発明は高濃度の画像を得ることができ、
透過画像の用途(例えばOHP、ガラス等に貼付けるシ
ール用、印刷用マスク材料等の透過原稿)に特に適して
おり、その場合の支持体は、必要とする透明度や寸法安
定性を損なわないもの、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等のポ
リエステル系樹脂フィルム、特に2軸延伸フィルムが好
ましい。
透過画像の用途(例えばOHP、ガラス等に貼付けるシ
ール用、印刷用マスク材料等の透過原稿)に特に適して
おり、その場合の支持体は、必要とする透明度や寸法安
定性を損なわないもの、例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等のポ
リエステル系樹脂フィルム、特に2軸延伸フィルムが好
ましい。
【0010】本発明の画像形成方法において2枚以上の
支持体を使用する場合、同じ材質や厚さのものを使用す
ることも可能ではあるが、マスクとする第2の画像形成
層を保持する支持体を、第1の画像形成層を保持する支
持体より、例えば1割以上薄くすることが、光散乱を回
避する方法として好ましい。
支持体を使用する場合、同じ材質や厚さのものを使用す
ることも可能ではあるが、マスクとする第2の画像形成
層を保持する支持体を、第1の画像形成層を保持する支
持体より、例えば1割以上薄くすることが、光散乱を回
避する方法として好ましい。
【0011】支持体の厚さは通常6〜1000μm程度、好
ましくは10〜800μmであり、このような範囲から適宜選
定する。
ましくは10〜800μmであり、このような範囲から適宜選
定する。
【0012】本発明に於けるアンモニア又は一級アミン
が配位したコバルト(III)錯体(以下、本発明のコバル
ト錯体と言う)はコバルト(III)錯体がコバルト(II)錯
体へ還元後加熱によりアンモニア又は一級アミンを発生
するものである。
が配位したコバルト(III)錯体(以下、本発明のコバル
ト錯体と言う)はコバルト(III)錯体がコバルト(II)錯
体へ還元後加熱によりアンモニア又は一級アミンを発生
するものである。
【0013】本発明に用いられるコバルト錯体は、アン
モニア又は一級アミンを配位子とする錯体であれば特に
制限はなく、それらの錯体の中で以下の一般式で表され
る錯体がより好ましい。
モニア又は一級アミンを配位子とする錯体であれば特に
制限はなく、それらの錯体の中で以下の一般式で表され
る錯体がより好ましい。
【0014】一般式 [Co3+ (L1)m (L2)n](X-)k 上記、一般式(1)で表されるコバルト錯体について詳
述する。
述する。
【0015】X-で表される対アニオンとしては、例え
ばハライドイオン(フルオライド、クロライド、ブロマ
イド、アイオダイド)、亜硫酸イオン、硫酸イオン、ア
ルキル又はアリールスルホン酸イオン、硝酸イオン、亜
硝酸イオン、過塩素酸イオン、カルボキシレート、サリ
シネート、ベンゾエート、トリフルオロアセテート、ヘ
キサフルオロホスフェート、テトラフルオロボレート等
が挙げられる。
ばハライドイオン(フルオライド、クロライド、ブロマ
イド、アイオダイド)、亜硫酸イオン、硫酸イオン、ア
ルキル又はアリールスルホン酸イオン、硝酸イオン、亜
硝酸イオン、過塩素酸イオン、カルボキシレート、サリ
シネート、ベンゾエート、トリフルオロアセテート、ヘ
キサフルオロホスフェート、テトラフルオロボレート等
が挙げられる。
【0016】L1で表されるコバルトカチオンと錯体を
形成するアンモニア又は1級アミンとしては、例えばア
ンモニア、メチルアミン、エチレンジアミン、1,3-プロ
パンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテ
トラミン、ジアミノジアセテート、グリシンアミドなど
が挙げられる。
形成するアンモニア又は1級アミンとしては、例えばア
ンモニア、メチルアミン、エチレンジアミン、1,3-プロ
パンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテ
トラミン、ジアミノジアセテート、グリシンアミドなど
が挙げられる。
【0017】L2で表されるコバルトカチオンと錯体を
形成するアンモニア又は1級アミン以外の配位化合物と
しては、例えば水、2,2′-ビピリジル、ハロゲンイオン
(クロロ、ブロモ、ヨード)、ヒドロキシイオン、ニト
ロイオン、シアノイオン、チオシアナートイオン、アジ
ドイオン、カルボネートイオン、オキザラートイオン、
アセチルアセトナートイオン等が挙げられる。
形成するアンモニア又は1級アミン以外の配位化合物と
しては、例えば水、2,2′-ビピリジル、ハロゲンイオン
(クロロ、ブロモ、ヨード)、ヒドロキシイオン、ニト
ロイオン、シアノイオン、チオシアナートイオン、アジ
ドイオン、カルボネートイオン、オキザラートイオン、
アセチルアセトナートイオン等が挙げられる。
【0018】好ましいコバルト錯体の具体例としては以
下の化合物が挙げられ、これらの化合物は新実験化学講
座(8)無機化合物の合成(III)、日本化学学会編等に記
載の方法を参考にして合成される。
下の化合物が挙げられ、これらの化合物は新実験化学講
座(8)無機化合物の合成(III)、日本化学学会編等に記
載の方法を参考にして合成される。
【0019】Co−1:ヘキサンアンミンコバルト(III)ト
リフルオロアセテート Co−2:ヘキサンアンミンコバルト(III)ベンジレート Co−3:ヘキサンアンミンコバルト(III)チオシアネート Co−4:ヘキサンアンミンコバルト(III)アセテート Co−5:ヘキサンアンミンコバルト(III)クロライド Co−6:ヘキサンアンミンコバルト(III)パークロレート Co−7:クロロペンタアンミンコバルト(III)パークロレ
ート Co−8:ブロモペンタアンミンコバルト(III)パークロレ
ート Co−9:アクアペンタアンミンコバルト(III)ナイトレー
ト Co−10:アクアペンタアンミンコバルト(III)ジクロロア
セテート Co−11:ニトラトペンタアンミンコバルト(III)クロライ
ド Co−12:ニトラトペンタアンミンコバルト(III)パークロ
レート Co−13:カルボナートテトラアンミンコバルト(III)クロ
ライド Co−14:トリス(エチレンジアミン)コバルト(III)パーク
ロレート Co−15:ビス(エチレンジアミン)ビスアジドコバルト(II
I)パークロレート Co−16:トリス(1,3-プロパンジアミン)コバルト(III)ト
リアルオロアセテート Co−17:トルスグリシンアミドコバルト(III)クロライド 本発明のコバルト錯体の添加量はコバルト錯体の種類及
び使用形態により異なるが、層を形成する組成物中、2
〜70重量%程度、好ましくは5〜50重量%である。本発
明のコバルト錯体を含有する層の厚みは0.5〜50μm程
度、好ましくは2〜30μmであり、目的に応じて適宜採
用する。
リフルオロアセテート Co−2:ヘキサンアンミンコバルト(III)ベンジレート Co−3:ヘキサンアンミンコバルト(III)チオシアネート Co−4:ヘキサンアンミンコバルト(III)アセテート Co−5:ヘキサンアンミンコバルト(III)クロライド Co−6:ヘキサンアンミンコバルト(III)パークロレート Co−7:クロロペンタアンミンコバルト(III)パークロレ
ート Co−8:ブロモペンタアンミンコバルト(III)パークロレ
ート Co−9:アクアペンタアンミンコバルト(III)ナイトレー
ト Co−10:アクアペンタアンミンコバルト(III)ジクロロア
セテート Co−11:ニトラトペンタアンミンコバルト(III)クロライ
ド Co−12:ニトラトペンタアンミンコバルト(III)パークロ
レート Co−13:カルボナートテトラアンミンコバルト(III)クロ
ライド Co−14:トリス(エチレンジアミン)コバルト(III)パーク
ロレート Co−15:ビス(エチレンジアミン)ビスアジドコバルト(II
I)パークロレート Co−16:トリス(1,3-プロパンジアミン)コバルト(III)ト
リアルオロアセテート Co−17:トルスグリシンアミドコバルト(III)クロライド 本発明のコバルト錯体の添加量はコバルト錯体の種類及
び使用形態により異なるが、層を形成する組成物中、2
〜70重量%程度、好ましくは5〜50重量%である。本発
明のコバルト錯体を含有する層の厚みは0.5〜50μm程
度、好ましくは2〜30μmであり、目的に応じて適宜採
用する。
【0020】アンモニア又は一級アミンで発色する好ま
しい化合物としては、o-フタルアルデヒドやニンヒドリ
ン等が挙げられ、一方アンモニア又は一級アミンで消色
する化合物としては、ある種のシアニン色素、スチリル
色素、ローダミン色素、アゾ色素、ピリリウム色素等が
挙げられる。又、アンモニア又は一級アミンで消色する
ことが公知のロイコ色素等を用いることも可能である。
しい化合物としては、o-フタルアルデヒドやニンヒドリ
ン等が挙げられ、一方アンモニア又は一級アミンで消色
する化合物としては、ある種のシアニン色素、スチリル
色素、ローダミン色素、アゾ色素、ピリリウム色素等が
挙げられる。又、アンモニア又は一級アミンで消色する
ことが公知のロイコ色素等を用いることも可能である。
【0021】発色化合物としては、高濃度で安定なポリ
マー色素が形成されて画像安定性が良好な、下記一般式
〔I〕で表される化合物が特に好ましい。
マー色素が形成されて画像安定性が良好な、下記一般式
〔I〕で表される化合物が特に好ましい。
【0022】
【化1】
【0023】〔式中、Zは芳香族環、5員又は6員の複
素環を構成する原子団を表し、該芳香族環又は複素環は
置換基を有してもよい。〕 5員又は6員の複素環としては、イミダゾール、フラ
ン、チオフェン、ピラゾール、トリアゾール、ピリジ
ン、ピリミジン、ベンズチアゾール、インドール、キノ
リン等が挙げられる。
素環を構成する原子団を表し、該芳香族環又は複素環は
置換基を有してもよい。〕 5員又は6員の複素環としては、イミダゾール、フラ
ン、チオフェン、ピラゾール、トリアゾール、ピリジ
ン、ピリミジン、ベンズチアゾール、インドール、キノ
リン等が挙げられる。
【0024】以下に、一般式〔I〕で表される化合物の
