JPH08138906A - 正特性サーミスタ装置、熱検出装置及び正特性サーミスタ装置の製造方法 - Google Patents
正特性サーミスタ装置、熱検出装置及び正特性サーミスタ装置の製造方法Info
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- JPH08138906A JPH08138906A JP27960094A JP27960094A JPH08138906A JP H08138906 A JPH08138906 A JP H08138906A JP 27960094 A JP27960094 A JP 27960094A JP 27960094 A JP27960094 A JP 27960094A JP H08138906 A JPH08138906 A JP H08138906A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 22
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 5
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 claims description 5
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 5
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 3
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003578 releasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Details Of Resistors (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】従来は到底実現することのできなかった例えば
20mΩ以下という極めて低い常温抵抗値を持つ正特性
サーミスタ装置を得る。 【構成】正特性サーミスタ素体11は厚みが0.4mm
以下の平坦な板材であり、両面に電極12、13が設け
られている。支持基板2は平坦面21上に外部に連なる
凹部22が設けられ、正特性サーミスタ素子1の電極1
2が平坦面21上に面接合されている。製造に当たり、
正特性サーミスタ素体11の一面側を、支持基板2に面
接合させた後、正特性サーミスタ素体11の他面を研磨
し、その後に正特性サーミスタ素体11の研磨された面
に他の電極12を形成する。
20mΩ以下という極めて低い常温抵抗値を持つ正特性
サーミスタ装置を得る。 【構成】正特性サーミスタ素体11は厚みが0.4mm
以下の平坦な板材であり、両面に電極12、13が設け
られている。支持基板2は平坦面21上に外部に連なる
凹部22が設けられ、正特性サーミスタ素子1の電極1
2が平坦面21上に面接合されている。製造に当たり、
正特性サーミスタ素体11の一面側を、支持基板2に面
接合させた後、正特性サーミスタ素体11の他面を研磨
し、その後に正特性サーミスタ素体11の研磨された面
に他の電極12を形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、正特性サーミスタ装
置、熱検出装置及び正特性サーミスタ装置の製造方法に
関する。
置、熱検出装置及び正特性サーミスタ装置の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】例えばガス燃焼器の着火を検知し、また
は過熱を検知する熱検出装置として、熱電対の発生する
15〜20mvのような微小な熱起電力を利用すると共
に、負特性サーミスタ装置からなる感熱素子を用いる技
術は知られている。負特性サーミスタ装置は、温度が高
くなると抵抗値が低下し、回路電流を増大させる方向で
あるから、これを用いた熱検出装置において、熱検出信
号を生成するには、回路電流があるレベルに到達したこ
とを検知し、次にスイッチを駆動するような外部回路を
付加することが必須である。このため、熱検出装置の構
成が複雑化する。
は過熱を検知する熱検出装置として、熱電対の発生する
15〜20mvのような微小な熱起電力を利用すると共
に、負特性サーミスタ装置からなる感熱素子を用いる技
術は知られている。負特性サーミスタ装置は、温度が高
くなると抵抗値が低下し、回路電流を増大させる方向で
あるから、これを用いた熱検出装置において、熱検出信
号を生成するには、回路電流があるレベルに到達したこ
とを検知し、次にスイッチを駆動するような外部回路を
付加することが必須である。このため、熱検出装置の構
成が複雑化する。
【0003】感熱素子の別の例として、正特性サーミス
タ装置がよく知られている。正特性サーミスタ装置は、
温度が高くなると、抵抗値が急激に増大するスイッチ特
性を有する。従って、熱電対と正特性サーミスタ装置と
を組み合せ、正特性サーミスタ装置を感熱素子として用
いると共に、熱電対の熱起電力を正特性サーミスタ装置
の動作電源として用いることにより、正特性サーミスタ
装置の有するスイッチ特性を利用することにより、レベ
ル検知回路や、スイッチ回路を必要としない簡単な回路
構成の熱検出装置を実現できる可能性がある。しかしな
がら、このような用途で用いられる正特性サーミスタ装
置は、熱電対の熱起電力が15〜20mvのような微小
な値であるため、数十mΩ以下という極めて低い常温抵
抗値を持たなければならない。正特性サーミスタ装置の
常温抵抗値Rは、固有抵抗値ρ、厚みt及び平面積Sに
よって定まることが知られている。例えば、よく用いら
れる円板状の正特性サーミスタ装置を想定した場合、正
特性サーミスタ装置の直径をDとすると、 t=0.0785D2 R/ρ となる。この円板状正特性サーミスタ装置において、D
=20mm、ρ=10Ωーcmとした場合、20mΩの常
温抵抗値を得るには、正特性サーミスタ素体の厚みt
は、上記式から0.063mmとなる。このような厚み
tを持つ正特性サーミスタ装置は、取扱いまたは加工の
ために、手または器具に触れるだけで破損してしまうよ
うな水準であり、実際に得ることが極めて困難である。
このため、正特性サーミスタ装置を熱電対と組み合わせ
た熱検出装置を実現することができなかった。
タ装置がよく知られている。正特性サーミスタ装置は、
温度が高くなると、抵抗値が急激に増大するスイッチ特
性を有する。従って、熱電対と正特性サーミスタ装置と
を組み合せ、正特性サーミスタ装置を感熱素子として用
いると共に、熱電対の熱起電力を正特性サーミスタ装置
の動作電源として用いることにより、正特性サーミスタ
装置の有するスイッチ特性を利用することにより、レベ
ル検知回路や、スイッチ回路を必要としない簡単な回路
構成の熱検出装置を実現できる可能性がある。しかしな
がら、このような用途で用いられる正特性サーミスタ装
置は、熱電対の熱起電力が15〜20mvのような微小
な値であるため、数十mΩ以下という極めて低い常温抵
抗値を持たなければならない。正特性サーミスタ装置の
常温抵抗値Rは、固有抵抗値ρ、厚みt及び平面積Sに
よって定まることが知られている。例えば、よく用いら
れる円板状の正特性サーミスタ装置を想定した場合、正
特性サーミスタ装置の直径をDとすると、 t=0.0785D2 R/ρ となる。この円板状正特性サーミスタ装置において、D
=20mm、ρ=10Ωーcmとした場合、20mΩの常
温抵抗値を得るには、正特性サーミスタ素体の厚みt
は、上記式から0.063mmとなる。このような厚み
tを持つ正特性サーミスタ装置は、取扱いまたは加工の
