JPH081373B2 - 反射性のパタンの特質を監視するための検査方法 - Google Patents
反射性のパタンの特質を監視するための検査方法Info
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- JPH081373B2 JPH081373B2 JP15424792A JP15424792A JPH081373B2 JP H081373 B2 JPH081373 B2 JP H081373B2 JP 15424792 A JP15424792 A JP 15424792A JP 15424792 A JP15424792 A JP 15424792A JP H081373 B2 JPH081373 B2 JP H081373B2
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- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title claims description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 33
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板上の金属形成パタ
ンにおけるあらゆる特質のうち、水平寸法(例えば、線
の幅)および少なくとも他の1つの特質(例えば、強
度、色合い、テクスチャ、反射率、または彩度)を同時
に監視する技術に関する。
ンにおけるあらゆる特質のうち、水平寸法(例えば、線
の幅)および少なくとも他の1つの特質(例えば、強
度、色合い、テクスチャ、反射率、または彩度)を同時
に監視する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】マルチチップ電子モジュールの開発に現
在多大の努力が払われている。このようなモジュール
は、ハイブリッド集積回路(HIC)と称する人もいる
が、一般に、通常はセラミックの基板からなり、1つ以
上の層を有し、各層は、その上に通常は金などの金属形
成パタンを有する。通常、大規模集積回路(VLSI)
のチップを基板の主な(外側の)表面の一方または両方
に接合するが、このとき各チップは、基板上の金属形成
パタンによって他方に相互接続される。基板の各層の金
属形成パタンのパタン要素から選ばれたものが、隣接す
る層の上のパタン要素に貫通メッキした金属導路によっ
て接続される。
在多大の努力が払われている。このようなモジュール
は、ハイブリッド集積回路(HIC)と称する人もいる
が、一般に、通常はセラミックの基板からなり、1つ以
上の層を有し、各層は、その上に通常は金などの金属形
成パタンを有する。通常、大規模集積回路(VLSI)
のチップを基板の主な(外側の)表面の一方または両方
に接合するが、このとき各チップは、基板上の金属形成
パタンによって他方に相互接続される。基板の各層の金
属形成パタンのパタン要素から選ばれたものが、隣接す
る層の上のパタン要素に貫通メッキした金属導路によっ
て接続される。
【0003】このようなマルチチップ・モジュールの全
体的な大きさを小さくするだけでなく、非常に高密度の
回路を可能とするために、パタンのパタン要素の水平寸
法(例えば線の幅)を非常に小さくする。パタン要素の
うち線幅は、基板上への金属の堆積に使用される処理の
種類のよって2から10ミル(1ミルは、0.001イン
チ)の範囲である。各パタンにおけるあらゆるパタン要
素の寸法の正確な制御を維持することは、極めて重要な
ことである。パタンにおける特定のパタン要素の寸法
が、有効な設計規則の下で許容可能な最大値を超える場
合、そのようなパタン要素とそれに隣接するパタン要素
との間の信号の漏れる可能性がはるかに高くなり、「漏
話」の可能性が生じる。逆に、パタン中の特定のパタン
要素の寸法が小さ過ぎると、そのパタン要素によって与
えられる信号路のインピーダンスが許容限度を超え、そ
のマルチチップ・モジュールの動作に悪影響を及ぼす。
パタン中の要素の断線も、明らかに望ましくない。さら
に、貫通導路のようなパタン要素の質も重要である。
体的な大きさを小さくするだけでなく、非常に高密度の
回路を可能とするために、パタンのパタン要素の水平寸
法(例えば線の幅)を非常に小さくする。パタン要素の
うち線幅は、基板上への金属の堆積に使用される処理の
種類のよって2から10ミル(1ミルは、0.001イン
チ)の範囲である。各パタンにおけるあらゆるパタン要
素の寸法の正確な制御を維持することは、極めて重要な
ことである。パタンにおける特定のパタン要素の寸法
が、有効な設計規則の下で許容可能な最大値を超える場
合、そのようなパタン要素とそれに隣接するパタン要素