具体例を示す。
具体例を示す。
【0025】
【化2】
【0026】
【化3】
【0027】
【化4】
【0028】
【化5】
【0029】
【化6】
【0030】これらの化合物は、Chem.Ber.88,1276(195
5)、同89,1574(1956)、同90,2646(1957)、同99,634(196
6)、J.Org.Chem.,24,372(1959)、同29,3048(1964)、Zei
t.Chem. ; 11,175(1971)、同11、17(1971)及び特開平2-1
84678号に記載の方法を参考にして合成される。
5)、同89,1574(1956)、同90,2646(1957)、同99,634(196
6)、J.Org.Chem.,24,372(1959)、同29,3048(1964)、Zei
t.Chem. ; 11,175(1971)、同11、17(1971)及び特開平2-1
84678号に記載の方法を参考にして合成される。
【0031】一般式〔I〕で表される化合物の添加量
は、層形成組成物中2〜98重量%程度、好ましくは5〜
80重量%である。
は、層形成組成物中2〜98重量%程度、好ましくは5〜
80重量%である。
【0032】又、アンモニア又は一級アミンで消色する
化合物としては、消色させた際に可視部に吸収を持たな
い、又は吸収が極力少ないものが好ましく、このような
化合物としてはピリリウム色素が特に好ましい。ピリリ
ウム色素の添加量は、層形成組成物中1〜70重量%程
度、好ましくは3〜50重量%である。具体的な化合物例
を以下に示す。
化合物としては、消色させた際に可視部に吸収を持たな
い、又は吸収が極力少ないものが好ましく、このような
化合物としてはピリリウム色素が特に好ましい。ピリリ
ウム色素の添加量は、層形成組成物中1〜70重量%程
度、好ましくは3〜50重量%である。具体的な化合物例
を以下に示す。
【0033】1)2,6-ジフェニル-4-(3-メトキシフェニ
ル)ピリリウムパークロレート 2)4-フェニル-2,6-ジエチルピリリウムパークロレー
ト 3)4-(4-モルホリノフェニル)-2,6-ジフェニルピリリ
ウムパークロレート 4)2,6-ビス(p-メトキシフェニル)-4-フェニルピリリ
ウムテトラフルオロボレート 5)2,4-ジフェニル-6-(β-メチル-3,4-ジエトキシチリ
ル)ピリリウムテトラフルオロボレート 6)4-(4-ジメチルアミノビニル)-2,6-ジフェニルピリ
リウムパークロレート 7)2-(2-ナフチル)-4,6-ジフェニルピリリウムパーク
ロレート 8)2,6-ジフェニル-4-[2-(10-メチルフェノチアジル)]
ピリリウムパークロレート 9)2-ブチル-3-[β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)ビニ
ル]-ナフト[2,1-b]ピリリウムパークロレート 10)4-(2-ヒドロキシベンジリデン)-1,2,3,4-テトラヒ
ドロキシサンチリウムパークロレート 11)4-(4-メチルメルカプトフェニル)-2,6-ジフェニル
ピリリウムパークロレート 12)9-フェニルジベンゾ[a・j]キサンチリウムパークロ
レート 13)2,6-ジフェニル-4-(4-メトキシカルボニルフェニ
ル)ピリリウムパークロレート 14)5,6-ジヒドロ-2,4-ジフェニルナフト[1,2-b]-ピリ
リウムテトラフルオロボレート 15)8-(ベンゾ[b]-3H-1,2-ジチオール-3-イリジン)-9,1
0,11,12-テトラヒドロ-8H-シクロヘプタ[e]ナフト[2,1-
b]ピリリウムパークロレート 本発明の画像形成層は、層の膜付きや均一性を良好にす
る目的で、バインダー樹脂を含有させるのが好ましく、
そのようなバインダー樹脂としてはセルロース付加化合
物、セルロースエステル、セルロースエーテル等のセル
ロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチ
ラール等のポリビニルアセタール系樹脂、ポリスチレ
ン、スチレン-アクリロニトリル共重合体等のスチレン
系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ(メタ)ア
クリル酸、(メタ)アクリル酸共重合体等のアクリル系樹
脂、ポリビニルピロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポリアク
リルアミド、ゴム系樹脂、アイオノマー樹脂、オレフィ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ゼラチン、カゼイン等
が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、一種でも又
は二種以上を併用して使用してもよい。使用量として
は、30〜98重量%程度、好ましくは50〜95重量%であ
る。
ル)ピリリウムパークロレート 2)4-フェニル-2,6-ジエチルピリリウムパークロレー
ト 3)4-(4-モルホリノフェニル)-2,6-ジフェニルピリリ
ウムパークロレート 4)2,6-ビス(p-メトキシフェニル)-4-フェニルピリリ
ウムテトラフルオロボレート 5)2,4-ジフェニル-6-(β-メチル-3,4-ジエトキシチリ
ル)ピリリウムテトラフルオロボレート 6)4-(4-ジメチルアミノビニル)-2,6-ジフェニルピリ
リウムパークロレート 7)2-(2-ナフチル)-4,6-ジフェニルピリリウムパーク
ロレート 8)2,6-ジフェニル-4-[2-(10-メチルフェノチアジル)]
ピリリウムパークロレート 9)2-ブチル-3-[β-(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)ビニ
ル]-ナフト[2,1-b]ピリリウムパークロレート 10)4-(2-ヒドロキシベンジリデン)-1,2,3,4-テトラヒ
ドロキシサンチリウムパークロレート 11)4-(4-メチルメルカプトフェニル)-2,6-ジフェニル
ピリリウムパークロレート 12)9-フェニルジベンゾ[a・j]キサンチリウムパークロ
レート 13)2,6-ジフェニル-4-(4-メトキシカルボニルフェニ
ル)ピリリウムパークロレート 14)5,6-ジヒドロ-2,4-ジフェニルナフト[1,2-b]-ピリ
リウムテトラフルオロボレート 15)8-(ベンゾ[b]-3H-1,2-ジチオール-3-イリジン)-9,1
0,11,12-テトラヒドロ-8H-シクロヘプタ[e]ナフト[2,1-
b]ピリリウムパークロレート 本発明の画像形成層は、層の膜付きや均一性を良好にす
る目的で、バインダー樹脂を含有させるのが好ましく、
そのようなバインダー樹脂としてはセルロース付加化合
物、セルロースエステル、セルロースエーテル等のセル
ロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチ
ラール等のポリビニルアセタール系樹脂、ポリスチレ
ン、スチレン-アクリロニトリル共重合体等のスチレン
系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ(メタ)ア
クリル酸、(メタ)アクリル酸共重合体等のアクリル系樹
脂、ポリビニルピロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポリアク
リルアミド、ゴム系樹脂、アイオノマー樹脂、オレフィ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ゼラチン、カゼイン等
が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、一種でも又
は二種以上を併用して使用してもよい。使用量として
は、30〜98重量%程度、好ましくは50〜95重量%であ
る。
【0034】本発明に於いて「光還元性センサー化合物
類」とは、その化合物自身が光を受けることによりコバ
ルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元し、アンモニ
ア又は一級アミンが放出され得る状態にせしめる還元
剤、又はそのような還元剤になり得る前駆体を生成する
化合物、或いは前記化合物とその化合物の感光波長をコ
ントロールする分光増感色素とを組み合わせた化合物と
を指し、還元剤としては、キノン類、ジスルフィド類、
ジアゾアントロン類、ジアゾフェナントロン類、カルバ
ジド類、ジアゾスルホネート類、ジアゾニウム塩、芳香
族アジド類、ベンズイミダゾール類、アジリジン類等が
挙げられ、例えばリサーチ・ディスクロージャーNo.126
17、第13〜14頁、第14〜17頁の第1表に記載のもの等を
用いることができる。又、特公昭54-2091号第4頁左欄
第30行〜第12頁 欄第33行までに記載の化合物を好まし
く用いることができる。
類」とは、その化合物自身が光を受けることによりコバ
ルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元し、アンモニ
ア又は一級アミンが放出され得る状態にせしめる還元
剤、又はそのような還元剤になり得る前駆体を生成する
化合物、或いは前記化合物とその化合物の感光波長をコ
ントロールする分光増感色素とを組み合わせた化合物と
を指し、還元剤としては、キノン類、ジスルフィド類、
ジアゾアントロン類、ジアゾフェナントロン類、カルバ
ジド類、ジアゾスルホネート類、ジアゾニウム塩、芳香
族アジド類、ベンズイミダゾール類、アジリジン類等が
挙げられ、例えばリサーチ・ディスクロージャーNo.126
17、第13〜14頁、第14〜17頁の第1表に記載のもの等を
用いることができる。又、特公昭54-2091号第4頁左欄
第30行〜第12頁 欄第33行までに記載の化合物を好まし
く用いることができる。
【0035】更に下記一般式〔II〕で表される色素を挙
げることができる。
げることができる。
【0036】
【化7】
【0037】〔式中、Dyeはカチオン性の色素を表わ
し、R1、R2、R3、R4は各々炭素原子を介してホウ素
と結合する基を表す。nは1から3の整数を表し、nが
2以上の時、複数個ある対アニオンは同じでも異なって