ために、手または器具に触れるだけで破損してしまうよ
うな水準であり、実際に得ることが極めて困難である。
このため、正特性サーミスタ装置を熱電対と組み合わせ
た熱検出装置を実現することができなかった。
【0004】薄型の正特性サーミスタ装置を得る技術と
して実公平1ー21524号公報に開示された技術が知
られている。しかし、この先行技術文献に記載された正
特性サーミスタ装置は、リード線取付けが可能で、か
つ、加工条件に耐え得る程度の厚みを有することが前提
であり、達成できる厚みは1〜0.4mmである。従っ
て、上記式から算出される最小常温抵抗値は127.4
mΩであった。
して実公平1ー21524号公報に開示された技術が知
られている。しかし、この先行技術文献に記載された正
特性サーミスタ装置は、リード線取付けが可能で、か
つ、加工条件に耐え得る程度の厚みを有することが前提
であり、達成できる厚みは1〜0.4mmである。従っ
て、上記式から算出される最小常温抵抗値は127.4
mΩであった。
【0005】更に、実公平1ー21524号公報は、電
流制限用の正特性サーミスタ装置を開示しているが、感
熱素子として適した正特性サーミスタ装置を開示してい
ない。特に、正特性サーミスタ素子を接着する補強層及
び接着剤については、感熱素子として使用する場合に考
慮しなければならない熱伝導効率について、充分な考慮
がなされておらず、感熱素子に適した構造を開示するも
のではなかった。
流制限用の正特性サーミスタ装置を開示しているが、感
熱素子として適した正特性サーミスタ装置を開示してい
ない。特に、正特性サーミスタ素子を接着する補強層及
び接着剤については、感熱素子として使用する場合に考
慮しなければならない熱伝導効率について、充分な考慮
がなされておらず、感熱素子に適した構造を開示するも
のではなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、従来
は到底実現することのできなかった例えば20mΩ以下
という極めて低い常温抵抗値を持つ正特性サーミスタ装
置及びそれを用いた熱検出装置を提供することである。
は到底実現することのできなかった例えば20mΩ以下
という極めて低い常温抵抗値を持つ正特性サーミスタ装
置及びそれを用いた熱検出装置を提供することである。
【0007】本発明のもう一つの課題は、上述したよう
な極めて低い常温抵抗値を持つ極めて薄い正特性サーミ
スタ素体の破損を確実に防止し得る正特性サーミスタ装
置及びそれを用いた熱検出装置を提供することである。
な極めて低い常温抵抗値を持つ極めて薄い正特性サーミ
スタ素体の破損を確実に防止し得る正特性サーミスタ装
置及びそれを用いた熱検出装置を提供することである。
【0008】本発明の更にもう一つの課題は、感熱素子
として適した正特性サーミスタ装置及びそれを用いた熱
検出装置を提供することである。
として適した正特性サーミスタ装置及びそれを用いた熱
検出装置を提供することである。
【0009】本発明の更にもう一つの課題は、正特性サ
ーミスタ素子とそれを支持する支持体との間の接着層の
熱伝導効率を向上させ、感熱素子としての適合性を向上
させた正特性サーミスタ装置及びそれを用いた熱検出装
置を提供することである。
ーミスタ素子とそれを支持する支持体との間の接着層の
熱伝導効率を向上させ、感熱素子としての適合性を向上
させた正特性サーミスタ装置及びそれを用いた熱検出装
置を提供することである。
【0010】本発明の更にもう一つの課題は、熱起電力
素子の発生する微小熱起電力を動作電源として用いた場
合でも、充分な熱検出機能を果し得る正特性サーミスタ
装置及びそれを用いた熱検出装置を提供することであ
る。
素子の発生する微小熱起電力を動作電源として用いた場
合でも、充分な熱検出機能を果し得る正特性サーミスタ
装置及びそれを用いた熱検出装置を提供することであ
る。
【0011】本発明の更にもう一つの課題は、レベル検
定回路やスイッチ回路を省略し得る回路構成の簡単な熱
検出装置を提供することである。
定回路やスイッチ回路を省略し得る回路構成の簡単な熱
検出装置を提供することである。
【0012】本発明の更にもう一つの課題は、正特性サ
ーミスタ素体の破損を生じることなく、正特性サーミス
タ素体の厚みを0.01mm〜0.4mmの範囲まで確
実に研磨し得る正特性サーミスタ装置の製造方法を提供
することである。
ーミスタ素体の破損を生じることなく、正特性サーミス
タ素体の厚みを0.01mm〜0.4mmの範囲まで確
実に研磨し得る正特性サーミスタ装置の製造方法を提供
することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、本発明に係る正特性サーミスタ装置は、正特性サ
ーミスタ素子と、支持基板支持基板とを含む。前記正特
性サーミスタ素子は、正特性サーミスタ素体と、少なく
とも2つの電極とを含んでおり、前記正特性サーミスタ
素体は厚みが0.4mm以下の平坦な板材であり、前記
2つの電極は前記正特性サーミスタ素体の厚み方向の両
面にそれぞれ設けられている。前記支持基板は、少なく
とも一つの平坦面を有し、前記平坦面上に外部に連なる
凹部が設けられ、前記電極の一方が前記平坦面上に面接
合されている。
ため、本発明に係る正特性サーミスタ装置は、正特性サ
ーミスタ素子と、支持基板支持基板とを含む。前記正特
性サーミスタ素子は、正特性サーミスタ素体と、少なく
とも2つの電極とを含んでおり、前記正特性サーミスタ
素体は厚みが0.4mm以下の平坦な板材であり、前記
2つの電極は前記正特性サーミスタ素体の厚み方向の両
面にそれぞれ設けられている。前記支持基板は、少なく
とも一つの平坦面を有し、前記平坦面上に外部に連なる
凹部が設けられ、前記電極の一方が前記平坦面上に面接
合されている。
【0014】好ましくは、前記正特性サーミスタ素体
は、厚みが0.01mm以上である。前記凹部は、前記
正特性サーミスタ素体の厚み方向に貫通する孔、また
は、前記正特性サーミスタ素体の前記平坦面上に形成さ
れた溝によって構成できる。
は、厚みが0.01mm以上である。前記凹部は、前記
正特性サーミスタ素体の厚み方向に貫通する孔、また
は、前記正特性サーミスタ素体の前記平坦面上に形成さ
れた溝によって構成できる。
【0015】次に、本発明に係る熱検出装置は、熱起電
力素子と、感熱素子とを含む。前記熱起電力素子は、前
記感熱素子と共に、検出すべき熱源の付近に配置され
る。前記感熱素子は、上述した本発明に係る正特性サー
ミスタ装置でなり、前記熱起電力素子に生じる熱起電力
を動作電源として利用するように、前記熱起電力素子と
接続されている。
力素子と、感熱素子とを含む。前記熱起電力素子は、前
記感熱素子と共に、検出すべき熱源の付近に配置され
る。前記感熱素子は、上述した本発明に係る正特性サー
ミスタ装置でなり、前記熱起電力素子に生じる熱起電力
を動作電源として利用するように、前記熱起電力素子と
接続されている。
【0016】更に、本発明に係る正特性サーミスタ装置
の製造方法は、前記支持基板に設けられた平坦面に、一
面に電極を有する正特性サーミスタ素体の前記一面を面
接合させた後、前記正特性サーミスタ素体の他面を研磨
し、その後に前記正特性サーミスタ素体の研磨された面
に他の電極を形成する。
の製造方法は、前記支持基板に設けられた平坦面に、一
面に電極を有する正特性サーミスタ素体の前記一面を面
接合させた後、前記正特性サーミスタ素体の他面を研磨
し、その後に前記正特性サーミスタ素体の研磨された面
に他の電極を形成する。
【0017】
【作用】本発明に係る正特性サーミスタ装置に含まれる
正特性サーミスタ素子は、正特性サーミスタ素体は厚み