との間の信号の漏れる可能性がはるかに高くなり、「漏
話」の可能性が生じる。逆に、パタン中の特定のパタン
要素の寸法が小さ過ぎると、そのパタン要素によって与
えられる信号路のインピーダンスが許容限度を超え、そ
のマルチチップ・モジュールの動作に悪影響を及ぼす。
パタン中の要素の断線も、明らかに望ましくない。さら
に、貫通導路のようなパタン要素の質も重要である。
【0004】基板上の各パタンにおけるパタン要素の水
平寸法だけでなく、パタンにおける形成金属の総体的な
質も重要である。基板の各層にパタンを堆積させる過程
において、パタンにおける形成金属が、汚染される可能
性もある。このような汚染は、そのパタンによって確立
される回路のインピーダンスに悪影響を及ぼすだけでな
く、基板の露出した表面上の形成金属に集積回路のチッ
プを確実に接合する能力にも悪影響を与える。もう1つ
の重要なパラメータは、パタンにおけるパタン要素の高
さの一様性である。パタン要素の高さの著しい変化は、
基板上に配置される素子に対して行われる電気的な接続
の質に悪影響を及ぼす可能性がある。
平寸法だけでなく、パタンにおける形成金属の総体的な
質も重要である。基板の各層にパタンを堆積させる過程
において、パタンにおける形成金属が、汚染される可能
性もある。このような汚染は、そのパタンによって確立
される回路のインピーダンスに悪影響を及ぼすだけでな
く、基板の露出した表面上の形成金属に集積回路のチッ
プを確実に接合する能力にも悪影響を与える。もう1つ
の重要なパラメータは、パタンにおけるパタン要素の高
さの一様性である。パタン要素の高さの著しい変化は、
基板上に配置される素子に対して行われる電気的な接続
の質に悪影響を及ぼす可能性がある。
【0005】水平寸法の望ましくない変化を検出するた
めの基板上の金属形成パタンの検査は、これまで、(テ
レビカメラによって捉えた)パタンの画像を1対のマス
ター・パタンまたはモデルの各々と比較することによっ
て行われてきた。このようなモデル対の生成は、最大お
よび最小の許容可能な値をそれぞれ表すように一方のモ
デルのパタン要素は水平寸法を詰めて(縮小して)あり
他方のモデルのパタン要素は水平寸法を拡張して(広げ
て)ある点を除けば、それぞれのモデルがパタン要素か
らなる所望のパタンの正確なレプリカを含むように、行
われる。形成金属の実際のパタンの画像をその2つのモ
デルの各々と比較し、その比較の結果を論理的に結合す
ることによって、寸法が多き過ぎたり小さ過ぎるような
パタン要素を検出することができる。
めの基板上の金属形成パタンの検査は、これまで、(テ
レビカメラによって捉えた)パタンの画像を1対のマス
ター・パタンまたはモデルの各々と比較することによっ
て行われてきた。このようなモデル対の生成は、最大お
よび最小の許容可能な値をそれぞれ表すように一方のモ
デルのパタン要素は水平寸法を詰めて(縮小して)あり
他方のモデルのパタン要素は水平寸法を拡張して(広げ
て)ある点を除けば、それぞれのモデルがパタン要素か
らなる所望のパタンの正確なレプリカを含むように、行
われる。形成金属の実際のパタンの画像をその2つのモ
デルの各々と比較し、その比較の結果を論理的に結合す
ることによって、寸法が多き過ぎたり小さ過ぎるような
パタン要素を検出することができる。
【0006】パタン要素の水平寸法の変化を検出するた
めの自動パタン検査を行うために前記のような技術が考
案されたが、水平寸法のほか、パタン要素の高さ、色合
い、強度、反射率、テクスチャ、彩度、またはこれらの
組み合わせなどの、パタン要素の1つまたはそれ以上の
重要な特質も自動的に検査するための前記に匹敵する方
法は、考案されていない。これらの特質の何れかの検査
がある場合、その検査は手動で行われている。例えば、
パタンの色調および色合いを決定するためのパタン要素
の強度の検査は、通常、手動で行われ、良くても主観的
なものである。さらに、結果は担当者の疲労によって影
響を受けることもある。
めの自動パタン検査を行うために前記のような技術が考
案されたが、水平寸法のほか、パタン要素の高さ、色合
い、強度、反射率、テクスチャ、彩度、またはこれらの
組み合わせなどの、パタン要素の1つまたはそれ以上の
重要な特質も自動的に検査するための前記に匹敵する方
法は、考案されていない。これらの特質の何れかの検査
がある場合、その検査は手動で行われている。例えば、
パタンの色調および色合いを決定するためのパタン要素
の強度の検査は、通常、手動で行われ、良くても主観的
なものである。さらに、結果は担当者の疲労によって影
響を受けることもある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、発明が解決し
ようとする課題は、水平寸法の変化だけでなくパタン要