いても良い。〕 R1〜R4の少なくとも一つはアルキル基又はアラルキル
基であることが好ましく、特に好ましくはR1がアルキ
ル基、アラルキル基であり、かつR2〜R4がアリール
基、複素環基である。
し、R1、R2、R3、R4は各々炭素原子を介してホウ素
と結合する基を表す。nは1から3の整数を表し、nが
2以上の時、複数個ある対アニオンは同じでも異なって
いても良い。〕 R1〜R4の少なくとも一つはアルキル基又はアラルキル
基であることが好ましく、特に好ましくはR1がアルキ
ル基、アラルキル基であり、かつR2〜R4がアリール
基、複素環基である。
【0038】上記アルキル基としては直鎖及び分岐のも
のが含まれ、メチル基、エチル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、ステアリル基等が挙げ
られる。上記アラルキル基としてはベンジル基が好まし
い。上記複素環基としては芳香族性を有する複素環基が
好ましく例えばチオフェン基が挙げられる。上記アリー
ル基としてはフェニル基、ナフチル基が好ましい。
のが含まれ、メチル基、エチル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、ステアリル基等が挙げ
られる。上記アラルキル基としてはベンジル基が好まし
い。上記複素環基としては芳香族性を有する複素環基が
好ましく例えばチオフェン基が挙げられる。上記アリー
ル基としてはフェニル基、ナフチル基が好ましい。
【0039】R1〜R4として炭素数2〜20のアルケニル
基、炭素数2〜20のアルキニル基、5〜7員環のシクロ
アルキル基も好ましい。
基、炭素数2〜20のアルキニル基、5〜7員環のシクロ
アルキル基も好ましい。
【0040】これらの基は更に置換されていても良く、
置換基としてはハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アミノ基(アル
キル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイ
ル基、−COOR5、OCOR5(R5はアルキル基、アリール基
等の有機基)が挙げられる。
置換基としてはハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ア
ルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アミノ基(アル
キル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイ
ル基、−COOR5、OCOR5(R5はアルキル基、アリール基
等の有機基)が挙げられる。
【0041】次に上記一般式〔II〕で表される色素につ
いて更に詳述する。
いて更に詳述する。
【0042】Dyeとしてはシアニン色素やポリメチン色
素が好ましい。具体例としては特開昭62-143044号、同6
3-208036号、同64-84245号、同64-88444号、特開平1-15
2108号、同3-202609号等に記載のものを用いることがで
きる。
素が好ましい。具体例としては特開昭62-143044号、同6
3-208036号、同64-84245号、同64-88444号、特開平1-15
2108号、同3-202609号等に記載のものを用いることがで
きる。
【0043】又、感光波長をコントロールする分光増感
色素としては、公知のハロゲン化銀乳剤用分光増感色素
を用いることが出来る。このような増感色素の例として
は、米国特許1939201号、同2072908号、同2739149号、2
213995号、同2493748号、同2519001号、西ドイツ特許92
9080号、英国特許505979号に記載されているシアニン色
素、あるいは複合シアニン色素、及びローダシアニン色
素、スチリル色素等が挙げられる。
色素としては、公知のハロゲン化銀乳剤用分光増感色素
を用いることが出来る。このような増感色素の例として
は、米国特許1939201号、同2072908号、同2739149号、2
213995号、同2493748号、同2519001号、西ドイツ特許92
9080号、英国特許505979号に記載されているシアニン色
素、あるいは複合シアニン色素、及びローダシアニン色
素、スチリル色素等が挙げられる。
【0044】本発明の画像形成層に添加される色素は上
記の色素の対アニオンをテトラフェニルホウ素ナトリウ
ムとアセトンやメチルエチルケトンなどのケトン系溶剤
又はメタノールやエタノールなどのアルコール系溶剤な
どの溶媒中で反応させることにより容易に得られる。ま
た、本発明の画像形成層に添加する際にホウ素塩以外の
カチオン色素塩とアルカリ金属イオンやアンモニウムイ
オンと対をなすホウ素塩を別々に添加して画像形成層中
で一般式〔II〕のような化合物とすることもできる。
記の色素の対アニオンをテトラフェニルホウ素ナトリウ
ムとアセトンやメチルエチルケトンなどのケトン系溶剤
又はメタノールやエタノールなどのアルコール系溶剤な
どの溶媒中で反応させることにより容易に得られる。ま
た、本発明の画像形成層に添加する際にホウ素塩以外の
カチオン色素塩とアルカリ金属イオンやアンモニウムイ
オンと対をなすホウ素塩を別々に添加して画像形成層中
で一般式〔II〕のような化合物とすることもできる。
【0045】以下に本発明で用いられる一般式〔II〕の
色素の具体例を挙げる。
色素の具体例を挙げる。
【0046】
【化8】
【0047】
【化9】
【0048】
【化10】
【0049】
【化11】
【0050】
【化12】
【0051】
【化13】
【0052】
【化14】
【0053】このような光還元性センサー化合物類か
ら、感光波長の異なる(最大吸収波長が10nm以上異な
る)ものを組み合わせて採用する。例えばカチオン色素
種を変更することで画像形成光源の波長に最適なセンサ
ー類とすることができる。好ましい態様としては、第1
の画像形成層にはキノン類等の紫外線のみに感光性を有
する化合物類を用い、第2の画像形成層には可視〜近赤
外〜赤外に感光性を有する化合物類を用いるものが挙げ
られる。
ら、感光波長の異なる(最大吸収波長が10nm以上異な
る)ものを組み合わせて採用する。例えばカチオン色素
種を変更することで画像形成光源の波長に最適なセンサ
ー類とすることができる。好ましい態様としては、第1
の画像形成層にはキノン類等の紫外線のみに感光性を有
する化合物類を用い、第2の画像形成層には可視〜近赤
外〜赤外に感光性を有する化合物類を用いるものが挙げ
られる。
【0054】光還元性センサー化合物類の他は第1及び
第2の画像形成層で共通であってもよい。
第2の画像形成層で共通であってもよい。
【0055】本発明においては、画像形成効率を向上さ
せるために画像形成層に増感剤や配位子交換剤を添加し
ても良い。
せるために画像形成層に増感剤や配位子交換剤を添加し
ても良い。
【0056】このような増感剤としては、特開昭64-131
40号に記載のトリアジン系化合物、同64-13141号に記載
の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、同64-13143
号に記載の有機過酸化物、特公昭45-37377号や米国特許
第3,652,275号に記載のビスイミダゾール化合物、硼酸
等が挙げられる。又、特開昭64-13142号、特開平2-4804
号、米国特許第3,754,921号、同3,716,366号、同4,297,
441号、同4,297,441号、同4,307,182号にも具体的化合
物が記載されている。増感剤の使用量は、画像形成層組
成物の0.01〜20重量%が好ましく、より好ましくは0.1
〜10重量%である。
40号に記載のトリアジン系化合物、同64-13141号に記載
の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、同64-13143
号に記載の有機過酸化物、特公昭45-37377号や米国特許
第3,652,275号に記載のビスイミダゾール化合物、硼酸
等が挙げられる。又、特開昭64-13142号、特開平2-4804
号、米国特許第3,754,921号、同3,716,366号、同4,297,
441号、同4,297,441号、同4,307,182号にも具体的化合
物が記載されている。増感剤の使用量は、画像形成層組
成物の0.01〜20重量%が好ましく、より好ましくは0.1
〜10重量%である。
【0057】前記配位子交換剤としては、特開昭59-955
29号第10頁に記載の化合物や、スクシンイミド、フタル
イミド、2-メチルスクシンイミド、ジチオウラシル、5-
メチル-5-n-ペンチルヒダントイン、ニトロフタルイミ
ド、2,3,4,5-テトラクロロフタルイミド、5,5-ジメチル
オキサゾロン、ジフェニルヒダントイン、メレンイミ
ド、グルタルイミド、ピロメリトイミド、N-(トリメチ
ルシリル)フタルイミド、ヒダントイン、3-メチルフタ
ルイミド、4-n-オクチルフタルイミド等のイミド化合物
が挙げられる。これらの化合物の添加量は画像形成材料
の構成及び目的により変わるが、例えば本発明のコバル
ト錯体の添加量に対して0.1〜20モル%の割合で添加さ
れる。
29号第10頁に記載の化合物や、スクシンイミド、フタル
イミド、2-メチルスクシンイミド、ジチオウラシル、5-
メチル-5-n-ペンチルヒダントイン、ニトロフタルイミ
ド、2,3,4,5-テトラクロロフタルイミド、5,5-ジメチル
オキサゾロン、ジフェニルヒダントイン、メレンイミ
ド、グルタルイミド、ピロメリトイミド、N-(トリメチ
ルシリル)フタルイミド、ヒダントイン、3-メチルフタ
ルイミド、4-n-オクチルフタルイミド等のイミド化合物
が挙げられる。これらの化合物の添加量は画像形成材料
の構成及び目的により変わるが、例えば本発明のコバル
ト錯体の添加量に対して0.1〜20モル%の割合で添加さ
れる。
【0058】本発明の利点を損なわない範囲で、フィラ
ー、顔料、帯電防止剤、可塑剤、熱溶剤、酸素クエンチ
ャー等の添加剤を添加してもよい。フィラーとしてはシ
リカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸性白土、ア