が0.4mm以下の範囲にある平坦な板材である。この
ような厚みの正特性サーミスタ素体は、従来達成するこ
とができなかった厚みであり、それによって、従来は到
底実現することのできなかった例えば20mΩ以下の極
めて低い常温抵抗値を持つ正特性サーミスタ装置を得る
ことができる。このような低い常温抵抗値を持つ正特性
サーミスタ装置は、例えば熱電対の発生する15〜20
mvのような微小熱起電力を動作電源とする熱検出装置
において、感熱素子として用いた場合にも、充分な感熱
機能を果すことができる。
正特性サーミスタ素子は、正特性サーミスタ素体は厚み
が0.4mm以下の範囲にある平坦な板材である。この
ような厚みの正特性サーミスタ素体は、従来達成するこ
とができなかった厚みであり、それによって、従来は到
底実現することのできなかった例えば20mΩ以下の極
めて低い常温抵抗値を持つ正特性サーミスタ装置を得る
ことができる。このような低い常温抵抗値を持つ正特性
サーミスタ装置は、例えば熱電対の発生する15〜20
mvのような微小熱起電力を動作電源とする熱検出装置
において、感熱素子として用いた場合にも、充分な感熱
機能を果すことができる。
【0018】支持基板は、少なくとも一つの平坦面を有
し、平坦面上に正特性サーミスタ素子の一方の電極が面
接合されている。この構造のために、支持基板が正特性
サーミスタ素子に対する補強部材として機能し、それに
よって正特性サーミスタ素体の破損が防止される。
し、平坦面上に正特性サーミスタ素子の一方の電極が面
接合されている。この構造のために、支持基板が正特性
サーミスタ素子に対する補強部材として機能し、それに
よって正特性サーミスタ素体の破損が防止される。
【0019】支持基板は、平坦面上に外部に連なる凹部
が設けられているから、支持基板の平坦面上に正特性サ
ーミスタ素子を接合する際に、支持基板と正特性サーミ
スタ素子との間の界面または接合剤中に発生することの
ある空気や揮発成分が、凹部を通して外部に放出され
る。このため、支持基板と正特性サーミスタ素子との間
に空気が介在して熱伝導が悪化したり、接着強度が低下
するような事態を回避することができる。これにより、
感熱素子として適した正特性サーミスタ装置が得られ
る。また、正特性サーミスタ素子とそれを支持する支持
体との間の接着層の熱伝導効率を向上させ、感熱素子と
しての適合性を向上させることができる。
が設けられているから、支持基板の平坦面上に正特性サ
ーミスタ素子を接合する際に、支持基板と正特性サーミ
スタ素子との間の界面または接合剤中に発生することの
ある空気や揮発成分が、凹部を通して外部に放出され
る。このため、支持基板と正特性サーミスタ素子との間
に空気が介在して熱伝導が悪化したり、接着強度が低下
するような事態を回避することができる。これにより、
感熱素子として適した正特性サーミスタ装置が得られ
る。また、正特性サーミスタ素子とそれを支持する支持
体との間の接着層の熱伝導効率を向上させ、感熱素子と
しての適合性を向上させることができる。
【0020】次に、本発明に係る熱検出装置は、上述し
た本発明に係る正特性サーミスタ装置でなる感熱素子を
含み、感熱素子は、熱起電力素子に生じる熱起電力を動
作電源として利用するように、熱起電力素子と接続され
ているから、上記正特性サーミスタ装置の有する長所を
全て包含すると共に、正特性サーミスタ装置のスイッチ
特性を利用し、レベル検定回路やスイッチ回路を省略し
得る回路構成の簡単な熱検出装置を実現できる。
た本発明に係る正特性サーミスタ装置でなる感熱素子を
含み、感熱素子は、熱起電力素子に生じる熱起電力を動
作電源として利用するように、熱起電力素子と接続され
ているから、上記正特性サーミスタ装置の有する長所を
全て包含すると共に、正特性サーミスタ装置のスイッチ
特性を利用し、レベル検定回路やスイッチ回路を省略し
得る回路構成の簡単な熱検出装置を実現できる。
【0021】更に、本発明に係る正特性サーミスタ装置
の製造方法は、支持基板に設けられた平坦面に、一面の
全面に電極を有する正特性サーミスタ素体の一面を面接
合させた後、正特性サーミスタ素体の他面を研磨し、そ
の後に正特性サーミスタ素体の研磨された面に他の電極
を形成するから、極めて薄く加工する必要のある正特性
サーミスタ素体の研磨工程において、正特性サーミスタ
素体の破損を、支持基板によって防止しながら、正特性
サーミスタ素体の厚みを0.01mm〜0.4mmの範
囲まで研磨することができる。
の製造方法は、支持基板に設けられた平坦面に、一面の
全面に電極を有する正特性サーミスタ素体の一面を面接
合させた後、正特性サーミスタ素体の他面を研磨し、そ
の後に正特性サーミスタ素体の研磨された面に他の電極
を形成するから、極めて薄く加工する必要のある正特性
サーミスタ素体の研磨工程において、正特性サーミスタ
素体の破損を、支持基板によって防止しながら、正特性
サーミスタ素体の厚みを0.01mm〜0.4mmの範
囲まで研磨することができる。
【0022】
【実施例】図1は本発明に係る正特性サーミスタ装置の
平面図、図2は図1に示した正特性サーミスタ装置の断
面図である。本発明に係る正特性サーミスタ装置は、正
特性サーミスタ素子1と、支持基板2とを含んでいる。
正特性サーミスタ素子1は、正特性サーミスタ素体11
と、少なくとも2つの電極12、13とを含んでいる。
正特性サーミスタ素体11は厚みt1が0.4mm以下
の平坦な板材である。正特性サーミスタ素体11は、低
い常温抵抗値を得るという目的からは、できるだけ薄い
ほがよいが、現実に要求される常温抵抗値と、薄型化に
伴なって増大する製造の困難性を考慮したとき、厚みの
下限値は0.01mm程度である。正特性サーミスタ素
体11の代表例は、チタン酸バリウムを主成分とする正
特性半導体磁器である。
平面図、図2は図1に示した正特性サーミスタ装置の断
面図である。本発明に係る正特性サーミスタ装置は、正
特性サーミスタ素子1と、支持基板2とを含んでいる。
正特性サーミスタ素子1は、正特性サーミスタ素体11
と、少なくとも2つの電極12、13とを含んでいる。
正特性サーミスタ素体11は厚みt1が0.4mm以下
の平坦な板材である。正特性サーミスタ素体11は、低
い常温抵抗値を得るという目的からは、できるだけ薄い
ほがよいが、現実に要求される常温抵抗値と、薄型化に
伴なって増大する製造の困難性を考慮したとき、厚みの
下限値は0.01mm程度である。正特性サーミスタ素
体11の代表例は、チタン酸バリウムを主成分とする正
特性半導体磁器である。
【0023】2つの電極12、13は正特性サーミスタ
素体11の厚み方向の両面111、112にそれぞれ設
けられている。2つの電極12、13のうち、電極12
はそれが設けられている面111の全体を覆っていても
よいし、電極周辺にギャップを有していてもよい。他方
の電極13はそれが設けられている面112の端縁と、
電極端縁との間にギャップG1が生じるように、面11
2内に設けられていることが望ましい。
素体11の厚み方向の両面111、112にそれぞれ設
けられている。2つの電極12、13のうち、電極12
はそれが設けられている面111の全体を覆っていても
よいし、電極周辺にギャップを有していてもよい。他方
の電極13はそれが設けられている面112の端縁と、
電極端縁との間にギャップG1が生じるように、面11
2内に設けられていることが望ましい。
【0024】支持基板2は、少なくとも一つの平坦面2
1を有し、平坦面21上に外部に連なる凹部22が設け
られ、正特性サーミスタ素子1の電極の一方が平坦面2
1上に面接合されている。
1を有し、平坦面21上に外部に連なる凹部22が設け
られ、正特性サーミスタ素子1の電極の一方が平坦面2
