JPH0813828B2 - 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 - Google Patents
新規β−ラクタム化合物及びその製造法Info
- Publication number
- JPH0813828B2 JPH0813828B2 JP62328686A JP32868687A JPH0813828B2 JP H0813828 B2 JPH0813828 B2 JP H0813828B2 JP 62328686 A JP62328686 A JP 62328686A JP 32868687 A JP32868687 A JP 32868687A JP H0813828 B2 JPH0813828 B2 JP H0813828B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- tert
- ether
- lower alkyl
- silyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は３−位に水酸基が保護されたヒドロキシエチ
ル基を有し、４−位にシリルエーテル基を有する新規な
β−ラクタム化合物及びその製造法に関する。
ル基を有し、４−位にシリルエーテル基を有する新規な
β−ラクタム化合物及びその製造法に関する。
本発明による新規なβ−ラクタム化合物は、４−位に
反応性に富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に
変換できる有用な中間体である。たとえば、本化合物の
４−位のシリルエーテル基に置換反応をおこなうことに
よつて、第４世代のβ−ラクタム抗生物質として知られ
ているチエナマイシン等に代表されるカルバペネム系β
−ラクタム抗生物質やペネム系β−ラクタム抗生物質の
合成中間体として有用な３−（１−ヒドロキシエチル）
−４−アセトキシアゼチジン−２−オン誘導体が取得で
きる〔たとえば、レイダー等、テトラヘドロンレター
ズ、23巻、2293頁（1982）、およびヨシダ等、ケミカル
・アンド・フアーマシユテイカル・ブチレン（Chem.Pha
rm.Bull.）、29巻、2899頁（1981）〕。
反応性に富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に
変換できる有用な中間体である。たとえば、本化合物の
４−位のシリルエーテル基に置換反応をおこなうことに
よつて、第４世代のβ−ラクタム抗生物質として知られ
ているチエナマイシン等に代表されるカルバペネム系β
−ラクタム抗生物質やペネム系β−ラクタム抗生物質の
合成中間体として有用な３−（１−ヒドロキシエチル）
−４−アセトキシアゼチジン−２−オン誘導体が取得で
きる〔たとえば、レイダー等、テトラヘドロンレター
ズ、23巻、2293頁（1982）、およびヨシダ等、ケミカル
・アンド・フアーマシユテイカル・ブチレン（Chem.Pha
rm.Bull.）、29巻、2899頁（1981）〕。
（従来の技術と問題点） ４−位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合
物とその製造法は、本発明者らが既に特許出願（特開昭
61−18791）した。本発明者らは、さらに検討を行な
い、４−位にシリルエーテル基を有する新規なβ−ラク
タム化合物とその合成法を見出し、本発明を完成した。
以下に詳細を説明する。
物とその製造法は、本発明者らが既に特許出願（特開昭
61−18791）した。本発明者らは、さらに検討を行な
い、４−位にシリルエーテル基を有する新規なβ−ラク
タム化合物とその合成法を見出し、本発明を完成した。
以下に詳細を説明する。
（問題点を解決するための手段及び作用効果） 本発明は、一般式（Ｉ） （式中、R1は水酸基の保護基、R2，R3，R4はC1〜C6の低
級アルキル基またはアラルキル基、R5は置換フエニル
基、フエニル基、アラルキル基、低級アルキル基を示
す）で表わされる新規β−ラクタム化合物とその製造法
に関する。前記一般式（Ｉ）中の３−位のヒドロキシエ
チル基のＯ−保護基であるR1としては、R1が一般式（I
I） （式中、R6，R7，R8はC1〜C6の低級アルキル基を示す）
で表わされるトリアルキルシリル基、たとえばtert−ブ
チルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、イ
ソプロピルジメチルシリル基、イソブチルジメチルシリ
ル基、ジメチル−（1,2−ジメチルプロピル）シリル
基、ジメチル−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリル
基、tert−ブチル基、ベンジル基、トリクロロエトキシ
カルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基あるいはｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる
が、好ましくは反応中安定であり、さらに酸処理により
選択的に脱保護されうるtert−ブチルジメチルシリル
基、イソプロピルジメチルシリル基、ジメチル−（1,1,
2−トリメチルプロピル）シリル基あるいはジメチル−
（1,2−ジメチルプロピル）シリル基がよい。
級アルキル基またはアラルキル基、R5は置換フエニル
基、フエニル基、アラルキル基、低級アルキル基を示
す）で表わされる新規β−ラクタム化合物とその製造法
に関する。前記一般式（Ｉ）中の３−位のヒドロキシエ
チル基のＯ−保護基であるR1としては、R1が一般式（I
I） （式中、R6，R7，R8はC1〜C6の低級アルキル基を示す）
で表わされるトリアルキルシリル基、たとえばtert−ブ
チルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、イ
ソプロピルジメチルシリル基、イソブチルジメチルシリ
ル基、ジメチル−（1,2−ジメチルプロピル）シリル
基、ジメチル−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリル
基、tert−ブチル基、ベンジル基、トリクロロエトキシ
カルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基あるいはｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる
が、好ましくは反応中安定であり、さらに酸処理により
選択的に脱保護されうるtert−ブチルジメチルシリル
基、イソプロピルジメチルシリル基、ジメチル−（1,1,
2−トリメチルプロピル）シリル基あるいはジメチル−
（1,2−ジメチルプロピル）シリル基がよい。
またβラクタム化合物（Ｉ）のR2，R3，R4は、メチ
ル、エチル、イソブチル、1,1,2トリメチルプロピル等
のC1〜C6の低級アルキル基、またはベンジル基、ｐ−ニ
トロベンジル基等のアラルキル基から同一または異なつ
た基を選択できるが、好ましくはR2＝R3＝R4＝メチルが
最適である。
ル、エチル、イソブチル、1,1,2トリメチルプロピル等
のC1〜C6の低級アルキル基、またはベンジル基、ｐ−ニ
トロベンジル基等のアラルキル基から同一または異なつ
た基を選択できるが、好ましくはR2＝R3＝R4＝メチルが
最適である。
これらの置換基を使用すると、目的とするβ−ラクタ
ム化合物の３−位と４−位の立体配置が望ましいトラン
ス体になり、さらにβ−ラクタム環の３−位における立
体配置が望ましい（Ｒ）体になりやすい。一般式（Ｉ）
で表わされるβ−ラクタムの立体構造については、３個
の不斉炭素が存在し、８種の立体異性体の生成が可能で
あるが、好適には３−（Ｒ）、４−（Ｒ）の立体配置と
Ｏ−保護ヒドロキシエチル基における不斉炭素の配置が
（Ｒ）の化合物が望ましい。
ム化合物の３−位と４−位の立体配置が望ましいトラン
ス体になり、さらにβ−ラクタム環の３−位における立
体配置が望ましい（Ｒ）体になりやすい。一般式（Ｉ）
で表わされるβ−ラクタムの立体構造については、３個
の不斉炭素が存在し、８種の立体異性体の生成が可能で
あるが、好適には３−（Ｒ）、４−（Ｒ）の立体配置と
Ｏ−保護ヒドロキシエチル基における不斉炭素の配置が
（Ｒ）の化合物が望ましい。
次に製造法を説明する。
３−位にＯ−保護ヒドロキシエチル基を有し、４−位
にシリル基を有するβ−ラクタム化合物の合成について
は、本発明者らはエノールシリルエーテルとクロロスル
ホニルイソシアナートとの反応で一挙に目的とするβ−
ラクタム環が形成できることを見い出し既に出願（特開
昭61−18791）したが、本発明者らは、さらに詳細な検
討を行ない、クロロスルホニルイソシアナートのかわり
にｐ−トルエンスルホニルイソシアナート、ベンゼンス
ルホニルイソシアナート、ｐ−クロロベンゼンスルホニ
ルイソシアナート等の置換フエニル、フエニル、アラル
キル、低級アルキルのスルホニルイソシアナートを使用
することにより、クロロスルホニルイソシアナートを使
用した時のような不安定なものではなく安定なβ−ラク
タム化合物が得られる。また反応も温和であり、しかも
高収率で目的とするβ−ラクタム化合物が得られること
を見い出し、本発明を完成するに到つた。
にシリル基を有するβ−ラクタム化合物の合成について
は、本発明者らはエノールシリルエーテルとクロロスル
ホニルイソシアナートとの反応で一挙に目的とするβ−
ラクタム環が形成できることを見い出し既に出願（特開
昭61−18791）したが、本発明者らは、さらに詳細な検
討を行ない、クロロスルホニルイソシアナートのかわり
にｐ−トルエンスルホニルイソシアナート、ベンゼンス
ルホニルイソシアナート、ｐ−クロロベンゼンスルホニ
ルイソシアナート等の置換フエニル、フエニル、アラル
キル、低級アルキルのスルホニルイソシアナートを使用
することにより、クロロスルホニルイソシアナートを使
用した時のような不安定なものではなく安定なβ−ラク
タム化合物が得られる。また反応も温和であり、しかも
高収率で目的とするβ−ラクタム化合物が得られること
を見い出し、本発明を完成するに到つた。
即ち、一般式（III） （式中、R1は水酸基の保護基、R2，R3，R4はC1〜C6の低
級アルキル基、フエニル基またはアラルキル基を示す）
で表わされるエノールシリルエーテル類を、一般式（I
V） R5−SO2−NCO （IV） （式中、R5は置換フエニル基、フエニル基、アラルキル
基、低級アルキル基を示す）で表わされる化合物と反応
させることを特徴とする、一般式（Ｉ） （式中、R1，R2，R3，R4，R5は前記と同じ）で表わされ
るβ−ラクタム化合物の製造法を内容とする。
級アルキル基、フエニル基またはアラルキル基を示す）
で表わされるエノールシリルエーテル類を、一般式（I
V） R5−SO2−NCO （IV） （式中、R5は置換フエニル基、フエニル基、アラルキル
基、低級アルキル基を示す）で表わされる化合物と反応
させることを特徴とする、一般式（Ｉ） （式中、R1，R2，R3，R4，R5は前記と同じ）で表わされ
るβ−ラクタム化合物の製造法を内容とする。
本発明方法を反応式で示すと以下の通りである。
反応式１ 本発明で使用するR5−SO2NCOは、R5が置換フエニル、
フエニル、アラルキル、低級アルキルに該当する市販品
を使用することができる。
フエニル、アラルキル、低級アルキルに該当する市販品
を使用することができる。
本反応における原料のエノールシリルエーテル類とし
ては、例示すると３−tert−ブチルジメチルシリロキシ
ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−tert−
ブチルジメチルシリロキシブテ−１−ニルジメチルイソ
ブチルシリルエーテル、３−tert−ブチルジメチルシリ
ロキシブテ−１−ニル−tert−ブチルジメチルシリルエ
ーテル、３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−１
−ニル−tert−ブチルメチルフエニルシリルエーテル、
３−tert−ブチルジメチルシリロキシ−ブテ−１−ニル
−tert−ブチルジフエニルシリルエーテル、３−ジメチ
ル−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシブテ−
１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ジメチル−
（1,2−ジメチルプロピル）シリロキシブテ−１−ニル
トリメチルシリルエーテル、３−ジメチルイソプロピル
シリロキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、
３−ジメチルイソプロピルシリロキシブテ−１−ニル−
tert−ブチルジメチルシリルエーテル、３−アセトキシ
ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−アセト