ルミナ等の無機微粒子やフッ素樹脂粒子、グアナミン樹
脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の有機
樹脂粒子を挙げられる。顔料としてはチタンホワイト、
炭酸カルシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タ
ルク、クレー、カオリン、活性白土、酸性白土等を挙げ
られる。
ー、顔料、帯電防止剤、可塑剤、熱溶剤、酸素クエンチ
ャー等の添加剤を添加してもよい。フィラーとしてはシ
リカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸性白土、ア
ルミナ等の無機微粒子やフッ素樹脂粒子、グアナミン樹
脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の有機
樹脂粒子を挙げられる。顔料としてはチタンホワイト、
炭酸カルシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タ
ルク、クレー、カオリン、活性白土、酸性白土等を挙げ
られる。
【0059】帯電防止剤としてはカチオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子等の他「11290の化学商
品」化学工業日報社、第875〜876頁等に記載の化合物を
用いることもできる。
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子等の他「11290の化学商
品」化学工業日報社、第875〜876頁等に記載の化合物を
用いることもできる。
【0060】現像時間の短縮および/又は現像温度を下
げる目的で添加される可塑剤として、フタル酸エステル
類、トリメリット酸エステル類、アジピン酸エステル
類、飽和又は不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸エ
ステル類、エポキシ化大豆油やエポキシ類、正リン酸エ
ステル類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類等
の他に「11290の化学商品」化学工業日報社、第843〜85
7頁等に記載の化合物を用いることもできる。
げる目的で添加される可塑剤として、フタル酸エステル
類、トリメリット酸エステル類、アジピン酸エステル
類、飽和又は不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸エ
ステル類、エポキシ化大豆油やエポキシ類、正リン酸エ
ステル類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類等
の他に「11290の化学商品」化学工業日報社、第843〜85
7頁等に記載の化合物を用いることもできる。
【0061】又、可塑剤と同様の目的で添加される熱溶
剤として、常温で固体であり、加熱時に可逆的に液体と
なる化合物が好ましく、具体的にはテルピネオール、メ
ントール等のアルコール類、アセトアミド、ベンズアミ
ド等のアミド類、クマリン、桂皮酸ベンジル等のエステ
ル類、ジフェニルエーテル、クラウンエーテル等のエー
テル類、カンファー、p-メチルアセトフェノン等のケト
ン類、バニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアル
デヒド類、p-ベンジルビフェビル、スチルベン等の炭化
水素類、エイコサノール等の高級アルコール、パルミチ
ニルアミン等の高級アミン等(以上単分子化合物)、蜜
蝋、キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エス
テルワックス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミ
ドワックス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタ
リンワックス等のワックス類、エステルガム、ロジンフ
ェノール樹脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、ケト
ン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テル
ペン系炭化水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリオ
レフィンオキサイド等(以上高分子化合物)が挙げられ
る。これらから選ばれる熱溶剤の融点或いは軟化点は10
〜150℃が好ましい。
剤として、常温で固体であり、加熱時に可逆的に液体と
なる化合物が好ましく、具体的にはテルピネオール、メ
ントール等のアルコール類、アセトアミド、ベンズアミ
ド等のアミド類、クマリン、桂皮酸ベンジル等のエステ
ル類、ジフェニルエーテル、クラウンエーテル等のエー
テル類、カンファー、p-メチルアセトフェノン等のケト
ン類、バニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアル
デヒド類、p-ベンジルビフェビル、スチルベン等の炭化
水素類、エイコサノール等の高級アルコール、パルミチ
ニルアミン等の高級アミン等(以上単分子化合物)、蜜
蝋、キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エス
テルワックス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミ
ドワックス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタ
リンワックス等のワックス類、エステルガム、ロジンフ
ェノール樹脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、ケト
ン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テル
ペン系炭化水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリオ
レフィンオキサイド等(以上高分子化合物)が挙げられ
る。これらから選ばれる熱溶剤の融点或いは軟化点は10
〜150℃が好ましい。
【0062】酸素クエンチャーとしてはN,N-ジアルキル
アニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許第4,772,54
1号の第11欄第58行目〜第12欄第35行目に記載の化合物
が挙げられる。
アニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許第4,772,54
1号の第11欄第58行目〜第12欄第35行目に記載の化合物
が挙げられる。
【0063】上記記載の添加剤は、画像形成層形成組成
物の0.1〜70重量%程度とするのが好ましい。
物の0.1〜70重量%程度とするのが好ましい。
【0064】本発明により形成される画像(特に第1の
画像形成層の)は、第2の画像形成層を剥離後に定着さ
れることが好ましい。定着は光還元性センサー化合物が
前記コバルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元する
反応を阻害する定着剤、或いはアンモニア又は一級アミ
ンの発色反応や消色反応を阻害する定着剤によってなさ
れるのが好ましい。好ましい定着剤としては、塩酸、硫
酸、硝酸、などの無機酸あるいはp-トルエンスルホン
酸、酢酸、酪酸、シュウ酸等の有機酸、あるいは酸前駆
体である特開平6-130670号第26頁左11行目〜右50行目、
特開昭57-35851号第5頁右上欄第16行目〜第6頁左下欄
第2行目に記載の光酸発生剤等が好ましく用いられる。
光酸発生剤を定着剤として用いる場合は、発色層中に拡
散させた後に特定波長を有する光を照射することで酸を
発生させ、その後加熱処理することで定着処理をおこな
う。その他の定着剤としては、特開昭61-241191号第3
頁左上欄第8行目〜左下欄第13行目に記載の酸化防止
剤、又は特開昭53-129028号第6頁右上欄第19行目〜第
7頁右下欄第9行目に記載の有機酸化剤などを好ましく
用いることができる。
画像形成層の)は、第2の画像形成層を剥離後に定着さ
れることが好ましい。定着は光還元性センサー化合物が
前記コバルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元する
反応を阻害する定着剤、或いはアンモニア又は一級アミ
ンの発色反応や消色反応を阻害する定着剤によってなさ
れるのが好ましい。好ましい定着剤としては、塩酸、硫
酸、硝酸、などの無機酸あるいはp-トルエンスルホン
酸、酢酸、酪酸、シュウ酸等の有機酸、あるいは酸前駆
体である特開平6-130670号第26頁左11行目〜右50行目、
特開昭57-35851号第5頁右上欄第16行目〜第6頁左下欄
第2行目に記載の光酸発生剤等が好ましく用いられる。
光酸発生剤を定着剤として用いる場合は、発色層中に拡
散させた後に特定波長を有する光を照射することで酸を
発生させ、その後加熱処理することで定着処理をおこな
う。その他の定着剤としては、特開昭61-241191号第3
頁左上欄第8行目〜左下欄第13行目に記載の酸化防止
剤、又は特開昭53-129028号第6頁右上欄第19行目〜第
7頁右下欄第9行目に記載の有機酸化剤などを好ましく
用いることができる。
【0065】定着層中の定着剤の添加量は通常1〜80重
量%、好ましくは5〜60重量%である。
量%、好ましくは5〜60重量%である。
【0066】本発明の画像形成材料は、上述した支持
体、第1の画像形成層、第2の画像形成層以外に、剥離
層や接着層などの用途に応じて他の層を設けてもよい。
体、第1の画像形成層、第2の画像形成層以外に、剥離
層や接着層などの用途に応じて他の層を設けてもよい。
【0067】剥離層は、例えば後述する画像形成方法に
おいて、第1の画像形成層と第2の画像形成層の剥離を
容易にするために設けられ、このような剥離層形成樹脂
としては、画像形成層との接着性が弱いものであれば特
