JPH08133876A - 滑り止めタイル及びその製造方法 - Google Patents
滑り止めタイル及びその製造方法Info
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- JPH08133876A JPH08133876A JP26730894A JP26730894A JPH08133876A JP H08133876 A JPH08133876 A JP H08133876A JP 26730894 A JP26730894 A JP 26730894A JP 26730894 A JP26730894 A JP 26730894A JP H08133876 A JPH08133876 A JP H08133876A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
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- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/60—Flooring materials
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- Ceramic Engineering (AREA)
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- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 滑り止め効果を長期間に亘って維持できるタ
イルを提供する。 【構成】 り止めタイルは基材１上に凹凸釉薬層２を形
成し、この凹凸釉薬層２の表面に０．１μｍ以上５０μ
ｍ以下の厚さのＴiＯ2等の金属酸化物層３を形成してい
る。そして、金属酸化物層３が形成された滑り止めタイ
ル表面の凹凸部の中心線平均粗さ（Ｒa）と平均凸部間
隔（Ｓm）との関係は、１．０≦１００Ｒa／Ｓm≦５．
０となっている。
イルを提供する。 【構成】 り止めタイルは基材１上に凹凸釉薬層２を形
成し、この凹凸釉薬層２の表面に０．１μｍ以上５０μ
ｍ以下の厚さのＴiＯ2等の金属酸化物層３を形成してい
る。そして、金属酸化物層３が形成された滑り止めタイ
ル表面の凹凸部の中心線平均粗さ（Ｒa）と平均凸部間
隔（Ｓm）との関係は、１．０≦１００Ｒa／Ｓm≦５．
０となっている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は浴室、洗面所、トイレ等
の床材等として用いる滑り止めタイルとその製造方法に
関する。
の床材等として用いる滑り止めタイルとその製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】表面に微細な凹凸を形成して滑り止め効
果を発揮するようにしたタイルが特公昭６０−３９８２
７号公報に開示されている。このタイルはタイル本体の
焼成温度よりも高い耐火度を有する熔融アルミナ等の微
粒子をタイル表面に付着させ、この上から釉薬を塗布し
た後に焼成するようにしたものである。
果を発揮するようにしたタイルが特公昭６０−３９８２
７号公報に開示されている。このタイルはタイル本体の
焼成温度よりも高い耐火度を有する熔融アルミナ等の微
粒子をタイル表面に付着させ、この上から釉薬を塗布し
た後に焼成するようにしたものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した先行技術によ
る場合には、熔融アルミナ等の微粒子を釉薬層が完全に
覆っており、釉薬層が最表層となっている。この釉薬層
は耐摩耗性がそれほど高くないので、滑り止め効果を発
揮するために形成した表面の凹凸が短期間のうちに減少
してしまう不利がある。
る場合には、熔融アルミナ等の微粒子を釉薬層が完全に
覆っており、釉薬層が最表層となっている。この釉薬層
は耐摩耗性がそれほど高くないので、滑り止め効果を発
揮するために形成した表面の凹凸が短期間のうちに減少
してしまう不利がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明に係る滑り止めタイルは、基材表面に凹凸部を有す
る釉薬層が形成され、この釉薬層の表面に略均一な厚さ
の金属酸化物層が形成され、この金属酸化物層が形成さ
れた凹凸部の中心線平均粗さ（Ｒa）と平均凸部間隔
（Ｓm）とが、１．０≦１００Ｒa／Ｓm≦５．０（カッ
トオフ値＝０．８μｍ）を満足する関係となるようにし
た。
発明に係る滑り止めタイルは、基材表面に凹凸部を有す
る釉薬層が形成され、この釉薬層の表面に略均一な厚さ