キシブテ−１−ニル−tert−ブチルジメチルシリルエー
テル、３−アセトキシブテ−１−ニル−tert−ブチルジ
フエニルシリルエーテル、３−tert−ブトキシ−ブテ−
１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−tert−ブトキ
シブテ−１−ニル−tert−ブチルジメチルシリルエーテ
ル、３−tert−ブトキシブテ−１−ニル−tert−ブチル
ジフエニルシリルエーテル、３−ベンジルオキシカルボ
ニルオキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、
３−ベンジルオキシカルボニルオキシブテ−１−ニル−
tert−ブチルジメチルシリルエーテル、３−ベンジルオ
キシカルボニルオキシブテ−１−ニル−tert−ブチルジ
フエニルエーテル、３−ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテ
ル、３−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシブ
テ−１−ニル−tert−ブチルジメチルシリルエーテル、
３−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシブテ−
１−ニル−tert−ブチルジフエニルシリルエーテル、３
−ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシブテ−１
−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ｏ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシブテ−１−ニル−tert−ブ
チルジメチルシリルエーテル、３−ｏ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシブテ−１−ニル−tert−ブチル
ジフエニルシリルエーテル等が採用できるが、好ましく
は、３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−１−ニ
ルトリメチルシリルエーテル、３−ジメチル−（1,1,2
−トリメチルプロピル）シリロキシブテ−１−ニルトリ
メチルシリルエーテル、３−ジメチル−（1,2−ジメチ
ルプロピル）シリロキシブテ−１−ニルトリメチルシリ
ルエーテル、３−ジメチルイソプロピルシリロキシブテ
−１−ニルトリメチルシリルエーテルが挙げられる。こ
れらの原料は３−ヒドロキシ酪酸エステルから以下の反
応式２に従つて合成できる。
ては、例示すると３−tert−ブチルジメチルシリロキシ
ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−tert−
ブチルジメチルシリロキシブテ−１−ニルジメチルイソ
ブチルシリルエーテル、３−tert−ブチルジメチルシリ
ロキシブテ−１−ニル−tert−ブチルジメチルシリルエ
ーテル、３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−１
−ニル−tert−ブチルメチルフエニルシリルエーテル、
３−tert−ブチルジメチルシリロキシ−ブテ−１−ニル
−tert−ブチルジフエニルシリルエーテル、３−ジメチ
ル−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリロキシブテ−
１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ジメチル−
（1,2−ジメチルプロピル）シリロキシブテ−１−ニル
トリメチルシリルエーテル、３−ジメチルイソプロピル
シリロキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、
３−ジメチルイソプロピルシリロキシブテ−１−ニル−
tert−ブチルジメチルシリルエーテル、３−アセトキシ
ブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−アセト
キシブテ−１−ニル−tert−ブチルジメチルシリルエー
テル、３−アセトキシブテ−１−ニル−tert−ブチルジ
フエニルシリルエーテル、３−tert−ブトキシ−ブテ−
１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−tert−ブトキ
シブテ−１−ニル−tert−ブチルジメチルシリルエーテ
ル、３−tert−ブトキシブテ−１−ニル−tert−ブチル
ジフエニルシリルエーテル、３−ベンジルオキシカルボ
ニルオキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、
３−ベンジルオキシカルボニルオキシブテ−１−ニル−
tert−ブチルジメチルシリルエーテル、３−ベンジルオ
キシカルボニルオキシブテ−１−ニル−tert−ブチルジ
フエニルエーテル、３−ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテ
ル、３−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシブ
テ−１−ニル−tert−ブチルジメチルシリルエーテル、
３−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシブテ−
１−ニル−tert−ブチルジフエニルシリルエーテル、３
−ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシブテ−１
−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ｏ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシブテ−１−ニル−tert−ブ
チルジメチルシリルエーテル、３−ｏ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシブテ−１−ニル−tert−ブチル
ジフエニルシリルエーテル等が採用できるが、好ましく
は、３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−１−ニ
ルトリメチルシリルエーテル、３−ジメチル−（1,1,2
