JPH0811757B2 - 新規なセファロスポリン化合物 - Google Patents

新規なセファロスポリン化合物

Info

Publication number
JPH0811757B2
JPH0811757B2 JP5330684A JP33068493A JPH0811757B2 JP H0811757 B2 JPH0811757 B2 JP H0811757B2 JP 5330684 A JP5330684 A JP 5330684A JP 33068493 A JP33068493 A JP 33068493A JP H0811757 B2 JPH0811757 B2 JP H0811757B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
general formula
solid
hydrogen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP5330684A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06211872A (ja
Inventor
燦 植 方
容 柱 金
在 弘 余
鍾 燦 林
憲 承 呉
永 旻 ▲う▼
徳 浩 梁
三 植 金
賢 珠 任
Original Assignee
株式会社ラッキー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社ラッキー filed Critical 株式会社ラッキー
Publication of JPH06211872A publication Critical patent/JPH06211872A/ja
Publication of JPH0811757B2 publication Critical patent/JPH0811757B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/36Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Communicable Diseases (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Oncology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は抗生物質として有用な新
規なセファロスポリン化合物、その薬剤学的に許容され
得る無毒性塩、生理学的に加水分解され得る、エステ
ル、水和物および溶媒和物およびその異性体とその製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術と本発明が解決しようとする課題】セファ
ロスポリン系抗生物質は人体および動物において、病原
性細菌による疾病を治療するのに広く用いられ、特に、
ペニシリン化合物などの他の抗生物質に対する耐性のあ
る細菌による疾病の治療とペニシリン過敏性患者の治療
に有用である。多くの場合において、グラム陽性菌およ
びグラム陰性菌等の全てに活性を示す抗生物質を用いる
ことが望ましく、従って、いろいろな態様の広範囲なセ
ファロスポリン系抗生物質の開発に関して多くの研究が
行われてきた。例えば、日本特開昭54−9296号に
は、セフェム環の3−位置に置換基Aを有する一般式
(イ)で表わされるセファロスポリン系誘導体が広くか
つ総括的に説明されている。
【0003】
【化3】
【0004】前記特許には、3−位置の置換基Aが水
素、ハロゲン、置換または非置換のアルキルオキシまた
はアルケニルオキシ、または−CH2 Y基であり、ここ
でYは水素、ハロゲンまたは−SRなどの求核性化合物
の残基であり、特に、Yが−SRである場合、Rは5な
いし8員の置換していてもよい複素環を示し、その具体
的な例として、置換していてもよいピリジルまたはピリ
ミジルなどが示されている。しかしながら、前記特許に
は、本発明のアミノ置換された4級シクロアルキル融合
ピリミジニウム基に関するものは提示されていない。一
方、フランス特許第2,426,694号には、7β−
および3−位置に置換基を有する下記一般式(ロ)の7
−〔(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−オキシ
イミノアセトアミド〕−セフェム誘導体について説明さ
れている。
【0005】
【化4】
【0006】(式中、R5 およびR6 はそれらが結合し
ている炭素原子と一緒になってC3-7 シクロアルキリデ
ン基を表し、Zは炭素で結合する5ないし6員の複素環
であって、一つ以上の窒素原子を含有し、一つ以上の硫
黄原子を有するC1-4 アルキル基で置換される) 前記フランス特許には、セフェム環の3−位置にピリミ
ジニウムチオメチル基のような置換基を有する化合物が
示されているが、かかる置換基は本発明の主置換体であ
る、アミノ基を有するシクロアルキル融合ピリミジニウ
ムチオメチル基とは非常に異なる。また、三伊らは、ヨ
ーロッパ特許出願第87304896.1号に下記のよ
うに記述した。
【0007】
【化5】 (式中、R8 は下記一般式(ハ−1)または(ハ−2)
を表す:
【0008】
【化6】 (式中、R9 は低級アルケニル基、窒素を含有する置換
していてもよい5または6員の複素環基、アシルアミノ
基または置換していてもよい低級アルキル基を表し、R
10およびR11は各々水素、低級アルキル、アミノ、アシ
ルアミノ、カルボキシル、カバモイル、チオカバモイル
または低級アルコキシカルボニル基であり、R12および
13は各々低級アルキル基であり、V′およびW′は、
−CH=または−N=基を表す)
【0009】三伊らの前記特許にはC−3位置の置換体
として、前記一般式(ハ−1)、(ハ−2)の多様なヘ
テロ環残基を表わし、これらは水素、低級アルキル、ア
ミノ基などで置換していてもよいと記述されているが、
アルキルで置換されたピリミジニウムチオメチル基につ
いての例示だけがあり、本発明のアミノ基を有するシク
ロアルキル融合ピリミジニウムチオメチル基について具
体的に説明されていない。さらに、本発明者らはより強
力な抗微生物活性と広範囲な抗菌性を有するセファロス
ポリン抗生剤に関する研究を重ねた結果、C−3位置に
多様な4,6−ジアミノピリミジニウム残基を有する下
記一般式(ニ)のセファロスポリン化合物を見出し、こ
れは大韓民国特許第47728号、第47754号、第
47755号および第47756号などに説明されてい
る。
【0010】
【化7】
【0011】(式中、R14はC1-4 アルキル、C3-4
ルケニル、C3-4 アルキニルまたはC(Ra )(Rb
COOH(ここで、Ra およびRb は各々水素またはC
1-4アルキル基であるか、これらが結合している炭素原
子と一緒になってC3-7 シクロアルキル基を形成する)
であり、R15はC1-4 アルキル、C3-4 アルケニル、C
3-4 シクロアルキル基、置換または非置換のアミノ基、
または置換または非置換のフェニル基であり、R16は水
素またはC1-4 アルキル基を表し、Q2 はCHまたはN
である) また、本発明者らは下記一般式(ホ)のセフェム化合物
について1991年4月23日付大韓民国特許出願第9
1−6494号に出願し、現在係属中である。
【0012】
【化8】
【0013】(式中、R17は水素またはC1-4 アルキル
基、C2-4 アルケニル基、C2-4 アルキニル基または−
C(Ra )(Rb )COOH(ここで、Ra およびRb
は前記一般式(ニ)で定義した通りである)であり、R
18はC1-4 アルキル基、カルボキシメチル基、ヒドロキ
シエチル基またはアミノ基であり、Q3 はNまたはCH
を表す) しかし、この化合物も本発明の前記一般式(I)の化合
物とは異なる。一方、ヨーロッパ特許出願第150,5
07号には下記一般式(ヘ)のセフェム化合物が説明さ
れている。
【0014】
【化9】
【0015】(式中、R19は水素またはアミノ保護基で
あり、R20は水素、メチル基、ヒドロキシ保護基または
アシル基であり、R21は水素またはカルボキシル保護基
であり、R22はヘテロシクロ基、特にトリアゾロピリミ
ジル基またはチアゾロピリミジル基である)
【0016】前記ヨーロッパ特許の基R22は任意に置換
していてもよいトリアゾ−ロピリミジル群を広範囲に表
しているだけで、本発明のシクロアルキル融合4−アミ
ノ−1−置換ピリミジニウム群に対しては言及または提
示されていない。さらに、本発明者らは前述した大韓民
国特許第47728号、第47754号、第47755
号および第47756号などに説明された化合物など、
即ち、C−3位置に陽電荷の構造を有する任意に置換し
ていてもよいピリミジニウムチオメチル基を導入したセ
ファロスポリン化合物などが高抗菌力を有するというこ
とに基づいて研究を重ねた結果、セフェム環のC−3位
置に、シクロアルキル基と融合した4−アミノ−1−置
換シクロアルカピリミジニウム−4−イル)チオメチル
基を有すると共に、7−β位置に特定基を有するセファ
ロスポリン化合物が広範囲な病原菌に対して強力な活性
を表すということを発見するに至った。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明は抗生物質として
有用で、セフェム環の3−位置にシクロアルキル基が融
合した4−アミノ−1−置換シクロアルカピリミジニウ
ム−4−イル)チオメチル基が導入された下記一般式
(I)のセファロスポリン化合物、その薬剤学的に許容
され得る無毒性塩、生理学的に加水分解され得る、エス
テル、水和物および溶媒和物とその異性体およびその製
造方法に関する。
【0018】
【化10】
【0019】(式中、R1 は水素、C1-4 アルキル基、
2-4 アルケニル基、C2-4 アルキニル基または−C
(RA )(RB )COOH基(ここで、RA およびRB
は同一または異なって、各々水素またはC1-4 アルキル
基であるか、それらが結合している炭素原子と一緒にな
ってC3-7 シクロアルキル基を形成する)であり、R2
は置換または非置換のアミノ基、C1-4 アルキル基また
はC3-7 シクロアルキル基であり、nは2ないし7の整
数である)
【0020】本発明による一般式(I)の化合物は、幾
何異性体として、シン−異性体またはシン−異性体を9
0%以上含有するシンおよびアンチ−異性体の混合物も
含まれ、また一般式(I)の化合物の溶媒和物および水
和物も本発明の範囲に含まれる。また、一般式(I)の
化合物において、RA およびRB が異なる場合、それら