素の少なくとも1つの特質に関する変化も検出するよう
に基板上の金属形成パタンの自動検査を行う方法を与え
ることである。
ようとする課題は、水平寸法の変化だけでなくパタン要
素の少なくとも1つの特質に関する変化も検出するよう
に基板上の金属形成パタンの自動検査を行う方法を与え
ることである。
【0008】
【課題を解決するための手段】簡単に言えば、水平寸法
のほか、パタン要素の反射率、強度、高さ、色合い、テ
クスチャ、彩度、またはこれらの組み合わせなどの1つ
またはそれ以上の重要な特質も監視するためにマルチチ
ップ・モジュール上の金属形成パタンのような基板上の
パタンを検査する方法を本発明により開示する。この方
法は、まず、一般にテレビカメラによってパタンのグレ
イ・スケール画像を捉えることによって実施される。そ
の他の重要な特質によっては、その特質に関する情報を
展開するために、その画像をさらに処理することが必要
な場合もある。例えば、高さが、(パタン要素のxおよ
びy水平寸法以外の)他の重要な特質である場合、周知
の技術を用いて深度マップを展開するようにパタンの画
像を処理する必要がある。
のほか、パタン要素の反射率、強度、高さ、色合い、テ
クスチャ、彩度、またはこれらの組み合わせなどの1つ
またはそれ以上の重要な特質も監視するためにマルチチ
ップ・モジュール上の金属形成パタンのような基板上の
パタンを検査する方法を本発明により開示する。この方
法は、まず、一般にテレビカメラによってパタンのグレ
イ・スケール画像を捉えることによって実施される。そ
の他の重要な特質によっては、その特質に関する情報を
展開するために、その画像をさらに処理することが必要
な場合もある。例えば、高さが、(パタン要素のxおよ
びy水平寸法以外の)他の重要な特質である場合、周知
の技術を用いて深度マップを展開するようにパタンの画
像を処理する必要がある。
【0009】必要に応じて画像を処理した後、パタン要
素の水平寸法をそれぞれ縮小および拡大し且つその他の
重要な特質(例えば、強度)の値をそれぞれ拡大および
縮小したパタン画像をそれぞれ含む第1および第2のモ
デルと前記の捉えた画像とを比較する。このような比較
から得た結果を論理的に結合し、この結合の結果を用い
て、パタン要素の寸法およびその他の重要な特質(例え
ば、強度)が許容範囲に入っているかどうかを決定す
る。
素の水平寸法をそれぞれ縮小および拡大し且つその他の
重要な特質(例えば、強度)の値をそれぞれ拡大および
縮小したパタン画像をそれぞれ含む第1および第2のモ
デルと前記の捉えた画像とを比較する。このような比較
から得た結果を論理的に結合し、この結合の結果を用い
て、パタン要素の寸法およびその他の重要な特質(例え
ば、強度)が許容範囲に入っているかどうかを決定す
る。
【0010】
【実施例】図1は、形成金属パタン14を含む基板12
を検査するシステム10の略ブロック図である。(説明
のために、基板12およびその上の金属形成パタン14
の厚さは誇張してある。)システム10は、基板10を
支持するだけでなく、これをx軸およびy軸にそって正
確に移動させる役を果たすx−yテーブルを備えてい
る。x−yテーブルの運動はx−y制御器によって制御
される。
を検査するシステム10の略ブロック図である。(説明
のために、基板12およびその上の金属形成パタン14
の厚さは誇張してある。)システム10は、基板10を
支持するだけでなく、これをx軸およびy軸にそって正
確に移動させる役を果たすx−yテーブルを備えてい
る。x−yテーブルの運動はx−y制御器によって制御
される。
【0011】テレビカメラ20は、基板12およびその
上の金属形成パタン14の画像を捉えるようにx−yテ
ーブルに照準を合わせた顕微鏡21によって光学的に結
合されている。一般に、カメラ20および顕微鏡21の
光学的条件により、パタン14の僅かな部分のみが、カ
メラの視野に入るようになっている。x−yテーブルを
段階的に移動させることにより、パタン14の異なる部
分をカメラ20の視野の中に持ってくることができる。
基板12の表面を照明するために、光源24によって駆
動されるリング・ランプ22を備えている。基板の表面
下を照明するために、ランプをもう1つ(図示せず)備
えても良い。
上の金属形成パタン14の画像を捉えるようにx−yテ
ーブルに照準を合わせた顕微鏡21によって光学的に結
合されている。一般に、カメラ20および顕微鏡21の
光学的条件により、パタン14の僅かな部分のみが、カ
メラの視野に入るようになっている。x−yテーブルを
段階的に移動させることにより、パタン14の異なる部
分をカメラ20の視野の中に持ってくることができる。
基板12の表面を照明するために、光源24によって駆
動されるリング・ランプ22を備えている。基板の表面
