JPH08154155A - Document reading apparatus and optical axis adjusting method for imaging lens - Google Patents
Document reading apparatus and optical axis adjusting method for imaging lensInfo
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- JPH08154155A JPH08154155A JP6272076A JP27207694A JPH08154155A JP H08154155 A JPH08154155 A JP H08154155A JP 6272076 A JP6272076 A JP 6272076A JP 27207694 A JP27207694 A JP 27207694A JP H08154155 A JPH08154155 A JP H08154155A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 結像レンズの光軸ズレをなくして結像性能を
高めることにより、高品位な画像を得る原稿読取装置及
び結像レンズの光軸調整方法を提供する。
【構成】 波動光照明手段12からの光束を光束規制部
材13の微小開口部14に導いて回折パターンを発生さ
せ、この回折パターンをパターン表示手段15により観
察しながら、結像レンズ8を調整仮想光軸E上に介在さ
せたときと介在させないときとの回折パターンが一致す
るように、結像レンズ光軸調整手段を用いて結像レンズ
8のレンズ光軸Cを移動調整することによって、結像レ
ンズ8のレンズ光軸Cと照明手段から発せられる光束の
光軸とを一致させ、これにより結像レンズ8に対する入
射光軸のズレをなくして結像性能を高めるようにした。
(57) [Summary] [Object] To provide a document reading apparatus and an optical axis adjusting method for an imaging lens that can obtain a high-quality image by eliminating the optical axis shift of the imaging lens to improve the imaging performance. A light flux from the wave light illuminating means 12 is guided to a minute opening portion 14 of a light flux regulating member 13 to generate a diffraction pattern, and while the diffraction pattern is observed by the pattern display means 15, the imaging lens 8 is adjusted and virtual. The lens optical axis C of the imaging lens 8 is moved and adjusted using the imaging lens optical axis adjusting means so that the diffraction patterns with and without the optical axis E are aligned. The lens optical axis C of the image lens 8 and the optical axis of the light beam emitted from the illuminating means are made to coincide with each other, thereby eliminating the deviation of the incident optical axis with respect to the imaging lens 8 and enhancing the imaging performance.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、原稿読取装置及び結像
レンズの光軸調整方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a document reading apparatus and an optical axis adjusting method for an imaging lens.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の原稿読取装置として、CCDライ
ンセンサを用いた透過型の原稿読取装置を例に挙げて説
明する。図2は、その原稿読取装置の読取光学系の構成
例を示すものである。読取光学系を構成する装置本体1
内の上部には照明手段としての光源2が設けられてお
り、この光源2から出射した光は、コールドミラー3に
より下方に折り返され、原稿4を照明する。この原稿4
はコンタクトガラス5と押圧ガラス6との間で隙間なく
挾持されている。そして、原稿4を透過した光束Aは、
ミラー7により折り返されて結像レンズ8に入射し、こ
れにより集光されて受光手段としてのCCDラインセン
サ9(以下、CCDという)に結像され、原稿画像の読
取りが行われる。結像レンズ8とCCD9との間の投影
距離は、Lとされている。なお、装置本体1の底面は、
ベース10とされている。2. Description of the Related Art As a conventional document reading device, a transmissive document reading device using a CCD line sensor will be described as an example. FIG. 2 shows an example of the configuration of the reading optical system of the document reading device. Device body 1 that constitutes the reading optical system
A light source 2 as an illuminating unit is provided in the upper part of the inside, and light emitted from the light source 2 is folded back by a cold mirror 3 to illuminate a document 4. This manuscript 4
Is sandwiched between the contact glass 5 and the pressing glass 6 without any gap. Then, the light flux A transmitted through the original 4 is
The light is reflected by the mirror 7 and is incident on the imaging lens 8, which is focused and focused on a CCD line sensor 9 (hereinafter, referred to as CCD) as a light receiving means to read an original image. The projection distance between the imaging lens 8 and the CCD 9 is L. The bottom of the device body 1 is
It is said to be base 10.
【0003】実際の読取動作としては、コンタクトガラ
ス5と押圧ガラス6とが一体となって構成されたキャリ
ッジ11による読取解像度に対応した速度での副走査方
向(矢印方向)への走査と、CCD9による主走査方向
(副走査方向に直交するセンサ配列方向)への走査とよ
る2次元的な読取走査が同時に行われることにより実際
の読取りがなされる。この場合、組付け調整された全て
の光学部材が設計位置(理想位置)に配置されていれ
ば、光束Aの光軸Bと結像レンズ8のレンズ光軸Cとは
完全に一致し、光束Aは結像レンズ8に対して垂直に入
射するため、高品位な画像読取りを行うことができる。As an actual reading operation, scanning is performed in the sub-scanning direction (arrow direction) at a speed corresponding to the reading resolution by the carriage 11 in which the contact glass 5 and the pressing glass 6 are integrally formed, and the CCD 9 is used. The two-dimensional reading scanning by the scanning in the main scanning direction (the sensor array direction orthogonal to the sub-scanning direction) is simultaneously performed to perform the actual reading. In this case, if all the assembled and adjusted optical members are arranged at the design position (ideal position), the optical axis B of the light flux A and the lens optical axis C of the imaging lens 8 are completely coincident, and the light flux Since A is incident on the image forming lens 8 vertically, high-quality image reading can be performed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】CCD9を用いたデジ
タルの原稿読取装置においては、画像品質を高めるため
の手段として、原稿4面上の読取ラインと、CCD9の
読取ラインとを一致させるように調整することが不可欠
である。特に近年では、高解像度を得るために、CCD
9を複数個読取ライン方向(主走査方向)に配列して読
取画素数を増やした装置もある。このようなCCD9が
複数個配列された原稿読取装置においては、原稿4面上
の読取ラインと、CCD9の読取ラインとを一致させる
ために、副走査方向の読取ラインのつなぎ調整だけでな
く、主走査方向の読取ラインのつなぎ調整も必要となっ
てくる。In a digital document reading device using the CCD 9, as a means for improving image quality, the reading line on the surface of the document 4 and the reading line of the CCD 9 are adjusted to match each other. Is essential. Especially in recent years, in order to obtain high resolution, CCD
There is also an apparatus in which a plurality of 9s are arranged in the reading line direction (main scanning direction) to increase the number of read pixels. In such a document reading device in which a plurality of CCDs 9 are arranged, in order to match the reading line on the surface of the document 4 with the reading line of the CCD 9, not only the adjustment of the connection of the reading lines in the sub-scanning direction but also the main adjustment is performed. It is also necessary to adjust the connection of reading lines in the scanning direction.
【0005】このような読取ラインのつなぎ調整に関す
る公知例の代表的なものとしては、特公昭55−180
96号公報、及び、特開昭59−122171号公報に
記載された技術がある。特公昭55−18096号公報
では、各CCDと結像レンズとの相対位置を、ネジとバ
ネとを用いて主走査方向及び副走査方向に微調整するこ
とによって読取ラインのつなぎ調整を行っている。ま
た、特開昭59−122171号公報では、CCDと結
像レンズとをモジュール化し、そのモジュールの調整量
を原稿面上の読取ラインのズレ量と等しくすることによ
って読取ラインのつなぎ調整を行っている。As a typical example of the publicly known examples relating to such connection adjustment of reading lines, Japanese Patent Publication No. 55-180.
There are techniques described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 96-96, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-122171. In Japanese Examined Patent Publication No. 55-18096, connection adjustment of reading lines is performed by finely adjusting the relative position between each CCD and the imaging lens in the main scanning direction and the sub scanning direction using a screw and a spring. . Further, in JP-A-59-122171, the CCD and the imaging lens are modularized, and the adjustment amount of the module is made equal to the deviation amount of the reading line on the original surface to adjust the connection of the reading lines. There is.
【0006】上述したような従来の原稿読取装置におい
てはレンズ性能の範囲内で原稿面上のある点とCCDと
が相対的にズレていれば、結像レンズに対して斜めに入
射してレンズ光軸からズレていても読取りを行ってい
た。しかし、原稿面上のある点とCCDとを結ぶ主光線
は、結像レンズに対して垂直に入射してそのレンズ光軸
と一致していることが理想的であり、レンズ光軸からズ
レると、各結像レンズの収差のバラツキが大きくなり、
結像性能が劣化してしまう。このような結像性能の低下
は画像品質の低下を招き、高品位な画像読取りを必要と
する印刷や製版の分野では重大な問題となる。また、公
知例のように1個の結像レンズに1個のCCDを対応さ
せたものを複数組用いたものでは、原稿面上の読取ライ
ンを分割して読取る場合、同一性能のレンズを用いても
各レンズを通る各光束の場所により、結像性能がバラツ
キ、分割した読取幅毎に画像品質の違いを生じる。In the conventional document reading apparatus as described above, if a certain point on the document surface and the CCD are relatively misaligned within the range of lens performance, the image is obliquely incident on the imaging lens and the lens is moved. Even if it was off the optical axis, it was still reading. However, it is ideal that the chief ray that connects a certain point on the document surface to the CCD is incident perpendicularly to the imaging lens and coincides with the lens optical axis, and if it deviates from the lens optical axis. , The variation of the aberration of each imaging lens becomes large,
The imaging performance is deteriorated. Such a reduction in image forming performance causes a reduction in image quality, which is a serious problem in the fields of printing and plate making that require high-quality image reading. Further, in the case of using a plurality of sets in which one CCD is associated with one imaging lens as in the known example, when the reading lines on the original surface are divided and read, the lenses having the same performance are used. However, the imaging performance varies depending on the location of each light flux passing through each lens, and the image quality differs for each divided reading width.
