JPH08114702A - 多層反射防止膜 - Google Patents
多層反射防止膜Info
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- JPH08114702A JPH08114702A JP6247896A JP24789694A JPH08114702A JP H08114702 A JPH08114702 A JP H08114702A JP 6247896 A JP6247896 A JP 6247896A JP 24789694 A JP24789694 A JP 24789694A JP H08114702 A JPH08114702 A JP H08114702A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 複屈折偏光板に被覆して常光線及び異常光線
の両者に対して低い反射率を達成することができる多層
反射防止膜を提供することを目的とする。 【構成】 第１層は膜厚さｄ1 ＝２２．８ｎｍ、屈折率
ｎ1 ＝２．２６のＴｉＯ 2 膜、第２層は膜厚さｄ2 ＝７
７．５ｎｍ、屈折率ｎ2 ＝１．４６８のＳｉＯ2膜、第
３層は膜厚さｄ3 ＝２２．８ｎｍ、屈折率ｎ1 ＝２．２
６のＴｉＯ2 膜、第４層は膜厚さｄ4 ＝１５５．１ｎ
ｍ、屈折率ｎ2 ＝１．４６８のＳｉＯ2 膜となるように
ＴｉＯ2 膜とＳｉＯ2 膜を交互に積層して４層を構成す
る。
の両者に対して低い反射率を達成することができる多層
反射防止膜を提供することを目的とする。 【構成】 第１層は膜厚さｄ1 ＝２２．８ｎｍ、屈折率
ｎ1 ＝２．２６のＴｉＯ 2 膜、第２層は膜厚さｄ2 ＝７
７．５ｎｍ、屈折率ｎ2 ＝１．４６８のＳｉＯ2膜、第
３層は膜厚さｄ3 ＝２２．８ｎｍ、屈折率ｎ1 ＝２．２
６のＴｉＯ2 膜、第４層は膜厚さｄ4 ＝１５５．１ｎ
ｍ、屈折率ｎ2 ＝１．４６８のＳｉＯ2 膜となるように
ＴｉＯ2 膜とＳｉＯ2 膜を交互に積層して４層を構成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板に入射した光が反
射することを防止するための反射防止膜に関し、より詳
細には、光アイソレータの構成部品である複屈折偏光板
の表面に被覆して好適な多層反射防止膜に関する。
射することを防止するための反射防止膜に関し、より詳
細には、光アイソレータの構成部品である複屈折偏光板
の表面に被覆して好適な多層反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板の表面の反射を防止するために反射
防止膜が被覆される。反射防止膜は光の波長λ、膜の屈
折率ｎ、基板の屈折率ｎS 、膜厚さｄ等をパラメータと
して最小の反射率Ｒが得られるように設計される。特
に、光の波長λが広い範囲にわたって変化しても、所望
の低い反射率Ｒが得られることが望ましい。
防止膜が被覆される。反射防止膜は光の波長λ、膜の屈
折率ｎ、基板の屈折率ｎS 、膜厚さｄ等をパラメータと
して最小の反射率Ｒが得られるように設計される。特
に、光の波長λが広い範囲にわたって変化しても、所望
の低い反射率Ｒが得られることが望ましい。
【０００３】反射防止膜にはλ／２系又はλ／４系があ
る。λ／２系はｎｄ＝λ／２なる関係を満たし、λ／４
系はｎｄ＝λ／４なる関係を満たす。
る。λ／２系はｎｄ＝λ／２なる関係を満たし、λ／４
系はｎｄ＝λ／４なる関係を満たす。
【０００４】反射防止膜として、単層のもの、２層、３
層、４層等の多層のものが知られている。多層反射防止
膜は、例えば高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層す
ることによって構成される。
層、４層等の多層のものが知られている。多層反射防止
膜は、例えば高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に積層す
ることによって構成される。
【０００５】従来例の多層反射防止膜として次のような
構成を有するものが知られている。この多層防止膜は４
層からなり、第１層及び第４層はλ／４膜であり、第２