の金属酸化物層が形成され、この金属酸化物層が形成さ
れた凹凸部の中心線平均粗さ（Ｒa）と平均凸部間隔
（Ｓm）とが、１．０≦１００Ｒa／Ｓm≦５．０（カッ
トオフ値＝０．８μｍ）を満足する関係となるようにし
た。
【０００５】１．０≦１００Ｒa／Ｓm≦５．０となるよ
うにしたのは、１．０＞１００Ｒa／Ｓmであると、表面
が平滑になり過ぎて十分な滑り止め効果を発揮すること
ができず、１００Ｒa／Ｓm＞５．０であると表面粗度が
大きくなり過ぎて耐摩耗性が低下することによる。尚、
１００Ｒa／Ｓmの好ましい範囲は１．５≦１００Ｒa／
Ｓm≦３．５である。
うにしたのは、１．０＞１００Ｒa／Ｓmであると、表面
が平滑になり過ぎて十分な滑り止め効果を発揮すること
ができず、１００Ｒa／Ｓm＞５．０であると表面粗度が
大きくなり過ぎて耐摩耗性が低下することによる。尚、
１００Ｒa／Ｓmの好ましい範囲は１．５≦１００Ｒa／
Ｓm≦３．５である。
【０００６】また、前記金属酸化物層の厚さは０．１μ
ｍ以上５０μｍ以下とすることが基材表面の釉薬との密
着性を高め、金属酸化物の剥離を防止する上で好まし
い。即ち、０．１μｍ未満とすると、基材表面の釉薬中
へ金属酸化物粒子層が溶け込み、分散して、金属酸化物
層が表面に形成されない部分が生じるおそれがあり、ま
た５０μｍを超えると、金属酸化物粒子と釉薬との密着
性は確保されるが、金属酸化物粒子同士の密着性が低下
し、金属酸化物層が剥離しやすくなる。ここで、金属酸
化物層の更なる好ましい厚さとしては、０．５μｍ以上
３μｍ以下である。
ｍ以上５０μｍ以下とすることが基材表面の釉薬との密
着性を高め、金属酸化物の剥離を防止する上で好まし
い。即ち、０．１μｍ未満とすると、基材表面の釉薬中
へ金属酸化物粒子層が溶け込み、分散して、金属酸化物
層が表面に形成されない部分が生じるおそれがあり、ま
た５０μｍを超えると、金属酸化物粒子と釉薬との密着
性は確保されるが、金属酸化物粒子同士の密着性が低下
し、金属酸化物層が剥離しやすくなる。ここで、金属酸
化物層の更なる好ましい厚さとしては、０．５μｍ以上
３μｍ以下である。
【０００７】金属酸化物としては、ＴiＯ2、ＳnＯ2、Ｚ
nＯ等が利用できる。また、抗菌性等を付与するため
に、或いは焼成後の金属酸化物の耐久性を考慮すると、
金属酸化物をＴiＯ2とすることが好ましい。
nＯ等が利用できる。また、抗菌性等を付与するため
に、或いは焼成後の金属酸化物の耐久性を考慮すると、
金属酸化物をＴiＯ2とすることが好ましい。
【０００８】一方、本発明に係る滑り止めタイルの製造
方法は、基材表面に均一な厚さで下地釉薬層を塗布し、
この下地釉薬層の表面に、中心線平均粗さ（Ｒa）と平
均凸部間隔（Ｓm）とが、１．０≦１００Ｒa／Ｓm≦
５．０（カットオフ値＝０．８μｍ）を満足する関係と
なる高さ及び間隔で釉薬層を部分的に塗布し、次いで焼
成して下地釉薬層と部分的に塗布した釉薬層とが一体と
なった凹凸釉薬層を形成し、この凹凸釉薬層の表面に金
属酸化物ゾルを塗布した後に焼成する。
方法は、基材表面に均一な厚さで下地釉薬層を塗布し、
この下地釉薬層の表面に、中心線平均粗さ（Ｒa）と平
均凸部間隔（Ｓm）とが、１．０≦１００Ｒa／Ｓm≦
５．０（カットオフ値＝０．８μｍ）を満足する関係と
なる高さ及び間隔で釉薬層を部分的に塗布し、次いで焼
成して下地釉薬層と部分的に塗布した釉薬層とが一体と
なった凹凸釉薬層を形成し、この凹凸釉薬層の表面に金
属酸化物ゾルを塗布した後に焼成する。
【０００９】
【作用】摩耗しやすい凹凸釉薬層表面を所定厚みの金属
酸化物層で被覆することで、滑り止め効果を維持しつつ
耐摩耗性を向上することが可能となる。
酸化物層で被覆することで、滑り止め効果を維持しつつ
耐摩耗性を向上することが可能となる。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図１ないし図４は本発明に係る滑り止めタイ
ルの製造方法を工程順に説明したものであり、図１は基
材表面に下地釉薬層を塗布した状態を示す図、図２は下
地釉薬層の表面に釉薬層を部分的に塗布した状態を示す
図、図３は下地釉薬層と部分的に塗布した釉薬層とを焼
成して一体となった凹凸釉薬層を形成した状態を示す
図、図４は凹凸釉薬層の表面に金属酸化物層を形成した
状態を示す図である。尚、図においては理解を容易にす
るために上下方向の凹凸を誇張して示している。
説明する。図１ないし図４は本発明に係る滑り止めタイ
ルの製造方法を工程順に説明したものであり、図１は基
材表面に下地釉薬層を塗布した状態を示す図、図２は下
地釉薬層の表面に釉薬層を部分的に塗布した状態を示す
図、図３は下地釉薬層と部分的に塗布した釉薬層とを焼