が結合している炭素原子は、非対称中心になってジアス
テレオ異性体を形成し、本発明には、これらの化合物各
々のジアステレオ異性体およびこれらの混合物が含まれ
る。また、一般式(I)の化合物において、アミノチア
ゾリル基は、次のようにイミノチアゾリニル基と互変異
性体を形成し得るので、このような互変異性体も本発明
の範囲に含まれる。
【0021】
【化11】
【0022】一般式(I)において、R1 は望ましく
は、メチル基、エチル基、アリル基、プロパギル基また
は−C(RA )(RB )COOH基(ここで、RA およ
びRBは同一であるか異なって、各々水素、メチル基ま
たはエチル基であるか、それらが結合している炭素原子
と一緒になってシクロペンチルまたはシクロヘキシル基
を形成する)であり、R2 は、望ましくは、メチル基ま
たはアミノ基であり、nは3または4である。本発明の
化合物の例は表1に示した。
【0023】
【表1】
【0024】前記一般式(I)の化合物の薬剤学的に許
容される無毒性塩は、塩酸、臭素酸、リン酸、硫酸のよ
うな無機酸との塩または酢酸、トリフルオロ酢酸、クエ
ン酸、ギ酸、マレイン酸、シュウ酸、コハク酸、安息香
酸、酒石酸、フマル酸、マンデル酸、アスコルビン酸、
リンゴ酸のような有機カルボン酸またはメタンスルホン
酸、パラ−トルエンスルホン酸のようなスルホン酸との
塩およびペニシリンとセファロスポリンの技術分野で公
知の他の酸などとの塩を含む。これらの酸付加塩などは
常法により得られる。また、一般式(I)の化合物は、
1 基によって塩基との無毒性塩を形成することもでき
る。ここで用いられる塩基は、アルカリ金属水酸化物類
(例:水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)、アルカリ
土類金属水酸化物類(例:水酸化カルシウム)、重炭酸
ナトリウム、重炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸カルシウムなどの無機塩基とアミノ酸のよ
うな有機塩基が含まれる。
【0025】薬剤学的に許容可能な無毒性塩は、公知の
方法により、例えば、一般式 (I)の化合物を溶媒の
存在下で前記塩に相当する酸または塩基1ないし4当量
と反応させて製造し得る。前記溶媒としては水、または
水と水混和性溶媒、例えば、メタノール、エタノール、
アセトニトリル、アセトンとの混合物が用いられる。一
般式(I)の化合物の生理学的に加水分解され得るエス
テルの例としては、インダニル、フタリジル、メトキシ
メチル、ピバロイルオキシメチル、グリシルオキシメチ
ル、フェニルグリシルオキシメチル、5−メチル−2−
オキソ−1,3−ジオキソラン−4−イルエステルおよ
びペニシリンとセファロスポリンの技術分野で公知の他
の生理学的に加水分解され得るエステルを含む。
【0026】かかるエステルは、公知の方法により、例
えば、一般式(I)の化合物を、塩基、例えば、トリエ
チルアミン、ピリジンまたは炭酸ナトリウムの存在下、
相当するハロゲン化アルキル、例えば、塩化メトキシメ
チルと反応させて製造し得る。一般式(I)の化合物の
溶媒和物の例としては、水混和性溶媒、例えば、メタノ
ール、エタノール、アセトンまたはアセトニトリル、さ
らに望ましくはエタノールとの溶媒和物が挙げられる。
【0027】一般式(I)の化合物は、種々のグラム陽
性および陰性菌に対して高い抗菌作用を示し、人間を含
む動物の細菌感染の予防および治療目的に用いられる。
一般式(I)の化合物は、通常の薬剤用担体と賦形剤を
用いて常法にしたがって製剤化し、単位投与量型または
多容量容器に含有される。この組成物はオイルまたは水
性媒質中の溶液、懸濁液または乳化液などの形態として
存在し、通常の分散剤、懸濁化剤または安定化剤を含有
することができる。また、この組成物は、例えば、無
菌、発熱物質が除去された水で使用前に溶かして用いる
乾燥粉末の形態で存在することもある。また、一般式
(I)の化合物は、ココアバターまたはその他のグリセ
リドのような通常の座剤基剤を用いて座剤として製剤化
することもできる。所望によって、本発明の化合物は、
ペニシリンまたはセファロスポリンのような他の抗菌剤
と組合わせて投与することもできる。
【0028】単位容量型の組成物の場合には、一般式
(I)の化合物の活性成分を約50ないし1,500mg
含有することが望ましい。一般式(I)の化合物の量
は、患者の体重、年齢および疾病の特殊な性質と重症度
のような要因に応じて医者の処方による。しかし、成人
に対しては、投与の頻度と経路によって一日に約500
ないし5,000mgを投与することが普通であり、筋肉
内または静脈内の投与の時、一回の投与量に分けて、一
日に普通約150ないし3,000mgの全投与量で十分
であるが、一部の菌株の感染の場合は、より多量投与す
ることが望ましい。
【0029】本発明の化合物は、広範囲な抗菌作用を表
すが、一般に、グラム陰性菌に対して活性が高く、この
活性は、β−ラクタマーゼを生成することが多いグラム
陰性菌に対しても適用される。特に、本発明の化合物は
シュードモナス菌株に対して極めて高い活性を表す。本
発明による次の一般式(I)の化合物、その薬剤学的に
許容され得る無毒性塩、生理学的に加水分解され得るエ
ステル、水和物または溶媒和物は、下記一般式(II)の
化合物を溶媒の存在下、下記一般式(III )の化合物と
反応させ、所望によって、反応の前後にアミノ保護基ま
たはカルボキシル保護基を除去するか、またはS−オキ
シド〔S→(0)m〕を還元することによって製造され
る。
【0030】
【化12】
【0031】(式中、R1 、R2 およびnは前記に定義
した通りであり、;R3 は水素またはアミノ保護基であ
り;R4 は水素、C1-4 アルキル基、C2-4 アルケニル
基、C2-4 アルキニル基または−C(RA )(RB )C
2 (RC )基であり、このとき、RA およびRB は同
一であるか異なって、各々水素またはC1-4 アルキル基
を表わすか、またはそれらが結合している炭素原子と一
緒になってC3-7 シクロアルキル基を形成し、RC は水
素またはカルボキシル保護基であり;R5 は水素または
カルボキシル保護基であり;Lは脱離基であり;mは0
または1である)。
【0032】前記において、R3 のアミノ保護基はアシ
ル、非置換または置換されたアリール(低級)アルキル
(例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニル
メチル)、(低級)アルコキシアリール(例えば、4−
メトキシベンジル)、ハロ(低級)アルキル(例えば、
トリクロロメチル、トリクロロエチルなど)、テトラヒ
ドロピラニル、置換されたフェニルチオ、置換されたア
ルキリデン、置換されたアルアルキリデン、置換された
シクロアルキリデンなどのような通常のアミノ保護基を
いう。アミノ保護基として適当なアシル基の例として
は、炭素数1−6の低級アルカノイル(例えば、ホルミ
ル、アセチル)、炭素数2−6のアルコキシカルボニル
(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルな
ど)、低級アルカンスルホニル(例えば、メタンスルホ
ニル、エタンスルホニルなど)、またはアリール(低
級)アルコキシカルボニル(例えば、ベンジルオキシカ
ルボニルなど)などが挙げられる。前記のアシル基は、
ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ニトロなどの置換基1
−3個を有することができる。その他にも、シラン、ほ
う素、リン化合物とアミノ基との反応生成物もアミノ保
護基として用いられる。
【0033】R4 のRC やR5 のカルボキシル保護基と
は、通常的に穏和な条件下で除きやすいものであれば全
て適当であり、例としては、(低級)アルキルエステル
(例えば、メチルエステル、t−ブチルエステルな
ど)、(低級)アルケニルエステル(例えば、ビニルエ
ステル、アリルエステルなど)、(低級)アルコキシ
(低級)アルキルエステル(例えば、メトキシメチルエ
ステルなど)、(低級)アルキルチオ(低級)アルキル
エステル(例えば、メチルチオメチルエステルなど)、
ハロ(低級)アルキルエステル(例えば、2,2,2−
トリクロロエチルエステルなど)、非置換または置換さ
れたアリールアルキルエステル(例えば、ベンジルエス
テル、p−ニトロベンジルエステル)、(低級)アリー
ルアルコキシエステル(例えば、p−メトキシベンジル
エステル)またはシリルエステルなどがある。前記のア
ミノ保護基およびカルボキシル保護基は、一般式(I)
の化合物の化学的性質によって適宜に選択して用いる。
【0034】脱離基としてLは、例えば、塩素、フッ素
などのハロゲン、アセトキシなどの(低級)アルカノイ
ルオキシ、メタンスルホニルオキシなどの(低級)アル
カンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ
などのアレーンスルホニルオキシまたはアルコキシカル
ボニルオキシなどがある。本願に用いられた“低級”と
いう用語は、炭素原子1ないし6個、望ましくは1ない
し4個を含む基を表す。
【0035】前記一般式(II)の出発物質は、セファロ
スポリン化合物の製造に常用される公知の中間体であ
る。前記一般式(II)において、点線の意味は、一般式
(II)の化合物が単独に次の一般式(II−a)の化合物
または一般式(II−b)の化合物各々を表すか一般式
(II−a)の化合物と(II−b)の化合物との混合物を
表すことをいう。
【0036】
【化13】
【0037】(式中、m、R3 、R4 、R5 およびLは
前述したものと同一である) 本発明の出発物質である一般式(II)の化合物は、次の
反応式にしたがって製造される。即ち、次の一般式(I
V)の化合物またはその塩をアシル化剤で活性化した
後、一般式(V)の化合物と反応させることによって製
造される。
【0038】
【化14】
【0039】(反応式中、m、R3 、R4 、R5 および
Lは前述したものと同一であり、一般式(V)の化合物
で点線は、一般式(V)の化合物が単独に下記一般式
(V−a)の化合物、または一般式(V−b)の化合物
を表すか一般式(V−a)の化合物と一般式(V−b)
の化合物との混合物を表すことを意味する)
【0040】
【化15】 (式中、m、R5 およびLは前述したと同一である)
【0041】一般式(II)の化合物の製造において、一
般式(IV)の活性体であるアシル化誘導体は、酸塩化
物、酸無水物、混合酸無水物(望ましくは、クロロメチ
ルホルメート、塩化メシチレンスルホニル、塩化p−ト