層及び第３層はλ／２膜である。各層の膜厚さｄ、屈折
率ｎは次のようである。
構成を有するものが知られている。この多層防止膜は４
層からなり、第１層及び第４層はλ／４膜であり、第２
層及び第３層はλ／２膜である。各層の膜厚さｄ、屈折
率ｎは次のようである。
【０００６】第１層（酸化チタン（ＴｉＯ2 ）膜）： ｄ1 ＝１７１．５ｎｍ ｎ1 ＝２．２６ 第２層（酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）膜）： ｄ2 ＝５２７．９ｎｍ ｎ2 ＝１．４６８
【０００７】第３層（酸化チタン（ＴｉＯ2 ）膜）： ｄ3 ＝３４２．９ｎｍ ｎ1 ＝２．２６ 第４層（酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）膜）： ｄ4 ＝２６４．０ｎｍ ｎ2 ＝１．４６８
【０００８】斯かる多層反射防止膜において、波長λ0
＝１．５５μｍの光線に対する各層の光学的膜厚さ
Ｄ1 、Ｄ2 、Ｄ3 、Ｄ4 を求めると次のようになる。 Ｄ1 ＝ｎ1 ｄ1 ／λ0 ＝１／４ Ｄ2 ＝ｎ2 ｄ2 ／λ0 ＝１／２ Ｄ3 ＝ｎ1 ｄ3 ／λ0 ＝１／２ Ｄ4 ＝ｎ2 ｄ4 ／λ0 ＝１／４
＝１．５５μｍの光線に対する各層の光学的膜厚さ
Ｄ1 、Ｄ2 、Ｄ3 、Ｄ4 を求めると次のようになる。 Ｄ1 ＝ｎ1 ｄ1 ／λ0 ＝１／４ Ｄ2 ＝ｎ2 ｄ2 ／λ0 ＝１／２ Ｄ3 ＝ｎ1 ｄ3 ／λ0 ＝１／２ Ｄ4 ＝ｎ2 ｄ4 ／λ0 ＝１／４
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来の多層反射防止膜
は、使用する光の波長λに対して屈折率ｎが一定として
最小の反射率Ｒを達成するように構成されている。従っ
て、複屈折偏光板のように常光線と異常光線に対して異
なる屈折率を示す基板に被覆する場合に、常光線と異常
光線の両者に対して低い反射率Ｒを達成することはでき
なかった。
は、使用する光の波長λに対して屈折率ｎが一定として
最小の反射率Ｒを達成するように構成されている。従っ
て、複屈折偏光板のように常光線と異常光線に対して異
なる屈折率を示す基板に被覆する場合に、常光線と異常
光線の両者に対して低い反射率Ｒを達成することはでき
なかった。
【００１０】従来の例では、例えば、常光線に対しては
低い反射率Ｒを達成することができても、異常光線に対
して低い反射率Ｒを達成することはできない。
低い反射率Ｒを達成することができても、異常光線に対
して低い反射率Ｒを達成することはできない。
【００１１】本発明は、斯かる点に鑑み、複屈折偏光板
のように常光線と異常光線に対して異なる屈折率を示す
基板に被覆して好適な反射防止膜を提供することを目的
とする。
のように常光線と異常光線に対して異なる屈折率を示す
基板に被覆して好適な反射防止膜を提供することを目的
とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明によると、複屈折
偏光板の表面に被覆するための多層反射防止膜におい
て、第１層は屈折率ｎ1 ＝２．２６のＴｉＯ2 膜、第２
層は屈折率ｎ2 ＝１．４６８のＳｉＯ2 膜、第３層は屈
折率ｎ1 ＝２．２６のＴｉＯ2 膜、第４層は屈折率ｎ2
＝１．４６８のＳｉＯ2 膜となるようにＴｉＯ2 膜とＳ
ｉＯ2 膜を交互に積層し、複屈折偏光板の表面に装着さ
れる内側の第１層から外側の第４層までの膜厚さをそれ
ぞれｄ1 、ｄ2 、ｄ3 、ｄ4 とすると、ｄ1 ＝２２．８
ｎｍ、ｄ2 ＝７７．５ｎｍ、ｄ3 ＝２２．８ｎｍ、ｄ4
＝１５５．１ｎｍ、であり、波長λ0 ＝１．５５μｍの
光線に対する上記各層の光学的膜厚さをそれぞれＤ1 、
Ｄ2 、Ｄ3 、Ｄ4 とすると、 Ｄ1 ＝ｎ1 ｄ1 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ2 ＝ｎ2 ｄ2 ／λ0 ≒１１／１５０、 Ｄ3 ＝ｎ1 ｄ3 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ4 ＝ｎ2 ｄ4 ／λ0 ≒２２／１５０、 となるように構成されている。
偏光板の表面に被覆するための多層反射防止膜におい