成して一体となった凹凸釉薬層を形成した状態を示す
図、図４は凹凸釉薬層の表面に金属酸化物層を形成した
状態を示す図である。尚、図においては理解を容易にす
るために上下方向の凹凸を誇張して示している。
【００１１】先ず図４に基づいて、完成した滑り止めタ
イルの構造を説明すると、滑り止めタイルは基材１上に
凹凸釉薬層２を形成し、この凹凸釉薬層２の表面に０．
１μｍ以上５０μｍ以下の厚さのＴiＯ2等の金属酸化物
層３を形成している。
イルの構造を説明すると、滑り止めタイルは基材１上に
凹凸釉薬層２を形成し、この凹凸釉薬層２の表面に０．
１μｍ以上５０μｍ以下の厚さのＴiＯ2等の金属酸化物
層３を形成している。
【００１２】そして、金属酸化物層３が形成された滑り
止めタイル表面の凹凸部の中心線平均粗さ（Ｒa）と平
均凸部間隔（Ｓm）との関係は、１．０≦１００Ｒa／Ｓ
m≦５．０（カットオフ値＝０．８μｍ）となってい
る。
止めタイル表面の凹凸部の中心線平均粗さ（Ｒa）と平
均凸部間隔（Ｓm）との関係は、１．０≦１００Ｒa／Ｓ
m≦５．０（カットオフ値＝０．８μｍ）となってい
る。
【００１３】ここで、中心線とは粗さ曲線（ｙ）の平均
線に平行な直線を引いた時に、この直線と粗さ曲線で囲
まれる面積が、この直線の両側で等しくなる直線をい
う。また、中心線平均粗さ（Ｒa）は、粗さ曲線（ｙ）
からその中心線の方向に所定長さ（ｌ）の部分を抜き取
り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向を
Ｙ軸とし、粗さ曲線をｙ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、以
下の（数１）によって表わされる。また、平均凸部間隔
（Ｓm）は以下の（数２）によって表わされる。
線に平行な直線を引いた時に、この直線と粗さ曲線で囲
まれる面積が、この直線の両側で等しくなる直線をい
う。また、中心線平均粗さ（Ｒa）は、粗さ曲線（ｙ）
からその中心線の方向に所定長さ（ｌ）の部分を抜き取
り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向を
Ｙ軸とし、粗さ曲線をｙ＝ｆ（ｘ）で表わしたとき、以
下の（数１）によって表わされる。また、平均凸部間隔
（Ｓm）は以下の（数２）によって表わされる。
【００１４】
【数１】
【数２】
【００１５】次に、以上の如き構成の滑り止めタイルの
製造手順を説明する。先ず図１に示すように、基材１の
表面に下地釉薬層２１を塗布する。下地釉薬層２１とし
ては、長石２０重量部、珪石１０重量部、焼タルク２０
重量部、石灰１０重量部、粘土５重量部それにフリット
３５重量部とからなり、融点が１１８０℃（耐火度ＳＫ
５ａ）の釉薬を調製する。
製造手順を説明する。先ず図１に示すように、基材１の
表面に下地釉薬層２１を塗布する。下地釉薬層２１とし
ては、長石２０重量部、珪石１０重量部、焼タルク２０
重量部、石灰１０重量部、粘土５重量部それにフリット
３５重量部とからなり、融点が１１８０℃（耐火度ＳＫ
５ａ）の釉薬を調製する。
【００１６】上記の釉薬を基材１の表面に４００μｍの
厚みで一様に塗布し下地釉薬層２１とし、この下地釉薬
層２１の上に図２に示すように同一組成の釉薬２２を斑
点掛けする。
厚みで一様に塗布し下地釉薬層２１とし、この下地釉薬
層２１の上に図２に示すように同一組成の釉薬２２を斑
点掛けする。
【００１７】次いで上記の基材１と釉薬層２１，２２を
ローラーハースキルン中で１１５０℃で４０分間焼成し
て、図３に示すように、下地釉薬層２１と部分的に塗布
した釉薬層２２とが一体となった凹凸釉薬層２を形成す
る。
ローラーハースキルン中で１１５０℃で４０分間焼成し
て、図３に示すように、下地釉薬層２１と部分的に塗布
した釉薬層２２とが一体となった凹凸釉薬層２を形成す
る。
【００１８】この後、凹凸釉薬層２の表面に金属酸化物
ゾルをスプレー塗布した後に、ローラーハースキルン中
で８８０℃で６０分間焼成して、図４に示すような厚み
が０．１μｍ以上５０μｍ以下の金属酸化物層３を形成
する。
ゾルをスプレー塗布した後に、ローラーハースキルン中
で８８０℃で６０分間焼成して、図４に示すような厚み
が０．１μｍ以上５０μｍ以下の金属酸化物層３を形成
する。
【００１９】
【発明の効果】以下の（表）は金属酸化物層としてＴi
Ｏ2層を形成した本発明に係る滑り止めタイルと、釉薬
層を剥き出しにした従来の滑り止めタイルとを、光沢変
化率、色変化、染色変化及び滑り摩擦係数変化において
比較したものである。尚、光沢変化率についてはＪＩＳ
Ｚ８７４１に基づき、光沢度計（日本電色工業社製）
を用いて光反射率を測定し、色変化については色度計に