【0007】また、結像レンズとCCDとの間に直角ミ
ラーを入れ、1個の結像レンズに2個のCCDを対応さ
せ、原稿面上の読取ラインを2分割して読取るような場
合(特開昭57−87277号公報参照)は、原稿面上
における光源の照度ピーク位置、読取位置、レンズ光
軸、直角ミラーの頂点などが全て一致又は略一致してい
ないと、各CCDに入射する光束は結像性能だけでな
く、絶対光量、光量分布、読取幅などに違いを生じ、画
像品質をかなり低下させてしまう。In the case where a right-angle mirror is inserted between the image forming lens and the CCD and two CCDs are associated with one image forming lens so that the reading line on the original surface is divided into two and read ( According to Japanese Patent Laid-Open No. 57-87277), if the illuminance peak position of the light source on the document surface, the reading position, the lens optical axis, the vertex of the right-angled mirror, etc. are not all the same or substantially the same, the light is incident on each CCD. The light flux causes not only the imaging performance but also the absolute light amount, the light amount distribution, the reading width, and the like, which considerably deteriorates the image quality.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明で
は、原稿を照明手段により照明し、この照明により前記
原稿の読取情報を含んだ光束を結像レンズに導き、この
結像レンズにより結像された光束を受光手段に結像させ
ることにより前記原稿の読取情報を読取る原稿読取装置
において、前記結像レンズの入出射の何れか一方側の調
整仮想光軸上に波動光(レーザ光等)を発する波動光照
明手段を配設し、前記結像レンズの入出射の前記波動光
照明手段とは反対側の前記調整仮想光軸上に前記波動光
照明手段から発せられた前記波動光を規制する微小開口
部を有する光束規制部材を配設し、この光束規制部材に
より発生した回折パターンを受光して表示するパターン
表示手段を設け、前記結像レンズをそのレンズ光軸が調
整自在となるように支持する結像レンズ光軸調整手段を
設けた。According to a first aspect of the present invention, an original is illuminated by an illuminating means, a light flux containing read information of the original is guided to an image forming lens by this illumination, and the image forming lens combines the light. In an original reading device for reading the read information of the original by forming an image of the imaged light flux on a light receiving means, a wave light (laser light or the like) is provided on an adjustment virtual optical axis on either side of the entrance and exit of the imaging lens. ) Is provided, and the wave light emitted from the wave light illumination means is provided on the adjusted virtual optical axis on the side opposite to the wave light illumination means of the entrance and exit of the imaging lens. A light flux regulating member having a minute aperture for regulating is provided, pattern display means for receiving and displaying a diffraction pattern generated by the light flux regulating member is provided, and the lens optical axis of the imaging lens is adjustable. like It provided an imaging lens optical axis adjusting means for lifting.
【0009】請求項2記載の発明では、請求項1記載の
発明において、少なくとも2つの光束規制部材を、結像
レンズの入出射の何れか一方側に配設した波動光照明手
段とは反対側の調整仮想光軸上に配設した。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, at least two light flux regulating members are arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens, and the side opposite to the wave light illumination means. The adjustment was made on the virtual optical axis.
【0010】請求項3記載の発明では、請求項1又は2
記載の発明において、光束規制部材を、結像レンズの入
出射の何れか一方側に配設した波動光照明手段と同じ側
の調整仮想光軸上に配設した。In the invention of claim 3, claim 1 or 2
In the invention described above, the light flux regulating member is arranged on the adjusted virtual optical axis on the same side as the wave light illumination means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens.
【0011】請求項4記載の発明では、請求項1,2又
は3記載の発明において、少なくとも1つの光束規制部
材を、結像レンズの略像面位置又はその像面距離と略等
しい位置に配設した。According to a fourth aspect of the present invention, in the first, second or third aspect of the invention, at least one light flux regulating member is arranged at a position substantially equal to the image plane position of the imaging lens or a position substantially equal to the image plane distance thereof. I set it up.
【0012】請求項5記載の発明では、請求項1,2,
3又は4記載の発明において、少なくとも2つの光束規
制部材で形成される各微小開口部の中心を結ぶ線と結像
レンズの調整仮想光軸とを一致又は略一致させる位置決
め手段を、装置本体に取付けた。According to the invention of claim 5, claims 1, 2,
In the invention described in 3 or 4, the apparatus main body is provided with a positioning means for aligning or substantially aligning a line connecting the centers of the respective minute apertures formed by at least two light flux regulating members with the adjusted virtual optical axis of the imaging lens. I installed it.
【0013】請求項6記載の発明では、請求項1,2,
3又は4記載の発明において、波動光照明手段からの光
束を規制する微小開口部を、結像レンズの調整仮想光軸
と交差する位置の装置本体に形成した。According to the invention of claim 6, claims 1, 2 and
In the invention described in 3 or 4, a minute opening portion that regulates the light flux from the wave light illuminating means is formed in the apparatus main body at a position that intersects the adjusted virtual optical axis of the imaging lens.
【0014】請求項7記載の発明では、請求項1,2,
3又は4記載の発明において、少なくとも1つの光束規
制部材を、結像レンズの調整仮想光軸上でかつ装置本体
外部の位置に配設した。According to the invention described in claim 7, claims 1, 2,
In the invention described in 3 or 4, at least one light flux regulating member is arranged at a position on the adjustment virtual optical axis of the imaging lens and outside the apparatus main body.
【0015】請求項8記載の発明では、請求項1,2,
3,4,5,6又は7記載の発明において、結像レンズ
の調整仮想光軸と、微小開口部を通過する波動光照明手
段の光束の光軸とが一致又は略一致するように、前記波
動光照明手段の光束の光軸を調整する波動光光軸調整手
段を設けた。In the invention described in claim 8, claims 1, 2,
In the invention described in 3, 4, 5, 6 or 7, the adjustment virtual optical axis of the imaging lens and the optical axis of the light flux of the wave light illuminating means passing through the minute opening are aligned or substantially aligned with each other. The wave light optical axis adjusting means for adjusting the optical axis of the light flux of the wave light illuminating means is provided.
【0016】請求項9記載の発明では、請求項1,2,
3,4,5,6,7又は8記載の発明において、結像レ
ンズの調整仮想光軸と、微小開口部の中心位置とが一致
又は略一致するように、前記微小開口部の中心位置を調
整する開口部中心位置調整手段を設けた。According to the invention of claim 9, claims 1, 2 and
In the invention described in 3, 4, 5, 6, 7 or 8, the center position of the minute opening is set so that the adjusted virtual optical axis of the imaging lens and the center position of the minute opening match or substantially match. An opening center position adjusting means for adjusting is provided.
【0017】請求項10記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8又は9記載の発明におい
て、少なくとも光束規制部材と結像レンズを保持するレ
ンズ保持部材とを、装置本体の少なくとも同一構成部材
(ベース等)上に配設した。According to the invention of claim 10,
In the invention described in 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 or 9, at least the light flux regulating member and the lens holding member that holds the imaging lens are provided on at least the same constituent member (base or the like) of the apparatus main body. Arranged.
【0018】請求項11記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8,9又は10記載の発明に
おいて、結像レンズを保持するレンズ保持部材が設置さ
れる装置本体の構成部材(ベース等)のその設置部及び
その周辺部に、高剛性手段を施した。According to the invention of claim 11, claim 1
In the invention described in 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, or 10, the installation portion of the component member (base or the like) of the apparatus main body in which the lens holding member for holding the imaging lens is installed, and A high-rigidity means is applied to the peripheral portion.
【0019】請求項12記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8,9,10又は11記載の
発明において、結像レンズの入出射の何れか一方側に配
設した波動光照明手段とは反対側の調整仮想光軸上に配
設された光束規制部材を調整仮想光軸方向に移動させる
光束規制部材移動調整手段を設けた。According to the invention of claim 12,
In the invention described in 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, or 11, the adjustment virtual on the side opposite to the wave light illumination means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. A light flux regulating member movement adjusting means for moving the light flux regulating member arranged on the optical axis in the adjustment virtual optical axis direction is provided.
【0020】請求項13記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8,9,10,11又は12
記載の発明において、回折パターンを受光して表示する
パターン表示手段として受光モニタを用いた。According to the invention described in claim 13,
2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 or 12
In the described invention, the light receiving monitor is used as the pattern display means for receiving and displaying the diffraction pattern.
【0021】請求項14記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12又
は13記載の発明において、パターン表示手段を調整仮
想光軸方向に移動させ投影位置を調整する投影位置移動
調整手段を設けた。According to the invention of claim 14, claim 1
In the invention described in 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, or 13, projection position movement adjusting means for adjusting the projection position by moving the pattern display means in the adjustment virtual optical axis direction. Was set up.
【0022】請求項15記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,
13又は14記載の発明において、少なくとも光束規制
部材の微小開口部の大きさを可変する開口部可変手段を
設けた。According to the invention of claim 15, claim 1,
2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,
In the invention described in 13 or 14, at least aperture changing means for changing the size of the minute aperture of the light flux regulating member is provided.
【0023】請求項16記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,
13,14又は15記載の発明において、少なくとも光
束規制部材の微小開口部の大きさと、この微小開口部か
らパターン表示手段までの投影距離とを可変する開口部
・投影位置可変手段を設けた。According to the invention of claim 16, claim 1
2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,
In the invention described in 13, 14, or 15, the opening / projection position varying means for varying at least the size of the minute opening of the light flux regulating member and the projection distance from the minute opening to the pattern display means is provided.
【0024】請求項17記載の発明では、請求項1,
2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,
13,14,15又は16記載の発明において、光軸調
整用テーブル上に、少なくとも波動光照明手段と、この
波動光照明手段の光束の光軸と結像レンズの調整仮想光
軸とが一致又は略一致するように前記結像レンズを保持
した装置本体の構成部材(ベース等)を位置決めする位
置決め手段とを配設し、前記構成部材を前記光軸調整用
テーブルに対して着脱自在とした。According to the invention of claim 17, claim 1
2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,
In the invention described in 13, 14, 15 or 16, at least the wave light illuminating means, the optical axis of the light flux of the wave light illuminating means, and the adjusted virtual optical axis of the imaging lens coincide with each other on the optical axis adjusting table, or Positioning means for positioning the constituent members (base, etc.) of the apparatus main body holding the imaging lens so as to substantially coincide with each other are provided, and the constituent members are detachable from the optical axis adjusting table.