1上に面接合されている。
【0025】図3は図1及び図2に図示された支持基板
2の平面図、図4は図3のA4ーA4線上における断面
図である。図示の凹部22は、支持基板2の厚み方向に
貫通する孔として設けられている。凹部22を構成する
孔の数、孔径及び形成位置は、図示に限定されることな
く、種々変化する。一例として、直径が20mmの支持
基板2を用いた場合、凹部22を構成する孔は、孔径
0.5〜1.5mm、個数20〜40個で、支持基板2
の平坦面21上にほぼ均等分布となるように形成するこ
とができる。
2の平面図、図4は図3のA4ーA4線上における断面
図である。図示の凹部22は、支持基板2の厚み方向に
貫通する孔として設けられている。凹部22を構成する
孔の数、孔径及び形成位置は、図示に限定されることな
く、種々変化する。一例として、直径が20mmの支持
基板2を用いた場合、凹部22を構成する孔は、孔径
0.5〜1.5mm、個数20〜40個で、支持基板2
の平坦面21上にほぼ均等分布となるように形成するこ
とができる。
【0026】凹部22は図1〜図4に図示された実施例
の他、種々の態様を取ることができる。その例を図5〜
図8に示す。図5及び図6に図示された実施例におい
て、凹部22は、支持基板2の平坦面21上に形成され
た溝で構成されている。凹部22を構成する溝は複数本
備えられ、それぞれは、円板状に形成された支持基板2
の中心部から外周方向に放射状に伸びる溝として互いに
ほぼ一定の角度を隔てて、配置されている。
の他、種々の態様を取ることができる。その例を図5〜
図8に示す。図5及び図6に図示された実施例におい
て、凹部22は、支持基板2の平坦面21上に形成され
た溝で構成されている。凹部22を構成する溝は複数本
備えられ、それぞれは、円板状に形成された支持基板2
の中心部から外周方向に放射状に伸びる溝として互いに
ほぼ一定の角度を隔てて、配置されている。
【0027】次に、図7及び図8に図示された実施例で
は、凹部22は放射状に配置された複数本の溝と、この
溝に連続する円形状の複数本の溝とを含んでいる。円形
状の溝は互いに間隔を隔てて同軸状に配置されている。
は、凹部22は放射状に配置された複数本の溝と、この
溝に連続する円形状の複数本の溝とを含んでいる。円形
状の溝は互いに間隔を隔てて同軸状に配置されている。
【0028】上述したように、本発明に係る正特性サー
ミスタ装置に含まれる正特性サーミスタ素子1は、正特
性サーミスタ素体11の厚みt1が0.4mm以下の平
坦な板材である。このような厚みt1の正特性サーミス
タ素体11は、従来達成することができなかった厚みで
あり、それによって、従来は到底実現することのできな
かった20mΩ以下という極めて低い常温抵抗値を持つ
正特性サーミスタ装置を得ることができる。このような
低い常温抵抗値を持つ正特性サーミスタ装置は、例えば
熱電対の発生する15〜20mvのような微小熱起電力
を、直接、動作電源として用いる感熱素子として、充分
な感熱機能を果すことができる。
ミスタ装置に含まれる正特性サーミスタ素子1は、正特
性サーミスタ素体11の厚みt1が0.4mm以下の平
坦な板材である。このような厚みt1の正特性サーミス
タ素体11は、従来達成することができなかった厚みで
あり、それによって、従来は到底実現することのできな
かった20mΩ以下という極めて低い常温抵抗値を持つ
正特性サーミスタ装置を得ることができる。このような
低い常温抵抗値を持つ正特性サーミスタ装置は、例えば
熱電対の発生する15〜20mvのような微小熱起電力
を、直接、動作電源として用いる感熱素子として、充分
な感熱機能を果すことができる。
【0029】支持基板2は、少なくとも一つの平坦面2
1を有し、平坦面21上に正特性サーミスタ素子1の一
方の電極12が面接合されている。この構造のために、
支持基板2が正特性サーミスタ素子1に対する補強部材
として機能する。
1を有し、平坦面21上に正特性サーミスタ素子1の一
方の電極12が面接合されている。この構造のために、
支持基板2が正特性サーミスタ素子1に対する補強部材
として機能する。
【0030】支持基板2は、平坦面21上に外部に連な
る凹部22が設けられているから、支持基板2の平坦面
21上に正特性サーミスタ素子1を接合する際に、支持
基板2と正特性サーミスタ素子1との間の接触界面また
は接合剤中に発生することのある空気や揮発成分が、凹
部22を通して外部に放出される。このため、支持基板
2と正特性サーミスタ素子1との間に空気が介在して熱
伝導が悪化したり、接着強度が低下するような事態を回
避することができる。これにより、感熱素子として適し
た正特性サーミスタ装置が得られる。また、正特性サー
ミスタ素子1とそれを支持する支持体との間の接着層の
熱伝導効率を向上させ、感熱素子としての適合性を向上
させることができる。
る凹部22が設けられているから、支持基板2の平坦面
21上に正特性サーミスタ素子1を接合する際に、支持
基板2と正特性サーミスタ素子1との間の接触界面また
は接合剤中に発生することのある空気や揮発成分が、凹
部22を通して外部に放出される。このため、支持基板
2と正特性サーミスタ素子1との間に空気が介在して熱
伝導が悪化したり、接着強度が低下するような事態を回
避することができる。これにより、感熱素子として適し
た正特性サーミスタ装置が得られる。また、正特性サー
ミスタ素子1とそれを支持する支持体との間の接着層の
熱伝導効率を向上させ、感熱素子としての適合性を向上
させることができる。
【0031】実施例において、正特性サーミスタ素体1
1の厚み方向の両面111、112にそれぞれ設けられ
ている2つの電極12、13のうち、電極12は、それ
が設けられている面111の全体を覆っており、支持基
板2に設けられた平坦面21に面接合されている。この
構造のために、電極12が存在するにも係わらず、正特
性サーミスタ素体11が、支持基板2の平坦面21との
間に電極12の厚みt2よるギャップを生じることな
く、支持基板2の平坦面21に密接して接合される。こ
の結果、正特性サーミスタ素体11の厚みt1を、0.
4mm以下という値に設定しても、正特性サーミスタ素
体1の破損を確実に防止することができるようになる。
しかも、電極12は、それが設けられている面111の
全体を覆っているから、電極12を外部に容易に引き出
すことができる。
1の厚み方向の両面111、112にそれぞれ設けられ
ている2つの電極12、13のうち、電極12は、それ
が設けられている面111の全体を覆っており、支持基
板2に設けられた平坦面21に面接合されている。この
構造のために、電極12が存在するにも係わらず、正特
性サーミスタ素体11が、支持基板2の平坦面21との
間に電極12の厚みt2よるギャップを生じることな
く、支持基板2の平坦面21に密接して接合される。こ
の結果、正特性サーミスタ素体11の厚みt1を、0.
4mm以下という値に設定しても、正特性サーミスタ素
体1の破損を確実に防止することができるようになる。
しかも、電極12は、それが設けられている面111の
全体を覆っているから、電極12を外部に容易に引き出
すことができる。
【0032】更に、実施例において、2つの電極12、
13のうちの他方の電極13は、それが設けられている
面112の端縁と、電極端縁との間にギャップG1が生
じるように、面内に設けられている。正特性サーミスタ
素体11が0.4mm以下の厚みt1に設定されている
ために、厚み方向のギャップでは微小なゴミ等の付着で
電極間短絡を生じ易い。これに対して、正特性サーミス
タ素体11の面112の端縁と、電極端縁との間にギャ
ップG1を設けると、正特性サーミスタ素体11が0.