てＬabを求め、それぞれの値からΔＥを算出し、染色変
化については同じくΔＥを算出するが、具体的には０．
０１％フクシン溶液（Ｃ20Ｈ20ＣlＮ3）に５秒浸漬し、
その後余剰のフクシンを水で洗い流し、更にサンプルを
１１０℃で２日間乾燥放置し、色値を測定し、滑り摩擦
係数変化はサンプル表面を水に濡らし、次いでサンプル
上に０．５ｋｇの重りを載せ、荷重方向に対し垂直に力
を加え、重りが移動し始めた力（ｆｋｇ）を表面性測定
機（新東科学社製）で読み取り、滑り摩擦係数（μ）＝
ｆ／０．５にて算出した。
Ｏ2層を形成した本発明に係る滑り止めタイルと、釉薬
層を剥き出しにした従来の滑り止めタイルとを、光沢変
化率、色変化、染色変化及び滑り摩擦係数変化において
比較したものである。尚、光沢変化率についてはＪＩＳ
Ｚ８７４１に基づき、光沢度計（日本電色工業社製）
を用いて光反射率を測定し、色変化については色度計に
てＬabを求め、それぞれの値からΔＥを算出し、染色変
化については同じくΔＥを算出するが、具体的には０．
０１％フクシン溶液（Ｃ20Ｈ20ＣlＮ3）に５秒浸漬し、
その後余剰のフクシンを水で洗い流し、更にサンプルを
１１０℃で２日間乾燥放置し、色値を測定し、滑り摩擦
係数変化はサンプル表面を水に濡らし、次いでサンプル
上に０．５ｋｇの重りを載せ、荷重方向に対し垂直に力
を加え、重りが移動し始めた力（ｆｋｇ）を表面性測定
機（新東科学社製）で読み取り、滑り摩擦係数（μ）＝
ｆ／０．５にて算出した。
【００２０】
【表１】
【００２１】実験結果を示す（表）及び以上の説明から
明らかなように、本発明に係る滑り止めタイルは、長期
間使用してもタイル表面の凹凸が摩耗によって減りにく
く、滑り止め効果を維持でき、また、光沢変化、色変化
及び染色変化についても金属酸化物層をコーティングし
ないものに比べて、大幅に向上していることが分る。
明らかなように、本発明に係る滑り止めタイルは、長期
間使用してもタイル表面の凹凸が摩耗によって減りにく
く、滑り止め効果を維持でき、また、光沢変化、色変化
及び染色変化についても金属酸化物層をコーティングし
ないものに比べて、大幅に向上していることが分る。
【００２２】特に、金属酸化物としてＴiＯ2を用いれ
ば、抗菌機能、脱臭機能をも発揮し、タイルとしての利
用価値が高まる。
ば、抗菌機能、脱臭機能をも発揮し、タイルとしての利
用価値が高まる。
【図面の簡単な説明】
【図１】基材表面に下地釉薬層を塗布した状態を示す図
【図２】下地釉薬層の表面に釉薬層を部分的に塗布した
状態を示す図
状態を示す図
【図３】下地釉薬層と部分的に塗布した釉薬層とを焼成
して一体となった凹凸釉薬層を形成した状態を示す図
して一体となった凹凸釉薬層を形成した状態を示す図
【図４】凹凸釉薬層の表面に金属酸化物層を形成した状
態を示す図
態を示す図
１…基材、２…凹凸釉薬層、３…金属酸化物層、２１…
下地釉薬層、２２…部分的に塗布した釉薬層。
下地釉薬層、２２…部分的に塗布した釉薬層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久我 辰彦 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内 (72)発明者 中島 靖 福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１ 号 東陶機器株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 基材表面に凹凸部を有する釉薬層が形成
され、この釉薬層の表面に略均一な厚さの金属酸化物層
が形成され、この金属酸化物層が形成された凹凸部の中
心線平均粗さ（Ｒa）と平均凸部間隔（Ｓm）とが、１．
０≦１００Ｒa／Ｓm≦５．０（カットオフ値＝０．８μ
ｍ）を満足する関係となっていることを特徴とする滑り
止めタイル。 - 【請求項２】 請求項１に記載の滑り止めタイルにおい
て、前記金属酸化物層の厚さは０．１μｍ以上５０μｍ
以下であることを特徴とする滑り止めタイル。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の滑り止
めタイルにおいて、前記金属酸化物はＴiＯ2であること
を特徴とする滑り止めタイル。 - 【請求項４】 基材表面に均一な厚さで下地釉薬層を塗
布し、この下地釉薬層の表面に、中心線平均粗さ（Ｒ
a）と平均凸部間隔（Ｓm）とが、１．０≦１００Ｒa／
Ｓm≦５．０（カットオフ値＝０．８μｍ）を満足する
関係となる高さ及び間隔で釉薬層を部分的に塗布し、次
いで焼成して下地釉薬層と部分的に塗布した釉薬層とが
一体となった凹凸釉薬層を形成し、この凹凸釉薬層の表