に制限なく用いることができ、そのような樹脂として
は、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセトアセター
ルなどのポリビニルアルコール系樹脂、メチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロースなどのセルロース系
樹脂、ポリエチレンワックスなどのワックス、シリコー
ンやフッ素などを含有する樹脂、ゼラチン、カゼイン、
コーンスターチ、ポリビニルピロリドンなどが挙げら
れ、さらに剥離層には剥離を阻害しない範囲で、画像形
成層に添加される添加剤を添加させてもよい。
おいて、第1の画像形成層と第2の画像形成層の剥離を
容易にするために設けられ、このような剥離層形成樹脂
としては、画像形成層との接着性が弱いものであれば特
に制限なく用いることができ、そのような樹脂として
は、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセトアセター
ルなどのポリビニルアルコール系樹脂、メチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロースなどのセルロース系
樹脂、ポリエチレンワックスなどのワックス、シリコー
ンやフッ素などを含有する樹脂、ゼラチン、カゼイン、
コーンスターチ、ポリビニルピロリドンなどが挙げら
れ、さらに剥離層には剥離を阻害しない範囲で、画像形
成層に添加される添加剤を添加させてもよい。
【0068】接着層は、例えば後述する画像形成方法に
おいて、第1の画像形成層と第2の画像形成層の剥離す
る際に、支持体と画像形成層との接着性を強固にするた
めに設けられ、このような接着層形成樹脂としては、画
像形成層との接着性が強いものであれば特に制限なく用
いることができ、そのような樹脂としては、エチレン-
酢酸ビニル共重合体、スチレン-イソプレン-スチレン共
重合体、スチレン-エチレン-ブタジエン-スチレン共重
合体、ポリプタジエンなどのポリオレフィン系樹脂、ポ
リブチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリエ
ステル、ポリウレタンなどが挙げられ、さらに接着層に
は剥離を阻害しない範囲で画像形成層に添加される添加
剤を添加させてもよい。
おいて、第1の画像形成層と第2の画像形成層の剥離す
る際に、支持体と画像形成層との接着性を強固にするた
めに設けられ、このような接着層形成樹脂としては、画
像形成層との接着性が強いものであれば特に制限なく用
いることができ、そのような樹脂としては、エチレン-
酢酸ビニル共重合体、スチレン-イソプレン-スチレン共
重合体、スチレン-エチレン-ブタジエン-スチレン共重
合体、ポリプタジエンなどのポリオレフィン系樹脂、ポ
リブチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリエ
ステル、ポリウレタンなどが挙げられ、さらに接着層に
は剥離を阻害しない範囲で画像形成層に添加される添加
剤を添加させてもよい。
【0069】本発明の画像形成材料は、画像形成層用組
成物を溶媒に分散又は溶解して塗工液を調製し、支持体
上に塗布・乾燥して層を形成するか、剥離可能なシート
上に画像形成層を前記のように形成した後、積層させる
面上に加熱や加圧して接着せしめ、シートを剥離して画
像形成層のみを転写させる転写法等の方法により形成で
きる。
成物を溶媒に分散又は溶解して塗工液を調製し、支持体
上に塗布・乾燥して層を形成するか、剥離可能なシート
上に画像形成層を前記のように形成した後、積層させる
面上に加熱や加圧して接着せしめ、シートを剥離して画
像形成層のみを転写させる転写法等の方法により形成で
きる。
【0070】塗工液に用いられる溶媒としては、水、ア
ルコール類(エタノール、プロパノール等)、セロソル
ブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、芳香
族類(トルエン、キシレン、クロルベンゼン等)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル系
溶剤(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等)、塩素系溶剤(クロロ
ホルム、トリクロルエチレン等)、アミド系溶剤(ジメ
チルホルムアミド、N-メチルピロリドン等)、ジメチル
スルホキシド等が挙げられる。
ルコール類(エタノール、プロパノール等)、セロソル
ブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、芳香
族類(トルエン、キシレン、クロルベンゼン等)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、エステル系
溶剤(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等)、塩素系溶剤(クロロ
ホルム、トリクロルエチレン等)、アミド系溶剤(ジメ
チルホルムアミド、N-メチルピロリドン等)、ジメチル
スルホキシド等が挙げられる。
【0071】塗工方法としては、グラビアロールによる
塗布法、押し出し塗布法、ワイヤーバー塗布法、ロール
塗布法等の方法を採用することができる。
塗布法、押し出し塗布法、ワイヤーバー塗布法、ロール
塗布法等の方法を採用することができる。
【0072】本発明の画像形成材料を用いた画像形成方
法は、1)アンモニア又は一級アミンが配位したコバル
ト(III)錯体、アンモニア又は一級アミンにより発色或
いは消色する化合物及び光により前記コバルト(III)錯
体をコバルト(II)錯体に還元しうる光還元性センサー化
合物類を含有する第1の画像形成層に、アンモニア又は
一級アミンが配位したコバルト(III)錯体、アンモニア
又は一級アミンにより発色或いは消色する化合物及び前
記光還元性センサー化合物類とは異なる波長領域に感光
してコバルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元しう
る光還元性センサー化合物類を含有する第2の画像形成
層を直接又は間接に積層して、2)第2の画像形成層に
含有される光還元性センサー化合物類のみを感光させる
感光波長領域の光で像様に露光した後、3)加熱現像し
て第2の画像形成層に画像を形成し、4)該画像をマス
クとして第1の画像形成層に含有される光還元性センサ
ー化合物類を感光させる感光波長領域の光を照射し、
5)加熱現像して第1の画像形成層に画像を形成した
後、6)第2の画像形成層を剥離することにより第1の
画像形成層に画像を形成することを特徴とする。
法は、1)アンモニア又は一級アミンが配位したコバル
ト(III)錯体、アンモニア又は一級アミンにより発色或
いは消色する化合物及び光により前記コバルト(III)錯
体をコバルト(II)錯体に還元しうる光還元性センサー化
合物類を含有する第1の画像形成層に、アンモニア又は
一級アミンが配位したコバルト(III)錯体、アンモニア
又は一級アミンにより発色或いは消色する化合物及び前
記光還元性センサー化合物類とは異なる波長領域に感光
してコバルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元しう
る光還元性センサー化合物類を含有する第2の画像形成
層を直接又は間接に積層して、2)第2の画像形成層に
含有される光還元性センサー化合物類のみを感光させる
感光波長領域の光で像様に露光した後、3)加熱現像し
て第2の画像形成層に画像を形成し、4)該画像をマス
クとして第1の画像形成層に含有される光還元性センサ
ー化合物類を感光させる感光波長領域の光を照射し、
5)加熱現像して第1の画像形成層に画像を形成した
後、6)第2の画像形成層を剥離することにより第1の
画像形成層に画像を形成することを特徴とする。
【0073】前記記載画像形成材料は第1の画像形成層
と第2の画像形成層とが剥離可能な状態に保たれていれ
ばとくに制限はなく用いることができる。
と第2の画像形成層とが剥離可能な状態に保たれていれ
ばとくに制限はなく用いることができる。
【0074】なお、画像形成材料を剥離可能な状態にす
るには、第2の画像形成層が自己支持性のある場合に
は、塗工法により第1の画像形成層を支持体上に設けた
後に、さらに第1の画像形成層上に塗工法で第2の画像
形成層を順次積層させてもよいし、第1の画像形成層を
支持体上に設けた後に、剥離層、第2の画像形成層を順
次積層させてもよい。また、第2の画像形成層が自己支
持性のない場合には、前述のように設けた第2の画像形
成層上に直接又は接着層を介して支持体を加圧又は加熱
加圧処理して積層させてもよいし、塗工法により支持体
上に設けられた第1の画像形成層またはその上に設けら
れた剥離層と、別途支持体上に設けられた第2の画像形
成層またはその上に設けられた剥離層とを対面させ、加
圧又は加熱加圧処理することにより画像形成材料を作成
してもよい。
るには、第2の画像形成層が自己支持性のある場合に
は、塗工法により第1の画像形成層を支持体上に設けた
後に、さらに第1の画像形成層上に塗工法で第2の画像
形成層を順次積層させてもよいし、第1の画像形成層を
支持体上に設けた後に、剥離層、第2の画像形成層を順
次積層させてもよい。また、第2の画像形成層が自己支
持性のない場合には、前述のように設けた第2の画像形
成層上に直接又は接着層を介して支持体を加圧又は加熱
加圧処理して積層させてもよいし、塗工法により支持体
上に設けられた第1の画像形成層またはその上に設けら
れた剥離層と、別途支持体上に設けられた第2の画像形
成層またはその上に設けられた剥離層とを対面させ、加
圧又は加熱加圧処理することにより画像形成材料を作成
してもよい。
【0075】以下本発明の画像形成方法を図を用いて説
明する。なお、図に示した画像形成方法は本発明の1例
であり、本発明は以下に述べる方法に限定されるもので
はない。
明する。なお、図に示した画像形成方法は本発明の1例
であり、本発明は以下に述べる方法に限定されるもので
はない。
【0076】図1は本発明の画像形成材料の具体的な構
成例である。