ルエンスルホニルまたはクロロホスフェートにより形成
される酸無水物)または活性化エステル(望ましくは、
ジシクロヘキシルカルボジイミドのような縮合剤の存在
下、N−ヒドロキシベンゾトリアゾールとの反応により
形成されるエステル)などがある。また、アシル化反応
はジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミ
ダゾールのような縮合剤の存在下、一般式(IV)の遊離
酸を用いることによっても行われる。一方、アシル化反
応は、通常、3級アミン(望ましくは、トリエチルアミ
ン)、ジエチルアニリン、ピリジンのような有機塩基、
または重炭酸ナトリウム等の無機塩基の存在下でよく行
われ、用いられる代表的な溶媒としては、塩化メチレン
またはクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素、テト
ラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等があり、これらは混合使用
するか水溶液の状態として用いられる。アシル化反応は
−50℃〜50℃(望ましくは、−30℃〜20℃)の
温度で行われ、アシル化剤は一般式(V)化合物に対し
て化学量論的量または過量(1.05〜1.2当量)が
用いられる。
【0042】前記一般式(I)の化合物の製造におい
て、アミノ保護基やカルボキシル保護基はセファロスポ
リン分野で公知の常法により除去され得る。即ち、酸−
または塩基加水分解または還元反応により保護基が除去
され得る。例えば、保護基としてアミド基を含む場合に
は、アミノハロゲン化およびアミノエーテル化を経て加
水分解することが望ましい。
【0043】酸加水分解反応はトリ(ジ)フェニルメチ
ル基またはアルコキシカルボニル基の除去に有用であ
り、ギ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸
などの有機酸または塩酸などの無機酸を用いて行う。一
般式(III )化合物は後述の実施例により製造し得る。
【0044】一方、本発明で一般式(II)の化合物のC
−3位置に一般式(III )の化合物を導入して、一般式
(I)化合物を製造する場合、溶媒としてはN,N−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはN,
N−ジメチルアセトアミドのような極性溶媒が用いられ
る。反応温度は10〜80℃、望ましくは20〜40℃
の範囲で反応がよく進行し、一般式(III )の化合物は
一般式(II)の化合物に対して0.5〜2当量を、望
ましくは0.9〜1.1当量で用いられる。S−オキシ
ドの還元は、常法により、例えば、反応物にヨウ化カリ
ウムおよび塩化アセチルを加えた後、重亜硫酸ナトリウ
ムで反応を中断させることによって行われる。
【0045】前記反応の生成物から再結晶化、イオン泳
動法、シリカゲルカラムクロマトグラフィーまたはイオ
ン交換樹脂クロマトグラフィーなどの種々の方法により
所望の一般式(I)の化合物を分離精製し得る。
【0046】
【実施例】下記の製造例および実施例は、本発明をさら
に詳細に説明し、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
【0047】製造例1 1,4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ−シ
クロペンタピリミジン−2−チオンの合成 段階1)6,7−ジヒドロ−5H−シクロペンタピリミ
ジン−2,4−ジオールの合成 エチル−2−オキソシクロペンタンカルボキシレート1
00g をエタノール100mlに溶解した後、尿素120
g を加えた。反応液を160℃で5時間加熱還流した
後、室温まで冷却した。析出した固体をアセトン200
mlで洗浄した後乾燥した。この固体を蒸留水200ml中
に懸濁し、徐々に撹拌しながら室温で10時間放置した
後、ろ過して固体を得た。この固体を蒸留水50mlとア
セトン100mlで洗浄し、乾燥し、白色粉末として、標
記化合物40g を得た。 NMR(δ、DMSO−d6 ):1.92(m,2
H), 2.42(t,2H), 2.61(t,2
H), 10.70(s,1H), 11.02(s,
1H)
【0048】段階2)2,4−ジクロロ−6,7−ジヒ
ドロ−5H−シクロペンタピリミジンの合成 段階1から得られた化合物20g にオキシ塩化リン10
0mlを加え2時間加熱還流した後、オキシ塩化リンを減
圧留去した。濃縮した反応液を500mlの氷水に加え、
28%アンモニア水で中和した。これに200mlの酢酸
エチルを加え抽出した後、有機層を分離し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧蒸留して溶媒を除去し、白色
固体として、標記化合物19g を得た。 NMR(δ、DMSO−d6 ):2.06(m,2H), 2.89(t,2
H), 3.01(t,2H)
【0049】段階3)2−クロロ−6,7−ジヒドロ−
5H−シクロペンタピリミジン−4−イルアミンの合成 段階2から得られた化合物10g を300mlのエタノー
ルに溶解した後、28%アンモニア水150mlを加え、
40℃で14時間撹拌した。反応液中のエタノールを減
圧留去し、析出した固体をろ過した後、蒸留水20mlと
ヘキサン20mlで洗浄し、乾燥し、白色粉末として標記
化合物8g を得た。 NMR(δ、DMSO−d6 ):1.93(m,2H), 2.57(t,2
H), 2.68(t,2H), 7.10(s,2H)
【0050】段階4)1,4−ジアミノ−1,5,6,
7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−チオ
ンの合成 段階3から得られた化合物5g をジクロロメタン100
mlに溶解した後、−50℃ないし−60℃に冷却し、メ
シチレンスルホニルヒドロキシルアミン10gをジクロ
ロメタン20mlに溶解した溶液を10分間にわたり徐々
に滴下した。反応液の温度を室温まで昇温し、10分間
さらに撹拌した。析出した固体をろ過し、ジエチルエテ
ール20mlで洗浄し、乾燥して白色固体を得た。この固
体をメタノール100mlに溶解した後、硫化水素ナトリ
ウム2.5g を加えて常温で30分間撹拌した。析出し
た固体をろ過し、蒸留水10mlとアセトン10mlで洗浄
し、乾燥し、白色粉末として標記化合物3g を得た。 融点:215℃以上で分解 NMR(δ、DMSO−d6 ):2.01(m,2H), 2.69(t,2
H), 2.93(t,2H), 6.53(s,2H), 7.91(bs,2H)
【0051】製造例2 4−アミノ−1−メチル−1,5,6,7−テトラヒド
ロ−シクロペンタピリミジン−2−チオンの合成 製造例1の段階3から得られた2−クロロ−6,7−ジ
ヒドロ−5H−シクロペンタピリミジン−4−イルアミ
ン5g をテトラヒドロフラン100mlに溶解した後、ヨ
ウ化メチル10g を加えて8時間加熱還流した。反応液
を室温に冷却し、析出した固体をろ過した後、ジエチル
エテール20mlで洗浄し、乾燥して固体を得た。この固
体を100mlのメタノールに溶解した後、硫化水素ナト
リウム2.5g を加えて常温で30分間撹拌した。反応
中に析出した固体をろ過し、蒸留水10mlとアセトン1
0mlで洗浄し、乾燥し、白色粉末として標記化合物3.
2g を得た。 融点:220℃以上で分解 NMR(δ、DMSO−d6 ):1.92(m,2H), 2.52(t,3
H), 2.90(t,3H), 7.20(sm,2H)
【0052】製造例3 1,4−ジアミノ−5,6,7,8−テトラヒドロ−1
H−キナゾリン−2−チオンの合成 段階1)5,6,7,8−テトラヒドロ−キナゾリン−
2,4−ジオールの合成エチル 2−シクロヘキサノン
カルボキシレート100g をエタノール100mlに溶解
した後、尿素120g を加えて160℃で4時間加熱還
流した。反応液を室温まで冷却して、析出した固体をア
セトン200mlで洗浄し、乾燥した。この固体を蒸留水
200ml中に懸濁し、10時間徐々に撹拌した後、ろ過
した。得られた固体を蒸留水100mlとアセトン100
mlで洗浄し、乾燥し、白色粉末として標記化合物47g
を得た。 NMR(δ、DMSO−d6 ):1.68(m,4H), 2.36(t,2
H), 2.62(t,2H), 10.51(s,1H), 10.78(s,1H)
【0053】段階2)2,4−ジクロロ−5,6,7,
8−テトラヒドロ−キナゾリンの合成 段階1から得られた化合物20g にオキシ塩化リン10
0mlを加えて2時間加熱還流した後、減圧蒸留してオキ
シ塩化リンを除去した。濃縮した反応液を500mlの氷
水に加え、28%アンモニア水で中和した。これにエチ
ルエテール300mlを加えて抽出した後、分離した有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧蒸留し、溶媒
を除去し、白色粉末として標記化合物18g を得た。 NMR(δ、DMSO−d6 ):1.72(m,4H), 2.26(t,2
H), 2.49(t,2H)
【0054】段階3)2−クロロ−5,6,7,8−テ
トラヒドロ−キナゾリン−4−イルアミンの合成 段階2から得られた化合物10g を300mlのエタノー
ルに溶解した後、28%アンモニア水150mlを加え4
0℃で10時間撹拌した。反応液を減圧蒸留してエタノ
ールを除去した後、析出した固体をろ過し、蒸留水20
mlとヘキサン20mlで洗浄し、乾燥し、白色粉末として
標記化合物8.2g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):1.88(m,4H), 2.34(t,2H),
2.71(t,2H), 5.46(s,2H)
【0055】段階4)1,4−ジアミノ−5,6,7,
8−テトラヒドロ−1H−キナゾリン−2−チオンの合
成 段階3から得られた化合物5g をジクロロメタン100
mlに溶解した後、−50℃ないし−60℃に冷却し、メ
シチレンスルホニルヒドロキシルアミン10gをジクロ
ロメタン20mlに溶解した溶液を10分間にわたり徐々
に滴加した。反応液の温度を室温まで昇温し、10分間
さらに撹拌した後、析出した固体をろ過し、ジエチルエ
テール20mlで洗浄し、乾燥して白色固体を得た。この
固体をメタノール100mlに溶解した後、ここに硫化水
素ナトリウム2.5g を加えて常温で30分間撹拌し
た。析出した固体をろ過し、蒸留水10mlとアセトン1
0mlで洗浄し、乾燥し、白色粉末として標記化合物3.
