JPH08111371A - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

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JPH08111371A
JPH08111371A JP6268418A JP26841894A JPH08111371A JP H08111371 A JPH08111371 A JP H08111371A JP 6268418 A JP6268418 A JP 6268418A JP 26841894 A JP26841894 A JP 26841894A JP H08111371 A JPH08111371 A JP H08111371A
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JP
Japan
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optical system
wafer
stage
projection
support
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Application number
JP6268418A
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English (en)
Inventor
Yukio Tokuda
幸夫 徳田
Yukio Takabayashi
幸夫 高林
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to US08/531,344 priority patent/US5691806A/en
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Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00—Photographic printing apparatus
    • G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
    • G03B27/52—Details
    • G03B27/58—Baseboards, masking frames, or other holders for the sensitive material

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  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 投影レンズを支持する鋳造フレームの露出面
を縮小する。 【構成】 ウエハＷ1 を支持するウエハステージ１の上
方には、鋳造フレーム５によって、投影レンズ２とレチ
クルステージ３と光源光学系４が支持される。鋳造フレ
ーム５の頂部５ａは内部に補強用のリブ５４を内蔵する
中空構造であり、これによって頂部５ａの剛性が大幅に
強化される。リブ５４が内蔵されており、従ってウエハ
ステージ１に対する露出面が小さいため、鋳造フレーム
５の付着物によってウエハＷ1 が汚染されるトラブルも
少ない。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ディバイス等製
造のためのウエハ等基板を露光する投影露光装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造等に用いられる投影露光装置
は、図２に示すように、ウエハＷ0 を位置決めするため
のウエハステージ１０１と、その上方に配設された投影
レンズ１０２、レチクルステージ１０３および光源光学
系１０４を有し、光源光学系１０４から発生された露光
光は、レチクルステージ１０３上のレチクルＲ0 を透過
し投影レンズ１０２によってウエハＷ0 に集光され、レ
チクルＲ0 のパターンをウエハＷ0 に転写する。
【０００３】ウエハステージ１０１はベース１０１ａの
中央部分に支持され、ベース１０１ａは防振装置１０１
ｂを介して床面に支持される。ベース１０１ａの外周部
分には鋳造フレーム１０５が立設支持されており、鋳造
フレーム１０５の頂部１０５ａは中央に投影レンズ１０
２を支持し、その外側には、レチクルステージ１０３を
支持するレチクルステージ支持部材１０３ａと光源光学
系１０４を支持する光源光学系支持部材１０４ａを立設
支持する。
【０００４】鋳造フレーム１０５はこのように、投影レ
ンズ１０２とレチクルステージ１０３と光源光学系１０
４を支持するものであり、従って高剛性であることが要
求され、特に鋳造フレーム１０５の頂部１０５ａの中央
には高重量の投影レンズ１０２が支持されており、これ
を安定支持するために剛性を大幅に強化することが必要
である。従来は、図２の破断部分に示すように、下面に
複数のリブ１０５ｂを突出させたリブ構造にすること
で、頂部１０５ａの剛性を強化するのが一般的であっ
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、投影レンズやレチクル
ステージおよび光源光学系を支持する鋳造フレームの頂
部下面に複数のリブが突出し、従って広い鋳肌面がウエ
ハステージに向かって露出しており、鋳肌面に付着した
ゴミや塵がウエハステージ上のウエハに落下してその表
面を汚染し、転写パターンに欠陥を発生するトラブルが
多発し、その結果、製品の歩留が大きく低下するという
未解決の課題があった。
【０００６】また、最近ではウエハの大径化が進み、こ
れに伴って投影レンズやレチクルが大型化かつ高重量化
し、投影レンズやレチクルステージを支える鋳造フレー
ムにはより一層高剛性のものが要求されている。
【０００７】加えて、転写パターンの微細化も一層進
み、露光中にウエハステージ等のパルスモータの振動や
空調装置の駆動部から発生する振動が鋳造フレームを介
してレチクルや投影レンズに伝わるのを防ぐための防振
対策も重要な課題になっている。
【０００８】本発明は、上記従来の技術の有する未解決
の課題に鑑みてなされたものであって、投影光学系を支
持する鋳造フレーム等の支持体の剛性と防振性を大きく
向上できるうえに、前記支持体の付着物によってウエハ
等基板が汚染されるトラブルを低減できる投影露光装置
を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の投影露光装置は、支持体によって支持され
た投影光学系と、該投影光学系を経て露光される基板を
保持する基板ステージを有し、前記支持体の少なくとも
前記基板ステージに面した所定の部分が、補強用のリブ
を内蔵する中空構造であることを特徴とする。
【００１０】支持体の中空部に吸振材が充填されている
とよい。
【００１１】
【作用】支持体の所定の部分が補強用のリブを内蔵する
中空構造であるため、リブが露出している場合に比べ