4mm以下の微小厚みt1に設定されているにもかかわ
らず、電極間短絡を防止することができる。また、ギャ
ップG1によって電極12ー13間の沿面距離を拡大
し、必要な絶縁耐圧を確保することができる。
13のうちの他方の電極13は、それが設けられている
面112の端縁と、電極端縁との間にギャップG1が生
じるように、面内に設けられている。正特性サーミスタ
素体11が0.4mm以下の厚みt1に設定されている
ために、厚み方向のギャップでは微小なゴミ等の付着で
電極間短絡を生じ易い。これに対して、正特性サーミス
タ素体11の面112の端縁と、電極端縁との間にギャ
ップG1を設けると、正特性サーミスタ素体11が0.
4mm以下の微小厚みt1に設定されているにもかかわ
らず、電極間短絡を防止することができる。また、ギャ
ップG1によって電極12ー13間の沿面距離を拡大
し、必要な絶縁耐圧を確保することができる。
【0033】図示の電極12、13は、正特性サーミス
タ素体11に付着されたオーミック電極層121、13
1を含む。オーミック電極層は、Ni無電解メッキ膜ま
たはNiもしくはNiーCr等の蒸着膜として形成でき
る。好ましくは、電極12、13はオーミック電極層1
21、131の上に、銀を主成分とする電極層122、
132が積層されている。このような電極構造を有する
ことにより、オーミック電極層121、131によって
正特性サーミスタ素体11の有する正の抵抗温度特性を
充分に外部に取出すと共に、オーミック電極層121、
131の特性劣化を、銀を主成分とする電極層122、
132によって阻止し、更に、電極12、13の表面抵
抗を低下させることができる。
タ素体11に付着されたオーミック電極層121、13
1を含む。オーミック電極層は、Ni無電解メッキ膜ま
たはNiもしくはNiーCr等の蒸着膜として形成でき
る。好ましくは、電極12、13はオーミック電極層1
21、131の上に、銀を主成分とする電極層122、
132が積層されている。このような電極構造を有する
ことにより、オーミック電極層121、131によって
正特性サーミスタ素体11の有する正の抵抗温度特性を
充分に外部に取出すと共に、オーミック電極層121、
131の特性劣化を、銀を主成分とする電極層122、
132によって阻止し、更に、電極12、13の表面抵
抗を低下させることができる。
【0034】支持基板2は、感熱素子として用いる場合
は、熱伝導性の良好な材料で構成する。そのような材料
であれば、電気絶縁材料であってもよいし、導電材料で
あってもよい。支持基板2を構成する熱伝導性の良好な
電気絶縁材料の例としては、高アルミナ磁器または窒化
ケイ素磁器がある。支持基板2を電気絶縁材料で構成し
た場合、少なくとも正特性サーミスタ素子1を接合する
面が金属膜によって覆われていてもよい。これにより、
支持基板2の熱伝導性が一層向上すると共に、支持基板
2上に設けられた金属膜を、電極12、13を外部に引
き出すための端子導体として利用できる。このような金
属膜の例は、ニッケルまたは銅等である。支持基板2を
導電性材料で構成する場合、そのような導電性材料の例
としては、銅合金またはステンレス等を挙げることがで
きる。
は、熱伝導性の良好な材料で構成する。そのような材料
であれば、電気絶縁材料であってもよいし、導電材料で
あってもよい。支持基板2を構成する熱伝導性の良好な
電気絶縁材料の例としては、高アルミナ磁器または窒化
ケイ素磁器がある。支持基板2を電気絶縁材料で構成し
た場合、少なくとも正特性サーミスタ素子1を接合する
面が金属膜によって覆われていてもよい。これにより、
支持基板2の熱伝導性が一層向上すると共に、支持基板
2上に設けられた金属膜を、電極12、13を外部に引
き出すための端子導体として利用できる。このような金
属膜の例は、ニッケルまたは銅等である。支持基板2を
導電性材料で構成する場合、そのような導電性材料の例
としては、銅合金またはステンレス等を挙げることがで
きる。
【0035】支持基板2に対する正特性サーミスタ素子
1の接合に当っては、熱伝導性の良好な接着剤を用いる
か、または、電極12を構成する電極層122を塗布し
た後、その硬化前に、正特性サーミスタ素子1を支持基
板21の上の所定位置に位置決めし、電極層122の焼
き付け接着力を利用して、正特性サーミスタ素子1を支
持基板2上に面接合することができる。ここで、支持基
板2の平坦面上に正特性サーミスタ素子1を接合する際
に、支持基板2と正特性サーミスタ素子1との間の接触
界面または接合剤中に発生することのある空気や揮発成
分が、凹部22の空気や揮発成分放出作用により、凹部
22を通して外部に放出される。このため、支持基板2
と正特性サーミスタ素子1との間に空気が介在して熱伝
導が悪化したり、接着強度が低下するような事態を回避
することができる。これにより、感熱素子として適した
正特性サーミスタ装置が得られる。
1の接合に当っては、熱伝導性の良好な接着剤を用いる
か、または、電極12を構成する電極層122を塗布し
た後、その硬化前に、正特性サーミスタ素子1を支持基
板21の上の所定位置に位置決めし、電極層122の焼
き付け接着力を利用して、正特性サーミスタ素子1を支
持基板2上に面接合することができる。ここで、支持基
板2の平坦面上に正特性サーミスタ素子1を接合する際
に、支持基板2と正特性サーミスタ素子1との間の接触
界面または接合剤中に発生することのある空気や揮発成
分が、凹部22の空気や揮発成分放出作用により、凹部
22を通して外部に放出される。このため、支持基板2
と正特性サーミスタ素子1との間に空気が介在して熱伝
導が悪化したり、接着強度が低下するような事態を回避
することができる。これにより、感熱素子として適した
正特性サーミスタ装置が得られる。
【0036】本発明に係る正特性サーミスタ装置は、種
々の形態をとることができる。その例を図9〜図12に
例示してある。図9は本発明に係る正特性サーミスタ装
置の別の実施例を示す平面図、図10は図9のA10ー
A10線上における断面図である。この実施例では、電
極12は正特性サーミスタ素体11の側面を通って、そ
の上面側に導かれている。上面に導かれたリード電極部
123と、電極13との間にはギャップG2が設けられ
ている。このような構造であると、電極12の外部引き
出しが容易になる。凹部22は支持基板2を厚み方向に
貫通する孔によって構成されているが、図5〜図8に示
したような溝であってもよい。
々の形態をとることができる。その例を図9〜図12に
例示してある。図9は本発明に係る正特性サーミスタ装
置の別の実施例を示す平面図、図10は図9のA10ー
A10線上における断面図である。この実施例では、電
極12は正特性サーミスタ素体11の側面を通って、そ
の上面側に導かれている。上面に導かれたリード電極部
123と、電極13との間にはギャップG2が設けられ
ている。このような構造であると、電極12の外部引き
出しが容易になる。凹部22は支持基板2を厚み方向に
貫通する孔によって構成されているが、図5〜図8に示
したような溝であってもよい。
【0037】図11は本発明に係る正特性サーミスタ装
置の他の実施例を示す平面図、図12は図11のA12
ーA12線上における断面図である。この実施例では、
支持基板2の中央部に貫通孔124を設けてある。電極
12は貫通孔124の内部を通って、正特性サーミスタ
素体11の上面側に導かれている。上面に導かれたリー
ド電極部123と、電極13との間にはギャップG3が
設けられている。このような構造であると、電極12の
外部引き出しが容易になる。凹部22は支持基板2を厚
み方向に貫通する孔によって構成されているが、図5〜
図8に示したような溝であってもよい。
置の他の実施例を示す平面図、図12は図11のA12
ーA12線上における断面図である。この実施例では、
支持基板2の中央部に貫通孔124を設けてある。電極