−トリメチルプロピル）シリロキシブテ−１−ニルトリ
メチルシリルエーテル、３−ジメチル−（1,2−ジメチ
ルプロピル）シリロキシブテ−１−ニルトリメチルシリ
ルエーテル、３−ジメチルイソプロピルシリロキシブテ
−１−ニルトリメチルシリルエーテルが挙げられる。こ
れらの原料は３−ヒドロキシ酪酸エステルから以下の反
応式２に従つて合成できる。
反応式２ 本発明化合物のβ−ラクタム化合物（Ｉ）において、
３−位側鎖のＯ−保護ヒドロキシエチル基の立体配置は
（Ｒ）−配置が好ましく、そのためには光学活性の３
（Ｒ）−ヒドロキシ−酪酸エステルを用いて取得される
光学活性のエノールシリルエーテル化合物を用いて、反
応式１で示されるβ−ラクタム形成反応をおこなえばよ
い。
３−位側鎖のＯ−保護ヒドロキシエチル基の立体配置は
（Ｒ）−配置が好ましく、そのためには光学活性の３
（Ｒ）−ヒドロキシ−酪酸エステルを用いて取得される
光学活性のエノールシリルエーテル化合物を用いて、反
応式１で示されるβ−ラクタム形成反応をおこなえばよ
い。
エノールシリルエーテル類とイソシアナートの反応に
よるβ−ラクタム環形成反応では、シリルエーテル基の
種類によつて、生成するβ−ラクタムの立体配置が異な
り、チエナマイシンに代表されるカルバペネム系β−ラ
クタム抗生物質の合成における望ましい３（Ｒ）、４
（Ｒ）配置のβ−ラクタム化合物（Ｉ）を得るには、シ
リルエーテル基がトリメチルシリル基、tert−ブチルジ
メチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、ジメ
チル−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリル基等が適
している。また、エノールシリルエーテル類の水酸基の
保護基であるR1については、上記の立体化学を考慮した
点とイソシアネートとの反応性の良さからtert−ブチル
ジメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、ジ
メチル−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリル基、ジ
メチル−（1,2−ジメチルプロピル）シリル基が好適で
ある。
よるβ−ラクタム環形成反応では、シリルエーテル基の
種類によつて、生成するβ−ラクタムの立体配置が異な
り、チエナマイシンに代表されるカルバペネム系β−ラ
クタム抗生物質の合成における望ましい３（Ｒ）、４
（Ｒ）配置のβ−ラクタム化合物（Ｉ）を得るには、シ
リルエーテル基がトリメチルシリル基、tert−ブチルジ
メチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、ジメ
チル−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリル基等が適
している。また、エノールシリルエーテル類の水酸基の
保護基であるR1については、上記の立体化学を考慮した
点とイソシアネートとの反応性の良さからtert−ブチル
ジメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、ジ
メチル−（1,1,2−トリメチルプロピル）シリル基、ジ
メチル−（1,2−ジメチルプロピル）シリル基が好適で
ある。
エノールシリルエーテルとイソシアナートの反応は、
無溶媒下または塩化メチレン、クロロホルム、トルエ
ン、クメンｎ−ヘキサン、エチルエーテル等のイソシア
ナートおよびエノールシリルエーテルに対して不活性で
ある有機溶媒を使用して実施することができる。この際
の反応温度は−40℃から使用溶媒の沸点付近の範囲で選
択することができるが、好ましくは−20℃〜＋50℃の温
度範囲でエノールシリルエーテル液にイソシアナートを
滴下することにより達成できる。エノールシリルエーテ
ルとイソシアナートのモル比は1:1の当モル付近で行な
えばよい。反応終了後、反応液を減圧下濃縮し、そのま
ま再結晶化を行なうか、あるいは反応液に水を加え、酢
酸エチル、ｎ−ヘキサン等の有機溶媒で目的のβ−ラク
タム化合物を抽出し、硫酸マグネシウム等の脱水剤で乾
燥後、減圧下溶媒を留去して、３−位にＯ−保護ヒドロ
キシエチル基を有し、４−位にシリルエーテル基を有す
るβ−ラクタム化合物を取得することができる。
無溶媒下または塩化メチレン、クロロホルム、トルエ
ン、クメンｎ−ヘキサン、エチルエーテル等のイソシア
ナートおよびエノールシリルエーテルに対して不活性で
ある有機溶媒を使用して実施することができる。この際
の反応温度は−40℃から使用溶媒の沸点付近の範囲で選
択することができるが、好ましくは−20℃〜＋50℃の温
度範囲でエノールシリルエーテル液にイソシアナートを
滴下することにより達成できる。エノールシリルエーテ
ルとイソシアナートのモル比は1:1の当モル付近で行な
えばよい。反応終了後、反応液を減圧下濃縮し、そのま
ま再結晶化を行なうか、あるいは反応液に水を加え、酢
酸エチル、ｎ−ヘキサン等の有機溶媒で目的のβ−ラク
タム化合物を抽出し、硫酸マグネシウム等の脱水剤で乾
燥後、減圧下溶媒を留去して、３−位にＯ−保護ヒドロ
キシエチル基を有し、４−位にシリルエーテル基を有す
るβ−ラクタム化合物を取得することができる。
（実施例） 次に実施例をあげて本発明を更に詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例のみで限定されるものではな
く。
本発明はこれらの実施例のみで限定されるものではな
く。
実施例１ （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスルホニル−
４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成 （3R）−３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−
１−ニル−トリメチルシリルエーテル3.06gに、N2気流
下、室温でトシルイソシアナート1.60mlを加えた。室温
で10時間撹拌すると、反応液は淡黄色の固体となつた。
約3mlのヘキサンを加えて大部分の固体を溶解した後、
約10℃で結晶化を行う。結晶析出後、溶液を除くことに
より、（3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスルホニ
ル−４−トリメチルシロキシアゼチジン−２−オン 2.