下を照明するために、ランプをもう1つ(図示せず)備
えても良い。
【0012】カメラ20の出力信号は、画像システム2
6に供給される前に第1のテレビ・モニタ25に通され
る。実施例では、画像システムは、IRIモデルP25
6またはP512の何れかからなり、何れもカリフォル
ニア州カールズバッドのIRI社から入手可能である。
画像システム26は、カメラ20の画像を処理するほ
か、x−y制御器18に制御信号を供給することによっ
てx−yテーブルの運動を制御する働きをする。モニタ
25と同様の第2のテレビ・モニタ28は、画像システ
ム26によって生成される画像を表示するために、画像
システム26の出力に結合される。画像システム28
は、一般に、端末30を通してプログラムされる。
6に供給される前に第1のテレビ・モニタ25に通され
る。実施例では、画像システムは、IRIモデルP25
6またはP512の何れかからなり、何れもカリフォル
ニア州カールズバッドのIRI社から入手可能である。
画像システム26は、カメラ20の画像を処理するほ
か、x−y制御器18に制御信号を供給することによっ
てx−yテーブルの運動を制御する働きをする。モニタ
25と同様の第2のテレビ・モニタ28は、画像システ
ム26によって生成される画像を表示するために、画像
システム26の出力に結合される。画像システム28
は、一般に、端末30を通してプログラムされる。
【0013】以下においてさらに詳細に説明するよう
に、画像システム26は、基板12上の金属形成パタン
14のパタン要素の水平寸法および他の少なくとも1つ
の特質(例えば、強度、高さ、反射率、テクスチャ、色
合い、彩度、およびこれらの組み合わせ)が許容範囲に
あるかどうかを判断するためにカメラによって捉えられ
た画像を処理し、検査すべき特質を数値化する。パタン
14のパタン要素の高さを除けば、先に掲げたその他の
特質の実際の値は、システム10から直接得ることがで
きる。高さの情報を得るには、米国特許出願第440,
948号(発明者:アイ・アミール(I.Amir) 出願人:
AT&T)に開示されているようなシステムを使用して
もよい。
に、画像システム26は、基板12上の金属形成パタン
14のパタン要素の水平寸法および他の少なくとも1つ
の特質(例えば、強度、高さ、反射率、テクスチャ、色
合い、彩度、およびこれらの組み合わせ)が許容範囲に
あるかどうかを判断するためにカメラによって捉えられ
た画像を処理し、検査すべき特質を数値化する。パタン
14のパタン要素の高さを除けば、先に掲げたその他の
特質の実際の値は、システム10から直接得ることがで
きる。高さの情報を得るには、米国特許出願第440,
948号(発明者:アイ・アミール(I.Amir) 出願人:
AT&T)に開示されているようなシステムを使用して
もよい。
【0014】実施例において、システム10は、パタン
14の水平寸法のほかその強度も監視するように設計さ
れている。図2には、図1のカメラによって捉えた金属
形成パタン14の一部の画像を示す。図2に示した金属
形成パタン14の部分には、図の上部付近に極端に明る
い領域34を有し、図の下部付近に極端に暗い領域35
を有する切れた縞34が含まれる。図2に示したパタン
14には、切れた縞34のほか、切れた縞32の左側に
極端に明るい無関係の金属形成領域36が、切れた縞3
2の右側には極端に暗い無関係の金属形成領域38も含
まれる。極端に明るい領域34および極端に暗い領域3
5は(領域36および38は勿論)、例えば形成金属の
汚染などのために強度が許容範囲を超えているような図
1のパタン部分の中にある領域を表す。図2に示した金
属形成パタン14の部分に欠陥がないとすれば、縞32
は、切れずに一様の強度であり、さらに形成金属の無関
係な領域36および38は存在しないはずである。
14の水平寸法のほかその強度も監視するように設計さ
れている。図2には、図1のカメラによって捉えた金属
形成パタン14の一部の画像を示す。図2に示した金属
形成パタン14の部分には、図の上部付近に極端に明る
い領域34を有し、図の下部付近に極端に暗い領域35
を有する切れた縞34が含まれる。図2に示したパタン
14には、切れた縞34のほか、切れた縞32の左側に
極端に明るい無関係の金属形成領域36が、切れた縞3
2の右側には極端に暗い無関係の金属形成領域38も含
まれる。極端に明るい領域34および極端に暗い領域3
5は(領域36および38は勿論)、例えば形成金属の
汚染などのために強度が許容範囲を超えているような図
1のパタン部分の中にある領域を表す。図2に示した金
属形成パタン14の部分に欠陥がないとすれば、縞32
は、切れずに一様の強度であり、さらに形成金属の無関
係な領域36および38は存在しないはずである。
【0015】図1のカメラの出力信号が供給されると、