【0025】請求項18記載の発明では、結像レンズの
調整仮想光軸と微小開口部を有する光束規制部材の前記
微小開口部の中心とが一致又は略一致するように、前記
光束規制部材を装置本体内部に位置決めする第一の光軸
調整工程と、前記微小開口部の中心と波動光(レーザ光
等)を発する波動光照明手段の光軸とが一致又は略一致
するように、前記波動光照明手段の位置を回折パターン
を用いて調整し位置決めする第二の光軸調整工程と、前
記結像レンズを前記調整仮想光軸上に配置させこの結像
レンズを介在させる前の前記回折パターンと介在させた
後の回折パターンとを比較し両方の回折パターンが一致
又は略一致するように前記結像レンズの光軸調整を行う
第三の光軸調整工程とを用いた。In the eighteenth aspect of the present invention, the light flux regulating member is arranged so that the adjusted virtual optical axis of the imaging lens and the center of the minute aperture of the light flux regulating member having the minute aperture coincide or substantially coincide with each other. The first optical axis adjusting step of positioning inside the apparatus main body and the wave so that the center of the minute opening and the optical axis of the wave light illuminating means for emitting wave light (laser light etc.) coincide or substantially coincide with each other. A second optical axis adjusting step of adjusting and positioning the position of the light illuminating means using a diffraction pattern, and the diffraction pattern before the image forming lens is arranged on the adjusted virtual optical axis and the image forming lens is interposed And a third optical axis adjusting step of adjusting the optical axis of the imaging lens so that both diffraction patterns coincide or substantially coincide with each other.
【0026】請求項19記載の発明では、結像レンズの
調整仮想光軸と微小開口部を有する第一の光束規制部材
の前記微小開口部の中心とが一致又は略一致するよう
に、前記第一の光束規制部材を装置本体内部に位置決め
する第一の光軸調整工程と、前記第一の光束規制部材の
前記微小開口部の中心と波動光(レーザ光等)を発する
波動光照明手段の光軸とが一致又は略一致するように、
前記波動光照明手段の位置を回折パターンを用いて調整
して位置決めする第二の光軸調整工程と、前記第一の光
束規制部材が配設された位置とは異なる前記調整仮想光
軸上の前記装置本体内部又は装置本体外部に第二の光束
規制部材を配設し、この第二の光束規制部材の微小開口
部の中心と前記波動光照明手段の光束の光軸とが一致又
は略一致するように、前記第二の光束規制部材の位置を
調整して位置決めする第三の光軸調整工程と、前記結像
レンズを前記調整仮想光軸上に配置させこの結像レンズ
を介在させる前の前記回折パターンと介在させた後の回
折パターンとを比較し前記両方の回折パターンが一致又
は略一致するように前記結像レンズの光軸調整を行う第
四の光軸調整工程とを用いた。In the nineteenth aspect of the present invention, the adjustment virtual optical axis of the imaging lens and the center of the minute aperture of the first light flux regulating member having the minute aperture are aligned or substantially aligned with each other. A first optical axis adjusting step of positioning one light flux regulating member inside the apparatus main body; and a wave light illuminating means for emitting wave light (laser light or the like) to the center of the minute opening of the first light flux regulating member. So that the optical axes match or almost match,
A second optical axis adjusting step for adjusting and positioning the position of the wave light illuminating means by using a diffraction pattern, and a position on the adjusted virtual optical axis different from the position where the first light flux regulating member is arranged. A second light flux restricting member is disposed inside or outside the device main body, and the center of the minute opening of the second light flux restricting member and the optical axis of the light flux of the wave light illumination means coincide or substantially coincide with each other. As described above, the third optical axis adjusting step of adjusting and positioning the position of the second light flux regulating member, and the step of arranging the imaging lens on the adjusted virtual optical axis and interposing this imaging lens And a fourth optical axis adjusting step of adjusting the optical axis of the imaging lens so that both the diffraction patterns are matched or substantially matched with each other. .
【0027】請求項20記載の発明では、請求項18又
は19記載の発明において、少なくとも光軸調整に必要
な最小限度の部材を、光軸調整工程により光軸調整を行
う前の段階で装置本体内部に組付ける本体組付工程を設
けた。According to a twentieth aspect of the invention, in the eighteenth or nineteenth aspect of the invention, at least the minimum member necessary for the optical axis adjustment is provided at the stage before the optical axis adjustment is performed by the optical axis adjusting step. A process for assembling the main body inside was provided.
【0028】請求項21記載の発明では、請求項18又
は19記載の発明において、装置本体の構成部材のう
ち、少なくとも結像レンズと受光手段と光軸調整時に波
動光照明手段の光束を遮光してしまう部材とを着脱自在
とし、これら着脱自在とされた部材を除く構成部材を、
光軸調整工程により光軸調整を行う前の段階で装置本体
内部に組付ける本体組付工程を設けた。According to a twenty-first aspect of the invention, in the eighteenth or nineteenth aspect of the invention, among the constituent members of the apparatus main body, at least the imaging lens, the light receiving means, and the light flux of the wave light illuminating means are shielded when the optical axis is adjusted. The members that can be detached are detachable, and the constituent members excluding these detachable members are
A main body assembling step for assembling inside the main body of the apparatus is provided before the optical axis adjustment by the optical axis adjusting step.
【0029】請求項22記載の発明では、請求項21記
載の発明において、装置本体の構成部材のうち、光軸調
整時に波動光照明手段からの光束を遮光してしまう部材
に開口部を形成し、この開口部に前記光束を通過させて
光軸調整を行うようにした。According to a twenty-second aspect of the present invention, in the twenty-first aspect of the present invention, among the constituent members of the apparatus main body, an opening is formed in a member that shields a light beam from the wave light illuminating means at the time of adjusting the optical axis. The light flux is passed through this opening to adjust the optical axis.
【0030】[0030]
【作用】請求項1記載の発明においては、結像レンズの
入出射の何れか一方側の調整仮想光軸上に配設した波動
光照明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、結像
レンズの調整仮想光軸上を進んでいき、結像レンズの入
出射の波動光照明手段とは反対側の前記調整仮想光軸上
に配設した光束規制部材の微小開口部に入射することに
よって回折パターンが発生し、この発生した回折パター
ンはパターン表示手段に受光されて表示される。このと
き、パターン表示手段にて表示される結像レンズを調整
仮想光軸上に介在させたときの回折パターンと介在させ
ないときの回折パターンとを観察しながら、結像レンズ
光軸調整手段を用いて結像レンズのレンズ光軸を移動調
整することによってそれら両方のパターンを一致させ、
これにより、結像レンズのレンズ光軸を調整仮想光軸に
一致させることができる。According to the first aspect of the invention, the wave light such as the laser light emitted from the wave light illuminating means disposed on the adjustment virtual optical axis on either side of the entrance and exit of the imaging lens is combined. Moving on the adjusted virtual optical axis of the image lens, and entering the minute aperture of the light flux regulating member disposed on the adjusted virtual optical axis on the side opposite to the wave light illumination means for entering and exiting the imaging lens. A diffraction pattern is generated by this, and the generated diffraction pattern is received by the pattern display means and displayed. At this time, the imaging lens optical axis adjusting means is used while observing the diffraction pattern when the imaging lens displayed by the pattern display means is interposed on the adjusted virtual optical axis and the diffraction pattern when not interposed. By adjusting the lens optical axis of the imaging lens by adjusting the two patterns,
Thereby, the lens optical axis of the imaging lens can be matched with the adjusted virtual optical axis.
【0031】請求項2記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、結像レン
ズの入出射の何れか一方側に配設した波動光照明手段と
は反対側の調整仮想光軸上に配置された少なくとも2つ
の光束規制部材の微小開口部を通過し、これら複数の微
小開口部を通過して得られた回折パターンはパターン表
示手段に受光され表示される。このとき、結像レンズを
通過した光束が複数の微小開口部を通過するように結像
レンズのレンズ光軸の調整が行われる。According to the second aspect of the invention, the wave light such as the laser light emitted from the wave light illuminating means is opposite to the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. The diffraction patterns obtained by passing through the minute apertures of at least two light flux regulating members arranged on the adjustment virtual optical axis on the side and obtained by passing through the plurality of minute apertures are received by the pattern display means and displayed. . At this time, the lens optical axis of the imaging lens is adjusted so that the light flux passing through the imaging lens passes through the plurality of minute openings.
【0032】請求項3記載の発明においては、波動光照
明手段から発せられたレーザ光等の波動光は、結像レン
ズの入出射の何れか一方側に配設した波動光照明手段と
同じ側の調整仮想光軸上に配置された光束規制部材の微
小開口部を通過した後、結像レンズの入出射の波動光照
明手段とは反対側の調整仮想光軸上に配置された光束規
制部材の微小開口部を通過し、これにより得られた回折
パターンはパターン表示手段に受光され表示される。こ
のとき、結像レンズの入出射の波動光照明手段と同じ側
の調整仮想光軸上に配置された微小開口部によって、光
軸調整の基準となる波動光照明手段の位置が常にチェッ
クされる。According to the third aspect of the present invention, the wave light such as laser light emitted from the wave light illuminating means is on the same side as the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. After passing through the minute opening of the light flux regulating member arranged on the adjusted virtual optical axis, the light flux regulating member arranged on the adjusted virtual optical axis on the side opposite to the wave light illuminating means for entering and exiting the imaging lens. The diffraction pattern obtained by passing through the minute openings of the above is received by the pattern display means and displayed. At this time, the position of the wave light illumination means serving as a reference for the optical axis adjustment is always checked by the minute opening arranged on the adjustment virtual optical axis on the same side as the incident / emitted wave light illumination means of the imaging lens. .