0gを無色結晶として得た。物性値は以下の通りであつ
た。
ルシリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスルホニル−
４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成 （3R）−３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−
１−ニル−トリメチルシリルエーテル3.06gに、N2気流
下、室温でトシルイソシアナート1.60mlを加えた。室温
で10時間撹拌すると、反応液は淡黄色の固体となつた。
約3mlのヘキサンを加えて大部分の固体を溶解した後、
約10℃で結晶化を行う。結晶析出後、溶液を除くことに
より、（3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジ
メチルシリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスルホニ
ル−４−トリメチルシロキシアゼチジン−２−オン 2.
0gを無色結晶として得た。物性値は以下の通りであつ
た。
▲〔α〕20 D▼＝−6.6°（ｃ＝0.16、トルエン）1 H−NMR（90MHz、CDCl3） δ（ppm）:0.01（3H,s）、
0.08（3H,s）、0.27（9H,s）、0.87（9H,s）、1.24（3
H,d）、2.46（3H,s）、2.95（1H,m）、4.20（1H,m）、
5.88（1H,d）、7.36（2H,d）、7.91（2H,d） 実施例２ （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスルホニル−
４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成 （3R）−３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−
１−ニル−トリメチルシリルエーテル3.64gにN2気流
下、室温でトシルイソシアナート1.97mlを加えた。０℃
で10時間撹拌すると、反応液は淡黄色の固体となつた。
ｎ−ヘキサン50mlを加えて溶解し、水50mlで２回洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。過後、減圧濃
縮により淡黄色の油状物5.5gを得た。このものをNMRで
分析すると、（3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブ
チルジメチルシリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンス
ルホニル−４−トリメチルシロキシアゼチジン−２−オ
ンが主生成物であつた。
0.08（3H,s）、0.27（9H,s）、0.87（9H,s）、1.24（3
H,d）、2.46（3H,s）、2.95（1H,m）、4.20（1H,m）、
5.88（1H,d）、7.36（2H,d）、7.91（2H,d） 実施例２ （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスルホニル−
４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成 （3R）−３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−
１−ニル−トリメチルシリルエーテル3.64gにN2気流
下、室温でトシルイソシアナート1.97mlを加えた。０℃
で10時間撹拌すると、反応液は淡黄色の固体となつた。
ｎ−ヘキサン50mlを加えて溶解し、水50mlで２回洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。過後、減圧濃
縮により淡黄色の油状物5.5gを得た。このものをNMRで
分析すると、（3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブ
チルジメチルシリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンス
ルホニル−４−トリメチルシロキシアゼチジン−２−オ
ンが主生成物であつた。
実施例３ （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−１−ジメチル−（1,1,2−
トリメチルプロピル）シリロキシエチル〕−１−ｐ−ト
ルエンスルホニル−４−トリメチルシリロキシアゼチジ
ン−２−オンの合成 （3R）−３−ジメチル−（1,1,2−トリメチルプロピ
ル）シリロキシブテ−１−ニル−トリメチルシリルエー
テル1.0g（トランス体とシス体の比が12:1の混合物）を
クロロホルム5mlに加え、N2気流下室温でトシルイソシ
アナート0.65gを10分かけて添加した。室温で８時間反
応後、水10mlとヘキサン20mlで抽出後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧濃縮により溶媒を留去して、目的の
β−ラクタムを主として含有する粗生成物1.3gを得た。
トリメチルプロピル）シリロキシエチル〕−１−ｐ−ト
ルエンスルホニル−４−トリメチルシリロキシアゼチジ
ン−２−オンの合成 （3R）−３−ジメチル−（1,1,2−トリメチルプロピ
ル）シリロキシブテ−１−ニル−トリメチルシリルエー
テル1.0g（トランス体とシス体の比が12:1の混合物）を
クロロホルム5mlに加え、N2気流下室温でトシルイソシ
アナート0.65gを10分かけて添加した。室温で８時間反
応後、水10mlとヘキサン20mlで抽出後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧濃縮により溶媒を留去して、目的の
β−ラクタムを主として含有する粗生成物1.3gを得た。
（3R,4R,5R）体の1H−NMR（90MHz、CDCl3） δ（pp
m）は以下の通りであつた。
m）は以下の通りであつた。
0.02（6H,s）、0.08（9H,s）、0.72（6H,s）、0.75（6
H,d）、1.12（3H,d）、1.48（1H,m）、2.46（3H,s）、
2.85（1H,dd）、4.09（1H,m）、5.30（1H,d）、7.36（2
H,d）、7.91（2H,d） 実施例４ （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−ジメチル−（1,2ジメチル
プロピル）シリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスル
ホニル−４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オ
ンの合成 （3R）−３−ジメチル−（1,2ジメチルプロピル）シ
リロキシブテ−１−ニル−トリメチルシリルエーテル1.
