JPH0813990B2 - クリーム状磨き組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、優秀なクリーニング性、すすぎやすさ、お
よび光輝性能を示し、かつ清浄化すべき表面およびパッ
ケイジング材に対して攻撃的ではない安定で粘稠な研磨
剤含有磨き組成物に関する。

これらの組成物は、テルペン溶媒を実質上含まず、か
つプロピレングリコールから誘導される狭く定義された
溶媒を含有する。

背景 溶媒を含有する液状またはクリーム状の磨き組成物を
処方することは、周知である。

特に、研磨剤、およびテルペンと極性溶媒とから構成
される二成分溶媒系とを含有するクリーム状磨き組成物
は、欧州特許出願第0,126,545号明細書に開示されてい
る。これらの組成物においては、テルペンは、クリーニ
ング性を示すと共に製品粘度を高める望ましい乳化性を
示す。

しかしながら、テルペンを、清浄化すべきすべての種
類の表面およびパッケイジング材と十分に適合し、同時
に良好なクリーニング性および乳化性を示す溶媒と取り
替えることが望ましくなって来た。

プロピレングリコールから誘導される狭く定義された
溶媒を含有し、顕著なクリーニング効率、すすぎやすさ
および表面適合性を示すテルペン溶媒を含まない粘稠な
クリーム状磨きクレンザー組成物が処方できることが、
今見出された。

米国特許第3,591,510号明細書は、この種の溶媒を研
磨剤を含まない液体硬質表面クリーニング組成物中で使
用することを開示している。EP−Ａ第０ 040 882号明
細書は、プロピレングリコール誘導溶媒を、研磨剤を含
まない液体硬質表面クリーナーにおいてテルペンおよび
ベンジルアルコールと併用することを記載している。

本発明の目的は、清浄化すべき表面およびパッケイジ
ング材と十分に適合性である粘稠なクリーム状クレンザ
ー組成物を提供することにある。本発明の更に他の目的
は、優秀なクリーニング性、すすぎやすさ、および光輝
性能を有するクレンザー組成物を提供することにある。

発明の概要 本発明は、テルペン溶媒を実質上含まず、界面活性
剤、研磨剤、有機溶媒、および所望ならば通常の添加剤
を含有する粘稠なクリーム状磨きクレンザーであって、
上記クレンザーはテルペン溶媒を実質上含まず、かつ有
機溶媒は式 （式中、ＲはC₁〜C₈アルキル、アルケニルまたはアルキ
ルアリール基、好ましくはC₁〜C₄アルキル基であり、ｎ
は１〜４、好ましくは１または２の整数である） によって表されることを特徴とする粘稠なクリーム状磨
きクレンザーに関する。

発明の具体的説明 界面活性剤、研磨剤、溶媒および任意成分を以下に詳
述する。

特に断らない限り、％表示は、「重量％」を意味す
る。

界面活性剤 本発明で有用な水溶性洗剤界面活性剤としては、周知
の合成陰イオン界面活性剤、非イオン界面活性剤、両性
界面活性剤、双性界面活性剤およびそれらの混合物が挙
げられる。洗浄技術で周知のアルキルベンゼンサルフェ
ート、アルキルベンゼンスルホネート、パラフィンスル
ホネート、オレフィンスルホネート、アルコキシ化（特
にエトキシ化）アルコール、アルコキシ化（特にエトキ
シ化）アルキルフェノール、アミンオキシド、脂肪酸の
スルホネート、脂肪酸エステルのスルホネートなどが、
これらの界面活性剤を代表している。一般に、このよう
な洗剤界面活性剤は、C₁₀〜C₁₈範囲内のアルキル基を含
有する。陰イオン洗剤界面活性剤は、それらのナトリウ
ム塩、カリウム塩またはトリエタノールアンモニウム塩
の形態で最も普通に使用される。非イオン界面活性剤
は、一般に、疏水部分１モル当たり３〜17個のエチレン
オキシド基を含有する。C₁₂〜C₁₆アルキルベンゼンスル
ホネート、C₁₂〜C₁₈パラフィンスルホネートおよび式RO
（CH₂CH₂O）_ｎ（式中、ＲはC₁₂〜C₁₅アルキル鎖であ
り、ｎは６〜10の数である）のエトキシ化アルコール
が、本発明の組成物で特に好ましい。

陰イオン界面活性剤は、しばしば、組成物の0.3〜８
％、好ましくは２〜４％の量で存在する。非イオン界面
活性剤は、組成物の0.1〜６重量％で使用される。この
ような界面活性剤の混合物も、使用できる。界面活性剤
の全量は、好ましくは３％〜５％である。