て、第１層は屈折率ｎ1 ＝２．２６のＴｉＯ2 膜、第２
層は屈折率ｎ2 ＝１．４６８のＳｉＯ2 膜、第３層は屈
折率ｎ1 ＝２．２６のＴｉＯ2 膜、第４層は屈折率ｎ2
＝１．４６８のＳｉＯ2 膜となるようにＴｉＯ2 膜とＳ
ｉＯ2 膜を交互に積層し、複屈折偏光板の表面に装着さ
れる内側の第１層から外側の第４層までの膜厚さをそれ
ぞれｄ1 、ｄ2 、ｄ3 、ｄ4 とすると、ｄ1 ＝２２．８
ｎｍ、ｄ2 ＝７７．５ｎｍ、ｄ3 ＝２２．８ｎｍ、ｄ4
＝１５５．１ｎｍ、であり、波長λ0 ＝１．５５μｍの
光線に対する上記各層の光学的膜厚さをそれぞれＤ1 、
Ｄ2 、Ｄ3 、Ｄ4 とすると、 Ｄ1 ＝ｎ1 ｄ1 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ2 ＝ｎ2 ｄ2 ／λ0 ≒１１／１５０、 Ｄ3 ＝ｎ1 ｄ3 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ4 ＝ｎ2 ｄ4 ／λ0 ≒２２／１５０、 となるように構成されている。
【００１３】
【作用】本発明による多層反射防止膜を複屈折偏光板に
被覆すると、常光線及び異常光線の両者に対して所望の
低反射率を達成することができる。
被覆すると、常光線及び異常光線の両者に対して所望の
低反射率を達成することができる。
【００１４】
【実施例】本発明による多層反射防止膜は４層よりな
る。斯かる４層のうち、基板に接した第１層は酸化チタ
ン（ＴｉＯ2 ）膜、次の第２層は酸化ケイ素（Ｓｉ
Ｏ2 ）膜、次の第３層は酸化チタン（ＴｉＯ2 ）膜、外
側の第４層は酸化ケイ素（ＳｉＯ 2 ）膜である。本発明
による多層反射防止膜は、基板として光アイソレータの
構成部品である複屈折偏光板に被覆されてよい。
る。斯かる４層のうち、基板に接した第１層は酸化チタ
ン（ＴｉＯ2 ）膜、次の第２層は酸化ケイ素（Ｓｉ
Ｏ2 ）膜、次の第３層は酸化チタン（ＴｉＯ2 ）膜、外
側の第４層は酸化ケイ素（ＳｉＯ 2 ）膜である。本発明
による多層反射防止膜は、基板として光アイソレータの
構成部品である複屈折偏光板に被覆されてよい。
【００１５】本発明の多層反射防止膜によると、斯かる
４層の膜厚さｄ及び屈折率ｎは次のようになる。
４層の膜厚さｄ及び屈折率ｎは次のようになる。
【００１６】第１層（酸化チタン（ＴｉＯ2 ）膜）： ｄ1 ＝２２．８ｎｍ ｎ1 ＝２．２６ 第２層（酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）膜）： ｄ2 ＝７７．５ｎｍ ｎ2 ＝１．４６８
【００１７】第３層（酸化チタン（ＴｉＯ2 ）膜）： ｄ3 ＝２２．８ｎｍ ｎ1 ＝２．２６ 第４層（酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）膜）： ｄ4 ＝１５５．１ｎｍ ｎ2 ＝１．４６８
【００１８】斯かる多層反射防止膜において、波長λ0
＝１．５５μｍの光線に対する各層の光学的膜厚さ
Ｄ1 、Ｄ2 、Ｄ3 、Ｄ4 を求めると次のようになる。 Ｄ1 ＝ｎ1 ｄ1 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ2 ＝ｎ2 ｄ2 ／λ0 ≒１１／１５０、 Ｄ3 ＝ｎ1 ｄ3 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ4 ＝ｎ2 ｄ4 ／λ0 ≒２２／１５０、
＝１．５５μｍの光線に対する各層の光学的膜厚さ
Ｄ1 、Ｄ2 、Ｄ3 、Ｄ4 を求めると次のようになる。 Ｄ1 ＝ｎ1 ｄ1 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ2 ＝ｎ2 ｄ2 ／λ0 ≒１１／１５０、 Ｄ3 ＝ｎ1 ｄ3 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ4 ＝ｎ2 ｄ4 ／λ0 ≒２２／１５０、
【００１９】図１を参照して本発明による多層反射防止
膜の性能を従来例の多層反射防止膜と比較して説明す
る。図１は本発明による多層反射防止膜と上述の従来の
多層反射防止膜をルチル偏光板の表面に被覆した場合の