成例である。
【0077】本発明では、例えば図1(b)の画像形成
材料に第2の画像形成層に含まれる光還元性センサー化
合物類のみを活性化することのできる波長の光を照射し
て、図2のように第2の画像形成層に潜像を形成する。
なお、潜像形成時には、光還元性センサーの化合物類が
活性化された状態、コハルト(III)錯体が活性化された
光還元性センサー化合物類の作用により1電子還元され
てコバルト(II)錯体になった状態、さらには一部アミン
及び/又は1級アミンを一部放出した状態など何れでも
よく、第2の画像形成層に含まれるコバルト(III)錯
体、アミン及び/又は14級アミンにより発色又は消色
する化合物、光還元性センサー化合物類、バインダー成
分などにより異なる。
材料に第2の画像形成層に含まれる光還元性センサー化
合物類のみを活性化することのできる波長の光を照射し
て、図2のように第2の画像形成層に潜像を形成する。
なお、潜像形成時には、光還元性センサーの化合物類が
活性化された状態、コハルト(III)錯体が活性化された
光還元性センサー化合物類の作用により1電子還元され
てコバルト(II)錯体になった状態、さらには一部アミン
及び/又は1級アミンを一部放出した状態など何れでも
よく、第2の画像形成層に含まれるコバルト(III)錯
体、アミン及び/又は14級アミンにより発色又は消色
する化合物、光還元性センサー化合物類、バインダー成
分などにより異なる。
【0078】このようにして、形成された潜像は、加熱
又は加熱加圧処理することによりコバルト錯体から放出
されたアミン及び/又は1級アミンにより、アミン及び
/又は1級アミンにより発色又は消色する化合物を発色
又は消色することにより第2の画像形成層に画像が形成
される(図3)。この場合、第2の画像形成層に形成さ
れた画像は、次に述べる第1の画像形成層に潜像を形成
させる際に照射する光を遮光するためのマスク画像とな
る。
又は加熱加圧処理することによりコバルト錯体から放出
されたアミン及び/又は1級アミンにより、アミン及び
/又は1級アミンにより発色又は消色する化合物を発色
又は消色することにより第2の画像形成層に画像が形成
される(図3)。この場合、第2の画像形成層に形成さ
れた画像は、次に述べる第1の画像形成層に潜像を形成
させる際に照射する光を遮光するためのマスク画像とな
る。
【0079】次いで、第1の画像形成層に含まれる光還
元性センサー化合物類を活性化することのできる波長の
光を照射して、図4のように第1の画像形成層に潜像を
形成する。尚、この場合に照射する光は、(a)のよう
に第1の画像形成層に含まれる光還元性センサー化合物
類のみを活性化させる光であっても良いし、(b)のよ
うに第2の画像形成層の未露光部の光還元性センサー化
合物と、第2の画像形成層に形成された画像で遮光され
ていない第1の画像形成層に含まれる光還元性センサー
化合物類とを活性化させるものであっても構わない。
元性センサー化合物類を活性化することのできる波長の
光を照射して、図4のように第1の画像形成層に潜像を
形成する。尚、この場合に照射する光は、(a)のよう
に第1の画像形成層に含まれる光還元性センサー化合物
類のみを活性化させる光であっても良いし、(b)のよ
うに第2の画像形成層の未露光部の光還元性センサー化
合物と、第2の画像形成層に形成された画像で遮光され
ていない第1の画像形成層に含まれる光還元性センサー
化合物類とを活性化させるものであっても構わない。
【0080】このようにして第1の画像形成層に形成さ
れた潜像を、前記記載の第2の画像形成層に画像形成さ
せる方法により、図5のように第1の画像形成層に画像
が形成される。この第1の画像形成層に形成される画像
は第2の画像形成層に最初に形成された画像部ではない
部分に画像が形成されることになる。
れた潜像を、前記記載の第2の画像形成層に画像形成さ
せる方法により、図5のように第1の画像形成層に画像
が形成される。この第1の画像形成層に形成される画像
は第2の画像形成層に最初に形成された画像部ではない
部分に画像が形成されることになる。
【0081】次いで、図6のように第1の画像形成層と
第2の画像形成層を剥離することにより画像を形成する
ことができる。この場合、図5(a)のように第1の画
像形成層に含まれる光還元性センサー化合物類を活性化
させる光の感光波長と、第2の画像形成層に含まれる光
還元性センサー化合物類を活性化させる光の感光波長と
が異なる場合には、剥離した第1の画像形成層に形成さ
れた画像でも第2の画像形成層に形成された画像でも必
要に応じて用いることができる。また図5(b)のよう
に剥離した場合に、第2の画像形成層に形成された画像
しかない場合には、第2の画像形成層に形成された画像
が最終的に作成された画像となる。
第2の画像形成層を剥離することにより画像を形成する
ことができる。この場合、図5(a)のように第1の画
像形成層に含まれる光還元性センサー化合物類を活性化
させる光の感光波長と、第2の画像形成層に含まれる光
還元性センサー化合物類を活性化させる光の感光波長と
が異なる場合には、剥離した第1の画像形成層に形成さ
れた画像でも第2の画像形成層に形成された画像でも必
要に応じて用いることができる。また図5(b)のよう
に剥離した場合に、第2の画像形成層に形成された画像
しかない場合には、第2の画像形成層に形成された画像
が最終的に作成された画像となる。
【0082】尚、画像定着が必要な場合には、図7のよ
うな定着剤含有層を有する定着材料と対面させて、加熱
または加熱加圧処理することにより定着剤を画像形成層
に転写及び/又は熱拡散することによって行うことがで
きる(図8)。また、図1(d)のように定着剤層が予
め設けられている画像形成材料の場合には、図9のよう
に第2の画像形成層に形成された画像を加熱または加熱
加圧処理することにより定着剤を画像形成層に熱拡散さ
せることによって行うことができる。この際に積層され
ている定着剤含有層から定着剤が熱拡散する温度や時間
は、画像形成を行わせる処理条件よりも高く設定されて
いることは言うまでもない。
うな定着剤含有層を有する定着材料と対面させて、加熱
または加熱加圧処理することにより定着剤を画像形成層
に転写及び/又は熱拡散することによって行うことがで
きる(図8)。また、図1(d)のように定着剤層が予
め設けられている画像形成材料の場合には、図9のよう
に第2の画像形成層に形成された画像を加熱または加熱
加圧処理することにより定着剤を画像形成層に熱拡散さ
せることによって行うことができる。この際に積層され
ている定着剤含有層から定着剤が熱拡散する温度や時間
は、画像形成を行わせる処理条件よりも高く設定されて
いることは言うまでもない。
【0083】光エネルギーを印加し得る光源としては、
第2の画像形成層に含有される光還元性センサー化合物
類のみを活性化し得る感光波長を有する光源、第1の画
像形成層に含有される光還元性センサー化合物類を活性
化し得る感光波長を有する光源を適時選択して用いるこ
とができる。そのような光源としては、例えば、レーザ
ー、発光ダイオード、キセノンフラッシュランプ、ハロ
ゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ、石英水銀ランプ、高圧水銀ラ
ンプ等をあげることができる。この際加えられるエネル
ギーは、画像形成材料の種類のより、露光距離、時間、
強度を調整することにより適時選択して用いることがで
きる。
第2の画像形成層に含有される光還元性センサー化合物
類のみを活性化し得る感光波長を有する光源、第1の画
像形成層に含有される光還元性センサー化合物類を活性
化し得る感光波長を有する光源を適時選択して用いるこ
とができる。そのような光源としては、例えば、レーザ
ー、発光ダイオード、キセノンフラッシュランプ、ハロ
ゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ、石英水銀ランプ、高圧水銀ラ
ンプ等をあげることができる。この際加えられるエネル
ギーは、画像形成材料の種類のより、露光距離、時間、
強度を調整することにより適時選択して用いることがで
きる。
【0084】前記エネルギーを一括露光する場合には、
所望露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマ
スク材料を重ね合わせ、露光すればよい。
所望露光画像のネガパターンを遮光性材料で形成したマ
スク材料を重ね合わせ、露光すればよい。
【0085】発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等の光
学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像信号
に応じたデジタル露光をすることが可能である。この場
合はマスク材料を使用せず、直接書き込みを行うことが
できる。
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等の光
学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像信号
に応じたデジタル露光をすることが可能である。この場
合はマスク材料を使用せず、直接書き込みを行うことが
できる。
【0086】レーザーの場合には、使用する画像形成材
料の波長域に合わせて適宜選択することも可能であり、
また光をビーム状に絞り画像データに応じた走査露光が
可能であるため、マスク材料を使用せず、直接書き込み
を行うのに適している。またレーザーを光源として用い
る場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易で
あり、高解像度の画像形成が可能となる。
料の波長域に合わせて適宜選択することも可能であり、
また光をビーム状に絞り画像データに応じた走査露光が
可能であるため、マスク材料を使用せず、直接書き込み
を行うのに適している。またレーザーを光源として用い
る場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易で
あり、高解像度の画像形成が可能となる。
【0087】本発明で用いられるレーザー光源は、一般