12は貫通孔124の内部を通って、正特性サーミスタ
素体11の上面側に導かれている。上面に導かれたリー
ド電極部123と、電極13との間にはギャップG3が
設けられている。このような構造であると、電極12の
外部引き出しが容易になる。凹部22は支持基板2を厚
み方向に貫通する孔によって構成されているが、図5〜
図8に示したような溝であってもよい。
【0038】図13は本発明に係る熱検出装置の構成を
示す電気回路図である。本発明に係る熱検出装置は、図
1〜図12に図示された本発明に係る正特性サーミスタ
装置でなる感熱素子3と、熱起電力素子4とを含んでい
る。感熱素子3は、熱起電力素子4に生じる熱起電力を
動作電源として利用するように、熱起電力素子4と直列
に接続されている。このような構成であると、上記正特
性サーミスタ装置の有する長所を全て包含すると共に、
正特性サーミスタ装置のスイッチ特性を利用した感熱素
子3により、レベル検定回路やスイッチ回路を備える必
要のない回路構成の簡単な熱検出装置を実現できる。熱
起電力素子4は、代表的には熱電対である。
示す電気回路図である。本発明に係る熱検出装置は、図
1〜図12に図示された本発明に係る正特性サーミスタ
装置でなる感熱素子3と、熱起電力素子4とを含んでい
る。感熱素子3は、熱起電力素子4に生じる熱起電力を
動作電源として利用するように、熱起電力素子4と直列
に接続されている。このような構成であると、上記正特
性サーミスタ装置の有する長所を全て包含すると共に、
正特性サーミスタ装置のスイッチ特性を利用した感熱素
子3により、レベル検定回路やスイッチ回路を備える必
要のない回路構成の簡単な熱検出装置を実現できる。熱
起電力素子4は、代表的には熱電対である。
【0039】図14は本発明に係る熱検出装置を用いた
燃焼装置の構成を示す図、図15はその電気回路図であ
る。図14及び図15において、本発明に係る熱検出装
置を構成する感熱素子3は、鍋等の被加熱物5の底部に
接して配置され、熱起電力素子4はガスコンロ等の燃焼
器6から生じる炎61の熱を受けて起電力を生じるよう
に配置されている。燃焼器6は、電磁弁等のガス制御弁
81及びノズル9を通して、ガスが供給され、燃焼動作
をする。ガス制御弁81は本発明に係る熱検出装置によ
って制御されるものであって、手動操作着火機能を備
え、着火した後は電磁的に吸着され、開通状態を保持す
る。制御回路7は熱検出装置から熱起電力素子4の起電
力に基づく信号が与えられたとき、ガス制御弁81を開
通させる。着火操作前であって、熱検出装置からの前記
信号がないときは、ガス制御弁81は遮断状態にある。
図示の制御回路7は、ガス制御弁81の一部であるソレ
ノイド70を有し、ガス制御弁81と一体化されてい
る。
燃焼装置の構成を示す図、図15はその電気回路図であ
る。図14及び図15において、本発明に係る熱検出装
置を構成する感熱素子3は、鍋等の被加熱物5の底部に
接して配置され、熱起電力素子4はガスコンロ等の燃焼
器6から生じる炎61の熱を受けて起電力を生じるよう
に配置されている。燃焼器6は、電磁弁等のガス制御弁
81及びノズル9を通して、ガスが供給され、燃焼動作
をする。ガス制御弁81は本発明に係る熱検出装置によ
って制御されるものであって、手動操作着火機能を備
え、着火した後は電磁的に吸着され、開通状態を保持す
る。制御回路7は熱検出装置から熱起電力素子4の起電
力に基づく信号が与えられたとき、ガス制御弁81を開
通させる。着火操作前であって、熱検出装置からの前記
信号がないときは、ガス制御弁81は遮断状態にある。
図示の制御回路7は、ガス制御弁81の一部であるソレ
ノイド70を有し、ガス制御弁81と一体化されてい
る。
【0040】図14及び図15に示す燃焼装置におい
て、燃焼器6を着火させると、熱起電力素子4が炎61
により加熱され熱起電力を生じる。被加熱物5の温度は
着火時は常温であるから、感熱素子3の抵抗値は、前述
した20mΩ程度の微小値にある。このため、熱起電力
素子4に発生した熱起電力により、低抵抗の感熱素子3
を通って電流が流れる。この電流に基づき、制御回路7
はガス制御弁81を開通させる。着火後は、ガス制御弁
81の開通保持動作により、ガス制御弁81を通して燃
焼用のガスが燃焼器5に供給され、それによって、燃焼
器5の燃焼動作が維持される。
て、燃焼器6を着火させると、熱起電力素子4が炎61
により加熱され熱起電力を生じる。被加熱物5の温度は
着火時は常温であるから、感熱素子3の抵抗値は、前述
した20mΩ程度の微小値にある。このため、熱起電力
素子4に発生した熱起電力により、低抵抗の感熱素子3
を通って電流が流れる。この電流に基づき、制御回路7
はガス制御弁81を開通させる。着火後は、ガス制御弁
81の開通保持動作により、ガス制御弁81を通して燃
焼用のガスが燃焼器5に供給され、それによって、燃焼
器5の燃焼動作が維持される。
【0041】燃焼器5の燃焼動作によって、被加熱物5
が加熱され、それによって被加熱物5の温度が上昇す
る。感熱素子3は被加熱物5の表面に接して設けられて
いるから、被加熱物5の温度が上昇するにつれて、感熱
素子3の温度が上昇し、感熱素子3の抵抗値が高くな
る。感熱素子3は、通常の燃焼動作による温度領域では
抵抗値急変現象を生じず、かつ、熱起電力素子3から供
給される熱起電力によって、ガス制御弁81の開通を維
持する電流を、制御回路7に供給できるような抵抗温度
特性を有するものとする。これにより、通常の燃焼動作
において、感熱素子3がスイッチ動作を回避することが
できる。
が加熱され、それによって被加熱物5の温度が上昇す
る。感熱素子3は被加熱物5の表面に接して設けられて
いるから、被加熱物5の温度が上昇するにつれて、感熱
素子3の温度が上昇し、感熱素子3の抵抗値が高くな
る。感熱素子3は、通常の燃焼動作による温度領域では
抵抗値急変現象を生じず、かつ、熱起電力素子3から供
給される熱起電力によって、ガス制御弁81の開通を維
持する電流を、制御回路7に供給できるような抵抗温度
特性を有するものとする。これにより、通常の燃焼動作
において、感熱素子3がスイッチ動作を回避することが
できる。
【0042】被加熱物5が、例えば空焚き状態になる
と、被加熱物5の温度が、通常の燃焼動作時の温度より
も著しく上昇する。このため、感熱素子3の温度が抵抗
値急増領域まで上昇し、感熱素子3に、熱検出装置から
制御回路7に供給される電流を急激に絞り込むスイッチ
動作が生じる。これにより、制御回路7からガス制御弁
81への開通制御が失われ、ガス制御弁81が遮断さ
れ、それに伴って、燃焼器6の燃焼動作が停止する。
と、被加熱物5の温度が、通常の燃焼動作時の温度より
も著しく上昇する。このため、感熱素子3の温度が抵抗
値急増領域まで上昇し、感熱素子3に、熱検出装置から
制御回路7に供給される電流を急激に絞り込むスイッチ
動作が生じる。これにより、制御回路7からガス制御弁
81への開通制御が失われ、ガス制御弁81が遮断さ
れ、それに伴って、燃焼器6の燃焼動作が停止する。
【0043】図16〜図19は本発明に係る正特性サー
ミスタ装置の製造方法を示している。まず、図16に示
すように、支持基板2に設けられた平坦面21に、一面
の全面に電極12を有する正特性サーミスタ素体11の
一面111を面接合させる。支持基板2は図3〜図8に
示したような構造を持っている。正特性サーミスタ素体
11を接合した支持基板2は、治具200の上に固定す
る。
ミスタ装置の製造方法を示している。まず、図16に示
すように、支持基板2に設けられた平坦面21に、一面
の全面に電極12を有する正特性サーミスタ素体11の
一面111を面接合させる。支持基板2は図3〜図8に
示したような構造を持っている。正特性サーミスタ素体
11を接合した支持基板2は、治具200の上に固定す
る。
【0044】次に、図17に示すように、正特性サーミ