研磨剤 本発明で使用する研磨剤の種類は、それらの比較的温
和な研磨性について文献で周知の水不溶性非粗粒物質か
ら選ばれる。本発明で使用する研磨剤は、望ましくない
程「引掻性」ではないことが高度に好ましい。モース硬
さ約７以下を有する研磨剤物質が、典型的には使用され
る。モース硬さ３以下を有する研磨剤は、アルミニウム
またはステンレス鋼仕上げ上の引掻を回避するために使
用できる。本発明で好適な研磨剤としては、無機物質、
特に炭酸カルシウム、ケイソウ土などの物質、並びにフ
ラー土、炭酸マグネシウム、チャイナクレー、アタパル
ジャイト、カルシウムヒドロキシアパタイト、オルトリ
ン酸カルシウム、ドロマイトなどの物質が挙げられる。
上記無機物質は、「強研磨剤」と定性化できる。尿素−
ホルムアルデヒド、メタクリル酸メチル、メラミン−ホ
ルムアルデヒド樹脂、ポリエチレン球、ポリ塩化ビニル
などの合成有機研磨剤は、或る表面、特にプラスチック
表面上への引掻を回避するために有利に使用できる。こ
のような「軟質研磨剤」を使用するときには、強ビルダ
ーが、組成物に配合できる。

典型的には、研磨剤は、粒径範囲10〜1000μを有し、
組成物において５％〜30％の濃度で使用される。増粘剤
は、しばしば、研磨剤を懸濁するために添加される。

有機溶媒 本組成物で使用すべき有機溶媒は、一般式 （式中、Ｒは炭素数１〜８のアルキル、アルケニルまた
はアルキルアリール基であり、ｎは１〜４の整数であ
る） を有する。好ましくは、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル
基であり、ｎは１または２である。特に好ましいＲ基
は、ｎ−ブチルまたはイソブチルである。最も好ましい
ものは、１−ｎ−ブトキシプロパン−２−オール（ｎ＝
１）、１（２−ｎ−ブトキシ−１−メチルエトキシ）プ
ロパン−２−オール（ｎ＝２）およびそれらの混合物で
ある。１−ｎ−ブトキシプロパン−２−オールが、特に
好ましい。

本発明の有機溶媒は、組成物の２〜10重量％、好まし
くは４〜６重量％の量で使用される。

溶媒系は、場合によって、上記溶媒との組み合わせ
で、水溶性カルビトール（CARBITOL^R）溶媒または水溶
性セロソルブ（CELLOSOLVE^R）溶媒を含有できる。水溶
性カルビトール溶媒は、アルコキシ基がエチル、プロピ
ルまたはブチルから誘導される２−（２−アルコキシエ
トキシ）エタノールの種類の化合物である。好ましい水
溶性カルビトールは、ブチルカルビトールとしても既知
の２−（２−ブトキシエトキシ）エタノールである。水
溶性セロソルブ溶媒は、２−アルコキシエトキシエタノ
ールの種類の化合物であり、２−ブトキシエトキシエタ
ノールが好ましい。

また、本発明の溶媒と併用するのに好適な溶媒は、ベ
ンジルアルコールおよびジオール、例えば、２−エチル
−1,3−ヘキサンジオールおよび2,2,4−トリメチル−1,
3−ペンタンジオールである。

上記補助溶媒は、組成物の0.1〜５％の量で使用でき
る。

本組成物は、テルペン溶媒を実質上含まない。溶媒を
一般に約２％を超える量で使用するので、テルペンは、
本組成物においてこのような割合では配合できない。し
かしながら、比較的微少な副添加（sub−additive）
量、例えば、約0.6％（全クレンザー組成物基準で計
算）未満のテルペンは、香料などの通常の成分に由来し
て存在できることが理解される。

任意成分 上記必須成分に加えて、本組成物は、高度に望ましい
ことがある追加成分を含有できる。

例えば、組成物は、洗浄性ビルダーおよび／または金
属イオン封鎖剤を含有することが高度に好ましい。洗浄
性ビルダーとして分類でき、かつ技術上周知の化合物と
しては、ニトリロトリアセテート（NTA）、エチレンジ
アミンテトラアセテート（EDTA）、アミノポリホスホネ
ート（DEQUEST）、水溶性ホスフェート、例えば、トリ
ホスフェートおよびオルトリン酸ナトリウムおよびピロ
リン酸ナトリウム、ケイ酸塩、およびそれらの混合物が
挙げられる。これらのビルダーは、好ましくは炭酸カル
シウムなどの強研磨剤とは併用されないが、ポリ塩化ビ
ニルなどの軟質有機研磨剤との組み合わせで推奨され
る。