図1の画像システムは、図2に示した捉えられた画像を
構成する複数の小さな画素(ピクセル)の各々の相対的
な強度を決定するように働く。図3は、0から255の
スケールに基づいて測定した図2の画像の中にある画素
の強度のマップである。図から分かるように、図2の画
像の内部で形成金属のない領域は、図3において概して
48から51の範囲の強度である。図2において金属形
成された領域(例えば、縞32からなる領域)は、図3
では12から40の範囲の強度であり、これより低い値
は極端に暗い領域を表し、高い値は極端に明るい領域を
表す。
図1の画像システムは、図2に示した捉えられた画像を
構成する複数の小さな画素(ピクセル)の各々の相対的
な強度を決定するように働く。図3は、0から255の
スケールに基づいて測定した図2の画像の中にある画素
の強度のマップである。図から分かるように、図2の画
像の内部で形成金属のない領域は、図3において概して
48から51の範囲の強度である。図2において金属形
成された領域(例えば、縞32からなる領域)は、図3
では12から40の範囲の強度であり、これより低い値
は極端に暗い領域を表し、高い値は極端に明るい領域を
表す。
【0016】本発明によれば、図1の基板12上の金属
形成パタン14の水平寸法の変化および(または)強度
の変化は、規定の許容度を超える場合、まず図4および
5に示したような2つのモデル40および42をそれぞ
れ生成することによって検出することができる。モデル
40は、xおよびy方向の寸法を一般に10%詰めた
(縮小した)許容可能で、かつ好ましくは完全な金属形
成パタン14を表すが、その反射強度は、10%拡張
(拡大)されている。y方向の縮小は図4に図示されて
いないことに注意を要する。逆に、モデル42は、水平
寸法を10%拡張した許容可能で完全な金属形成パタン
14(即ち、切れていない縞32)を表す。その反射強
度は10%減少している。図4および図5のモデル40
および42における線幅と反射強度の10%の変化は、
許容可能な最大の水平寸法の変化および強度をそれぞれ
表す。許される許容度を大きくするには、モデル40お
よび42における水平寸法の変化および強度の値をそれ
なりに調節することが必要となる。尚、xおよびy方向
の水平寸法に対する許容値と強度に対する許容値は同じ
である必要はない。
形成パタン14の水平寸法の変化および(または)強度
の変化は、規定の許容度を超える場合、まず図4および
5に示したような2つのモデル40および42をそれぞ
れ生成することによって検出することができる。モデル
40は、xおよびy方向の寸法を一般に10%詰めた
(縮小した)許容可能で、かつ好ましくは完全な金属形
成パタン14を表すが、その反射強度は、10%拡張
(拡大)されている。y方向の縮小は図4に図示されて
いないことに注意を要する。逆に、モデル42は、水平
寸法を10%拡張した許容可能で完全な金属形成パタン
14(即ち、切れていない縞32)を表す。その反射強
度は10%減少している。図4および図5のモデル40
および42における線幅と反射強度の10%の変化は、
許容可能な最大の水平寸法の変化および強度をそれぞれ
表す。許される許容度を大きくするには、モデル40お
よび42における水平寸法の変化および強度の値をそれ
なりに調節することが必要となる。尚、xおよびy方向
の水平寸法に対する許容値と強度に対する許容値は同じ
である必要はない。
【0017】図6および7は、それぞれ図4および5の
モデル40および42に対応する画素の強度のマップで
ある。図4および5のモデル40および42において暗
く見える領域および明るく見える領域は、図6および7
における小さな強度値および大きな強度値にそれぞれ対
応する。図6および7において実際の金属形成領域(縞
32)に関係付けられた画素の強度の値は、図3におけ
る縞に対する対応する強度の値とは10%だけ異なる。
図4および5のモデル40および42は、図2の金属形
成パタン14を縮小および拡大した許容できるパタンを
それぞれ表すので、何れのモデルにも、無関係な金属形
成領域36および38(図2参照)は存在しない。
モデル40および42に対応する画素の強度のマップで
ある。図4および5のモデル40および42において暗
く見える領域および明るく見える領域は、図6および7
における小さな強度値および大きな強度値にそれぞれ対
応する。図6および7において実際の金属形成領域(縞
32)に関係付けられた画素の強度の値は、図3におけ
る縞に対する対応する強度の値とは10%だけ異なる。
図4および5のモデル40および42は、図2の金属形
成パタン14を縮小および拡大した許容できるパタンを
それぞれ表すので、何れのモデルにも、無関係な金属形
成領域36および38(図2参照)は存在しない。