て、より大きな剛性を確保できる。加えて、基板ステー
ジに対する支持体の露出面を大幅に縮小して支持体の付
着物による基板の汚染を防ぐことができる。
【００１２】支持体の中空部に吸振材が充填されていれ
ば、基板ステージの駆動部等から支持体に伝わる振動を
吸振材によって速やかに減衰させることができる。
【００１３】その結果、高精度で生産性が高く、基板の
大型化や転写パターンの一層の微細化に対する対応も容
易である投影露光装置を実現できる。
【００１４】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【００１５】図１は一実施例による投影露光装置を示す
一部破断立面図であって、これは、基板であるウエハＷ
1 を位置決めするための公知の基板ステージであるウエ
ハステージ１と、その上方に配設された投影光学系であ
る投影レンズ２と、原版ステージであるレチクルステー
ジ３および光源光学系４を有し、光源光学系４から発生
された露光光は、レチクルステージ３上の原版であるレ
チクルＲ1 を透過し投影レンズ２によってウエハＷ1 に
集光され、レチクルＲ1 のパターンをウエハＷ1 に転写
する。
【００１６】ウエハステージ１はベース１ａの中央部分
に支持され、ベース１ａは防振装置１ｂを介して図示し
ない床面に支持されている。ベース１ａの外周部分には
支持体である鋳造フレーム５が立設支持されており、鋳
造フレーム５は、後述するような中空構造の頂部５ａと
これと一体である４本の脚部５ｂによって構成され、鋳
造フレーム５の頂部５ａは中央に投影レンズ２を支持
し、その外側には、レチクルステージ３を支持する門型
の支持部材３ａと光源光学系４を支持するＬ字型の支持
部材４ａを立設支持する。
【００１７】中空構造の頂部５ａは、その一部分を破断
して示すように、上下方向に対向する一対の平板部分５
１，５２と、両者の外周縁と一体である側壁部分５３
と、両平板部分５１，５２の間に縦横に複数ずつ交差し
て配設された補強用のリブ５４からなる。
【００１８】リブ５４は頂部５ａを補強するのに十分な
数だけ縦横に交差して配設され、両平板部分５１，５２
の間に格子状に配列された複数のボックス型の中空部５
４ａを形成し、また、各リブ５４には、互に隣接する中
空部５４ａを連通させる孔５４ｂが設けられる。
【００１９】このような中空構造は、鋳造フレーム５の
鋳造時に砂型でできた中子を用いて一体成形してもよい
し、また、下方に位置する平板部分５２を除いた従来例
と同様のリブ構造の頂部を有する鋳造フレームを鋳造し
たうえで、下方の平板部分５２を構成する板材を溶接等
によって一体化してもよい。
【００２０】鋳造フレーム５の頂部５ａの各中空部５４
ａには、側壁部分５３に設けられた図示しない開口から
吸振材である二液混合型の発泡ウレタン樹脂５５が注入
され、各リブ５４の孔５４ｂを通ってすべての中空部５
４ａに均一に充填される。
【００２１】鋳造フレーム５の頂部５ａは、各リブ５４
によって、高重量の投影レンズ２を安定支持するのに充
分な曲げ剛性を確保するとともに、各リブ５４を中空構
造の内部へ内蔵することで、大面積の鋳肌面がウエハス
テージ１上のウエハＷ1 に向かって露出するのを防ぎ、
鋳肌面に付着する異物がウエハＷ1 に落下してこれを汚
染するトラブルを軽減できる。
【００２２】加えて、鋳造フレーム５の頂部５ａの各中
空部５４ａに充填された発砲ウレタン樹脂によって、ウ
エハステージ１や外部の駆動部から鋳造フレーム５に伝
わる高周波振動、例えば表面波や疎密波振動等が速やか
に減衰され、図示しない公知のアライメント光学系によ
るアライメント精度や投影レンズの解像度等が前記振動
によっ損われるのを防ぐことができる。
【００２３】このように本実施例によれば、鋳造フレー
ムの頂部が中空構造でありこれに補強用のリブを内蔵さ
せることで、鋳肌面の付着物によるトラブルを軽減し、
半導体製品の歩留を大幅に向上できる。
【００２４】また、鋳造フレームの頂部が補強用のリブ
を内蔵する中空構造であるために、従来例のように露出
したリブのみによって補強する場合に比べてより一層大
きな剛性を得られるという利点もあり、さらに、中空構
造の中空部に発砲ウレタン樹脂等の吸振材を充填するこ
とで、鋳造フレームの防振性を大幅に向上させることが
できる。
【００２５】その結果、ウエハの大型化や転写パターン
の一層の微細化にも容易に対応できる投影露光装置を実
現できる。
【００２６】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
【００２７】投影光学系を支持する支持体の剛性と防振
性を大きく向上できるうえに、前記支持体の付着物によ
ってウエハ等基板が汚染されるトラブルを低減し、歩留
りを大きく改善できる。その結果、高精度で生産性が高
く、基板の大型化や転写パターンの一層の微細化に対す
る対応も容易である投影露光装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施例による投影露光装置を示す一部破断立
面図である。
【図２】従来例による投影露光装置を示す一部破断立面
図である。
【符号の説明】
１ ウエハステージ ２ 投影レンズ ３ レチクルステージ ４ 光源光学系 ５ 鋳造フレーム ５ａ 頂部 ５４ リブ ５４ａ 中空部 ５５ 発泡ウレタン樹脂

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 支持体によって支持された投影光学系
    と、該投影光学系を経て露光される基板を保持する基板
    ステージを有し、前記支持体の少なくとも前記基板ステ
    ージに面した所定の部分が、補強用のリブを内蔵する中
    空構造であることを特徴とする投影露光装置。
  2. 【請求項２】 支持体の中空部に吸振材が充填されてい
    ることを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
  3. 【請求項３】 投影光学系の上方に原版を保持する原版
    ステージが配設され、支持体が前記原版ステージを支持
    していることを特徴とする請求項１または２記載の投影
    露光装置。
  4. 【請求項４】 投影光学系の上方に光源光学系が配設さ
    れ、支持体が前記光源光学系を支持していることを特徴
    とする請求項１ないし３いずれか１項記載の投影露光装
    置。
JP6268418A 1994-10-06 1994-10-06 投影露光装置 Pending JPH08111371A (ja)

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US08/531,344 US5691806A (en) 1994-10-06 1995-09-20 Projection exposure apparatus containing an enclosed hollow structure

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