によく知られている、ルビーレーザー、YAGレーザー、
ガラスレーザーなどの固体レーザー、He-Neレーザー、A
rイオンレーザー、Krイオンレーザー、CO2レーザー、CO
レーザー、He-Cdレーザー、N2レーザー、エキシマーレ
ーザーなどの気体レーザー、InGaPレーザー、AlGaAsレ
ーザー、GaAsPレーザー、InGaAsレーザー、InAsPレーザ
ー、CdSnP2レーザー、GaSbレーザーなどの半導体レーザ
ー、化学レーザー、色素レーザー等を挙げることができ
る。
によく知られている、ルビーレーザー、YAGレーザー、
ガラスレーザーなどの固体レーザー、He-Neレーザー、A
rイオンレーザー、Krイオンレーザー、CO2レーザー、CO
レーザー、He-Cdレーザー、N2レーザー、エキシマーレ
ーザーなどの気体レーザー、InGaPレーザー、AlGaAsレ
ーザー、GaAsPレーザー、InGaAsレーザー、InAsPレーザ
ー、CdSnP2レーザー、GaSbレーザーなどの半導体レーザ
ー、化学レーザー、色素レーザー等を挙げることができ
る。
【0088】なお、光エネルギーの露光方向は、第2の
画像形成層側からなされる。
画像形成層側からなされる。
【0089】本発明の画像形成方法では、エネルギー印
加後に画像形成材料を加熱することにより画像形成を行
う。この場合の加熱処理は、均一に十分に熱が掛かるも
のであれば特に制限はなく用いることができる。加熱処
理手段としては、オーブン、サーマルヘッド、ヒートロ
ール、ホットスタンプ、熱ペンなど温度のみを掛けるも
のでも、温度を掛けると同時に圧力を掛けるものでも適
時選択して用いることができるが、アンモニア又は一級
アミンと、消色又は発色する化合物を均一に効率良く混
ぜあわせるために、加熱と同時に圧力を掛けることがよ
り好ましい。
加後に画像形成材料を加熱することにより画像形成を行
う。この場合の加熱処理は、均一に十分に熱が掛かるも
のであれば特に制限はなく用いることができる。加熱処
理手段としては、オーブン、サーマルヘッド、ヒートロ
ール、ホットスタンプ、熱ペンなど温度のみを掛けるも
のでも、温度を掛けると同時に圧力を掛けるものでも適
時選択して用いることができるが、アンモニア又は一級
アミンと、消色又は発色する化合物を均一に効率良く混
ぜあわせるために、加熱と同時に圧力を掛けることがよ
り好ましい。
【0090】オーブンを用いる場合の加熱温度は、通
常、60〜200℃、好ましくは80〜180℃、の範囲であり、
加熱時間は通常0.1〜300秒、好ましくは0.5〜100秒であ
り、サーマルヘッドは通常の溶融転写、昇華転写などに
用いられる条件でそのまま使用することができる。ま
た、ヒートロールを用いる場合の加熱温度は、通常、60
〜200℃、好ましくは80〜180℃の範囲であり、搬送速度
は、通常、0.1〜100mm/秒、好ましくは0.5〜50mm/秒
である。圧力は、通常0.1〜20kg/cm、好ましくは0.5〜
10kg/cmである。更に、ホットスタンプを用いる場合の
加熱温度は、通常、60〜200℃、好ましくは80〜150℃の
範囲で、圧力としては、通常、0.05〜10kg/cm2、好ま
しくは0.5〜5kg/cm2、また加熱時間は、通常0.1〜300
秒、好ましくは0.5〜100秒である。
常、60〜200℃、好ましくは80〜180℃、の範囲であり、
加熱時間は通常0.1〜300秒、好ましくは0.5〜100秒であ
り、サーマルヘッドは通常の溶融転写、昇華転写などに
用いられる条件でそのまま使用することができる。ま
た、ヒートロールを用いる場合の加熱温度は、通常、60
〜200℃、好ましくは80〜180℃の範囲であり、搬送速度
は、通常、0.1〜100mm/秒、好ましくは0.5〜50mm/秒
である。圧力は、通常0.1〜20kg/cm、好ましくは0.5〜
10kg/cmである。更に、ホットスタンプを用いる場合の
加熱温度は、通常、60〜200℃、好ましくは80〜150℃の
範囲で、圧力としては、通常、0.05〜10kg/cm2、好ま
しくは0.5〜5kg/cm2、また加熱時間は、通常0.1〜300
秒、好ましくは0.5〜100秒である。
【0091】なお、オーブンなどの加熱処理のみにさら
に圧力を掛けたい場合には、例えば、オーブン中で圧力
ロールで処理することにより加熱加圧処理することがで
きる。
に圧力を掛けたい場合には、例えば、オーブン中で圧力
ロールで処理することにより加熱加圧処理することがで
きる。
【0092】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。また、化合
物の部は特にことわりのない限り重量部を表す。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。また、化合
物の部は特にことわりのない限り重量部を表す。
【0093】実施例1 下記の原料を混合して本発明に係わる第1の画像形成層
の塗布液を得た。
の塗布液を得た。
【0094】 コバルト錯体(Co−1) 1.8部 o-フタルアルデヒド 2.9部 ポリビニルブチラール樹脂(BL−1,積水化学工業製) 8.0部 2-イソプロポキシ-1,4-ナフトキノン 0.6部 メチルエチルケトン 66.7部 アセトン 20.0部 上記塗布液を、易接着処理(コロナ放電処理)した厚さ
100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)ベース
〔ダイアホイルヘキスト(株)製;T100〕上にワイヤー
バーを用いて乾燥膜厚が10μmになるように塗布、乾燥
し、PETベース上に画像形成層を有するシートを形成
した。
100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)ベース
〔ダイアホイルヘキスト(株)製;T100〕上にワイヤー
バーを用いて乾燥膜厚が10μmになるように塗布、乾燥
し、PETベース上に画像形成層を有するシートを形成
した。
【0095】この上に、ポリエチレンワックスエマルジ
ョン(固形分10重量%)をワイヤーバーを用いて乾燥膜
厚が1μmとなるように塗布し、剥離層を形成した。
ョン(固形分10重量%)をワイヤーバーを用いて乾燥膜
厚が1μmとなるように塗布し、剥離層を形成した。
【0096】更に剥離層上に、上記第1の画像形成層用
塗布液の2-イソプロポキシ-1,4-ナフトキノンに替え
て、フッ素系界面活性剤(BASF社製;FT248 0.1部)と
赤外感光色素D−43、0.5部を用いた第2の画像形成層
用塗布液を、乾燥膜厚6.5μmとなるように塗布・乾燥
し、画像形成材料を得た。
塗布液の2-イソプロポキシ-1,4-ナフトキノンに替え
て、フッ素系界面活性剤(BASF社製;FT248 0.1部)と
赤外感光色素D−43、0.5部を用いた第2の画像形成層
用塗布液を、乾燥膜厚6.5μmとなるように塗布・乾燥
し、画像形成材料を得た。
【0097】第2の画像形成層側から半導体レーザー
〔シャープ(株)製;LT090MD、出力100mW、主波長830n
m〕を用いて、焦点を合わせた後走査露光〔ビーム径6.4
μm、走査ピッチ5μm〕して潜像を形成し、ヒートロー
ル(100℃、10mm/sec、圧力3kg/cm)で現像し、第2
の画像形成層に画像形成した。
〔シャープ(株)製;LT090MD、出力100mW、主波長830n
m〕を用いて、焦点を合わせた後走査露光〔ビーム径6.4
μm、走査ピッチ5μm〕して潜像を形成し、ヒートロー
ル(100℃、10mm/sec、圧力3kg/cm)で現像し、第2
の画像形成層に画像形成した。
【0098】その後、さらに第2の画像形成層側から明
室感光材料用プリンター〔大日本スクリーン(株)製;P-
627-HA〕で全面露光(露光エネルギー500mj/cm2)して
第1の画像形成層に潜像を形成し、ヒートロールで処理
(100℃、10mm/sec、圧力3kg/cm)することにより画
像を形成した。
室感光材料用プリンター〔大日本スクリーン(株)製;P-
627-HA〕で全面露光(露光エネルギー500mj/cm2)して
第1の画像形成層に潜像を形成し、ヒートロールで処理
(100℃、10mm/sec、圧力3kg/cm)することにより画
像を形成した。
【0099】粘着テープを第2の画像形成層上に貼っ
て、該層ごと引き剥がして第1の画像形成層の画像を露
出させた。
て、該層ごと引き剥がして第1の画像形成層の画像を露
出させた。
【0100】別途、15μmのPETベース上にワイヤー
バーを用いて乾燥膜厚が20μmになるように下記処方の
定着層塗布液を塗布、乾燥し、硬化性定着層シートを形
成した。
バーを用いて乾燥膜厚が20μmになるように下記処方の
定着層塗布液を塗布、乾燥し、硬化性定着層シートを形
成した。
【0101】 ポリメチルメタクリレート 10.0部 〔三菱レイヨン(株)製、ダイアナールBR-83〕 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 37.0部 〔日本化薬(株)製、KAYARAD DPHA〕 ビス(2-o-クロロフェニル-4,5-ジフェニルイミダゾール) 2.25部 2-メルカプトベンゾチアゾール 0.75部 メチルエチルケトン 50部 パラトルエンスルホン酸 8部 第1の画像形成層と定着層を対面させて150℃、10mm/s
ec、圧力3kg/cmで加熱処理し定着した。透過濃度計で
オレンジ色を用い得られた画像を測定した。画像濃度
(露光部)は3.54、非画像部のそれは0.03のコントラス
トの高い画像であった。解像度は4000dpiの小点の再現
も可能であった。
ec、圧力3kg/cmで加熱処理し定着した。透過濃度計で
オレンジ色を用い得られた画像を測定した。画像濃度
(露光部)は3.54、非画像部のそれは0.03のコントラス
トの高い画像であった。解像度は4000dpiの小点の再現
も可能であった。
【0102】一方、第2の画像形成層用塗布液のみをを
乾燥膜厚10μmとなるように支持体上に塗布して、画像
形成層が1層の画像形成シートを作成し、上記第2の画
像形成層に画像を形成したのと同様にして画像形成し
て、透過濃度計でオレンジ色を用い得られた画像を測定
した。画像濃度(露光部)は2.98、非画像部のそれは0.