【0018】検査の初期に、図4および5のモデル40
および42の各々が、図1の機械的な画像システム26
に入力される。モデル40および42は、一般に、許容
可能な(好ましくは、欠陥の無い)金属形成パタン14
を画像化し、結果の画素マップを画像システム26に記
憶することによって、入力される。次に、このマップを
操作して図6および7に示したマップを与える。このマ
ップの値は、水平寸法を効率的にそれぞれ縮小および拡
大し、かつ強度を効率的にそれぞれ拡大および縮小する
ように調節されている。
および42の各々が、図1の機械的な画像システム26
に入力される。モデル40および42は、一般に、許容
可能な(好ましくは、欠陥の無い)金属形成パタン14
を画像化し、結果の画素マップを画像システム26に記
憶することによって、入力される。次に、このマップを
操作して図6および7に示したマップを与える。このマ
ップの値は、水平寸法を効率的にそれぞれ縮小および拡
大し、かつ強度を効率的にそれぞれ拡大および縮小する
ように調節されている。
【0019】図6および7の強度マップ(モデル40お
よび42をそれぞれ表す)が一度設定されると、金属形
成パタン14の少なくとも一部を図1のカメラによって
捉えることにより、基板12の検査が実際に行われる。
その後、捉えられた画像の画素の強度マップ(図3参
照)が確立される。図1のパタン14の画像化された部
分の画素の強度マップが確立された後、そのマップが、
モデル40および42の対応する部分に関係付けられた
画素強度マップ(図6および7参照)の各々とそれぞれ
比較される。
よび42をそれぞれ表す)が一度設定されると、金属形
成パタン14の少なくとも一部を図1のカメラによって
捉えることにより、基板12の検査が実際に行われる。
その後、捉えられた画像の画素の強度マップ(図3参
照)が確立される。図1のパタン14の画像化された部
分の画素の強度マップが確立された後、そのマップが、
モデル40および42の対応する部分に関係付けられた
画素強度マップ(図6および7参照)の各々とそれぞれ
比較される。
【0020】前記の比較は、図3の画素強度マップ(図
2の実際の、即ち「実行時の」画像に相当)と図6のマ
ップ(図4のモデル40に相当)とを(前者から後者を
引くことによって)論理的に結合するとともに、図7の
マップ(図4のモデル42に相当)から図3のマップを
引くことによって前者と後者を論理的に結合することに
より、行われる。次の、これらの別個の演算結果を(加
算することにより)論理的に結合して、図8に表した画
像のものと対応する強度の値の集合を与える。図8に現
れるのは、図2において極端に明るい領域34および極
端に暗い領域35、ならびに図2に示した金属形成パタ
ン14の部分における欠陥をまとめて表す無関係の金属
形成領域36および38だけである。図2のパタン14
の部分に欠陥がない場合、図8に示される画像は、完全
に明るく(完全な空白に)見えるはずである。
2の実際の、即ち「実行時の」画像に相当)と図6のマ
ップ(図4のモデル40に相当)とを(前者から後者を
引くことによって)論理的に結合するとともに、図7の
マップ(図4のモデル42に相当)から図3のマップを
引くことによって前者と後者を論理的に結合することに
より、行われる。次の、これらの別個の演算結果を(加
算することにより)論理的に結合して、図8に表した画
像のものと対応する強度の値の集合を与える。図8に現
れるのは、図2において極端に明るい領域34および極
端に暗い領域35、ならびに図2に示した金属形成パタ
ン14の部分における欠陥をまとめて表す無関係の金属
形成領域36および38だけである。図2のパタン14
の部分に欠陥がない場合、図8に示される画像は、完全
に明るく(完全な空白に)見えるはずである。
【0021】図3の強度マップの図6および7の強度マ
ップとの比較が行われる方法は、金属形成パタン14と
その周囲の背景とのコントラストに依存する。パタンが
暗く背景が明るく見える場合、比較の結果は説明どおり
に結合される。これとは逆に、パタンが明るく背景が暗
く見える場合、図7の強度マップが図3のマップから引
かれ、さらに図3のマップが図6のマップから引かれ
る。
ップとの比較が行われる方法は、金属形成パタン14と
その周囲の背景とのコントラストに依存する。パタンが
暗く背景が明るく見える場合、比較の結果は説明どおり
に結合される。これとは逆に、パタンが明るく背景が暗
く見える場合、図7の強度マップが図3のマップから引
かれ、さらに図3のマップが図6のマップから引かれ
る。
【0022】以上の説明は、本発明の一実施例に関する
もので、この技術分野の当業者であれば、本発明の種々
の変形例が考えられるが、それらはいずれも本発明の技
術的範囲に包含される。
もので、この技術分野の当業者であれば、本発明の種々