より低い金属イオン封鎖定数の金属イオン封鎖剤は、
有利には、強研磨剤または軟質研磨剤と併用できる。こ
れらの金属イオン封鎖剤としては、ポリカルボキシレー
ト、サイトレートが挙げられる。本発明で使用するのに
好ましいビルダー／金属イオン封鎖剤は、NTA、EDTA、
サイトレートおよびそれらの混合物である。ビルダー／
金属イオン封鎖剤は、１％〜15％、好ましくは２％〜７
％の量で存在するであろう。

その上、石鹸を本発明の組成物に配合することが高度
に好ましい。ヤシ油脂肪酸から生成された石鹸が、好ま
しい。

石鹸は、組成物の0.2〜３重量％、好ましくは１重量
％を超える量、典型的には１〜２重量％の量で使用され
る。

これらの多量の石鹸の存在が制泡を与えるだけではな
く、本発明の特定の有機溶媒を含有する組成物に対する
増粘効果を有することが、驚異的なことに発見されたの
で、この量は、類似の組成物で現在使用されている量よ
りも明らかに多い。この発見は、増粘剤の量を非常に低
い水準に保つことを可能にし、このように増粘剤の或る
欠陥、例えば、実質量の使用から生ずるすすぎ上の困難
を実質上減少する。

増粘剤は、研磨剤を懸濁するために、本発明の組成物
に好ましくは配合すべきである。しかしながら、その量
は、２％以下、好ましくは0.2％〜1.5％に保たれるであ
ろう。ポリアクリレート、キサンタンゴム、カルボキシ
メチルセルロース、膨潤性スメクタイト粘土などの通常
の増粘剤は、本発明で使用できる。

また、任意化合物は、美点または追加の製品性能上の
利益を与えるために商品で典型的に使用されている成分
によって表される。典型的成分としては、pH調節剤、香
料、光学増白剤、汚れ沈殿防止剤、洗剤酵素、ゲル制御
剤、凍解安定剤、殺細菌剤、防腐剤などが挙げられる。

本発明で使用する別の任意成分は、通常の洗剤ヒドロ
トロープによって表される。好適なヒドロトロープの例
は、尿素、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミンおよびキシレンスルホン酸、
トルエンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸および
イソプロピルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、カリ
ウム塩、アンモニウム塩およびアルカノールアンモニウ
ム塩である。しかしながら、この種のヒドロトロープ物
質を必要とせずに安定な処方物を調製できることが、本
発明の特定の特徴である。

本組成物は、典型的には、担体として水約90％までを
含有する。例として、水量は、例えば、50％〜80％の範
囲内で変化できる。水−アルコール（例えば、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノールなど）混合物も、使
用できる。アルキル化多糖類は、組成物の安定性および
性能特性を高めるために使用できる。

本組成物は、好ましくは、アルカリ性pH範囲、一般に
pH8〜11、好ましくは約10〜10.8で処方する。水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウムなどの苛性物は、所望に応じ
てpHを調節し、緩衝するのに使用できる。

下記例は、本組成物を例示するものとして与えられる
ものであって、本発明の範囲を限定するものではない。

略称 NaPS:C₁₃〜C₁₆パラフィンスルホン酸ナトリウム； LAS:線状C₁₁〜C₈アルキルベンゼンスルホン酸のナトリ
ウム塩； LAB:線状Ｃ_10〜22アルキルベンゼン； ルテンゾル（Lutensol^R）A07:C₁₂〜C₁₄脂肪アルコール
１モルとエチレンオキシド７モルとの縮合物； ドバノール（Dobanol^R）45/7:アルコール１モル当たり
７モルのエチレンオキシドを有するC₁₄〜C₁₅オキソアル
コール； HC_nFA:ナローカット硬化ココナッツ脂肪酸； NTA:ニトリロ三酢酸ナトリウム； EDTA:エチレンジアミンテトラアセテート； CaCO₃:炭酸カルシウム； ソコラン（Sokolan^R）PHC25:架橋ポリアクリレート増粘
剤； ETHD:2−エチル−1,3−ヘキサンジオール； TMPD:2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール； PVC:ポリ塩化ビニル クリーム状クレンザーを、表示成分を下記割合（重量
％）で混合することによって調製した。

上記組成物を典型的硬質表面家庭汚れを代表する合成
汚れについて比較試験した。試験汚れは、次の通り調製
した。

ａ）HBTS汚れは、イソプロピルアルコール250ml、ステ
アリン酸カルシウム粉末75gおよびカーボンブラック0.5
gからなる。それをペイントローラーでエナメル被覆金
属板（洗剤で清浄化し、次いで、アルコールで清浄化）
上に塗布し、金属板を180℃で20分間焼成する。