面に金属酸化物ゾルを塗布した後に焼成することを特徴
とする滑り止めタイルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26730894A JPH08133876A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 滑り止めタイル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26730894A JPH08133876A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 滑り止めタイル及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08133876A true JPH08133876A (ja) | 1996-05-28 |
Family
ID=17443027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26730894A Pending JPH08133876A (ja) | 1994-10-31 | 1994-10-31 | 滑り止めタイル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08133876A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000109384A (ja) * | 1998-10-02 | 2000-04-18 | Danto Corp | 防汚・防滑性タイルとその製造方法 |
| JP2000282666A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-10 | National House Industrial Co Ltd | 床構造および耐磨耗性調湿タイル |
| JP2006125154A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Matsushita Electric Works Ltd | 洗い場用床パン及び浴槽 |
| JP2007321336A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Takiron Co Ltd | 防滑性床材 |
| CN103790306A (zh) * | 2012-10-26 | 2014-05-14 | 张释文 | 一种瓷砖 |
| JP2017065008A (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 建材及びその製造方法 |
| JP2018168661A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | タイル及びタイルの製造方法 |
-
1994
- 1994-10-31 JP JP26730894A patent/JPH08133876A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000109384A (ja) * | 1998-10-02 | 2000-04-18 | Danto Corp | 防汚・防滑性タイルとその製造方法 |
| JP2000282666A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-10 | National House Industrial Co Ltd | 床構造および耐磨耗性調湿タイル |
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| JP2007321336A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Takiron Co Ltd | 防滑性床材 |
| CN103790306A (zh) * | 2012-10-26 | 2014-05-14 | 张释文 | 一种瓷砖 |
| JP2017065008A (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 建材及びその製造方法 |
| JP2018168661A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | タイル及びタイルの製造方法 |
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