の変形例が考えられるが、それらはいずれも本発明の技
術的範囲に包含される。
【0023】尚、特許請求の範囲に記載した参照番号
は、発明の容易なる理解のためで、その技術的範囲を制
限するように解釈されるべきではない。
は、発明の容易なる理解のためで、その技術的範囲を制
限するように解釈されるべきではない。
【0024】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、基
板12上の金属形成パタン14のマスター・コピーを含
んだ1対のモデル40および42の各パタンを、それぞ
れ縮小および拡大された水平寸法並びにそれぞれ拡大お
よび縮小された強度と比較することにより、パタンの水
平寸法および強度の両方を監視することができる。尚、
図1のシステムをパタン要素の水平寸法に加えて重要な
パタン14の特質の1つとして強度を監視するものとし
て説明してきたが、同様の技術を利用して他の特質を監
視することもできる。換言すれば、例えば高さ、反射
率、テクステャ、色合い、彩度、またはこれらの組み合
わせなどの他の特質を監視するには、水平寸法を拡大お
よび縮小し、かつ監視するべき特質の値を適切な許容因
子によって拡大および縮小することによって、モデル4
0および42にそれぞれ類似した2つの別個のモデルを
生成する。次に、パタン14の実際の画像をそれらの2
つのモデルと比較し、その比較の結果を説明どおりに結
合して、欠陥が有れば、その欠陥のみを含む画像を生成
する。
板12上の金属形成パタン14のマスター・コピーを含
んだ1対のモデル40および42の各パタンを、それぞ
れ縮小および拡大された水平寸法並びにそれぞれ拡大お
よび縮小された強度と比較することにより、パタンの水
平寸法および強度の両方を監視することができる。尚、
図1のシステムをパタン要素の水平寸法に加えて重要な
パタン14の特質の1つとして強度を監視するものとし
て説明してきたが、同様の技術を利用して他の特質を監
視することもできる。換言すれば、例えば高さ、反射
率、テクステャ、色合い、彩度、またはこれらの組み合
わせなどの他の特質を監視するには、水平寸法を拡大お
よび縮小し、かつ監視するべき特質の値を適切な許容因
子によって拡大および縮小することによって、モデル4
0および42にそれぞれ類似した2つの別個のモデルを
生成する。次に、パタン14の実際の画像をそれらの2
つのモデルと比較し、その比較の結果を説明どおりに結
合して、欠陥が有れば、その欠陥のみを含む画像を生成
する。
【図1】基板上の金属形成パタンにおけるパタン要素の
水平寸法と他の少なくとも1つの重要な特質を監視する
システムの略ブロック図である。
水平寸法と他の少なくとも1つの重要な特質を監視する
システムの略ブロック図である。
【図2】図1のシステムによって捉えられた反射性の金
属形成パタンの図式的な表現である。
属形成パタンの図式的な表現である。
【図3】図2の画像の強度の値を含むマップである。
【図4】図2の画像とともに比較の目的で使用される第
1のモデルの画像を表す図である。
1のモデルの画像を表す図である。
【図5】図2の画像とともに比較の目的で使用される第
2のモデルの画像を表す図である。
2のモデルの画像を表す図である。
【図6】図4の画像の強度マップを表す図である。
【図7】図5の画像の強度マップを表す図である。
【図8】図3、6および7の強度マップの論理的な結合
の結果得られる典型的な画像を表す図である。
の結果得られる典型的な画像を表す図である。
10 本発明のシステム 16 x−yテーブル 18 X−y制御器 20 テレビカメラ 26 画像システム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 J 7514−4M (72)発明者 デヴィッド ロバート リース アメリカ合衆国 01835 マサチューセッ ツ ブラッドフォード、フェアウッド ド ライヴ 53 (56)参考文献 特開 平1−121709(JP,A) 特開 昭61−139706(JP,A)
Claims (5)
- 【請求項1】 基板12上の反射性のパタン14におけ
るパタン要素の水平寸法およびその他の少なくとも1つ
の重要な特質を監視するために、 (a)パタン14の実際の画像を捉えるステップ、 (b)第1のモデル40における許容可能な最大値まで
拡大した前記の重要な特質の値および許容可能な最小値
まで縮小したパタン要素の水平寸法を有する比較パタン
の画像を表す前記モデルと前記の捉えた画像とを比較す
るステップ、 (c)第2のモデル42における許容可能な最小値まで
縮小した前記の重要な特質の値および許容可能な最大値
まで拡大したパタン要素の水平寸法を有する比較パタン
の画像を表す前記モデルと前記の捉えた画像とを比較す