2g を得た。 融点:225℃以上で分解 NMR(δ、DMSO−d6 ):1.63(m,4H), 2.19(t,2
H), 2.38(t,2H), 6.45(s,2H), 6.9〜7.2(brs,2H)
【0056】製造例4 4−アミノ−1−メチル−5,6,7,8−テトラヒド
ロ−1H−キナゾリン−2−チオンの合成 製造例3の段階3から得られた2−クロロ−5,6,
7,8−テトラヒドロ−キナゾリン−4−イルアミン5
g をテトラヒドロフラン100mlに溶解した後、ヨウ化
メチル10g を加えて8時間加熱還流した。反応液を室
温まで冷却し、析出した固体をろ過した後、ジエチルエ
テール20mlで洗浄し、乾燥して固体を得た。この固体
を100mlのエタノールに溶解した後、硫化水素ナトリ
ウム2.5g を加えて常温で30分間撹拌した。反応中
に析出した固体をろ過し、蒸留水10mlとアセトン10
mlで洗浄し、乾燥し、白色粉末として標記化合物3.1
g を得た。 融点:210℃以上で分解 NMR(δ、DMSO−d6 ):1.72(m,4H), 2.08(t,2
H), 2.36(t,3H), 3.32(s,3H), 7.12(s,2H)
【0057】製造例5 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
{(Z)−2−〔2−(トリフェニルメチル)アミノチ
アゾール−4−イル〕−2−〔(R)−1−(ジフェニ
ルメトキシカルボニルプロプ−1−オキシイミノ〕アセ
トアミド}−3−セフェム−4−カルボキシレートの合
成 段階1)S−(−)−2−クロロブタン酸の合成 S−(+)−2−アミノブタン酸25.78g を6M 塩
酸水溶液400mlに溶解した反応液を0℃に冷却し、亜
硝酸ナトリウム27.6g を蒸留水100mlに溶解した
溶液を5℃以下に保持しながら、前記反応液に徐々に滴
加した後、反応液の温度を室温まで昇温し18時間放置
した。さらに3時間撹拌しながら発生する気体を除去
し、重炭酸ナトリウム25g を徐々に加えエチルエーテ
ル100mlで4回抽出した。
【0058】分離した有機層を減圧下に濃縮して溶媒お
よび揮発性物質を除去し、残留物を食塩水4mlに溶解し
た。該溶液をエチルエーテル30mlで抽出して得た有機
層を塩化カルシウムで乾燥し、ろ過し、溶媒を減圧留去
した。溶媒を除去した残留物を40℃ないし50℃で減
圧蒸留して標記化合物17.43g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):1.05(t,2H), 1.88 〜2.09
(m,2H), 4.27(dd,1H), 11.35(bs,1H) 〔α〕D 20 =−13.07(c=6.71、メタノー
ル)
【0059】段階2)S−(−)−2−クロロブタン酸
ベンズヒドリルエステルの合成 段階1から得られたS−(−)−2−クロロブタン酸1
6、7g をジエチルエーテル100mlに溶解した溶液
に、ジエチルエーテル中のジフェニルジアゾメタンの1
M 溶液を窒素ガスがさらに発生しなくなるまで滴加し
た。反応終了後、反応液に5%重炭酸ナトリウム水溶液
200mlを加え、激しく撹拌した。有機層を分離した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、減圧下で
溶媒を除去した。溶媒を除去した残留液をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで分離精製して、標記化合物3
4g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):0.95(t,3H), 1.87 〜2.15
(m,2H), 4.30(dd,1H), 6.90(s,1H), 7.20 〜7.40(m,10
H) 〔α〕D 20 =−6.03(c=3.17、メタノール)
【0060】段階3)アリル 2−(トリチルアミノチ
アゾール−4−イル)−2−〔(R)−(+)−1−
(ジフェニルメトキシカルボニル)プロプ−1−オキシ
イミノ〕アセテートの合成 アリル 2−(トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセテート55.91g と段階
2から合成した化合物34g をジメチルスルホキシド2
00mlに溶解し、炭酸カリウム32.1g を加えた後、
55℃に加熱しながら1.5時間撹拌した。反応終了
後、蒸留水500mlを加え、ジエチルエーテル500ml
で抽出して、分離した有機層を10%炭酸水溶液100
mlと飽和食塩水100mlの順に洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、ろ過し、ろ液を減圧蒸留して標記
化合物75.58g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):0.92(t,3H), 1.80 〜2.00
(m,2H), 4.79(d,1H), 4.88(dd,1H), 5.20(d,1H), 5.38
(d,1H), 5.80 〜6.00(m,1H), 6.50(s,1H), 6.90(s,1H),
7.17〜7.38(m,26H) 〔α〕D 20 =+9.87(c=14.35、酢酸エチ
ル)
【0061】段階4)2−(トリチルアミノチアゾール
−4−イル)−2−〔(R)−(+)−1−(ジフェニ
ルメトキシカルボニル)プロプ−1−オキシイミノ〕酢
酸の合成 段階3から得られた化合物75.58g をジクロロメタ
ン500mlに溶解した溶液にトリフェニルホスフィン
2.75g とパラジウムテトラキストリフェニルホスフ
ィン0.61g を加え、カリウム 2−エチルヘキサノ
エート20.1gを酢酸エチル200mlに溶解した溶液
を加え、室温で1時間撹拌した。反応終了後、反応液中
の有機溶媒を減圧留去し、残液に酢酸エチル500mlと
蒸留水400mlを加えて撹拌し、10%塩酸水溶液でp
H2.4に調整して、析出した固体をろ別し、蒸留水で
洗浄し、標記化合物64.02g を得た。 NMR(δ、DMSO−d6 ):0.83(t,3H), 1.65 〜1.
90(m,2H), 4.68(dd,1H),6.80(s,1H), 6.83(s,1H), 7.10
〜7.50(m,25H), 8.85(s,1H), 13.80(bs,1H) 〔α〕D 20 =+13.6(c=8.9、ジメチルスルホ
キシド)
【0062】段階5)p−メトキシベンジル 3−クロ
ロメチル−7−{(Z)−2−〔2−(トリフェニルメ
チル)アミノチアゾール−4−イル〕−2−〔(R)−
1−(ジフェニルメトキシカルボニル)プロプ−1−オ
キシイミノ〕アセトアミド}−3−セフェム−4−カル
ボキシレートの合成 p−メトキシベンジル 7−アミノ−3−クロロメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート86.68g を
ジクロロメタン1リットルに加えた後、ピリジン50.
64g を加えて完全な溶液になるまで撹拌した。反応液
を−20℃〜−25℃に冷却し、段階4から得られた化
合物135.5g とオキシ塩化リン32.8g を加えて
30分間撹拌した後、1%塩酸水溶液500mlで洗浄し
た。有機層を分離した後、蒸留水500mlと飽和食塩水
500mlの順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、ろ過した。ろ液を減圧蒸留し、微白色固体として
標記化合物185g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):1.06(t,3H), 1.95(q,2H),3.
29(ABq,2H), 3.81(s,3H), 3.97(ABq,2H), 4.95(d,1H),
5.02(dd,1H), 5.21(ABq,2H), 5.92(dd,1H), 6.72(s,1
H), 6.95(s,1H), 7.1(ABq,4H), 7.23 〜7.41(m,25H),
8.08(d,1H)
【0063】製造例6 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
{(Z)−2−〔2−(トリフェニルメチル)アミノチ
アゾール−4−イル〕−2−〔(R,S)−1−(ジフ
ェニルメトキシカルボニル)プロプ−1−オキシイミ
ノ〕アセトアミド}−3−セフェム−4−カルボキシレ
ートの合成 出発物質として(±)−2−ブロモブタン酸17.4g
を用いて、製造例5の段階2ないし5と同様に実施し
て、白色固体として標記化合物185g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):1.02(m,3H), 1.91(m,2H),
3.51(ABq,2H), 3.84(s,3H), 4.47(ABq,2H), 4.74 〜4.8
5(m,1H), 5.02(dd,1H), 5.20(ABq,2H), 5.81 〜6.01(m,
1H), 6.78(s,1H), 6.92(s,1H), 6.98(s,1H), 7.12(ABq,
2H), 7.21〜7.38(m,25H), 8.84(dd,1H)
【0064】製造例7 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
{(Z)−2−〔2−(トリフェニルメチル)アミノチ
アゾール−4−イル〕−2−〔(R,S)−2−(ジフ
ェニルメトキシカルボニル)ブト−2−オキシイミノ〕
アセトアミド}−3−セフェム−4−カルボキシレート
の合成 段階1)アリル 2−(トリチルアミノチアゾール−4
−イル)−2−〔2−(ジフェニルメトキシカルボニ
ル)ブト−2−オキシイミノ〕アセテートの合成 アリル 2−(トリチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−ヒドロキシイミノアセテート250g と2−ブロ
モ−2−メチルブタン酸ベンズヒドリルエステル200
g をジメチルスルホキシド600mlに溶解し、炭酸カリ
ウム150g を加え、反応液を60℃に加熱しながら1
8時間撹拌した。反応液を酢酸エチル31g と氷水1.