スタ素体11の他面を、研磨装置300を用いて研磨す
る。研磨装置300は例えば、矢印O1の如く軸回転さ
せると共に、矢印X1またはX2の方向に移動させる。
これにより、図18に示す如く、正特性サーミスタ素体
11がΔt1だけ研磨され、正特性サーミスタ素体11
の厚みが必要な厚みt1=0.01〜0.4mmに設定
される。
スタ素体11の他面を、研磨装置300を用いて研磨す
る。研磨装置300は例えば、矢印O1の如く軸回転さ
せると共に、矢印X1またはX2の方向に移動させる。
これにより、図18に示す如く、正特性サーミスタ素体
11がΔt1だけ研磨され、正特性サーミスタ素体11
の厚みが必要な厚みt1=0.01〜0.4mmに設定
される。
【0045】次に、図19に示すように、正特性サーミ
スタ素体11の研磨された面112に他の電極13を、
蒸着またはスパッタ等の手段によって形成する。
スタ素体11の研磨された面112に他の電極13を、
蒸着またはスパッタ等の手段によって形成する。
【0046】上記製造方法を経ることにより、正特性サ
ーミスタ素体11の破損を防止しながら、正特性サーミ
スタ素体1の厚みt1がを0.01〜0.4mmの範囲
となるように確実に研磨することができる。図示は省略
したが、電極12、13の形成方法として、無電解メッ
キ法等を用いた場合には、外周に付着した電極膜を削除
する工程が付加される。
ーミスタ素体11の破損を防止しながら、正特性サーミ
スタ素体1の厚みt1がを0.01〜0.4mmの範囲
となるように確実に研磨することができる。図示は省略
したが、電極12、13の形成方法として、無電解メッ
キ法等を用いた場合には、外周に付着した電極膜を削除
する工程が付加される。
【0047】上記製造方法は、図1及び図2に示した正
特性サーミスタ装置の製造方法に適用されるものである
が、図3〜図6に図示した正特性サーミスタ装置を製造
する場合にも、若干の変更を伴うだけで、同様に適用が
可能であることは、当業者に自明である。
特性サーミスタ装置の製造方法に適用されるものである
が、図3〜図6に図示した正特性サーミスタ装置を製造
する場合にも、若干の変更を伴うだけで、同様に適用が
可能であることは、当業者に自明である。
【0048】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば次の
ような効果を得ることができる。 (a)従来は到底実現することのできなかった例えば2
0mΩ以下という極めて低い常温抵抗値を持つ正特性サ
ーミスタ装置及びそれを用いた熱検出装置を提供するこ
とができる。 (b)上述したような極めて低い常温抵抗値を持つ極め
て薄い正特性サーミスタ素体の破損を確実に防止し得る
正特性サーミスタ装置及びそれを用いた熱検出装置を提
供することができる。 (c)感熱素子として適した正特性サーミスタ装置及び
それを用いた熱検出装置を提供することができる。 (d)正特性サーミスタ素子とそれを支持する支持体と
の間の接着層の熱伝導効率を向上させ、感熱素子として
の適合性を向上させた正特性サーミスタ装置及びそれを
用いた熱検出装置を提供することができる。 (e)熱起電力素子の発生する微小熱起電力を動作電源
として用いた場合でも、充分な熱検出機能を果し得る正
特性サーミスタ装置及びそれを用いた熱検出装置を提供
することができる。 (f)レベル検定回路やスイッチ回路を省略し得る回路
構成の簡単な熱検出装置を提供することができる。 (g)正特性サーミスタ素体の破損を生じることなく、
正特性サーミスタ素体の厚みを0.4mm以下の値まで
確実に研磨し得る正特性サーミスタ装置の製造方法を提
供することができる。
ような効果を得ることができる。 (a)従来は到底実現することのできなかった例えば2
0mΩ以下という極めて低い常温抵抗値を持つ正特性サ
ーミスタ装置及びそれを用いた熱検出装置を提供するこ
とができる。 (b)上述したような極めて低い常温抵抗値を持つ極め
て薄い正特性サーミスタ素体の破損を確実に防止し得る
正特性サーミスタ装置及びそれを用いた熱検出装置を提
供することができる。 (c)感熱素子として適した正特性サーミスタ装置及び
それを用いた熱検出装置を提供することができる。 (d)正特性サーミスタ素子とそれを支持する支持体と
の間の接着層の熱伝導効率を向上させ、感熱素子として
の適合性を向上させた正特性サーミスタ装置及びそれを
用いた熱検出装置を提供することができる。 (e)熱起電力素子の発生する微小熱起電力を動作電源
として用いた場合でも、充分な熱検出機能を果し得る正
特性サーミスタ装置及びそれを用いた熱検出装置を提供
することができる。 (f)レベル検定回路やスイッチ回路を省略し得る回路
構成の簡単な熱検出装置を提供することができる。 (g)正特性サーミスタ素体の破損を生じることなく、
正特性サーミスタ素体の厚みを0.4mm以下の値まで
確実に研磨し得る正特性サーミスタ装置の製造方法を提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る正特性サーミスタ装置の平面図で
ある。
ある。
【図2】図1のA2ーA2線上における断面図である。
【図3】図1及び図2に図示された正特性サーミスタ装
置に用いられている支持基板の平面図である。
置に用いられている支持基板の平面図である。
【図4】図3のA4ーA4線上における断面図である。
【図5】本発明に係る正特性サーミスタ装置に用いられ
る支持基板の平面図である。
る支持基板の平面図である。
【図6】図5のA6ーA6線上における断面図である。
【図7】本発明に係る正特性サーミスタ装置に用いられ
る支持基板の他の実施例を示す平面図である。
る支持基板の他の実施例を示す平面図である。
【図8】図7のA8ーA8線上における断面図である。
【図9】本発明に係る正特性サーミスタ装置の別の実施
例における平面図である。
例における平面図である。
【図10】図9のA10ーA10線上における断面図で
ある。
ある。
【図11】本発明に係る正特性サーミスタ装置の更に別
の実施例の平面図である。
の実施例の平面図である。
【図12】図11のA12ーA12線上における断面図
である。
である。
【図13】本発明に係る熱検出装置の構成を示す図であ
る。
る。
【図14】本発明に係る熱検出装置を用いた燃焼装置の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図15】図14に示した燃焼装置の電気回路図であ
る。
る。
【図16】本発明に係る正特性サーミスタ装置の製造方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図17】図16の工程に続く本発明に係る正特性サー
ミスタ装置の製造方法を示す図である。
ミスタ装置の製造方法を示す図である。
【図18】図17の工程に続く本発明に係る正特性サー
ミスタ装置の製造方法を示す図である。
ミスタ装置の製造方法を示す図である。
【図19】図18の工程に続く本発明に係る正特性サー
ミスタ装置の製造方法を示す図である。
ミスタ装置の製造方法を示す図である。
1 正特性サーミスタ素子 11 正特性サーミスタ素体 12、13 電極 2 支持基板 22 凹部
Claims (16)
- 【請求項1】 正特性サーミスタ素子と、支持基板支持
基板とを含む正特性サーミスタ装置であって、 前記正特性サーミスタ素子は、正特性サーミスタ素体
と、少なくとも2つの電極とを含んでおり、前記正特性
サーミスタ素体は厚みが0.4mm以下の平坦な板材で
あり、前記2つの電極は前記正特性サーミスタ素体の厚
み方向の両面にそれぞれ設けられており、 前記支持基板は、少なくとも一つの平坦面を有し、前記
平坦面上に外部に連なる凹部が設けられ、前記正特性サ
ーミスタ素子の前記電極の一方が前記平坦面上に面接合
されている正特性サーミスタ装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載された正特性サーミスタ