反射率Ｒをそれぞれ表すグラフである。縦軸は反射率Ｒ
（％）、横軸は波長λ（ｎｍ）である。
膜の性能を従来例の多層反射防止膜と比較して説明す
る。図１は本発明による多層反射防止膜と上述の従来の
多層反射防止膜をルチル偏光板の表面に被覆した場合の
反射率Ｒをそれぞれ表すグラフである。縦軸は反射率Ｒ
（％）、横軸は波長λ（ｎｍ）である。
【００２０】実線の第１の曲線１１は本発明による常光
線に対する反射率Ｒ、実線の第２の曲線１２は本発明に
よる異常光線に対する反射率Ｒ、破線の第３の曲線２１
は従来例による常光線に対する反射率Ｒ、破線の第４の
曲線２２は従来例による異常光線に対する反射率Ｒであ
る。
線に対する反射率Ｒ、実線の第２の曲線１２は本発明に
よる異常光線に対する反射率Ｒ、破線の第３の曲線２１
は従来例による常光線に対する反射率Ｒ、破線の第４の
曲線２２は従来例による異常光線に対する反射率Ｒであ
る。
【００２１】常光線はスネルの法則に従い、異常光線は
スネルの法則に従わない。波長λ＝１．５５μｍの光線
を使用した場合、ルチル偏光板の常光線に対する屈折率
ｎO、異常光線に対する屈折率ｎE は次のような値とな
る。 ｎO ＝２．４５ ｎE ＝２．７０
スネルの法則に従わない。波長λ＝１．５５μｍの光線
を使用した場合、ルチル偏光板の常光線に対する屈折率
ｎO、異常光線に対する屈折率ｎE は次のような値とな
る。 ｎO ＝２．４５ ｎE ＝２．７０
【００２２】先ず、常光線について考察する。本発明に
よる常光線に対する反射率Ｒ（曲線１１）を従来例によ
る常光線に対する反射率Ｒ（曲線２１）と比較すると、
波長λ＝１．５５μｍ近傍では両者の反射率Ｒは略同一
でありＲ≦０．１％を達成することができるが、波長λ
＝１．５５μｍより十分大きいか又は小さい範囲では、
本発明による多層反射防止膜では広い範囲の波長λに
て、低い反射率Ｒを達成することができる。一方、従来
例による反射防止膜では波長λ＝１．５５μｍより離れ
ると反射率Ｒは急に上昇する。
よる常光線に対する反射率Ｒ（曲線１１）を従来例によ
る常光線に対する反射率Ｒ（曲線２１）と比較すると、
波長λ＝１．５５μｍ近傍では両者の反射率Ｒは略同一
でありＲ≦０．１％を達成することができるが、波長λ
＝１．５５μｍより十分大きいか又は小さい範囲では、
本発明による多層反射防止膜では広い範囲の波長λに
て、低い反射率Ｒを達成することができる。一方、従来
例による反射防止膜では波長λ＝１．５５μｍより離れ
ると反射率Ｒは急に上昇する。
【００２３】次に、異常光線について考察する。本発明
による異常光線に対する反射率Ｒ（曲線１２）を従来例
による異常光線に対する反射率Ｒ（曲線２２）と比較す
ると、本発明による多層反射防止膜では広い範囲の波長
λにて、低い反射率Ｒを達成することができる。一方、
従来例による反射防止膜では波長λ＝１．５５μｍ付近
でも反射率Ｒは高く、波長λ＝１．５５μｍより離れる
と反射率Ｒは更に上昇する。即ち、異常光線に対して本
願発明による多層反射防止膜の反射率Ｒは大いに改善さ
れている。
による異常光線に対する反射率Ｒ（曲線１２）を従来例
による異常光線に対する反射率Ｒ（曲線２２）と比較す
ると、本発明による多層反射防止膜では広い範囲の波長
λにて、低い反射率Ｒを達成することができる。一方、
従来例による反射防止膜では波長λ＝１．５５μｍ付近
でも反射率Ｒは高く、波長λ＝１．５５μｍより離れる
と反射率Ｒは更に上昇する。即ち、異常光線に対して本
願発明による多層反射防止膜の反射率Ｒは大いに改善さ
れている。
【００２４】図２は常光線と異常光線を混合して得られ
たランダム偏光（非偏光）に対する反射率Ｒを表し、常
光線の曲線と異常光線の曲線の平均を示す。実線の曲線
１３は本発明による多層反射防止膜の反射率Ｒを表し、
破線の曲線２３は従来の反射防止膜の反射率Ｒを表す。
たランダム偏光（非偏光）に対する反射率Ｒを表し、常
光線の曲線と異常光線の曲線の平均を示す。実線の曲線
１３は本発明による多層反射防止膜の反射率Ｒを表し、
破線の曲線２３は従来の反射防止膜の反射率Ｒを表す。
【００２５】従来の多層反射防止膜では反射率ＲはＲ≦
０．２％を達成することはできないが、本発明による多