5リットルの混合液に加え、有機層を分離して1%塩酸
水溶液1リットルと飽和食塩水1リットルの順に洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過した後、減
圧蒸留し、溶媒を除去した後、白色固体として標記化合
物350g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):0.81(t,3H), 1.54(s,3H),
1.91(q,2H), 4.82(d,2H),5.31(ABq,2H), 5.86 〜6.02
(m,1H), 6.47(s,1H), 6.74(s,1H), 6.86(s,1H), 7.12〜
7.41(m,25H)
【0065】段階2)2−(トリチルアミノチアゾール
−4−イル)−2−〔2−(ジフェニルメトキシカルボ
ニル)ブト−2−オキシイミノ〕酢酸の合成 段階1から得られた化合物350g をジクロロメタン
1.4リットルに溶解した後、トリフェニルホスフィン
17.2g とパラジウムテトラキストリフェニルホスフ
ィン3.05g とを加え、カリウム 2−エチルヘキサ
ノエート95.5g を酢酸エチル600mlに溶解した溶
液を加えた後、常温で4時間撹拌した。反応液を減圧蒸
留して有機溶媒を除去した後、残液に酢酸エチル600
mlと蒸留水600mlを加えて撹拌し、5%塩酸水溶液で
pH2.8に調整した。pH調整の終了後、有機層を分
離して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、ろ液を
減圧蒸留して溶媒を除去した後、残留物をシリカゲルク
ロマトグラフィーで分離精製して、白色固体として標記
化合物280g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):0.72(t,3H), 1.57(s,3H),
1.87(q,2H), 6.33(s,1H),6.90(s,1H), 7.14 〜7.42(m,2
6H), 9.02(bs,1H)
【0066】段階3)p−メトキシベンジル 3−クロ
ロメチル−7−{(Z)−2−〔2−(トリフェニルメ
チル)アミノチアゾール−4−イル〕−2−〔(R,
S)−2−(ジフェニルメトキシカルボニル)ブト−2
−オキシイミノ〕アセトアミド}−3−セフェム−4−
カルボキシレートの合成 p−メトキシベンジル 7−アミノ−3−クロロメチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート86.7g をジ
クロロメタン1リットルに加えた後、ピリジン50.6
4g を加えて完全な溶液になるまで撹拌した後、反応液
を−20℃〜−25℃に冷却し、前記段階2から得られ
た化合物135.5g とオキシ塩化リン32.8g を加
えて30分間攪拌した。反応液を1%塩酸水溶液500
mlで洗浄し、有機層を分離した後、蒸留水500mlと飽
和食塩水500mlの順に洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、ろ過し、減圧蒸留し、微白色固体として
標記化合物185g を得た。 NMR(δ、CDCl3 ):0.85 〜0.89(m,3H), 1.69
(d,3H), 1.87〜2.24(m,2H), 3.08〜3.17(m,2H), 3.85
(s,3H), 4.44〜4.61(m,2H), 5.02(dd,1H), 5.20 〜5.36
(m,2H), 5.89〜6.01(m,1H), 6.67(d,1H), 6.91(d,1H),
6.97(d,1H), 7.15〜7.45(m,1H)
【0067】実施例1 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−カルボキシプロプ−2−オキシイミ
ノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−1,
5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジニウ
ム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート(I−1)の合成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(2−tert−ブトキシカルボニルプロプ
−2−オキシイミノ)−2−{2−(トリフェニルメチ
ル)アミノチアゾール−4−イル}アセトアミド〕−3
−セフェム−4−カルボキシレート2.0g をジメチル
スルホキシド10mlに溶解し、製造例1で得た1,4−
ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペン
タピリミジン−2−チオン380mgを加えた後、常温で
2時間撹拌した。該反応液にジエチルエテール50mlを
加えて激しく撹拌した後、ジエチルエテールを除去した
残留物にジクロロメタン20mlを加えて溶解した後、エ
チルエテール100mlを徐々に滴加して結晶化した。生
成した固体をろ過してエチルエテール50mlで洗浄し乾
燥した。乾燥した固体をフェノール10mlに溶解した
後、濃塩酸1.0mlを加えて50℃で2時間撹拌した。
反応液を常温に冷却し、アセトン100mlを加えた。生
成した固体をろ過し、アセトン40mlで洗浄し、乾燥し
て微白色固体1.3gを得た。この固体を10%メタノ
ール水溶液を溶離剤とした分取用液体クロマトグラフィ
ー(μ−Bondapak C18 steel column :19mm×30
cm)で分離精製して、白色固体の標記化合物700mgを
得た。 MS(FAB,M+1):650 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.56(d,6H), 2.2
7(m,2H), 2.82(t,3H), 3.15(t,2H), 3.60(ABq,2H), 4.2
8(ABq,2H), 5.16(d,1H), 5.80(d,1H), 6.98(s,1H) IR(KBr,cm-1):1760 (β−ラクタム)、1680、
1620、1560
【0068】実施例2 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−カルボキシプロプ−2−オキシイミ
ノ)アセトアミド〕−3−(4−ジアミノ−1−メチル
−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミ
ジニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボキシレート(I−2)の合成 製造例2で合成した4−アミノ−1−メチル−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−
チオン180mgを使用した以外は実施例1と同様に行な
って、白色粉末として標記化合物670mgを得た。 MS(FAB,M+1):649 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.55(d,6H), 2.2
6(m,2H), 2.78(t,2H), 3.08(t,2H), 3.58(ABq,2H), 3.6
8(s,3H), 4.32(ABq,2H), 5.16(d,1H), 5.78(d,1H), 6.9
4(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1690、
1630、1570
【0069】実施例3 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−カルボキシプロプ−2−オキシイミ
ノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−5,
6,7,8−テトラヒドロ−1H−キナゾリニウム−2
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート(I−3)の合成 製造例3で合成した1,4−ジアミノ−5,6,7,8
−テトラヒドロ−1H−キナゾリン−2−チオン190
mgを使用した以外は、実施例1と同様に行なって、白色
粉末として標記化合物680mgを得た。 MS(FAB,M+1):664 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.52(d,6H), 1.6
2(m,4H), 1.93(t,2H), 2.43(t,2H), 3.52(ABq,2H), 4.3
5(ABq,2H), 5.18(d,1H), 5.85(d,1H), 6.98(s,1H) IR
(KBr,cm-1):1768 (β−ラクタム)、1670、162
0、1550
【0070】実施例4 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−カルボキシプロプ−2−オキシイミ
ノ)アセトアミド〕−3−(4−アミノ−1−メチル−
5,6,7,8−テトラヒドロ−1H−キナゾリニウム
−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(I−4)の合成 製造例4で合成した4−アミノ−1−メチル−5,6,
7,8−テトラヒドロ−1H−キナゾリン−2−チオン
190mgを使用した以外は、実施例1と同様に行なっ
て、白色粉末として標記化合物670mgを得た。 MS(FAB,M+1):663 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.54(d,6H), 1.6
0(m,4H), 1.88(t,2H), 2.26(t,2H), 3.52(s,3H), 3.61
(s,3H), 4.33(ABq,2H), 5.15(d,1H), 5.76(d,1H),7.00
(s,1H) IR(KBr,cm-1):1760 (β−ラクタム)、1670、
1590、1525
【0071】実施例5 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((S)−1−カルボキシエト−1−オキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−
1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジ
ニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(I−5(S))の合成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(S)−1−tert−ブトキシカルボニル
エト−1−オキシイミノ)−2−{2−(トリフェニル
メチル)アミノチアゾール−4−イル}アセトアミド〕
−3−セフェム−4−カルボキシレート2.0g をジメ
チルスルホキシド10mlに溶解し、製造例1で得た1,
4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロ
ペンタピリミジン−2−チオン380mgを加えた後、常
温で3時間撹拌した。反応液にジエチルエテール50ml
を加えて激しく撹拌した後、ジエチルエテール層を除去
した残留物にジクロロメタン20mlを加えて溶解した
後、ジエチルエテール100mlを徐々に滴下して結晶化
した。生成した固体をろ過してジエチルエテール50ml
で洗浄し乾燥して固体を得た。この固体をフェノール2
0mlに溶解した溶液に濃塩酸1.0mlを加えて50℃で
2時間撹拌した。反応液を常温まで冷却し、アセトン1
00mlを加えて結晶化した後、生成した固体をろ過し、
アセトン50mlで洗浄し、乾燥して、微白色固体1.2
g を得た。この固体を5%メタノール水溶液を溶離剤と
した分取用液体クロマトグラフィー(μ−Bondapak C
18 steel column :19mm×30cm)で分離精製して、
白色粉末として標記化合物550mgを得た。 MS(FAB,M+1):636 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.49(d,3H), 2.2
2(m,2H), 2.76(t,2H), 3.08(t,2H), 3.59(ABq,2H), 4.2
9(ABq,2H), 4.70(ABq,2H), 5.18(d,1H), 5.74(d,1H),
6.95(s,1H) IR(KBr,cm-1):1750 (β−ラクタム)、1680、
1600、1530
【0072】実施例6 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((S)−1−カルボキシエト−1−オキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−(4−アミノ−1−メチ
ル−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリ
ミジニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート(I−6(S))の合成 製造例2で合成した4−アミノ−1−メチル−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−
チオン300mgを使用した以外は、実施例5と同様に行
なって、白色粉末として標記化合物250mgを得た。 MS(FAB,M+1):635 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.46(d,3H), 2.2
3(m,2H), 2.68(t,2H) ,3.04(t,2H), 3.48(ABq,2H), 3.6
4(s,3H), 4.31(ABq,2H)、 4.65(q,1H), 5.18(d,1H), 5.7
8(d,1H), 6.98(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1670、
1600、1520
【0073】実施例7 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((S)−1−カルボキシエト−1−オキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−
5,6,7,8−テトラヒドロ−1H−キナゾリニウム
−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(I−7(S))の合成 製造例3から合成された1,4−ジアミノ−5,6,
7,8−テトラヒドロ−1H−キナゾリン−2−チオン
310mgを使用した以外は実施例5と同様に行なって、
白色粉末として標記化合物260mgを得た。 MS(FAB,M+1):650 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.47(d,3H), 1.6
4(m,4H), 2.02(t,2H), 2.45(t,2H), 3.56(ABq,2H), 4.2
7(ABq,2H), 4.72(q,1H), 5.09(d,1H), 5.76(d,1H), 6.9
8(s,1H) IR(KBr,cm-1):1770 (β−ラクタム)、1680、
1615、1570
【0074】実施例8 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(1−カルボキシメト−1−オキシイミノ)
アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジニウム−
2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート(I−8)の合成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(3−tert−ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ)−2−{2−(トリフェニルメチル)アミノ
チアゾール−4−イル}アセトアミド〕−3−セフェム
−4−カルボキシレート2.0g をジメチルスルホキシ
ド10mlに溶解し、製造例1で得た1,4−ジアミノ−
1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジ
ン−2−チオン400mgを加えた後、常温で2時間撹拌
した。反応液にジエチルエテール50mlを加えて激しく
撹拌した後、ジエチルエテール層を除去した残留物にジ
クロロメタン20mlを加えて溶解した後、ジエチルエテ
ール100mlを徐々に滴下して結晶化した。生成した固
体をろ過してジエチルエテール50mlで洗浄し、乾燥し
て固体を得た。この固体をフェノール10mlに溶解した
後、濃塩酸1.0mlを加えて50℃で2時間撹拌した。
反応液を常温に冷却し、アセトン100mlを加えて結晶
化した後、生成した固体をろ過し、アセトン40mlで洗
浄し、乾燥して微白色固体1.2g を得た。得られた固
体を10%メタノール水溶液を溶離剤とした、分取用液
体クロマトグラフィー(μ−Bondapak C18 steel col
umn :19mm×30cm)で分離精製して、白色固体とし
て標記化合物680mgを得た。 MS(FAB,M+1):622 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):2.22(m,4H), 2.8
1(m,2H), 3.12(t,2H), 3.57(ABq,2H), 4.34(ABq,2H),
4.83(s,2H), 5.16(d,1H), 5.78(d,1H), 6.99(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1665、
1685、1530
【0075】実施例9 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(1−カルボキシメト−1−オキシイミノ)
アセトアミド〕−3−(4−アミノ−1−メチル−1,
5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジニウ
ム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート(I−9)の合成 製造例2で合成した4−アミノ−1−メチル−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−
チオン400mgを使用した以外は実施例8と同様に行な
って、白色固体として標記化合物650mgを得た。 MS(FAB,M+1):621 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):2.24(m,2H), 2.7
6(t,2H), 3.04(t,2H), 3.56(ABq,2H), 3.65(s,3H), 4.3
6(ABq,1H), 4.81(s,2H), 5.17(d,1H), 5.80(d,1H), 6.9
6(s,1H) IR(KBr,cm-1):1760 (β−ラクタム)、1680、
1610、1580
【0076】実施例10 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド〕−3−
(1,4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ−
シクロペンタピリミジニウム−2−イル)チオメチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート(I−10)の合
成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(メトキシイミノ)−2−{2−(トリ
フェニルメチル)アミノチアゾール−4−イル}アセト
アミド〕−3−セフェム−4−カルボキシレート2.0
g をジメチルスルホキシド10mlに溶解し、製造例1で
得た1,4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ
−シクロペンタピリミジン−2−チオン420mgを加え
た後、常温で2時間撹拌した。反応液をテトラヒドロフ
ラン30mlと酢酸エチル30mlの混合溶媒で抽出し、飽
和塩化ナトリウム水溶液100mlで洗浄した。分離した
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧留去した
後、乾燥して固体を得た。この固体をアニソール4mlに
溶解して、0ないし4℃に冷却し、トリフルオロ酢酸8
mlを滴下した後、室温で50分間撹拌した。反応液を−
20ないし−30℃に冷却し、ジエチルエテール50ml
を滴下して固体を析出させた。析出した固体をろ過し、
アセトンで洗浄し、後乾燥して、微白色粉末の固体1.