0g（トランス体とシス体の比が12:1の混合物）をクロロ
ホルム5mlに加え、N2気流下室温でトシルイソシアナー
ト0.68gを10分かけて添加した。30℃で10時間反応後、
水10mlとヘキサン20mlで抽出後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧濃縮により溶媒を留去して、目的のβ−ラ
クタムを主として含有する粗生成物1.4gを得た。
H,d）、1.12（3H,d）、1.48（1H,m）、2.46（3H,s）、
2.85（1H,dd）、4.09（1H,m）、5.30（1H,d）、7.36（2
H,d）、7.91（2H,d） 実施例４ （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−ジメチル−（1,2ジメチル
プロピル）シリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスル
ホニル−４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オ
ンの合成 （3R）−３−ジメチル−（1,2ジメチルプロピル）シ
リロキシブテ−１−ニル−トリメチルシリルエーテル1.
0g（トランス体とシス体の比が12:1の混合物）をクロロ
ホルム5mlに加え、N2気流下室温でトシルイソシアナー
ト0.68gを10分かけて添加した。30℃で10時間反応後、
水10mlとヘキサン20mlで抽出後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧濃縮により溶媒を留去して、目的のβ−ラ
クタムを主として含有する粗生成物1.4gを得た。
（3R,4R,5R）体の1H−NMR（90MHz、CDCl3） δ（pp
m）は以下の通りであつた。
m）は以下の通りであつた。
0.01（6H,s）、0.30（9H,s）、0.85（10H,m）、1.24（3
H,d）、1.80（1H,m）、2.45（3H,s）、2.95（1H,m）、
4.20（1H,m）、5.87（1H,d）、7.37（2H,d）、7.92（2
H,d） 実施例５ （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−ジメチル−（イソプロピ
ル）シリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスルホニル
−４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合
成 （3R）−３−ジメチル−（イソプロピル）シリロキシ
ブテ−１−ニル−トリメチルシリルエーテル1.0g（トラ
ンス体とシス体の比が12:1の混合物）をクロロホルム5m
lに加え、N2気流下室温でトシルイソシアナート0.76gを
10分かけて添加した。室温で10時間反応後、水10mlとヘ
キサン20mlで抽出後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧濃縮により溶媒を留去して、目的のβ−ラクタムを主
として含有する粗生成物1.4gを得た。
H,d）、1.80（1H,m）、2.45（3H,s）、2.95（1H,m）、
4.20（1H,m）、5.87（1H,d）、7.37（2H,d）、7.92（2
H,d） 実施例５ （3R,4R）−３−〔（Ｒ）−ジメチル−（イソプロピ
ル）シリロキシエチル〕−１−ｐ−トルエンスルホニル
−４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合
成 （3R）−３−ジメチル−（イソプロピル）シリロキシ
ブテ−１−ニル−トリメチルシリルエーテル1.0g（トラ
ンス体とシス体の比が12:1の混合物）をクロロホルム5m
lに加え、N2気流下室温でトシルイソシアナート0.76gを
10分かけて添加した。室温で10時間反応後、水10mlとヘ
キサン20mlで抽出後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧濃縮により溶媒を留去して、目的のβ−ラクタムを主
として含有する粗生成物1.4gを得た。
（3R,4R,5R）体の1H−NMR（90MHz、CDCl3） δ（pp
m）は以下の通りであつた。
m）は以下の通りであつた。
0.07（6H,s）、0.92（7H）、1.22（3H,d）、2.46（3H,
s）、2.84（1H,dd）、4.06（1H,m）、5.21（1H,d）、7.
35（2H,d）、7.92（2H,d） 実施例６ １−ベンゼンスルホニル−３−〔（Ｒ）−１−tert−
ブチルジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチルシ
リロキシアゼチジン−２−オンの合成 （3R）−３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−
１−ニル−トリメチルシリルエーテル1.06gをクロロホ
ルム4mlに溶解し、N2雰囲気下で、氷冷下、ベンゼンス
ルホニルイソシアナート0.57mlを滴下した。室温で24時
間撹拌後、溶媒を留去すると、（3R,4R）−１−ベンゼ
ンスルホニル−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリロキシエチル〕−４−トリメチルシリロキシアゼ
チジン−２−オンと（3S,4S）−１−ベンゼンスルホニ
ル−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリロキ
シエチル〕−４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２
−オンを5.5:1で含む混合物1.92gを得た。1 H−NMR（90MHz、CDCl3） δ（ppm）：（3R,4R）体:0.
01（3H,s）、0.08（3H,s）、0.27（9H,s）、0.86（9H,
s）、1.21（3H,d）、2.9（1H,m）、4.2（1H,m）、5.90
（1H,d）、7.5〜8.1（5H,m） （3S,4S）体:0.01（3H,s）、0.08（3H,s）、0.27（9
H,s）、0.86（9H,s）、1.21（3H,d）、2.9（1H,m）、4.