層反射防止膜では波長幅８０ｎｍ（λ＝１．５１〜１．
５９μｍ）にわたってＲ≦０．１％を達成することがで
きる。
０．２％を達成することはできないが、本発明による多
層反射防止膜では波長幅８０ｎｍ（λ＝１．５１〜１．
５９μｍ）にわたってＲ≦０．１％を達成することがで
きる。
【００２６】反射率ＲはＲ≦０．４％を達成することが
できる波長幅は、従来例では１２０ｎｍ（λ＝１．４９
〜１．６１μｍ）だが本発明による多層反射防止膜では
２５０ｎｍ（λ＝１．４３〜１．６８μｍ）である。即
ち、本発明による多層反射防止膜では波長幅の広い範囲
にわたって低反射率Ｒを達成することができる利点があ
る。
できる波長幅は、従来例では１２０ｎｍ（λ＝１．４９
〜１．６１μｍ）だが本発明による多層反射防止膜では
２５０ｎｍ（λ＝１．４３〜１．６８μｍ）である。即
ち、本発明による多層反射防止膜では波長幅の広い範囲
にわたって低反射率Ｒを達成することができる利点があ
る。
【００２７】以上本発明の実施例について詳細に説明し
てきたが、本発明は上述の実施例に限ることなく本発明
の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得るこ
とは当業者にとって容易に理解されよう。
てきたが、本発明は上述の実施例に限ることなく本発明
の要旨を逸脱することなく他の種々の構成が採り得るこ
とは当業者にとって容易に理解されよう。
【００２８】
【発明の効果】本発明の多層反射防止膜によると、ルチ
ル偏光板の如き複屈折偏光板に被覆することによって常
光線と異常光線の両者に対して低い反射率Ｒを達成する
ことができる利点がある。
ル偏光板の如き複屈折偏光板に被覆することによって常
光線と異常光線の両者に対して低い反射率Ｒを達成する
ことができる利点がある。
【００２９】本発明の多層反射防止膜によると、ルチル
偏光板の如き複屈折偏光板に被覆することによって特に
異常光線に対して低い反射率Ｒを達成することができる
利点がある。
偏光板の如き複屈折偏光板に被覆することによって特に
異常光線に対して低い反射率Ｒを達成することができる
利点がある。
【００３０】本発明の多層反射防止膜によると、ルチル
偏光板の如き複屈折偏光板に被覆することによって、広
い波長範囲にわたって低い反射率Ｒを達成することがで
きる利点がある。
偏光板の如き複屈折偏光板に被覆することによって、広
い波長範囲にわたって低い反射率Ｒを達成することがで
きる利点がある。
【図１】本発明の多層反射防止膜と従来の反射防止膜に
ついて、常光線と異常光線に対する反射率特性を比較し
た図である。
ついて、常光線と異常光線に対する反射率特性を比較し
た図である。
【図２】本発明の多層反射防止膜と従来の反射防止膜に
ついて、ランダム偏光（非偏光）に対する反射率特性を
比較した図である。
ついて、ランダム偏光（非偏光）に対する反射率特性を
比較した図である。
【符号の説明】 １１ 常光線に対する本発明の多層反射防止膜の反射率
を示す曲線 １２ 異常光線に対する本発明の多層反射防止膜の反射
率を示す曲線 １３ ランダム偏光（非偏光）に対する本発明の多層反
射防止膜の反射率を示す曲線 ２１ 常光線に対する従来の多層反射防止膜の反射率を
示す曲線 ２２ 異常光線に対する従来の多層反射防止膜の反射率
を示す曲線 ２３ ランダム偏光（非偏光）に対する従来の多層反射
防止膜の反射率を示す曲線
を示す曲線 １２ 異常光線に対する本発明の多層反射防止膜の反射
率を示す曲線 １３ ランダム偏光（非偏光）に対する本発明の多層反
射防止膜の反射率を示す曲線 ２１ 常光線に対する従来の多層反射防止膜の反射率を
示す曲線 ２２ 異常光線に対する従来の多層反射防止膜の反射率
を示す曲線 ２３ ランダム偏光（非偏光）に対する従来の多層反射
防止膜の反射率を示す曲線
Claims (1)
- 【請求項１】 複屈折偏光板の表面に被覆するための多
層反射防止膜において、第１層は屈折率ｎ1 ＝２．２６
のＴｉＯ2 膜、第２層は屈折率ｎ2 ＝１．４６８のＳｉ
Ｏ2 膜、第３層は屈折率ｎ1 ＝２．２６のＴｉＯ2 膜、
第４層は屈折率ｎ 2 ＝１．４６８のＳｉＯ2 膜となるよ
うにＴｉＯ2 膜とＳｉＯ2 膜を交互に積層し、 複屈折偏光板の表面に装着される内側の第１層から外側