38のコントラストの低い画像であった。
乾燥膜厚10μmとなるように支持体上に塗布して、画像
形成層が1層の画像形成シートを作成し、上記第2の画
像形成層に画像を形成したのと同様にして画像形成し
て、透過濃度計でオレンジ色を用い得られた画像を測定
した。画像濃度(露光部)は2.98、非画像部のそれは0.
38のコントラストの低い画像であった。
【0103】実施例2 下記の第1の画像形成層用塗工液を調製した。
【0104】 コバルト錯体(Co−3) 1.8部 消色化合物 8-(ベンゾ[b]-3H-1,2-ジチオール-3-イリジン)-9,10,11,12- テトラヒドロ-8H-シクロヘプタ[e]ナフト[2,1-b] ピリリウムパークロレート 0.7部 2,4-ジフェニル-6-(β-メチル-3,4-ジエトキシスチリル) ピリリウムフルオロボレート 0.65部 2,6-ジフェニル-4-(4-メトキシカルボニルフェニル) ピリリウムパークロレート 0.65部 2-イソプロポキシ-1,4-ナフトキノン 0.8部 スクシンイミド 1.0部 ポリビニルホルマール樹脂 13.4部 〔電気化学工業(株)製;デンカホルマール#20〕 p-ベンジルビフェニル 1.5部 アセトン 20部 メチルエチルケトン 59.5部 上記塗布液を、易接着処理(コロナ放電処理)した厚さ
100μmのPETベース〔ダイアホイルヘキスト(株)製;
T100〕上にワイヤーバーを用いて乾燥後の膜厚が10μm
になるように塗布、乾燥し、PETベース上に画像形成
層を有するシートを形成し、別途実施例1の第2の画像
形成層用塗布液の赤外感光色素をD−7に変えたもの
を、厚さ75μmのPETベース〔ダイアホイルヘキスト
(株)製〕上に乾燥膜厚10μmとなるように塗布・乾燥
し、次いで第2の画像形成層と第1の画像形成層に対面
させ密着せしめて一体化させた後に、第2の画像形成層
側からアルゴンイオンレーザー〔アメリカンレーザー社
製;60C、出力30mV、波長514nm〕を用い、ビーム径を
8.5μmに絞り焦点を合わせた後、走査露光〔走査ピッチ
20μm〕にて潜像を形成し、画像形成材料をヒートロー
ルで加熱加圧処理することにより第2の画像形成層に画
像を形成させた。このようにして作成された画像形成材
料の第2の画像形成層に画像がある側から実施例1と同
様にして露光し、第2の画像形成層を有するシートを剥
がして、第1の画像形成層をヒートロールで処理(110
℃、10mm/sec、圧力3.0kg/cm)することにより画像を
形成した。
100μmのPETベース〔ダイアホイルヘキスト(株)製;
T100〕上にワイヤーバーを用いて乾燥後の膜厚が10μm
になるように塗布、乾燥し、PETベース上に画像形成
層を有するシートを形成し、別途実施例1の第2の画像
形成層用塗布液の赤外感光色素をD−7に変えたもの
を、厚さ75μmのPETベース〔ダイアホイルヘキスト
(株)製〕上に乾燥膜厚10μmとなるように塗布・乾燥
し、次いで第2の画像形成層と第1の画像形成層に対面
させ密着せしめて一体化させた後に、第2の画像形成層
側からアルゴンイオンレーザー〔アメリカンレーザー社
製;60C、出力30mV、波長514nm〕を用い、ビーム径を
8.5μmに絞り焦点を合わせた後、走査露光〔走査ピッチ
20μm〕にて潜像を形成し、画像形成材料をヒートロー
ルで加熱加圧処理することにより第2の画像形成層に画
像を形成させた。このようにして作成された画像形成材
料の第2の画像形成層に画像がある側から実施例1と同
様にして露光し、第2の画像形成層を有するシートを剥
がして、第1の画像形成層をヒートロールで処理(110
℃、10mm/sec、圧力3.0kg/cm)することにより画像を
形成した。
【0105】透過濃度計でオレンジ色を用い得られた画
像を測定した。画像濃度(未露光部)は4.21、非画像部
(露光部)のそれは0.03のコントラストの高い画像であ
った。解像度は3000dpiの小点の再現が可能であった。
像を測定した。画像濃度(未露光部)は4.21、非画像部
(露光部)のそれは0.03のコントラストの高い画像であ
った。解像度は3000dpiの小点の再現が可能であった。
【0106】
【発明の効果】本発明により、簡易な乾式処理で解像
度、感度の良好な高コントラストの画像を得ることがで
きる。
度、感度の良好な高コントラストの画像を得ることがで
きる。
【図1】本発明の画像形成材料の幾つかの例。
【図2】画像形成材料に潜像を形成する様子を示すモデ
ル図。
ル図。
【図3】形成された画像を示すモデル図。
【図4】第2の画像形成層の画像をマスクにして、第1
の画像形成層に潜像を形成するモデル図。
の画像形成層に潜像を形成するモデル図。
【図5】第1の画像形成層に形成された画像を示すモデ
ル図。
ル図。
【図6】2つの画像形成層を剥離した状態を示すモデル
図。
図。
【図7】定着材料の1例を示す図。
【図8】画像の定着処理を示す図。
【図9】画像の定着処理とその他の例を示す図。
1 支持体 2 第1の画像形成層 3 第2の画像形成層 4 支持体 5 剥離層 6 接着層 7 定着剤含有層 8 支持体
Claims (2)
- 【請求項1】 支持体上に、アンモニア又は一級アミン
が配位したコバルト(III)錯体、アンモニア又は一級ア
ミンにより発色或いは消色する化合物及び光により前記
コバルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元しうる光
還元性センサー化合物類を含有する第1の画像形成層、
及び、アンモニア又は一級アミンが配位したコバルト(I
II)錯体、アンモニア又は一級アミンにより発色或いは
消色する化合物及び前記光還元性センサー化合物類とは
異なる波長領域に感光してコバルト(III)錯体をコバル
ト(II)錯体に還元しうる光還元性センサー化合物類を含
有する第2の画像形成層を有することを特徴とする画像
形成材料。 - 【請求項2】 1)アンモニア又は一級アミンが配位し
たコバルト(III)錯体、アンモニア又は一級アミンによ
り発色或いは消色する化合物及び光により前記コバルト
(III)錯体をコバルト(II)錯体に還元しうる光還元性セ
ンサー化合物類を含有する第1の画像形成層に、アンモ
ニア又は一級アミンが配位したコバルト(III)錯体、ア
ンモニア又は一級アミンにより発色或いは消色する化合
物及び前記光還元性センサー化合物類とは異なる波長領
域に感光してコバルト(III)錯体をコバルト(II)錯体に
還元しうる光還元性センサー化合物類を含有する第2の
画像形成層を直接又は間接に積層して、2)第2の画像
形成層に含有される光還元性センサー化合物類のみを感
光させる感光波長領域の光で像様に露光した後、3)加
熱現像して第2の画像形成層に画像を形成し、4)該画
像をマスクとして第1の画像形成層に含有される光還元
性センサー化合物類を感光させる感光波長領域の光を照
射し、5)加熱現像して第1の画像形成層に画像を形成
した後、6)第2の画像形成層を剥離することを特徴と
する画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24542194A JPH08110609A (ja) | 1994-10-11 | 1994-10-11 | 画像形成方法及びそれに用いる画像形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24542194A JPH08110609A (ja) | 1994-10-11 | 1994-10-11 | 画像形成方法及びそれに用いる画像形成材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08110609A true JPH08110609A (ja) | 1996-04-30 |
Family
ID=17133412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24542194A Pending JPH08110609A (ja) | 1994-10-11 | 1994-10-11 | 画像形成方法及びそれに用いる画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08110609A (ja) |
-
1994
- 1994-10-11 JP JP24542194A patent/JPH08110609A/ja active Pending
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