2（1H,m）、5.69（1H,d）、7.5〜8.1（5H,m） 実施例７ ３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリロキシ
エチル〕−１−（４−クロロベンゼンスルホニル）−４
−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成 （3R）−３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−
１−ニル−トリメチルシリルエーテル0.93gをクロロホ
ルム4mlに溶解し、N2雰囲気下で、４−クロロベンゼン
スルホニルイソシアナート0.5mlを加えた。室温で24時
間反応させ、溶媒を減圧下で留去すると、３−〔（Ｒ）
−tert−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−１−（４
−クロロベンゼンスルホニル）−４−トリメチルシリロ
キシアゼチジン−２−オンを主として含有する粗生成物
1.72gが得られ、（3R,4R）：（3S,4S）＝5:1であつた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3） δ（ppm）：（3R,4R）体:0.
01（3H,s）、0.08（3H,s）、0.27（9H,s）、0.87（9H,
s）、1.23（3H,d）、2.9（1H,m）、4.2（1H,m）、5.94
（1H,d）、7.52（2H,d）、7.95（2H,d） （3S,4S）体:
0.01（3H,s）、0.08（3H,s）、0.27（9H,s）、0.87（9
H,s）、1.23（3H,d）、2.9（1H,m）、4.2（1H,m）、5.7
0（1H,d）、7.52（2H,d）、7.92（2H,d）
s）、2.84（1H,dd）、4.06（1H,m）、5.21（1H,d）、7.
35（2H,d）、7.92（2H,d） 実施例６ １−ベンゼンスルホニル−３−〔（Ｒ）−１−tert−
ブチルジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチルシ
リロキシアゼチジン−２−オンの合成 （3R）−３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−
１−ニル−トリメチルシリルエーテル1.06gをクロロホ
ルム4mlに溶解し、N2雰囲気下で、氷冷下、ベンゼンス
ルホニルイソシアナート0.57mlを滴下した。室温で24時
間撹拌後、溶媒を留去すると、（3R,4R）−１−ベンゼ
ンスルホニル−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチ
ルシリロキシエチル〕−４−トリメチルシリロキシアゼ
チジン−２−オンと（3S,4S）−１−ベンゼンスルホニ
ル−３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリロキ
シエチル〕−４−トリメチルシリロキシアゼチジン−２
−オンを5.5:1で含む混合物1.92gを得た。1 H−NMR（90MHz、CDCl3） δ（ppm）：（3R,4R）体:0.
01（3H,s）、0.08（3H,s）、0.27（9H,s）、0.86（9H,
s）、1.21（3H,d）、2.9（1H,m）、4.2（1H,m）、5.90
（1H,d）、7.5〜8.1（5H,m） （3S,4S）体:0.01（3H,s）、0.08（3H,s）、0.27（9
H,s）、0.86（9H,s）、1.21（3H,d）、2.9（1H,m）、4.
2（1H,m）、5.69（1H,d）、7.5〜8.1（5H,m） 実施例７ ３−〔（Ｒ）−１−tert−ブチルジメチルシリロキシ
エチル〕−１−（４−クロロベンゼンスルホニル）−４
−トリメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成 （3R）−３−tert−ブチルジメチルシリロキシブテ−
１−ニル−トリメチルシリルエーテル0.93gをクロロホ
ルム4mlに溶解し、N2雰囲気下で、４−クロロベンゼン
スルホニルイソシアナート0.5mlを加えた。室温で24時
間反応させ、溶媒を減圧下で留去すると、３−〔（Ｒ）
−tert−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−１−（４
−クロロベンゼンスルホニル）−４−トリメチルシリロ
キシアゼチジン−２−オンを主として含有する粗生成物
1.72gが得られ、（3R,4R）：（3S,4S）＝5:1であつた。1 H−NMR（90MHz、CDCl3） δ（ppm）：（3R,4R）体:0.