【0033】請求項4記載の発明においては、結像レン
ズの略像面位置又はその像面距離と略等しい位置に配設
された光束規制部材を通過して得られた回折パターンを
用いて結像レンズの光軸調整を行うことによって、結像
レンズのわずかな光軸ズレを許容するような装置に適応
した調整が行える。According to the invention described in claim 4, the diffraction pattern obtained by passing through the light flux restricting member arranged at a substantially image plane position of the imaging lens or a position substantially equal to the image plane distance is used. By adjusting the optical axis of the image lens, it is possible to perform adjustment suitable for a device that allows a slight deviation of the optical axis of the imaging lens.
【0034】請求項5記載の発明においては、装置本体
に取付けられた位置決め手段を用いて少なくとも2つの
光束規制部材を位置決めすることによって、それら位置
決めされた光束規制部材で形成される各微小開口部の中
心を結ぶ線を結像レンズの調整仮想光軸に一致又は略一
致させることができ、これにより、光軸調整の基準とな
る調整仮想光軸を簡単にしかも高精度に設定でき、目に
見える状態とすることができる。According to the fifth aspect of the present invention, at least two light flux regulating members are positioned by using the positioning means attached to the apparatus main body, so that each minute opening formed by the positioned light flux regulating members. The line connecting the centers of the two can be matched or substantially matched with the adjusted virtual optical axis of the imaging lens, which allows the adjusted virtual optical axis, which is the reference for the optical axis adjustment, to be set easily and with high accuracy. Can be seen.
【0035】請求項6記載の発明においては、波動光照
明手段からの光束は、装置本体に形成された微小開口部
から本体内部に進入し、結像レンズの調整仮想光軸に沿
って進んでいき、別の装置本体に形成された微小開口部
から本体外部に出射し、これにより発生した回折パター
ンはパターン表示手段に表示される。このように装置本
体に微小開口部を形成することによって、光束規制部材
を本体内部に設置することなしに、何時でも結像レンズ
の光軸調整を簡単に行える。In the sixth aspect of the invention, the light flux from the wave light illuminating means enters the inside of the main body through a minute opening formed in the main body of the apparatus, and advances along the adjusted virtual optical axis of the imaging lens. Then, the light is emitted to the outside of the main body from a minute opening formed in another apparatus main body, and the diffraction pattern generated thereby is displayed on the pattern display means. By forming the minute opening in the main body of the apparatus as described above, the optical axis of the imaging lens can be easily adjusted at any time without installing the light flux regulating member inside the main body.
【0036】請求項7記載の発明においては、光束規制
部材を装置本体外部の位置に配設して結像レンズの光軸
調整を行うことによって、光束規制部材の調整仮想光軸
上への組付け作業性が容易となる。In the seventh aspect of the invention, the light flux regulating member is arranged at a position outside the main body of the apparatus to adjust the optical axis of the imaging lens, so that the light flux regulating member is assembled on the adjusted virtual optical axis. The attaching workability becomes easy.
【0037】請求項8記載の発明においては、波動光光
軸調整手段を用いて波動光照明手段から発せられる光束
の光軸を結像レンズの調整仮想光軸に一致又は略一致さ
せることによって、波動光照明手段の光束の出射初期の
段階における光軸ズレや、経時変化に伴って生じる光軸
ズレに対して、素早くしかも高精度に対応させることが
できる。In the eighth aspect of the present invention, the optical axis of the light beam emitted from the wave light illumination means is made to coincide or substantially coincide with the adjusted virtual optical axis of the imaging lens by using the wave light optical axis adjusting means. It is possible to quickly and highly accurately cope with an optical axis shift in the initial stage of emission of the light flux of the wave light illuminating means and an optical axis shift caused by a change over time.
【0038】請求項9記載の発明においては、開口部中
心位置調整手段を用いて微小開口部の中心位置を結像レ
ンズの調整仮想光軸に一致又は略一致させることによっ
て、光軸調整が一段と容易となり、簡単に高精度な位置
決めが行える。In the ninth aspect of the invention, the optical axis adjustment is further performed by using the opening center position adjusting means to match or substantially match the center position of the minute opening with the adjusted virtual optical axis of the imaging lens. It will be easier and you can easily perform high-precision positioning.
【0039】請求項10記載の発明においては、少なく
とも光束規制部材とレンズ保持部材とを、装置本体の少
なくともベース等の同一構成部材上に配置させることに
よって、それら取付け部分の加工精度及び成形精度を高
くとることができる。According to the tenth aspect of the present invention, at least the light flux regulating member and the lens holding member are arranged on at least the same component member such as the base of the apparatus main body, so that the processing accuracy and the molding accuracy of the mounting portions can be improved. It can be expensive.
【0040】請求項11記載の発明においては、レンズ
保持部材が設置されるベース等の構成部材のその設置部
領域に高剛性手段を施したことによって、結像レンズや
レンズ保持部材等の自重による装置本体のベース等の構
成部材のたわみを防止させることができる。According to the eleventh aspect of the present invention, the high rigidity means is provided in the installation portion area of the constituent member such as the base on which the lens holding member is installed, so that the weight of the imaging lens and the lens holding member is reduced. It is possible to prevent flexure of constituent members such as the base of the apparatus body.
【0041】請求項12記載の発明においては、光束規
制部材移動調整手段を用いて、結像レンズの入出射の何
れか一方側に配設した波動光照明手段とは反対側に位置
する光束規制部材を調整仮想光軸方向に沿って移動させ
ることによって、光束規制部材を通過して表示される回
折パターンのボケをなくし鮮明なパターンが得られる。In the twelfth aspect of the invention, the light flux regulating member movement adjusting means is used to regulate the light flux located on the opposite side of the wave light illuminating means disposed on either side of the entrance and exit of the imaging lens. By moving the member along the direction of the adjusted virtual optical axis, it is possible to eliminate the blurring of the diffraction pattern displayed after passing through the light flux regulating member and obtain a clear pattern.
【0042】請求項13記載の発明においては、回折パ
ターンの状態をパターン表示手段として受光モニタ、例
えば、CCDカメラに受光させることによって、その回
折パターンを人間の主観的評価によらず、客観的評価で
観察して調整することができる。According to the thirteenth aspect of the present invention, the state of the diffraction pattern is used as a pattern display means by a light receiving monitor, for example, a CCD camera, to receive the light, so that the diffraction pattern is objectively evaluated, not by the subjective evaluation of a person. You can observe it and adjust it.
【0043】請求項14記載の発明においては、投影位
置移動調整手段を用いて、パターン表示手段を調整仮想
光軸方向に沿って移動させ投影位置を調整することによ
って、その投影される回折パターンの光量と大きさとを
観察しながら、光軸調整に最適なパターン状態を作るこ
とができる。In the fourteenth aspect of the present invention, the projection position movement adjusting means is used to move the pattern display means along the adjustment virtual optical axis direction to adjust the projection position, whereby the projected diffraction pattern While observing the amount and size of light, it is possible to create the optimum pattern state for adjusting the optical axis.
【0044】請求項15記載の発明においては、開口部
可変手段を用いて少なくとも微小開口部の大きさを可変
することによって、回折パターンの光量と大きさとの微
妙なコントロールを行える。According to the fifteenth aspect of the present invention, the amount of light of the diffraction pattern and the size thereof can be delicately controlled by changing the size of at least the minute opening using the opening changing means.
【0045】請求項16記載の発明においては、開口部
・投影位置可変手段を用いて少なくとも微小開口部の大
きさと、この微小開口部からパターン表示手段までの投
影距離とを同時に連動して可変することによって、回折
パターンの光量と大きさとのコントロール範囲を拡大で
きる。In the sixteenth aspect of the present invention, at least the size of the minute opening and the projection distance from the minute opening to the pattern display means are simultaneously changed by using the opening / projection position changing means. As a result, the control range of the light quantity and size of the diffraction pattern can be expanded.
【0046】請求項17記載の発明においては、光軸調
整用テーブル上に少なくとも波動光照明手段と、結像レ
ンズを保持したベース等の装置本体の構成部材を位置決
めする位置決め手段とを配設し、回折パターンによる結
像レンズの光軸調整を行うことによって、2回目以降の
光軸調整を行う場合には、結像レンズを保持するベース
等の装置本体の構成部材を位置決め手段に固定し、単に
結像レンズの移動調整を行うだけでよく、これにより、
どのような調整環境であっても常に高精度な位置決めを
行うことができる。In the seventeenth aspect of the invention, at least the wave light illuminating means and the positioning means for positioning the constituent members of the apparatus body such as the base holding the imaging lens are provided on the optical axis adjusting table. When the optical axis of the imaging lens is adjusted for the second time and thereafter by adjusting the optical axis of the imaging lens by the diffraction pattern, the constituent members of the apparatus main body such as the base holding the imaging lens are fixed to the positioning means, All you have to do is adjust the movement of the imaging lens.
High-precision positioning can always be performed in any adjustment environment.
【0047】請求項18記載の発明においては、第一の
光軸調整工程で光束規制部材を装置本体内部に位置決め
し、結像レンズの調整仮想光軸と光束規制部材の微小開
口部の中心とを一致又は略一致させ、第二の光軸調整工
程で微小開口部の中心と波動光照明手段の光束の光軸と
を一致又は略一致させ、第三の光軸調整工程で結像レン
ズを介在させる前と後との回折パターンを比較して両方
の回折パターンを一致又は略一致させることによって、
結像レンズの光軸調整作業をスムーズにかつ効率的に行
える。In the eighteenth aspect of the present invention, the light flux regulating member is positioned inside the main body of the apparatus in the first optical axis adjusting step, and the adjusted virtual optical axis of the imaging lens and the center of the minute opening of the light flux regulating member are set. In the second optical axis adjusting step, the center of the minute aperture and the optical axis of the light beam of the wave light illuminating means are made to match or substantially match, and the imaging lens is moved in the third optical axis adjusting step. By comparing the diffraction patterns before and after interposing and matching or substantially matching both diffraction patterns,
The optical axis adjustment work of the imaging lens can be performed smoothly and efficiently.