るステップ、 (d)前記の捉えた画像を前記の第1および第2のモデ
ルの各々と比較することによって得た結果を論理的に結
合するステップ、 (e)前記水平寸法および前記のパタン14の重要な特
質が規定の許容値の中にあるか否かを前記の比較結果に
従って決定するステップを備えたことを特徴とする反射
性のパタンの特質を監視するための検査方法。 - 【請求項2】 前記の重要な特質が前記パタンのパタン
要素の強度であることを特徴とする請求項1記載の検査
方法。 - 【請求項3】 前記第1のモデルの画像から前記の捉え
た画像を引き、さらに前記の捉えた画像から前記第2の
モデルを引くことによって、前記の比較結果を論理的に
結合することを特徴とする請求項1記載の検査方法。 - 【請求項4】 前記第1のモデル40が、 基板上のパタン14におけるパタン要素に対応するパタ
ン要素を有する比較パタンの画像を捉えるステップ、 前記比較パタンを捉えた画像におけるパタン要素の水平
寸法を許容可能な最小値に相当する量だけ縮小するステ
ップ、および前記比較パタンを捉えた画像におけるパタ
ン要素の前記の重要な特質の値を許容可能な最大値に相
当する量だけ拡大するステップによって確立されること
を特徴とする請求項1記載の検査方法。 - 【請求項5】 前記第2のモデル42が、 基板上のパタンにおけるパタン要素に対応するパタン要
素を有する比較パタンの画像を捉えるステップ、 前記比較パタンを捉えた画像におけるパタン要素の水平
寸法を許容可能な最大値に相当する量だけ拡大するステ
ップ、および前記比較パタンを捉えた画像におけるパタ
ン要素の前記の重要な特質の値を許容可能な最小値に相
当する量だけ縮小するステップによって確立されること
を特徴とする請求項1記載の検査方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US70646191A | 1991-05-28 | 1991-05-28 | |
| US706461 | 1991-05-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06249633A JPH06249633A (ja) | 1994-09-09 |
| JPH081373B2 true JPH081373B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=24837674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15424792A Expired - Fee Related JPH081373B2 (ja) | 1991-05-28 | 1992-05-22 | 反射性のパタンの特質を監視するための検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH081373B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6738505B1 (en) * | 1999-05-04 | 2004-05-18 | Speedline Technologies, Inc. | Method and apparatus for detecting solder paste deposits on substrates |
| US6891967B2 (en) * | 1999-05-04 | 2005-05-10 | Speedline Technologies, Inc. | Systems and methods for detecting defects in printed solder paste |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61139706A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-27 | Kawasaki Steel Corp | 自動表面粗さ測定装置 |
| JPH01121707A (ja) * | 1987-11-05 | 1989-05-15 | Hamamatsu Photonics Kk | 三次元形状計測装置 |
-
1992
- 1992-05-22 JP JP15424792A patent/JPH081373B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06249633A (ja) | 1994-09-09 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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