2g を得た。この固体を20%メタノール水溶液を溶離
剤としたクロマトグラフィー(μ−BondapakC18 steel
column :19mm×30cm)で分離精製して、白色固体
として標記化合物700mgを得た。 MS(FAB,M+1):578 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):2.22(m,2H), 2.8
5(t,2H), 3.12(t,2H), 3.61(ABq,2H), 3.79(s,3H), 4.3
9(ABq,1H), 5.10(d,1H), 5.72(d,1H), 6.94(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1700、
1640、1580
【0077】実施例11 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(1−カルボキシシクロペント−1−オキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−
1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジ
ニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(I−11)の合成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(1−ジフェニルメトキシカルボニル)
シクロペント−1−オキシイミノ)−2−{2−(トリ
フェニルメチル)アミノチアゾール−4−イル}アセト
アミド〕−3−セフェム−4−カルボキシレート2.0
g をジメチルスルホキシド10mlに溶解し、製造例1か
ら合成された1,4−ジアミノ−1,5,6,7−テト
ラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−チオン400
mgを加えた後、常温で2時間撹拌した。反応液をテトラ
ヒドロフラン30mlと酢酸エチル30mlの混合溶媒で抽
出し、飽和塩化ナトリウム水溶液100mlで洗浄した。
分離した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
留去した後乾燥して固体を得た。この固体をアニソール
4mlに溶解し、0ないし4℃に冷却し、トリフルオロ酢
酸8mlを滴下し室温で50分間撹拌した。反応液を−2
0ないし−30℃に冷却し、ジエチルエテール50mlを
滴下して固体を析出させた。析出した固体をろ過し、ア
セトンで洗浄した後乾燥して微白色粉末の固体1.2g
を得た。この固体を20%メタノール水溶液を溶離剤と
した分取用液体クロマトグラフィー(μ−Bondapak C
18 steel column :19mm×30cm)で分離精製して、
白色固体として標記化合物700mgを得た。 MS(FAB,M+1):676 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.73(m,4H), 2.0
9(m,4H), 2.24(m,2H), 2.81(t,2H), 3.12(t,2H), 3.57
(ABq,2H), 4.36(ABq,2H), 5.15(d,1H), 5.76(d,1H), 7.
00(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1765、
1580、1520
【0078】実施例12 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(1−カルボキシシクロペント−1−オキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−(4−アミノ−1−メチ
ル−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリ
ミジニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート(I−12)の合成 製造例2で合成した4−アミノ−1−メチル−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−
チオン400mgを使用した以外は、実施例11と同様に
行なって、白色固体として標記化合物650mgを得た。 MS(FAB,M+1):675 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.72(m,4H), 2.1
1(m,4H), 2.26(m,2H), 2.79(t,2H), 3.06(t,2H), 3.58
(ABq,2H), 3.69(s,3H), 4.51(ABq,2H), 5.16(d,1H), 5.
80(d,1H), 6.69(s,1H) IR(KBr,cm-1):1760 (β−ラクタム)、1670、
1590、1525
【0079】実施例13 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((S)−1−カルボキシプロプ−1−オキ
シイミノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−
1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジ
ニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(I−13(S))の合成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(1−ジフェニルメトキシカルボニルプ
ロプ−1−オキシイミノ)−2−{2−(トリフェニル
メチル)アミノチアゾール−4−イル}アセトアミド〕
−3−セフェム−4−カルボキシレート1.5g をジメ
チルスルホキシド10mlに溶解し、製造例1で合成した
1,4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ−シ
クロペンタピリミジン−2−チオン350mgを加えた後
常温で3時間撹拌した。反応液をテトラヒドロフラン2
0mlと酢酸エチル20mlの混合溶媒で抽出し、飽和塩化
ナトリウム水溶液100mlで洗浄した。分離した有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧蒸留して溶媒を
除去した後、乾燥して固体を得た。この固体をアニソー
ル4mlに溶解して0ないし4℃に冷却し、トリフルオロ
酢酸8mlを滴下した後、室温で40分間撹拌した。反応
液を−20℃〜−30℃に冷却し、ジエチルエテール5
0mlを滴下して固体を析出させた。析出した固体をろ過
し、アセトン50mlで洗浄し、乾燥して、微白色粉末の
固体0.9g を得た。この固体を25%メタノール水溶
液を溶離剤とした分取用液体クロマトグラフィー(μ−
Bondapak C18 steel column :19mm×30cm)で分
離精製して、白色粉末の標記化合物550mgを得た。 MS(FAB,M+1):650 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):0.93(t,3H), 1.7
6(q,2H), 2.24(m,2H), 2.76(t,2H), 3.06(t,2H), 3.57
(ABq,2H), 4.36(ABq,2H), 4.63(ABq,1H), 5.15(d,1H),
5.78(s,1H), 6.76(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1670、
1610、1520
【0080】実施例14 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((S)−1−1−カルボキシプロプ−1−
オキシイミノ)アセトアミド〕−3−(4−アミノ−1
−メチル−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペン
タピリミジニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート(I−14(S))の合成 製造例2で合成した4−アミノ−1−メチル−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−
チオン320mgを使用した以外は、実施例13と同様に
行なって、白色固体として標記化合物520mgを得た。 MS(FAB,M+1):649 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):0.94(t,3H), 1.8
2(q,2H), 2.23(m,2H), 2.81(t,2H), 3.12(t,2H), 3.58
(ABq,2H), 3.64(s,3H), 4.33(ABq,2H), 4.66(q,1H), 5.
18(d,1H), 5.78(d,1H), 6.99(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1660、
1590、1530
【0081】実施例15 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−カルボキシブト−2−オキシイミノ)
アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジニウム−
2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート(I−15(S)およびI−15(R))の合成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(S)−ジフェニルメトキシカルボニル
ブト−2−オキシイミノ)−2−{2−(トリフェニル
メチル)アミノチアゾール−4−イル}アセトアミド〕
−3−セフェム−4−カルボキシレート2.0g をジメ
チルスルホキシド10mlに溶解し、製造例1で得た1,
4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロ
ペンタピリミジン−2−チオン380mgを加えた後、常
温で2時間撹拌した。反応液にジエチルエテール50ml
を加えて激しく撹拌した後、有機溶媒を除去した残留物
にジクロロメタン20mlを加えて溶解した後、ジエチル
エテール100mlを徐々に滴下した。生成した固体をろ
過してジエチルエテール50mlで洗浄し、乾燥して固体
を得た。この固体をアニソール4mlに溶解し、0ないし
4℃に冷却して、トリフルオロ酢酸8mlを滴下した後室
温で50分間撹拌した。反応液を−20℃ないし−30
℃に冷却し、ジエチルエテール50mlを滴下して固体を
生成させた。この固体をろ別し、アセトンで洗浄した
後、乾燥して微色粉末の固体1.1g を得た。この固体
を15%メタノール水溶液を溶離剤として用いた分取用
液体クロマトグラフィー(μ−Bondapak C18 steel c
olumn :19mm×30cm)で分離精製して、SおよびR
形態の標記化合物(I−15(S)およびI−15
(R))を各々200mgおよび220mg得た。 MS(FAB,M+1):664 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ) S−異性体:0.88(t,3H), 1.49(s,3H), 1.88(q,2H), 2.
23(m,2H), 2.81(t,2H),3.11(t,2H), 3.57(ABq,2H), 3.8
6(ABq,2H), 5.16(d,1H), 5.81(d,1H), 6.99(s,1H) R−異性体:0.91(t,3H), 1.44(s,3H), 1.88(q,2H), 2.