【0048】請求項19記載の発明においては、第一の
光軸調整工程で第一の光束規制部材を装置本体内部に位
置決めし、結像レンズの調整仮想光軸と第一の光束規制
部材の微小開口部の中心とを一致又は略一致させ、第二
の光軸調整工程で第一の光束規制部材の微小開口部の中
心と波動光照明手段の光束の光軸とを一致又は略一致さ
せ、第三の光軸調整工程で第二の光束規制部材を装置本
体内部又は装置本体外部に配設し、第二の光束規制部材
の微小開口部の中心と波動光照明手段の光束の光軸とを
一致又は略一致させ、第四の光軸調整工程で結像レンズ
を介在させる前と後との回折パターンを比較して両方の
回折パターンを一致又は略一致させることによって、結
像レンズの光軸調整作業をスムーズにかつ効率的に行え
る。In the nineteenth aspect of the invention, the first light flux regulating member is positioned inside the apparatus main body in the first optical axis adjusting step, and the adjusted virtual optical axis of the imaging lens and the first light flux regulating member are arranged. The center of the minute opening is matched or substantially matched, and the center of the minute opening of the first light flux regulating member and the optical axis of the light flux of the wave light illumination means are matched or substantially matched in the second optical axis adjusting step. In the third optical axis adjusting step, the second light flux regulating member is disposed inside or outside the device body, and the center of the minute opening of the second light flux regulating member and the optical axis of the light flux of the wave light illumination means are arranged. Are matched or substantially matched, and the diffraction patterns before and after interposing the imaging lens in the fourth optical axis adjusting step are compared to match or substantially match both diffraction patterns, thereby Optical axis adjustment work can be performed smoothly and efficiently.
【0049】請求項20記載の発明においては、まず、
本体組付工程に従って少なくとも結像レンズの光軸調整
に必要な最小限度の部材の組付けを行い、次に、光軸調
整工程に従って結像レンズの光軸調整を行い、その後、
残り全ての構成部材の装置本体への本格的な組付けを行
うようにした。In the invention of claim 20, first,
According to the body assembling process, at least the minimum number of members necessary for adjusting the optical axis of the imaging lens is assembled, then the optical axis of the imaging lens is adjusted according to the optical axis adjusting process, and then,
All of the remaining components were fully assembled into the device body.
【0050】請求項21記載の発明においては、まず、
本体組付工程に従って装置本体の構成部材のうち、少な
くとも結像レンズと受光手段と光軸調整時に波動光照明
手段の光束を遮光してしまう部材とを除く構成部材を装
置本体内部に組付けることによって、光軸調整工程の段
階で、装置本体の重さを実使用レベルに近い状態にまで
設定して光軸調整を行うようにした。In the twenty-first aspect of the invention, first,
According to the main body assembling step, assembling the constituent members of the main body of the apparatus except at least the imaging lens, the light receiving means, and the member that blocks the light flux of the wave light illuminating means at the time of adjusting the optical axis. Therefore, at the stage of the optical axis adjustment process, the weight of the apparatus main body is set to a state close to the actual use level to perform the optical axis adjustment.
【0051】請求項22記載の発明においては、装置本
体の構成部材のうち、光軸調整時に波動光照明手段から
の光束を遮光してしまう部材に開口部を設けることによ
って、波動光照明手段から発せられた光束は、その開口
部を通過して結像レンズの調整仮想光軸上に導かれ、結
像レンズの光軸調整用の光束として用いられる。According to the twenty-second aspect of the present invention, among the constituent members of the apparatus main body, an opening is provided in a member that shields the light flux from the wave light illumination means when the optical axis is adjusted. The emitted light flux passes through the opening, is guided to the adjustment virtual optical axis of the imaging lens, and is used as a light flux for adjusting the optical axis of the imaging lens.
【0052】[0052]
【実施例】本発明の第一の実施例を図1〜図4に基づい
て説明する(請求項1記載の発明に対応する)。本実施
例では、従来技術でも述べたようなCCD9を用いた透
過型の原稿読取装置(図2参照)を例に挙げて説明す
る。なお、読取光学系を構成する装置本体1内の同一部
分について説明は省略する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4 (corresponding to the invention of claim 1). In this embodiment, a transmissive original reading device (see FIG. 2) using the CCD 9 as described in the related art will be described as an example. The description of the same parts in the main body 1 of the reading optical system is omitted.
【0053】図1は、結像レンズ8の光軸調整を行う光
学系の構成を示すものである。結像レンズ8の入射側に
は波動光照明手段としてのレーザ光源12が配置され、
その出射側には光束規制部材13(以下、ピンホールと
呼ぶ)が配置されている。このピンホール13の中心に
は、微小開口部としての小孔14が形成されている。ま
た、ピンホール13の後方には、発生する回折パターン
Kを受光して表示するパターン表示手段としての観測板
15が配置されている。この場合、レーザ光源12から
発せられるレーザ光の光軸Dと、ピンホール13の小孔
14の中心位置とは、調整仮想光軸E上に位置してい
る。なお、ここでいう調整仮想光軸Eとは、実際には目
に見えるものではなく、設計時や調整時に便宜上用いて
いる架空なものである。この調整仮想光軸Eが、最終的
には光源2からの光束Aの光軸Bに相当する。FIG. 1 shows the structure of an optical system for adjusting the optical axis of the imaging lens 8. A laser light source 12 as a wave light illuminating means is arranged on the incident side of the imaging lens 8,
A light flux regulating member 13 (hereinafter referred to as a pinhole) is arranged on the exit side thereof. A small hole 14 as a minute opening is formed at the center of the pinhole 13. Further, behind the pinhole 13, an observation plate 15 as a pattern display means for receiving and displaying the generated diffraction pattern K is arranged. In this case, the optical axis D of the laser light emitted from the laser light source 12 and the center position of the small hole 14 of the pinhole 13 are located on the adjusted virtual optical axis E. The adjusted virtual optical axis E here is not actually visible, but is an imaginary one that is used for convenience during design and adjustment. The adjusted virtual optical axis E finally corresponds to the optical axis B of the light flux A from the light source 2.
【0054】また、結像レンズ8は、スペーサやマイク
ロヘッド等の結像レンズ光軸調整手段(図示せず)によ
って移動自在に支持されている。この結像レンズ光軸調
整手段によって、結像レンズ8のレンズ光軸Cを調整仮
想光軸Eに一致させるように移動調整することができ
る。The image forming lens 8 is movably supported by an image forming lens optical axis adjusting means (not shown) such as a spacer or a micro head. With this imaging lens optical axis adjusting means, the lens optical axis C of the imaging lens 8 can be moved and adjusted so as to coincide with the adjusted virtual optical axis E.
【0055】このような構成において、回折パターンK
による光学的現象を利用して結像レンズ8のレンズ光軸
Cの移動調整を行う方法について述べる。まず、結像レ
ンズ8を装置本体1内に設置する前の段階で、レーザ光
源12から出射したレーザ光をピンホール13の小孔1
4に向けて照射し、このピンホール13を通過して発生
した回折パターンKを観測板15に受光させて投影させ
る。この場合、レーザ光の光軸Dと小孔14の中心と調
整仮想光軸Eとが一致しているため、調整仮想光軸Eが
観測板15と交差する点Pの位置を中心として回折パタ
ーンKが形成される。この投影された回折パターンK
は、図3に示すように、同心円状でかつ中心から外側に
向かって光量分布が均等に減少している。このような点
Pを中心とする回折パターンKの形状や位置を光軸調整
の基準とする。In such a structure, the diffraction pattern K
A method of adjusting the movement of the lens optical axis C of the imaging lens 8 by utilizing the optical phenomenon described in (3) will be described. First, at a stage before installing the imaging lens 8 in the apparatus main body 1, the laser light emitted from the laser light source 12 is applied to the small hole 1 of the pinhole 13.
4, the diffraction pattern K generated by passing through the pinhole 13 is received by the observation plate 15 and projected. In this case, since the optical axis D of the laser light, the center of the small hole 14 and the adjusted virtual optical axis E coincide with each other, the diffraction pattern is centered on the position of the point P where the adjusted virtual optical axis E intersects the observation plate 15. K is formed. This projected diffraction pattern K
As shown in FIG. 3, the light intensity distribution is concentric, and the light amount distribution decreases uniformly from the center to the outside. The shape and position of the diffraction pattern K centering on the point P is used as a reference for adjusting the optical axis.