の第４層までの膜厚さをそれぞれｄ1 、ｄ2 、ｄ3 、ｄ
4 とすると、 ｄ1 ＝２２．８ｎｍ、 ｄ2 ＝７７．５ｎｍ、 ｄ3 ＝２２．８ｎｍ、 ｄ4 ＝１５５．１ｎｍ、であり、波長λ0 ＝１．５５μ
ｍの光線に対する上記各層の光学的膜厚さをそれぞれＤ
1 、Ｄ2 、Ｄ3 、Ｄ4 とすると、 Ｄ1 ＝ｎ1 ｄ1 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ2 ＝ｎ2 ｄ2 ／λ0 ≒１１／１５０、 Ｄ3 ＝ｎ1 ｄ3 ／λ0 ≒１／３０、 Ｄ4 ＝ｎ2 ｄ4 ／λ0 ≒２２／１５０、となるように構
成されている多層反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6247896A JPH08114702A (ja) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | 多層反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6247896A JPH08114702A (ja) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | 多層反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08114702A true JPH08114702A (ja) | 1996-05-07 |
Family
ID=17170184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6247896A Pending JPH08114702A (ja) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | 多層反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08114702A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010072126A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Canon Inc | 光学素子及び光学機器 |
| US20110023950A1 (en) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | Samsung Corning Precision Materials Co., Ltd. | Photovoltaic cell substrate |
| JP2018010958A (ja) * | 2016-07-13 | 2018-01-18 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置およびその製造方法、ならびに表示装置 |
-
1994
- 1994-10-13 JP JP6247896A patent/JPH08114702A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010072126A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Canon Inc | 光学素子及び光学機器 |
| US20110023950A1 (en) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | Samsung Corning Precision Materials Co., Ltd. | Photovoltaic cell substrate |
| JP2018010958A (ja) * | 2016-07-13 | 2018-01-18 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置およびその製造方法、ならびに表示装置 |
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