01（3H,s）、0.08（3H,s）、0.27（9H,s）、0.87（9H,
s）、1.23（3H,d）、2.9（1H,m）、4.2（1H,m）、5.94
（1H,d）、7.52（2H,d）、7.95（2H,d） （3S,4S）体:
0.01（3H,s）、0.08（3H,s）、0.27（9H,s）、0.87（9
H,s）、1.23（3H,d）、2.9（1H,m）、4.2（1H,m）、5.7
0（1H,d）、7.52（2H,d）、7.92（2H,d）
Claims (19)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） （式中、R1は水酸基の保護基、R2，R3，R4はC1〜C6の低
級アルキル基、フエニル基またはアラルキル基、R5は置
換フエニル基、低級アルキル基、アラルキル基、フエニ
ル基を示す） で表わされるβ−ラクタム化合物。 - 【請求項２】R1が一般式（II） （式中、R6，R7，R8はC1〜C6の低級アルキル基を示す）
で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - 【請求項３】R1がｔ−ブチルジメチルシリル基である特
許請求の範囲第２項記載の化合物。 - 【請求項４】R1がイソプロピルジメチルシリル基である
特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - 【請求項５】R1がジメチル−（1,1,2−トリメチルプロ
ピル）シリル基である特許請求の範囲第１項記載の化合
物。 - 【請求項６】R1がジメチル−（1,2−ジメチルプロピ
ル）シリル基である特許請求の範囲第１項記載の化合
物。 - 【請求項７】R2，R3，R4がメチル基である特許請求の範
囲第１項記載の化合物。 - 【請求項８】R5がトリル基である特許請求の範囲第１項
記載の化合物。 - 【請求項９】R5がフエニル基である特許請求の範囲第１
項記載の化合物。 - 【請求項１０】R5がクロロフエニル基である特許請求の
範囲第１項記載の化合物。 - 【請求項１１】一般式（III） （式中、R1は水酸基の保護基、R2，R3，R4はC1〜C6の低
級アルキル基、フエニル基またはアラルキル基を示す） で表わされるエノールシリルエーテル類を一般式（IV） R5−SO2−NCO （IV） （R5は置換フエニル基、フエニル基、アラルキル基、低
級アルキル基を示す） で表わされる化合物と反応させることを特徴とする、一
般式（Ｉ） （式中、R1は水酸基の保護基、R2，R3，R4はC1〜C6の低
級アルキル基、フエニル基またはアラルキル基、R5は置
換フエニル基、フエニル基、アラルキル基、低級アルキ
ル基を示す） で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法。 - 【請求項１２】R1が一般式（II） （式中、R6，R7，R8はC1〜C6の低級アルキル基を示す）
で表わされる特許請求の範囲第11項記載の製造法。 - 【請求項１３】R1がイソプロピルジメチルシリル基であ
る特許請求の範囲第11項記載の製造法。 - 【請求項１４】R1がジメチル−（1,1,2−トリメチルプ
ロピル）シリル基である特許請求の範囲第11項記載の製
造法。 - 【請求項１５】R1がジメチル−（1,2−ジメチルプロピ
ル）シリル基である特許請求の範囲第11項記載の製造
法。 - 【請求項１６】R2，R3，R4がメチル基である特許請求の
範囲第11項記載の製造法。 - 【請求項１７】R5がトリル基である特許請求の範囲第11
項記載の製造法。 - 【請求項１８】R5がフエニル基である特許請求の範囲第
11項記載の製造法。 - 【請求項１９】R5がクロロフエニル基である特許請求の
範囲第11項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62328686A JPH0813828B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62328686A JPH0813828B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01172393A JPH01172393A (ja) | 1989-07-07 |
| JPH0813828B2 true JPH0813828B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=18213032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62328686A Expired - Fee Related JPH0813828B2 (ja) | 1987-12-25 | 1987-12-25 | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0813828B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008108145A1 (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Kaneka Corporation | β－ラクタム化合物の製造方法 |
-
1987
- 1987-12-25 JP JP62328686A patent/JPH0813828B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01172393A (ja) | 1989-07-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2640986B2 (ja) | （１′ｒ，３ｓ）―３―（１′―ヒドロキシエチル）―アゼチジン―２―オン又はその誘導体の製造法 | |
| EP0167154B1 (en) | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetizin-2-one derivatives | |
| FR2483924A1 (fr) | Derives d'acide peneme-3-carboxylique, leurs procedes de preparation et leur application en therapeutique | |
| US4772683A (en) | High percentage beta-yield synthesis of carbapenem intermediates | |
| JPH0813828B2 (ja) | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 | |
| JPH066570B2 (ja) | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 | |
| EP0589886A1 (en) | Antibacterial condensed carbapenemes | |
| US4837349A (en) | Tertiary-butyldimethylsilyl carbamate derivative and process for producing the same | |
| KR910005230B1 (ko) | 아제티디논의 제조방법 | |
| US4895939A (en) | High percentage β-yield synthesis of carbapenem intermediates | |
| JP2652047B2 (ja) | ４−ベンゾイルオキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造方法 | |
| EP0204440B1 (en) | Azetidine derivatives production | |
| US4861877A (en) | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivatives | |
| KR100201564B1 (ko) | 아제티디논 화합물 및 그 제조방법 | |
| JPH0479333B2 (ja) | ||
| JP2604794B2 (ja) | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンの製造法 | |
| KR910003612B1 (ko) | 4-아세톡시-3-히드록시에틸아제티딘-2-온 유도체의 제조방법 | |
| EP0280962A1 (en) | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivatives | |
| JP3655939B2 (ja) | １３−アルキルミルベマイシン中間体の新規製造法 | |
| JP3059475B2 (ja) | ２―アゼチジノン誘導体の製造方法 | |
| JPH0343278B2 (ja) | ||
| JPH05239020A (ja) | ３−［（ｒ）−１−（置換オキシカルボニルオキシ）エチル−４−置換−２−アゼチジノンの製造法 | |
| JPS62153289A (ja) | ２，６−エポキシ−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−ナフタレノ〔１，２−ｂ〕オキソシン−９，１２−ジオン誘導体 | |
| JP2000086639A (ja) | サイトキサゾンの合成方法 | |
| BE889151A (fr) | Derives d'acides peneme-3-carboxylique, leurs procedes de preparation et leur application en therapeutique |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |