JPH08141760A - 光ビーム加熱装置 - Google Patents
光ビーム加熱装置Info
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- JPH08141760A JPH08141760A JP6280576A JP28057694A JPH08141760A JP H08141760 A JPH08141760 A JP H08141760A JP 6280576 A JP6280576 A JP 6280576A JP 28057694 A JP28057694 A JP 28057694A JP H08141760 A JPH08141760 A JP H08141760A
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Abstract
熱膨張を低減することにより、安定した光エネルギーを
光ファイバーより出力する、光ビーム加熱装置を提供す
ることを目的とする。 【構成】 楕円面反射鏡1およびその第2焦点F2の位
置に光ファイバー3を固定するためのミラー筺体4と、
熱光源のキセノンランプ2とを備え、ミラー筺体4とキ
セノンランプ2との間に遮光板5、6を配し、さらに冷
却ファン7、8を備えるとともに、冷却ファンのための
遮光板9、10を備えているので、ミラー筺体4の熱膨
張が低減され、光ファイバー4に入射する光量の変化を
極小にすることができる。
Description
源を用い、これを集光し、電子部品やコネクター等のハ
ンダ付及び樹脂等の熱加工を行う光ビーム加熱装置に関
するものである。
構成になっており、以下これについて説明する。
または第1焦点F1の近傍に配置された熱光源(例えば
キセノンランプ等)、3は楕円面反射鏡1の第2焦点F
2に置かれた光ファイバー、4は楕円面反射鏡1と楕円
面反射鏡1の第2焦点F2位置に光ファイバー3を固定
するためのミラー筺体である。
た熱光源2から放射状に発生した光線は、楕円面反射鏡
1で反射され、第2焦点F2に集光し、この第2焦点F
2に置かれた光ファイバー3内に入る。光ファイバー3
の他端を電子部品等のハンダ付部に配置し、光ファイバ
ー3内を導かれた光ビームを照射することにより、ハン
ダ付等の加熱加工を行う。
従来の構成では熱光源2から照射された光線は全て楕円
面反射鏡1に入射せず、一部の光線はミラー筺体4の側
面を照射する。また、熱光源2は完全な点光源ではな
く、たとえばキセノンランプの場合は柱状の光源である
ため、楕円面反射鏡1で一点に集光するのは困難であ
る。光ファイバー3に入射しなかった光線はミラー筺体
4の底面を照射する。そこでミラー筺体4が発熱し温度
が上昇する。温度上昇に応じてミラー筺体4は膨張し、
楕円面反射鏡1の第2焦点F2と光ファイバー3の入射
端3aが一致しなくなり、光ファイバー3内に入射する
光量が徐々に減少するという問題点を有していた。
で、光軸を構成するミラー筺体の温度上昇による熱膨張
を低減することにより、安定した光エネルギーを光ファ
イバーより出力する、光ビーム加熱装置を提供すること
を目的とする。
に本発明の光ビーム加熱装置は、光を照射する光照射手
段と、前記光照射手段の照射した前記光を集光する集光
手段と、前記集光手段により集光された前記光を任意の
部分に伝達する光伝達手段と、前記集光手段と前記光伝
達手段とを保持する保持手段と、前記光が前記保持手段
に照射されることを防止する遮光手段を設けたものであ
る。
たものである。また、遮光手段の少なくとも光が照射さ
れる部分に光の吸収手段を備えたものである。
光で、光伝達手段に入射しない光は遮光手段に照射され
ることとなり、保持手段の熱膨張を防ぐことができ、集
光手段と光伝達手段との位置関係が保持され、光伝達手
段に入射する光エネルギーを安定させることができる。
温度上昇が保持手段に伝達されると、上記位置関係にズ
レを生じるので、冷却手段により遮光手段の温度上昇を
防いでいる。
光の吸収を良くしているので、遮光手段からの光の反射
を低減することができる。
しながら説明する。
反射鏡、2は光照射手段である熱光源のキセノンラン
プ、3は光伝達手段である光ファイバーで、入射端3a
が楕円面反射鏡の第2焦点F2と一致する位置に配置し
ている。4は保持手段であって楕円面反射鏡1と楕円面
反射鏡1の第2焦点F2の位置に光ファイバー3を固定
するためのミラー筺体、5はキセノンランプ2より照射
した光線より、ミラー筺体4を遮光するための遮光板、
6も同じくミラー筺体4の底面を遮光する遮光板、7及
び8は遮光板5及び6を冷却するための冷却ファン、9
及び10はキセノンランプ2より照射した光線より冷却
ファン7及び8を遮光し、発熱と紫外線による材料の劣
化を防止するための遮光板で、風を通すためのルーバー
9a及び10aを備えている。なお、遮光板5、6、
9、10は光線の吸収を良くするため、表面を黒色に処
理し、光の吸収手段としている。
について、図1を用いてその動作を説明する。
で、楕円面反射鏡1に入射しない光線11、及び12等
は遮光板5及び10により遮光されるのでミラー筺体4
を照射しない。そのためミラー筺体4は発熱しない。ま
た、キセノンランプ2等のようにアーク放電ランプの場
合は完全な点光源でないため、楕円面反射鏡1に入射し
ても第2焦点F2に集光せず散乱光13になるものがあ
る。
底面を遮光する。遮光板5、6、9及び10は表面を黒
色に処理し、光線の吸収を良くしており、光線の反射に
よるキセノンランプ2の発熱を低減している。また光線
を吸収した遮光板5、6、9及び10は発熱するため冷
却ファン7で外気を吸気し、冷却ファン8で装置外へ排
気する。そして、遮光板5、6、9及び10を冷却する
ことにより、遮光板5、6、9及び10の輻射熱によ
る、ミラー筺体4の温度上昇を低減する。ミラー筺体4
の温度上昇を低減することによりミラー筺体4の上下方
向への熱膨張が低減され、第2焦点F2と光ファイバー
4の入射端3aの位置関係が保持され、光ファイバー4
に入射する光量の変化を極小にすることができる。
る光ファイバー3からの出力の変化の比較を図2に示
す。
よる光ビーム加熱装置は光ファイバー3より出射する光
エネルギーの変化が少ないという点で優れた効果が得ら
れる。 なお、本実施例においては遮光板5、6、9、
10の表面の色は黒色としたが、濃紺等光の吸収の良い
色であれば特に黒色に限られるものではなく、また、ハ
ニカム状の構造を設ける等立体的な手段を用いてもよい
ことはいうまでもない。
れる光を遮断する遮光手段を設けたことにより、保持手
段の発熱・膨張を防止し、集光手段と光伝達手段との位
置関係を正確に保持することにより、光伝達手段に入射
する光量、すなわち、光伝達手段より出射する光エネル
ギーの変化が少なくなり、より安定したハンダ付や熱加
工ができる優れた光ビーム加熱装置を実現できるもので
ある。
たり、遮光手段の少なくとも光が照射される部分に光の
吸収手段を備えることにより、集光手段と光伝達手段と
の位置関係をより一層正確に保持することができ、さら
に優れた光ビーム加熱装置を提供することができる。
構成図
ー端からの出力比較図
Claims (3)
- 【請求項1】光を照射する光照射手段と、前記光照射手
段の照射した前記光を集光する集光手段と、前記集光手
段により集光された前記光を任意の部分に伝達する光伝
達手段と、前記集光手段と前記光伝達手段とを保持する
保持手段と、前記光が前記保持手段に照射されることを
防止する遮光手段を設けた光ビーム加熱装置。 - 【請求項2】遮光手段を冷却する冷却手段を備えた請求
項1記載の光ビーム加熱装置。 - 【請求項3】遮光手段の少なくとも光が照射される部分
に光の吸収手段を備えた請求項1記載の光ビーム加熱装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28057694A JP3287143B2 (ja) | 1994-11-15 | 1994-11-15 | 光ビーム加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28057694A JP3287143B2 (ja) | 1994-11-15 | 1994-11-15 | 光ビーム加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08141760A true JPH08141760A (ja) | 1996-06-04 |
| JP3287143B2 JP3287143B2 (ja) | 2002-05-27 |
Family
ID=17626963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28057694A Expired - Lifetime JP3287143B2 (ja) | 1994-11-15 | 1994-11-15 | 光ビーム加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3287143B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7738019B2 (en) | 2006-10-11 | 2010-06-15 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | System and method for providing automatic gain control in an imaging device |
-
1994
- 1994-11-15 JP JP28057694A patent/JP3287143B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3287143B2 (ja) | 2002-05-27 |
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