ｂ）KD汚れは、カーボンブラックを有するHSW^R汚れ
（２）25％、クリスコ（Crisco^R）（１）油37.5％、ピ
ューリタン（Puritan^R）（１）油37.5％からなる。ペイ
ントローラーを使用して、この汚れをステンレス鋼板
（予め洗剤で清浄化し、次いで、アルコールで清浄化）
上にロール塗布した。汚れを硬化するのが困難であるの
で、非常に薄い均一な層が、必要である。ステンレス鋼
板を115℃（軟質汚れ）または170℃（硬質汚れ）のオー
ブンに２時間置き、次いで、少なくとも１日間エージン
グする。

（１）ザ・プロクター・エンド・ギャンブル・カンパニ
ーによって販売されている商業的調理油 （２）米国のチェム・パック・インコーポレーテッドに
よって販売されている商業的汚れ 試験条件は、下記の通りであった。

エリクセン（Erichsen）洗浄機を使用して、試験を行
った。走行熱水下で注意深く洗浄し、乾燥ロールを通し
て絞った後、約9.5×５×4cmのスポンジを使用した。被
試験未希釈クレンザー5gをスポンジの一面上に広げた。
クリーニング機の行程の数は、汚れの種類に応じて変化
した。可視のクリーニング差が認められるようになるや
否や、性能読みを行った。格付けを独立に働く３人の判
定者によって目視的に行った。性能上の利益は、下記の
通りデュープリケートとの対比較によって確立された。
０〜４のスケールを使用した。０は差なしを意味し、１
は差がありそうなことを意味し、２は差が確実にあるこ
とを意味し、３は明確な差を意味し、４は大差を意味す
る。

試験結果は、以下に表示のようであった。従来技術の
組成物Ａは、対照であり、これに対して例Ｉの組成物を
比較した。汚れ 組成物Ａ 例Ｉ KD Ref ＋0.5 HBTS Ref ＋2.0 上記試験は、関連技術の組成物に対する本組成物に由
来する有意な性能上の利益を明瞭に確認している。

更に、下記組成物を、調製する。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】界面活性剤、有機溶媒、研磨剤、および所
   望ならば通常の添加剤を含有する粘稠なクリーム状磨き
   クレンザーであって、上記クレンザーはテルペン溶媒を
   実質上含まず、かつ有機溶媒は式 （式中、ＲはC₁〜C₈アルキル、アルケニルまたはアルキ
   ルアリール基、好ましくはC₁〜C₄アルキル基であり、ｎ
   は１〜４の整数である） によって表されることを特徴とする粘稠なクリーム状磨
   きクレンザー。
2. 【請求項２】ＲがC₁〜C₄アルキル基であり、ｎは１また
   は２である、特許請求の範囲第１項に記載の組成物。
3. 【請求項３】有機溶媒が、１−ｎ−ブトキシプロパン−
   ２−オールであるか、１（２−ｎ−ブトキシ−１−メチ
   ルエトキシ）プロパン−２−オールであるか、それらの
   混合物である、特許請求の範囲第１項または第２項に記
   載の組成物。
4. 【請求項４】有機溶媒が、２〜10重量％の量で存在す
   る、特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか一項
   に記載の組成物。
5. 【請求項５】洗浄性ビルダーおよび／または金属イオン
   封鎖剤１〜15重量％を含有する、特許請求の範囲第１項
   ないし第４項のいずれか一項に記載の組成物。
6. 【請求項６】上記洗浄性ビルダーおよび／または金属イ
   オン封鎖剤物質が、ニトリロトリアセテート、エチレン
   ジアミンテトラアセテート、サイトレート、およびそれ
   らの混合物から選ばれる、特許請求の範囲第５項に記載
   の組成物。
7. 【請求項７】脂肪酸石鹸0.2％〜３％を含有する、特許
   請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか一項に記載の
   組成物。
8. 【請求項８】（ａ）有機界面活性剤３〜５重量％、 （ｂ）脂肪酸石鹸１〜２重量％、 （ｃ）１−ｎ−ブトキシプロパン−２−オール、１（２
   −ｎ−ブトキシ−１−メチルエトキシ）プロパン−２−
   オールおよびそれらの混合物から選ばれる有機溶媒４〜
   ６重量％、 （ｄ）ニトリロトリアセテート、エチレンジアミンテト
   ラアセテート、サイトレート、およびそれらの混合物か
   ら選ばれる洗浄性ビルダーおよび／または金属イオン封
   鎖剤物質２〜７重量％ を含有することを特徴とする粘稠なクリーム状磨きクレ
   ンザー。