22(m,2H), 2.81(t,2H),3.10(t,2H), 3.56(ABq,2H), 4.2
8(ABq,2H), 5.13(d,1H), 5.74(d,1H), 6.98(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1670、
1600、1520
【0082】実施例16 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−カルボキシブト−2−オキシイミノ)
アセトアミド〕−3−(4−アミノ−1−メチル−1,
5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジニウ
ム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート(I−16(S)およびI−16(R))の
合成 製造例2で合成した4−アミノ−1−メチル−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−
チオン350mgを使用した以外は、実施例15と同様に
行なって、SおよびR形態を有する白色固体として標記
化合物(I−16(S)およびI−16(R))を各々
230mgおよび220mg得た。 MS(FAB,M+1):695 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):S−異性体:0.
86(t,3H), 1.51(s,3H), 2.24(m,2H), 2.84(t,2H), 3.12
(t,2H),3.61(ABq,2H), 3.63(s,3H), 4.23(ABq,2H), 5.1
5(d,1H), 5.76(d,1H), 6.95(s,1H) R−異性体:0.87(t,3H), 1.52(s,3H), 2.25(m,2H), 2.
84(t,2H), 3.14(t,2H),3.62(ABq,2H), 3.67(s,3H), 4.2
5(ABq,2H), 5.14(d,1H), 5.77(d,1H), 6.95(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1680、
1620、1530
【0083】実施例17 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(エトキシイミノアセトアミド〕−3−
(1,4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ−
シクロペンタピリミジニウム−2−イル)チオメチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート(I−17)の合
成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(エトキシイミノ)−2−{2−(トリ
フェニルメチル)アミノチアゾール−4−イル}アセト
アミド〕−3−セフェム−4−カルボキシレート2.0
g をジメチルスルホキシド10mlに溶解し、製造例1で
得た1,4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ
−シクロペンタピリミジン−2−チオン420mgを加え
た後、常温で2時間撹拌した。反応液をテトラヒドロフ
ラン30mlと酢酸エチル30mlの混合溶媒で抽出し、飽
和塩化ナトリウム水溶液100mlで洗浄した。分離した
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧蒸留して
溶媒を除去した後、乾燥して固体を得た。この固体をア
ニソール4mlに溶解して、0ないし4℃に冷却し、トリ
フルオロ酢酸8mlを滴下した後、室温で50分間撹拌し
た。反応液を−20ないし−30℃に冷却し、ジエチル
エテール50mlを滴下して固体を析出させた。析出した
固体をろ過し、アセトンで洗浄した後、乾燥して、微白
色粉末の固体1.2g を得た。この固体を20%メタノ
ール水溶液を溶離剤として用いた液体クロマトグラフィ
ー(μ−Bondapak C18 steel column :19mm×30
cm)で分離精製して、白色固体として標記化合物680
mgを得た。 MS(FAB,M+1):592 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.29(t,2H), 2.2
3(m,2H), 2.85(t,2H), 3.13(t,2H), 3.61(ABq,2H), 4.2
5(q,2H), 4.40(ABq,1H), 5.10(d,1H), 5.72(d,1H), 6.9
4(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1705、
1650、1590
【0084】実施例18 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−エトキシイミノ)アセトアミド〕−3
−(1,4−ジアミノ−5,6,7,8−テトラヒドロ
−1H−キナゾリニウム−2−イル)チオメチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート(I−18)の合成 製造例3で合成した1,4−ジアミノ−5,6,7,8
−テトラヒドロ−1H−キナゾリン−2−チオン190
mgを使用した以外は、実施例17と同様に行なって、白
色粉末として標記化合物680mgを得た。 MS(FAB,M+1):606 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.30(t,2H), 1.6
2(m,4H), 1.93(t,2H), 2.43(t,2H), 3.52(ABq,2H), 4.2
5(q,2H), 4.35(ABq,2H), 5.18(d,1H), 5.85(d,1H), 6.9
8(s,1H) IR(KBr,cm-1):1768 (β−ラクタム)、1670、
1620、1550
【0085】実施例19 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−(2−エトキシイミノ)アセトアミド〕−3
−(4−アミノ−1−メチル−1,5,6,7−テトラ
ヒドロ−シクロペンタピリミジニウム−2−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(I−1
9)の合成 製造例2から合成された4−アミノ−1−メチル−1,
5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−
2−チオン180mgを使用した以外は、実施例17と同
様に行なって、白色粉末として標記化合物670mgを得
た。 MS(FAB,M+1):591 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.29(t,2H), 2.2
6(m,4H), 2.78(t,2H), 3.08(t,2H), 3.58(ABq,2H), 3.6
8(s,3H), 4.21(q,2H), 4.32(ABq,2H), 5.16(d,1H), 5.7
8(d,1H), 6.94(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1690、
1630、1570
【0086】実施例20 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((R)−1−カルボキシエト−1−オキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−
1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジ
ニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(I−5(R))の合成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−(1−tert−ブトキシカルボニルエト−
1−オキシイミノ)−2−{2−(トリフェニルメチ
ル)アミノチアゾール−4−イル}アセトアミド〕−3
−セフェム−4−カルボキシレート2.0g をジメチル
スルホキシド10mlに溶解して、製造例1で得た1,4
−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペ
ンタピリミジン−2−チオン380mgを加えた後、常温
で3時間撹拌した。反応液にジエチルエテール50mlを
加えて激しく撹拌した後、ジエチルエテール層を除去し
た残留物にジクロロメタン20mlを加えて溶かした後、
ジエチルエテール100mlを徐々に滴下して結晶化し
た。生成した固体をろ過してジエチルエテール50mlで
洗浄し、乾燥して固体を得た。この固体をフェノール2
mlに溶解した後、濃塩酸1.0mlを加えて50℃で2時
間撹拌した。反応液を常温に冷却し、アセトン100ml
を加えて結晶化した後、生成した固体をろ過し、アセト
ン50mlで洗浄し、乾燥して、微白色固体1.2g を得
た。この固体を5%メタノール水溶液を溶離剤として用
いた分取用液体クロマトグラフィー(μ−Bondapak C
18 steel column:19mm×30cm)で分離精製して、
白色粉末として標記化合物550mgを得た。 MS(FAB,M+1):636 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.48(d,3H), 2.2
2(m,2H), 2.74(t,2H), 3.08(t,2H), 3.63(ABq,2H), 4.3
2(ABq,2H), 4.70(ABq,2H), 5.19(d,1H), 5.74(d,1H),
6.96(s,1H) IR(KBr,cm-1):1750 (β−ラクタム)、1680、
1600、1530
【0087】実施例21 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((R)−1−カルボキシエト−1−オキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−(4−アミノ−1−メチ
ル−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリ
ミジニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート(I−6(R))の合成 製造例2で合成した4−ジアミノ−1−メチル−1,
5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−
2−チオン300mgを用いた以外は、実施例20と同様
に行なって、白色粉末として標記化合物255mgを得
た。 MS(FAB,M+1):635 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.47(d,3H), 2.2
3(m,2H), 2.69(t,2H), 3.04(t,2H), 3.50(ABq,2H), 3.6
4(s,3H), 4.34(ABq,2H), 4.65(q,1H), 5.19(d,1H), 5.7
8(d,1H), 6.99(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1670、
1600、1520
【0088】実施例22 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((R)−1−カルボキシエト−1−オキシ
イミノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−
5,6,7,8−テトラヒドロ−1H−キナゾリニウム
−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(I−7(R))の合成 製造例3で合成した1,4−ジアミノ−5,6,7,8
−テトラヒドロ−1H−キナゾリン−2−チオン310
mgを使用した以外は、実施例20と同様に行なって、白
色粉末として標記化合物265mgを得た。 MS(FAB,M+1):650 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):1.48(d,3H), 1.6
4(m,4H), 2.04(t,2H), 2.45(t,2H), 3.58(ABq,2H), 4.3
1(ABq,2H), 4.72(q,1H), 5.12(d,1H), 5.76(d,1H), 6.9
9(s,1H) IR(KBr,cm-1):1770 (β−ラクタム)、1680、
1615、1570
【0089】実施例23 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((R)−1−カルボキシプロプ−1−オキ
シイミノ)アセトアミド〕−3−(1,4−ジアミノ−
1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジ
ニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(I−13(R))の合成 p−メトキシベンジル 3−クロロメチル−7−
〔(Z)−2−((R)−1−ジフェニルメトキシカル
ボニルプロプ−1−オキシイミノ)−2−{2−(トリ
フェニルメチル)アミノチアゾール−4−イル}アセト
アミド〕−3−セフェム−4−カルボキシレート1.5
g をジメチルスルホキシド10mlに溶解し、製造例1で
合成した1,4−ジアミノ−1,5,6,7−テトラヒ
ドロ−シクロペンタピリミジン−2−チオン350mgを
加えた後、常温で3時間撹拌した。反応液をテトラヒド
ロフラン20mlと酢酸エチル20mlの混合溶媒で抽出
し、飽和塩化ナトリウム水溶液100mlで洗浄した。分
離した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧蒸
留して溶媒を除去した後、乾燥して固体を得た。この固
体をアニソール4mlに溶解して、0℃ないし4℃に冷却
し、トリフルオロ酢酸8mlを滴下した後、室温で40分
間撹拌した。反応液を−20℃ないし−30℃に冷却
し、ジエチルエテール50mlを滴下して固体を析出させ
た。析出した固体をろ過し、アセトン50mlで洗浄した
後、乾燥して微白色粉末の固体0.9g を得た。この固
体を25%メタノール水溶液を溶離剤として用いた分取
用液体クロマトグラフィー(μ−Bondapak C18 steel
column :19mm×30cm)で分離精製して、白色固体
として標記化合物210mgを得た。 MS(FAB,M+1):650 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):0.94(t,3H), 1.7
6(q,2H), 2.25(m,2H), 2.76(t,2H), 3.06(t,2H), 3.58
(ABq,2H), 4.34(ABq,2H), 4.63(ABq,1H), 5.15(d,1H),
5.78(d,1H), 6.78(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1670、
1610、1520
【0090】実施例24 7−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−((R)−1−カルボキシプロプ−1−オキ
シイミノ)アセトアミド〕−3−(4−アミノ−1−メ
チル−1,5,6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピ
リミジニウム−2−イル)チオメチル−3−セフェム−
4−カルボキシレート(I−14(R))の合成 製造例2で合成した4−アミノ−1−メチル−1,5,
6,7−テトラヒドロ−シクロペンタピリミジン−2−
チオン320mgを使用した以外は、実施例23と同様に
行なって、白色固体として標記化合物210mgを得た。 MS(FAB,M+1):649 NMR(δ、D2 O+NaHCO3 ):0.95(t,3H), 1.8
2(q,2H), 2.23(m,2H), 2.81(t,2H), 3.12(t,2H), 3.56
(ABq,2H), 3.64(s,3H), 4.36(ABq,2H), 4.66(q,1H), 5.
15(d,1H), 5.78(d,1H), 6.99(s,1H) IR(KBr,cm-1):1765 (β−ラクタム)、1660,
1590,1530
【0091】本発明の化合物の中、優れた抗菌力を有す
る望ましい化合物の抗菌活性を評価するために、対照薬
剤としてセファロスポリンを用いて標準菌株に対する最
少阻止濃度(MIC)値を次のような方法により求め
た。ミラ−ヒントン(Muller-Hinton) 寒天培地に2倍連
続希釈法により希釈した化合物を分散した後、107
FU(Colony Forming Unit )1mlの標準菌株2μlを
培地に接種して、37℃で約20時間培養した。その結
果を第2表に示した。
【0092】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林 鍾 燦 大韓民国大田直轄市儒城区新城洞153 ラ ッキーハナアパートメント103−203 (72)発明者 呉 憲 承 大韓民国大田直轄市儒城区新城洞153 ラ ッキーハナアパートメント102−103 (72)発明者 ▲う▼ 永 旻 大韓民国大田直轄市儒城区新城洞153 ラ ッキーハナアパートメント103−1307 (72)発明者 梁 徳 浩 大韓民国大田直轄市儒城区道龍洞386−4 ラッキーアパートメントエー−405 (72)発明者 金 三 植 大韓民国大田直轄市儒城区道龍洞386−4 ラッキーアパートメントエー−101 (72)発明者 任 賢 珠 大韓民国大田直轄市中区柳川2洞(番地な し) 現代アパートメント105−1101

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I): 【化1】 (式中、R1 は水素、C1-4 アルキル基、C2-4 アルケ
    ニル基、C2-4 アルキニル基または−C(RA )(R
    B )COOH(ここで、RA およびRB は同一または異
    なって、各々水素またはC1-4 アルキル基を表すか、そ
    れらが結合している炭素原子と一緒になってC3-7 シク
    ロアルキル基を形成する)であり、R2 は置換または非
    置換のアミノ基、C1-4 アルキル基またはC3-7 シクロ
    アルキル基であり、nは2ないし7の整数である)のセ
    ファロスポリン化合物、その薬剤学的に許容され得る無
    毒性塩、生理学的に加水分解され得るエステル、水和物
    および溶媒和物およびその異性体。
  2. 【請求項2】 R1 がメチル基、エチル基または−C
    (RA )(RB )CO2 Hであって、ここでRA および
    B が、各々水素、メチル基またはエチル基を表すか、
    それらが結合している炭素原子と一緒になってシクロペ
    ンチルまたはシクロヘキシル基を形成し、R2 がメチル
    基またはアミノ基であり、nが3または4である請求項
    1記載のセファロスポリン化合物。
  3. 【請求項3】 一般式(II)の化合物を、一般式(III
    )の化合物と、溶媒の存在下で反応させることを特徴
    とする請求項1記載の一般式(I)の化合物の製造方
    法。 【化2】 (式中、R1 、R2 およびnは、請求項1で定義したも
    のと同じであり、R3は水素またはアミノ保護基であ
    り、R4 は水素、C1-4 アルキル基、C2-4 アルケニル
    基またはC2-4 アルキニル基または−C(RA )(R
    B )COORC で表される基(ここで、RA およびRB
    は同一または異なって、各々水素またはC1-4 アルキル
    基を表すか、RA およびRB はそれらが結合している炭
    素原子と一緒になってC3-7 シクロアルキル基を形成
    し、RC は水素またはカルボキシル保護基である)を示
    し、R5 は水素またはカルボキシル保護基であり、Lは
    脱離基を示し、mは0または1である)
  4. 【請求項4】 前記溶媒がN,N−ジメチルホルムアミ
    ド、ジメチルスルホキシドまたはN,N−ジメチルアセ
    トアミドであることを特徴とする請求項3記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記一般式(III )の化合物が、前記一
    般式(II)の化合物に基づいて0.5ないし2当量用い
    ることを特徴とする請求項3記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記一般式(II)の化合物と一般式(II
    I )の化合物との反応の前後に、アミノ保護基またはカ
    ルボキシル保護基を除去するか、またはS−オキシドを
    還元することを特徴とする請求項3記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記脱離基がハロゲン、(低級)アルカ
    ノイルオキシ基、(低級)アルカンスルホニルオキシ
    基、アレーンスルホニルオキシ基またはアルコキシカル
    ボニルオキシ基であることを特徴とする請求項3記載の
    方法。
  8. 【請求項8】 有効成分として、請求項1または2記載
    の化合物の治療学的有効量と薬剤学的に許容され得る担
    体、賦形剤またはその他の添加剤を含むことを特徴とす
    る抗菌組成物。
JP5330684A 1992-12-26 1993-12-27 新規なセファロスポリン化合物 Ceased JPH0811757B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019920025647A KR0154901B1 (ko) 1992-12-26 1992-12-26 신규 세팔로스포린계 항생제(v)
KR25647/1992 1992-12-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06211872A JPH06211872A (ja) 1994-08-02
JPH0811757B2 true JPH0811757B2 (ja) 1996-02-07

Family

ID=19346791

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5330684A Ceased JPH0811757B2 (ja) 1992-12-26 1993-12-27 新規なセファロスポリン化合物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5416081A (ja)
EP (1) EP0604920A1 (ja)
JP (1) JPH0811757B2 (ja)
KR (1) KR0154901B1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970005896B1 (ko) * 1993-07-23 1997-04-21 주식회사 엘지화학 신규 세팔로스포린계 항생제 및 그의 제조방법
WO2000042025A1 (en) * 1999-01-14 2000-07-20 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Poly(adp-ribose) polymerase inhibitors consisting of pyrimidine derivatives

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2714880A1 (de) * 1977-04-02 1978-10-26 Hoechst Ag Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung
AR229882A1 (es) * 1978-05-26 1983-12-30 Glaxo Group Ltd Procedimiento para preparar antibioticos de cefalosporina
DE3006888A1 (de) * 1980-02-23 1981-09-10 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung
JPS63107989A (ja) * 1986-06-04 1988-05-12 Tanabe Seiyaku Co Ltd セファロスポリン化合物
US5202315A (en) * 1989-05-11 1993-04-13 Lucky, Ltd. Cephalosporin compounds
KR930007264B1 (ko) * 1990-08-17 1993-08-04 주식회사 럭키 신규한 세팔로스포린 화합물과 그의 제조방법
EP0508375A3 (en) * 1991-04-12 1992-12-09 Lucky Ltd. Novel cephalosporin compounds and processes for preparation thereof

Also Published As

Publication number Publication date
US5416081A (en) 1995-05-16
JPH06211872A (ja) 1994-08-02
KR940014411A (ko) 1994-07-18
KR0154901B1 (ko) 1998-11-16
EP0604920A1 (en) 1994-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05502884A (ja) 新規3―置換セフェム化合物及びその製造方法
JPS63152370A (ja) 新規カルボン酸
JPH0559065A (ja) 抗生物質c−3カテコール置換セフアロスポリン化合物、組成物及びその使用法
JP2533711B2 (ja) 新規なセファロスポリン化合物およびその製法
JPH06184162A (ja) 新規なセファロスポリン化合物およびその製造方法
JP2552818B2 (ja) 新規セファロスポリン系抗生物質、その製造方法及び用途
JP2934809B2 (ja) 新規なセファロスポリン系抗生剤およびその製造方法
JPH06211872A (ja) 新規なセファロスポリン化合物
JP2633201B2 (ja) 新規セファロスポリン系抗生物質及びその製造方法
JPH05508625A (ja) 新規なセファロスポリン化合物およびその製法
JPS62103092A (ja) β−ラクタム誘導体
JP2634386B2 (ja) 1−カルバ(デチア)セファロスポリン抗生物質の合成中間体
JPS62270589A (ja) 新規セフアロスポリン誘導体
JPH0733777A (ja) 新規セフェム化合物
KR970005897B1 (ko) 신규한 세팔로스포린계 항생제 및 이의 제조방법(ⅱ)
EP0188781B1 (en) 1-oxa-1-dethia-cephalosporin compounds and antibacterial agent comprising the same
KR0154902B1 (ko) 신규 세팔로스포린계 항생제(iv)
KR0154899B1 (ko) 신규 세팔로스포린계 항생제(iii)
JPH04266889A (ja) 抗生物質c−3カテコ−ル−置換セファロスボリン化合物、組成物およびその使用法
JP2002514650A (ja) 新規なセファロスポリン化合物、その製造方法およびそれを含有する抗菌性組成物
KR910007980B1 (ko) 신규 세팔로스포린계 항생제 및 이의 제조방법
JPH06206886A (ja) セフェム化合物、その製造方法及び該化合物を含む医薬
KR930010628B1 (ko) 신규 세팔로스포린계 항생제 및 그의 제조방법
JPH06184166A (ja) 新規なセファロスポリン化合物およびその製法
KR0154900B1 (ko) 신규 세팔로스포린계 항생제(ii)

Legal Events

Date Code Title Description
A045 Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045

Effective date: 20060822