装置であって、 前記正特性サーミスタ素体は、厚みが0.01mm以上
である正特性サーミスタ装置。 - 【請求項3】 請求項1に記載された正特性サーミスタ
装置であって、 前記凹部は、前記支持基板の厚み方向に貫通する孔であ
る正特性サーミスタ装置。 - 【請求項4】 請求項1に記載された正特性サーミスタ
装置であって、 前記凹部は、前記支持基板の前記平坦面上に形成された
溝である正特性サーミスタ装置。 - 【請求項5】 請求項1に記載の正特性サーミスタ装置
であって、 前記電極は、前記正特性サーミスタ素体に付着されたオ
ーミック電極層を含む正特性サーミスタ装置。 - 【請求項6】 請求項5に記載の正特性サーミスタ装置
であって、 前記オーミック電極層は、Ni無電解メッキ膜またはN
iもしくはNiーCrの蒸着膜である正特性サーミスタ
装置。 - 【請求項7】 請求項5に記載の正特性サーミスタ装置
であって、 前記電極は、前記オーミック電極層の上に、銀を主成分
とする電極層が積層されている正特性サーミスタ装置。 - 【請求項8】 請求項1に記載の正特性サーミスタ装置
であって、 前記支持基板は、熱伝導性の良好な材料でなる正特性サ
ーミスタ装置。 - 【請求項9】 請求項8に記載の正特性サーミスタ装置
であって、 前記支持基板は、電気絶縁材料でなる正特性サーミスタ
装置。 - 【請求項10】 請求項9に記載の正特性サーミスタ装
置であって、 前記支持基板は、高アルミナ磁器または窒化ケイ素磁器
でなる正特性サーミスタ装置。 - 【請求項11】 請求項8に記載の正特性サーミスタ装
置であって、 前記支持基板は、導電性を有する正特性サーミスタ装
置。 - 【請求項12】 請求項11に記載の正特性サーミスタ
装置であって、 前記支持基板は、その全体が導電性材料で構成されてい
る正特性サーミスタ装置。 - 【請求項13】 請求項11に記載の正特性サーミスタ
装置であって、 前記支持基板は、電気絶縁材料でなり、少なくとも前記
正特性サーミスタ素子を接合する面が導電性を有する膜
によって覆われている正特性サーミスタ装置。 - 【請求項14】 熱起電力素子と感熱素子とを含む熱検
出装置であって、 前記感熱素子は、請求項1乃至13の何れかに記載され
た正特性サーミスタ装置でなり、前記熱起電力素子に生
じる熱起電力を動作電源として利用するように、前記熱
起電力素子と接続されている熱検出装置。 - 【請求項15】 請求項14に記載の熱検出装置であっ
て、 前記熱起電力素子は、熱電対でなる熱検出装置。 - 【請求項16】 正特性サーミスタ素子と、支持基板と
を含む正特性サーミスタ装置の製造方法であって、 前記支持基板に設けられた平坦面に、一面に電極を有す
る正特性サーミスタ素体の前記一面を面接合させた後、
前記正特性サーミスタ素体の他面を研磨し、その後に前
記正特性サーミスタ素体の研磨された面に他の電極を形
成する正特性サーミスタ装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27960094A JPH08138906A (ja) | 1994-11-14 | 1994-11-14 | 正特性サーミスタ装置、熱検出装置及び正特性サーミスタ装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27960094A JPH08138906A (ja) | 1994-11-14 | 1994-11-14 | 正特性サーミスタ装置、熱検出装置及び正特性サーミスタ装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08138906A true JPH08138906A (ja) | 1996-05-31 |
Family
ID=17613252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27960094A Withdrawn JPH08138906A (ja) | 1994-11-14 | 1994-11-14 | 正特性サーミスタ装置、熱検出装置及び正特性サーミスタ装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08138906A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0994491A3 (en) * | 1998-10-13 | 2002-03-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | PCT Thermistorelement |
| JP2002280746A (ja) * | 2001-03-20 | 2002-09-27 | Polytronics Technology Corp | 埋込み機能素子を備えたプリント回路基板 |
| JP2005310565A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Sharp Corp | 電磁調理器 |
| JP2006012771A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Samsung Sdi Co Ltd | 平板表示装置 |
| CN109406001A (zh) * | 2017-08-16 | 2019-03-01 | 深圳市刷新智能电子有限公司 | 一种超薄型的温度传感器的制造方法及温度传感器 |
| JP2020523581A (ja) * | 2017-07-21 | 2020-08-06 | テーデーカー エレクトロニクス アーゲー | 接触温度測定プローブ |
| CN118068618A (zh) * | 2024-01-18 | 2024-05-24 | 惠科股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
-
1994
- 1994-11-14 JP JP27960094A patent/JPH08138906A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0994491A3 (en) * | 1998-10-13 | 2002-03-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | PCT Thermistorelement |
| JP2002280746A (ja) * | 2001-03-20 | 2002-09-27 | Polytronics Technology Corp | 埋込み機能素子を備えたプリント回路基板 |
| JP2005310565A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Sharp Corp | 電磁調理器 |
| JP2006012771A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Samsung Sdi Co Ltd | 平板表示装置 |
| JP2020523581A (ja) * | 2017-07-21 | 2020-08-06 | テーデーカー エレクトロニクス アーゲー | 接触温度測定プローブ |
| CN109406001A (zh) * | 2017-08-16 | 2019-03-01 | 深圳市刷新智能电子有限公司 | 一种超薄型的温度传感器的制造方法及温度传感器 |
| CN118068618A (zh) * | 2024-01-18 | 2024-05-24 | 惠科股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020115 |