【0056】次に、結像レンズ8を、装置本体1内の所
定位置、すなわち、光源2からの光束Aの光軸Bにほぼ
相当する位置に設置する。この設置した状態で、レーザ
光を結像レンズ8に導き、ピンホール13を通過して得
られた回折パターンKを観測板15に投影して観測す
る。この投影された回折パターンKの形状や位置が先程
の基準となる回折パターンKと同一状態ならば、設計位
置である調整仮想光軸Eと、結像レンズ8のレンズ光軸
Cとが一致していることになるため、結像レンズ8の光
軸調整は不要となる。しかし、投影された回折パターン
Kの形状や位置が、基準となる回折パターンKの形状や
位置と一致せず、例えば図4に示すように中心位置から
ズレて非対称なパターン状態となった場合には、調整仮
想光軸Eに対して結像レンズ8のレンズ光軸Cがズレて
いることを意味するため、光軸調整が必要となる。この
光軸調整は、投影された回折パターンKが基準とする回
折パターンKと一致するように、結像レンズ8を結像レ
ンズ光軸調整手段を用いて、X,Y方向へのシフト
(X:図1の紙面に対して垂直方向、Y:図1の紙面に
対して上下方向)及びXθ,Yθ方向の傾き(Xθ:X
方向回り,Yθ:Y方向回り)の調整を行う。この場
合、結像レンズ8がシフトしているとそのレンズからの
出射光は傾き、逆に、結像レンズ8が傾くとそのレンズ
からの出射光はシフトするという性質を考慮しながら調
整を行うと、調整すべき箇所(方向)や調整量などを容
易に把握することができる。このようにして光軸調整が
終了した後、結像レンズ8を光軸方向(Z方向)以外は
移動しないようにして固定する。Next, the imaging lens 8 is set at a predetermined position in the apparatus main body 1, that is, at a position substantially corresponding to the optical axis B of the light beam A from the light source 2. In this installed state, the laser light is guided to the imaging lens 8 and the diffraction pattern K obtained by passing through the pinhole 13 is projected on the observation plate 15 for observation. If the shape and position of the projected diffraction pattern K is the same as the reference diffraction pattern K, the adjusted virtual optical axis E, which is the designed position, and the lens optical axis C of the imaging lens 8 coincide with each other. Therefore, it is not necessary to adjust the optical axis of the imaging lens 8. However, when the shape or position of the projected diffraction pattern K does not match the shape or position of the reference diffraction pattern K and, for example, as shown in FIG. Means that the lens optical axis C of the imaging lens 8 is deviated from the adjusted virtual optical axis E, so that the optical axis adjustment is necessary. This optical axis adjustment is performed by shifting the imaging lens 8 in the X and Y directions by using the imaging lens optical axis adjusting means so that the projected diffraction pattern K matches the reference diffraction pattern K. : Vertical direction with respect to the paper surface of FIG. 1, Y: vertical direction with respect to the paper surface of FIG. 1, and inclinations in the Xθ and Yθ directions (Xθ: X
Direction rotation, Yθ: Y direction rotation) is adjusted. In this case, the adjustment is performed in consideration of the property that when the imaging lens 8 is shifted, the light emitted from the lens is tilted, and conversely, when the imaging lens 8 is tilted, the light emitted from the lens is shifted. Then, it is possible to easily grasp the location (direction) to be adjusted and the adjustment amount. After the optical axis adjustment is completed in this way, the imaging lens 8 is fixed so as not to move except in the optical axis direction (Z direction).
【0057】上述したように、結像レンズ光軸調整手段
を用い、回折パターンKという光学的現象を利用して、
結像レンズ8のレンズ光軸Cを調整仮想光軸Eすなわち
設計位置に一致させるように調整することによって、結
像レンズ8のレンズ光軸Cを光源2から発せられる光束
Aの光軸Bと一致させることができ、光軸ズレをなくす
ことができる。これにより、光源2の光束Aが結像レン
ズ8に対して傾かず垂直に入射することになるため、結
像性能を高め、画像品質を一段と向上させることができ
る。従って、高品位な原稿読取装置を提供することがで
きる。実施例では、結像レンズ8の入射側にレーザ光源
12、出射側にピンホール13を設置しているが、逆の
配置、すなわち結像レンズ8の出射側にレーザ光源1
2、入射側にピンホール13を設置しても同様に調整は
可能である。As described above, by using the optical axis adjusting means of the imaging lens and utilizing the optical phenomenon called the diffraction pattern K,
By adjusting the lens optical axis C of the imaging lens 8 so as to match the adjusted virtual optical axis E, that is, the design position, the lens optical axis C of the imaging lens 8 and the optical axis B of the light beam A emitted from the light source 2 are adjusted. It is possible to match them, and it is possible to eliminate the optical axis deviation. As a result, the light flux A of the light source 2 is incident on the imaging lens 8 vertically without being inclined, so that the imaging performance can be improved and the image quality can be further improved. Therefore, it is possible to provide a high-quality document reading device. In the embodiment, the laser light source 12 is installed on the entrance side of the imaging lens 8 and the pinhole 13 is installed on the exit side. However, the laser light source 1 is arranged on the opposite side, that is, on the exit side of the imaging lens 8.
2. Even if the pinhole 13 is installed on the incident side, the same adjustment can be performed.
【0058】次に、本発明の第二の実施例を図5に基づ
いて説明する(請求項2記載の発明に対応する)。な
お、第一の実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a second embodiment of the present invention will be described based on FIG. 5 (corresponding to the invention described in claim 2). The description of the same parts as in the first embodiment is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0059】結像レンズ8の出射側のピンホール13と
観測板15との間の調整仮想光軸E上には、光束規制部
材としてのピンホール16が配置されている。このピン
ホール16には小孔17が形成され、この小孔17の中
心位置は調整仮想光軸Eと一致している。On the adjusted virtual optical axis E between the pinhole 13 on the exit side of the imaging lens 8 and the observation plate 15, a pinhole 16 as a light flux regulating member is arranged. A small hole 17 is formed in the pinhole 16, and the center position of the small hole 17 coincides with the adjusted virtual optical axis E.
【0060】ピンホール13から得られる回折パターン
Kの基準位置からのズレ量は、観測板15上の点Pから
のズレ量を観察するによって判断できるが、精度的に十
分であるとは言えない。そこで、結像レンズ8を通過し
たレーザ光が調整仮想光軸Eと一致しているピンホール
13,16の小孔14,17を通過するように、結像レ
ンズ8のレンズ光軸Cを移動調整する。この場合、回折
パターンKはレーザ光が2つの小孔14,17を通過し
なければ発生しないため、観測板15上の基準となる点
Pからの位置的ズレを全く考慮する必要がなく、そのパ
ターン形状だけを観察しながら最終的に図3のような回
折パターンKとなるようにレンズ光軸Cを調整する。こ
れにより、ピンホール13を1個だけ配置した場合に比
べて光軸調整精度を一段と向上させることができる。ま
た、結像レンズ8の出射側に配置するピンホール数は2
個に限るものではなく、観測板15の位置をさらに遠ざ
けて3個以上のピンホールを配置することにより、一段
と高精度な光軸調整が行える。ただし、この場合にはレ
ーザ光源12の出力パワーを高く設定する必要がある。The amount of deviation of the diffraction pattern K obtained from the pinhole 13 from the reference position can be determined by observing the amount of deviation from the point P on the observation plate 15, but it cannot be said to be sufficient in terms of accuracy. . Therefore, the lens optical axis C of the imaging lens 8 is moved so that the laser light passing through the imaging lens 8 passes through the small holes 14 and 17 of the pinholes 13 and 16 which coincide with the adjusted virtual optical axis E. adjust. In this case, the diffraction pattern K does not occur unless the laser light passes through the two small holes 14 and 17, so there is no need to consider the positional deviation from the reference point P on the observation plate 15 at all. While observing only the pattern shape, the lens optical axis C is adjusted so as to finally obtain the diffraction pattern K as shown in FIG. As a result, the optical axis adjustment accuracy can be further improved as compared with the case where only one pinhole 13 is arranged. The number of pinholes arranged on the exit side of the imaging lens 8 is 2
However, the number of pinholes is not limited to one, and three or more pinholes are arranged further away from the observation plate 15, so that the optical axis can be adjusted with higher accuracy. However, in this case, it is necessary to set the output power of the laser light source 12 high.
【0061】次に、本発明の第三の実施例を図6及び図
7に基づいて説明する(請求項3記載の発明に対応す
る)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 and 7 (corresponding to the invention of claim 3). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0062】レーザ光源12と結像レンズ8の入射側と
の間の調整仮想光軸E上には、光束規制部材としてのピ
ンホール18が配置されている。このピンホール18に
は小孔19が形成され、この小孔19の中心位置は調整
仮想光軸Eと一致している。On the adjusted virtual optical axis E between the laser light source 12 and the incident side of the imaging lens 8, a pinhole 18 as a light flux regulating member is arranged. A small hole 19 is formed in the pinhole 18, and the center position of the small hole 19 coincides with the adjusted virtual optical axis E.
【0063】このような構成において、レーザ光源12
からのレーザ光がレンズ入射側のピンホール18と、レ
ンズ出射側のピンホール13とを通過しなければ、観測
板15上に投影される回折パターンKは発生しない。こ
のことは、例えば、結像レンズ8のレンズ光軸Cを調整
仮想光軸Eに一致させる調整を行っている最中に、予期
せぬ外力や応力によってレーザ光源12が微妙に傾く
と、その傾きが回折パターン形状の差となって現れるこ
とを意味する。このようなことから、結像レンズ8を外
した状態にして、レーザ光源12からのレーザ光を2つ
のピンホール18,13に通過させ、回折パターンKを
観察することによって、レーザ光源12の位置を常時確
認することができる。これにより、一段と高精度でバラ
ツキのない安定した光軸調整を行うことができる。In such a configuration, the laser light source 12
If the laser light from the laser does not pass through the pinhole 18 on the lens entrance side and the pinhole 13 on the lens exit side, the diffraction pattern K projected on the observation plate 15 is not generated. This means that, for example, when the laser light source 12 is slightly tilted due to an unexpected external force or stress during the adjustment in which the lens optical axis C of the imaging lens 8 matches the adjusted virtual optical axis E, the It means that the inclination appears as a difference in the diffraction pattern shape. From this, with the imaging lens 8 removed, the laser light from the laser light source 12 is passed through the two pinholes 18 and 13, and the diffraction pattern K is observed to determine the position of the laser light source 12. Can be checked at all times. As a result, it is possible to perform the optical axis adjustment more highly accurately and without variations.
【0064】また、ピンホール13とピンホール18と
の間隔が広くなればなるほど、レーザ光源12の傾き調
整の精度を一段と高く設定することができる。また、調
整仮想光軸Eに配置されるピンホール数は特に限定され
るものではなく、例えば、図5と図6とを組み合わせた
図7に示すような3個のピンホール13,16,18を
用いた構成(入射側に1個、出射側に2個)とすること
によって、レーザ光軸Cの調整及びレーザ光源12の傾
き調整を行える構成の中で、ピンホール数を最も少な
く、レーザ光の光量減少割合も最も小さくすることがで
き、これにより一段と高精度な光軸調整を行うことがで
きる。Further, the wider the distance between the pinhole 13 and the pinhole 18, the higher the accuracy of tilt adjustment of the laser light source 12 can be set. Further, the number of pinholes arranged on the adjusted virtual optical axis E is not particularly limited, and for example, three pinholes 13, 16, 18 as shown in FIG. 7 which is a combination of FIG. 5 and FIG. By using the configuration (1 on the incident side and 2 on the emitting side) using the, the number of pinholes is the smallest among the configurations capable of adjusting the laser optical axis C and adjusting the tilt of the laser light source 12. The reduction rate of the light amount of light can also be minimized, which allows the optical axis to be adjusted with higher accuracy.
【0065】次に、本発明の第四の実施例を図8に基づ
いて説明する(請求項4記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 8 (corresponding to the invention of claim 4). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0066】結像レンズ8の像面位置又はその像面距離
Lと略等しい位置(すなわち、CCD9の受光位置と等
しい位置又は略等しい位置)には、ピンホール13の小
孔14が位置するように配置されている。The small hole 14 of the pinhole 13 is located at a position substantially equal to the image plane position of the imaging lens 8 or its image plane distance L (that is, a position equal to or substantially equal to the light receiving position of the CCD 9). It is located in.
【0067】今、結像レンズ8の光軸Cがズレて、光源
2からの光束Aの光軸BがCCD9に多少斜めから入射
したとしても(図2参照)、設計位置となるCCD9の
受光部に結像しさえすればよいという場合には、その要
求に対応した配慮をしないと、必要以上の調整をするこ
とになり、オーバースペックで作業コストが高いものと
なってしまう。そこで、像面距離(焦点距離)Lと略等
しい位置にピンホール13を配置して、位置的な回折パ
ターンKのズレは問題とせず、その形状だけを観察しな
がら図3のようなパターンとなるように調整する。ま
た、ここでは、ピンホール13をCCD9と同じ位置に
配置したが、調整仮想光軸E上で像面距離Lの関係が成
り立つならば、CCD9の位置とは別な箇所、例えばミ
ラー等で折り返した位置に配置してもよい。また、レー
ザ光源12を結像レンズの出射側に設置しても同様な調
整は可能である。Even if the optical axis C of the imaging lens 8 is shifted and the optical axis B of the light beam A from the light source 2 is incident on the CCD 9 at a slight angle (see FIG. 2), the light received by the CCD 9 at the design position is received. In the case where it is only necessary to form an image on a part, unless consideration is taken in response to the demand, adjustment will be performed more than necessary, resulting in overspecification and high work cost. Therefore, by disposing the pinhole 13 at a position substantially equal to the image plane distance (focal length) L, the positional deviation of the diffraction pattern K is not a problem, and the pattern as shown in FIG. 3 is observed while observing only its shape. Adjust so that Further, here, the pinhole 13 is arranged at the same position as the CCD 9, but if the relationship of the image plane distance L on the adjusted virtual optical axis E is established, it is folded back at a position different from the position of the CCD 9, for example, a mirror or the like. It may be placed in a different position. Also, the same adjustment can be performed by installing the laser light source 12 on the exit side of the imaging lens.
【0068】次に、本発明の第五の実施例を図9及び図
10に基づいて説明する(請求項5記載の発明に対応す
る)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 and 10 (corresponding to the invention of claim 5). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0069】装置本体1のベース10上の両端部には、
位置決め手段としてのピン20が設けられている。これ
ら2つのピン20の中心を結ぶ線は、調整仮想光軸Eと
一致している。これらピン20はそれぞれピンホール1
3,18に形成された穴21と嵌合し、これによりピン
ホール13,18は取外しが可能なように固定されてい
る。この嵌合した状態では、ピンホール13,18の小
孔14,19の中心を結ぶ線と、調整仮想光軸Eとは一
致又は略一致している。At both ends on the base 10 of the apparatus main body 1,
A pin 20 as a positioning means is provided. The line connecting the centers of these two pins 20 coincides with the adjusted virtual optical axis E. Each of these pins 20 is a pinhole 1
The pin holes 13 and 18 are fixed so that they can be removed. In this fitted state, the line connecting the centers of the small holes 14 and 19 of the pinholes 13 and 18 and the adjusted virtual optical axis E match or substantially match.
【0070】また、ベース10上の中央付近におけるピ
ン20を結ぶ線と同一線上には、ピン22が2個固定さ
れている。これらピン22は、結像レンズ8を保持する
レンズ保持部材としてのレンズブロック23に形成され
た穴21と嵌合するようになっており、これにより結像
レンズ8のX方向とYθ方向への動きが規制される。Two pins 22 are fixed on the same line as the line connecting the pins 20 near the center of the base 10. These pins 22 are adapted to fit into holes 21 formed in a lens block 23 serving as a lens holding member for holding the imaging lens 8, whereby the X direction and the Yθ direction of the imaging lens 8 are set. Movement is restricted.
【0071】ピンホール13,18は光軸調整作業の中
で一番最初の調整基準となる箇所であり、調整仮想光軸
E上にピンホール13,18の小孔14,19の中心を
位置させる必要がある。この調整仮想光軸Eは設計・調
整上の架空なものであり、実際には目に見えないが、調
整時に基準となる位置がわからないと調整が行えない。
そこで、ピンホール13,18の小孔14,19の中心
を結ぶ線を調整仮想光軸Eとして扱い、その線上にレー
ザ光を通すことによって調整仮想光軸Eを目に見える状
態とした。従って、このように調整仮想光軸Eを目に見
える状態に設定することによって、調整の基準光軸を簡
単にしかも高精度に設定することができる。これによ
り、結像レンズ8の光軸調整の高精度化を図ると同時
に、調整作業の効率化を一段と図ることができる。The pinholes 13 and 18 are the first adjustment reference points in the optical axis adjustment work, and the centers of the small holes 14 and 19 of the pinholes 13 and 18 are located on the virtual adjustment optical axis E. Need to let. This adjusted virtual optical axis E is a fictitious one in terms of design and adjustment, and is actually invisible, but adjustment cannot be performed unless the reference position is known at the time of adjustment.
Therefore, the line connecting the centers of the small holes 14 and 19 of the pinholes 13 and 18 is treated as the adjusted virtual optical axis E, and the adjusted virtual optical axis E is made visible by passing the laser beam on the line. Therefore, by setting the adjusted virtual optical axis E in a visible state in this way, the reference optical axis for adjustment can be easily set with high accuracy. This makes it possible to improve the accuracy of the optical axis adjustment of the imaging lens 8 and further improve the efficiency of the adjustment work.
【0072】次に、本発明の第六の実施例を図11に基
づいて説明する(請求項6記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 11 (corresponding to the invention of claim 6). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0073】結像レンズ8の調整仮想光軸Eと交差する
位置の装置本体1の側板24a,24bには、レーザ光
源12からのレーザ光を規制する微小開口部としての小
孔25,26が形成されている。Adjustment of the imaging lens 8 On the side plates 24a, 24b of the apparatus main body 1 at positions intersecting the virtual optical axis E, small holes 25, 26 are formed as minute openings for restricting the laser light from the laser light source 12. Has been formed.
【0074】このような構成において、レーザ光源12
からのレーザ光は小孔25を通過して調整仮想光軸Eに
沿って進行していき、結像レンズ8を介して小孔26を
通過することにより回折パターンKが形成され、観測板
15上に投影される。これにより、装置本体1の組付け
後においても、単にミラー7,CCD9等を取外すこと
によって、結像レンズ8のレンズ光軸Cの光軸調整や調
整後の再チェックを容易に行うことができる。これら小
孔25,26を有する側板24a,24bは、前述した
小孔14,19を有するピンホール13,18に代わる
ものであり、わざわざピンホール13,18を光軸上に
配置しなくても何時でも結像レンズ8の光軸調整を行う
ことができ、これにより、組付け取外しの作業性を一段
と向上させることができる。なお、小孔25,26が形
成される装置本体1の構成部材としては側板24a,2
4bに限るものではなく、調整仮想光軸Eと交差する装
置本体1の構成部材であればよい。In such a configuration, the laser light source 12
The laser light from passes through the small hole 25 and travels along the adjusted virtual optical axis E, and passes through the small hole 26 via the imaging lens 8 to form a diffraction pattern K, and the observation plate 15 Projected on. Accordingly, even after the apparatus body 1 is assembled, the optical axis adjustment of the lens optical axis C of the imaging lens 8 and the recheck after the adjustment can be easily performed by simply removing the mirror 7, the CCD 9, and the like. . The side plates 24a and 24b having the small holes 25 and 26 replace the pinholes 13 and 18 having the small holes 14 and 19 described above, and it is possible to dispose the pinholes 13 and 18 on the optical axis. The optical axis of the imaging lens 8 can be adjusted at any time, and thus the workability of assembling and dismounting can be further improved. In addition, the side plates 24a, 2 are used as constituent members of the apparatus main body 1 in which the small holes 25, 26 are formed.
It is not limited to 4b, but may be any component member of the apparatus main body 1 that intersects with the adjusted virtual optical axis E.
【0075】次に、本発明の第七の実施例を図12に基
づいて説明する(請求項7記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 12 (corresponding to the invention of claim 7). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0076】装置本体1の外部における結像レンズ8の
出射側の調整仮想光軸E上には、光束規制部材としての
ピンホール27が配置されている。このピンホール27
には、微小開口部としての小孔28が形成されている。
また、装置本体1内の結像レンズ8の入射側の調整仮想
光軸E上には、小孔19を有するピンホール18が配置
されている。On the adjustment virtual optical axis E on the exit side of the imaging lens 8 outside the apparatus main body 1, a pinhole 27 as a light flux regulating member is arranged. This pinhole 27
A small hole 28 as a minute opening is formed in this.
A pinhole 18 having a small hole 19 is arranged on the adjusted virtual optical axis E on the incident side of the imaging lens 8 in the apparatus body 1.
【0077】一般に光軸調整用のピンホールを装置本体
1の内部に設置しようとすると、取付け取外し作業に時
間がかかったり、装置の構造によっては内部に配置でき
なかったり、設置できたとしても他の調整に必要な部品
が取付かなくなったり、光軸調整後に取外すときに結像
レンズ8が位置ズレしたりする場合がある。そこで、こ
のような場合、ピンホール27を少なくとも1個装置本
体1の外部に配置することによって、ピンホール間隔を
広くとることができるようになり、これにより、高精度
な調整を行うことができ、前述したような諸問題に対処
することができる。また、全てのピンホールを装置本体
1の外部に配置し、さらに、ピンホール18に代わるピ
ンホール(図示せず)を装置本体1の外部に設置するこ
とにより一段と高精度な調整を行うことができる。ま
た、これにより、光軸調整時に装置本体1の内部に手を
挿入したり、ピンホールの取付け取外し作業等がなくな
るため、作業効率を向上させることができる。Generally, when an optical axis adjusting pinhole is to be installed inside the apparatus main body 1, it takes a long time for the attachment and detachment work, and depending on the structure of the apparatus, it cannot be arranged inside, or even if it can be installed, other The components necessary for the adjustment may not be attached, or the imaging lens 8 may be displaced when it is removed after the optical axis adjustment. Therefore, in such a case, by disposing at least one pinhole 27 outside the apparatus main body 1, it becomes possible to widen the pinhole interval, which enables highly accurate adjustment. , It is possible to deal with the problems as described above. Further, by arranging all the pinholes outside the apparatus main body 1 and further installing a pinhole (not shown) in place of the pinhole 18 outside the apparatus main body 1, more highly accurate adjustment can be performed. it can. Further, this eliminates the need to insert a hand into the inside of the apparatus main body 1 or to attach or remove the pinhole when adjusting the optical axis, thereby improving the work efficiency.
【0078】次に、本発明の第八の実施例を図13に基
づいて説明する(請求項8記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 13 (corresponding to the invention of claim 8). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0079】レーザ光源12には、波動光光軸調整手段
としての位置調整機構29が取付けられている。この場
合、位置調整機構29は、結像レンズ8の調整仮想光軸
Eと、小孔19を通過するレーザ光源12のレーザ光の
光軸Dとが一致又は略一致するように、レーザ光源12
を移動させる。A position adjusting mechanism 29 as a wave light optical axis adjusting means is attached to the laser light source 12. In this case, the position adjustment mechanism 29 causes the adjustment virtual optical axis E of the imaging lens 8 and the optical axis D of the laser light of the laser light source 12 passing through the small hole 19 to coincide or substantially coincide with each other.
To move.
【0080】レーザ光源12が常に所定の位置にあるか
否かは大変重要なことであり、何らかの理由により位置
ズレしてしまった場合には正規の位置に素早く戻す必要
がある。そこで、光軸Dが調整仮想光軸Eからズレたよ
うな場合でも、位置調整機構29を用いて素早く調整で
きるようにした。ここでは、レーザ光源12のシフト
(X,Y方向)と、傾き(Xθ,Yθ方向)の調整を行
うことができる。具体的には、光軸ズレが生じたとき、
結像レンズ8のみを取外し、回折パターンKの位置と形
状が元の状態になるように光軸調整を行う。また、この
ような位置調整機構29は、光軸ズレのときだけでな
く、作業初期の段階で、ピンホール13,18を基準と
して調整仮想光軸Eにレーザ光の光軸Dを一致させるよ
うな場合にも役立たせることができる。さらに、このよ
うなレーザ光軸Dの調整においても、ピンホール13,
18の間隔をできるだけ広くとることにより、一段と高
精度な光軸調整を行うことができる。また、実施例で
は、調整の必要がなかったため、Z軸方向(光軸方向)
への調整機構は取付けなかったが、作業性の向上などの
必要があれば位置調整機構29を付加させてもよい。Whether or not the laser light source 12 is always in a predetermined position is very important, and if the laser light source 12 is misaligned for some reason, it is necessary to quickly return it to the normal position. Therefore, even if the optical axis D is deviated from the adjusted virtual optical axis E, the position adjusting mechanism 29 can be used to make quick adjustment. Here, the shift (X, Y directions) of the laser light source 12 and the tilt (Xθ, Yθ directions) can be adjusted. Specifically, when the optical axis shift occurs,
Only the imaging lens 8 is removed, and the optical axis is adjusted so that the position and shape of the diffraction pattern K return to the original state. Further, such a position adjusting mechanism 29 matches the optical axis D of the laser light with the adjusted virtual optical axis E on the basis of the pinholes 13 and 18 not only when the optical axis shifts but also in the initial stage of the work. It can be useful in any case. Further, even in such adjustment of the laser optical axis D, the pinhole 13,
By making the interval of 18 as wide as possible, the optical axis can be adjusted with higher accuracy. Further, in the embodiment, since adjustment was not necessary, the Z-axis direction (optical axis direction)
Although the adjusting mechanism is not attached to the above, a position adjusting mechanism 29 may be added if it is necessary to improve workability.
【0081】次に、本発明の第九の実施例を図14に基
づいて説明する(請求項9記載の発明に対応する)。な
お、前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、
その同一部分については同一符号を用いる。Next, a ninth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 14 (corresponding to the invention of claim 9). It should be noted that description of the same parts as those in each of the above-described embodiments is omitted,
The same reference numerals are used for the same portions.
【0082】結像レンズ8の出射側の装置本体1の外部
にはピンホール27が配置されており、このピンホール
27には開口部中心位置調整手段としての位置調整機構
30が取付けられている。この位置調整機構30は、結
像レンズ8の調整仮想光軸Eと、ピンホール27の小孔
28の中心とが一致又は略一致するように、ピンホール
27を移動させる。A pinhole 27 is arranged outside the apparatus body 1 on the exit side of the imaging lens 8, and a position adjusting mechanism 30 as an opening center position adjusting means is attached to the pinhole 27. . The position adjusting mechanism 30 moves the pinhole 27 so that the adjusted virtual optical axis E of the imaging lens 8 and the center of the small hole 28 of the pinhole 27 coincide or substantially coincide with each other.
【0083】装置本体1の内部に設けられるピンホール
13,18は、例えば前述したようなピン20(図10
参照)を用いることによって、簡単に位置決め調整を行
うことができる。これに対して、装置本体1の外部に配
置されるピンホール27を無調整で位置決めすることは
困難であり、精度的にも問題がある。そこで、位置調整
機構30を用いてピンホール27を調整できるようにし
た。ここでは、ピンホール27は調整仮想光軸Eに対し
てほぼ垂直に向くように設置されているため、シフト
(X,Y方向)のみが調整できるようになっている。こ
の調整は、ピンホール13,18だけを配置した場合に
生じる基準の回折パターンKと、ピンホール27を配置
したときの回折パターンKとが一致するようにピンホー
ル27を調整する。従って、このように位置調整機構3
0を用いてピンホール27を調整することによって、調
整作業が容易となり、簡単に高精度な位置決めを行うこ
とができる。また、位置調整機構30はシフトのみの調
整としたが、必要に応じて傾き(Xθ,Yθ)の調整も
行えるようにしてもよい。さらに、位置調整機構30に
より装置本体1の外部における調整だけでなく、装置本
体1の内部に設置されるピンホール13,18を調整す
るようにしてもよい。The pin holes 13 and 18 provided inside the apparatus main body 1 are, for example, the pins 20 (see FIG. 10) as described above.
The positioning adjustment can be easily performed by using (see). On the other hand, it is difficult to position the pinhole 27 arranged outside the apparatus body 1 without adjustment, and there is a problem in accuracy. Therefore, the position adjusting mechanism 30 can be used to adjust the pinhole 27. Here, since the pinhole 27 is installed so as to be oriented substantially perpendicular to the adjusted virtual optical axis E, only the shift (X and Y directions) can be adjusted. This adjustment adjusts the pinhole 27 so that the reference diffraction pattern K generated when only the pinholes 13 and 18 are arranged and the diffraction pattern K when the pinhole 27 is arranged match. Therefore, in this way, the position adjusting mechanism 3
By adjusting the pinhole 27 by using 0, the adjustment work becomes easy, and highly accurate positioning can be performed easily. Further, although the position adjusting mechanism 30 is adjusted only for the shift, the position (Xθ, Yθ) may be adjusted if necessary. Further, the position adjusting mechanism 30 may adjust not only the outside of the apparatus main body 1 but also the pinholes 13 and 18 installed inside the apparatus main body 1.
【0084】次に、本発明の第十の実施例を図9及び図
10に基づいて説明する(請求項10記載の発明に対応
する)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明
は省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a tenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9 and 10 (corresponding to the invention of claim 10). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0085】装置本体1に固定されたベース10(構成
部材)の同一平面上には、ピンホール13,18と、結
像レンズ8を保持するレンズ保持部材としてのレンズブ
ロック23とが設けられている。Pinholes 13, 18 and a lens block 23 as a lens holding member for holding the imaging lens 8 are provided on the same plane of the base 10 (constituent member) fixed to the apparatus main body 1. There is.
【0086】結像レンズ8を保持するレンズブロック2
3、ピンホール13,18、さらにはこれらの部材を取
り付けるピン20,22を同一部材の同一面上に配置す
ることによって、取付け部における加工精度や成形精度
を高く設定することができ、これによりその取付け部の
平面度や位置精度を高精度に保つことができる。実施例
のように、レンズ保持部材23やピンホール13,18
などを同一部材であるベース10の同一平面上に取付け
る方法が精度面から見て最も良好であるが、装置の構成
や構造上、同一部材の同一平面上に取付けることができ
ない場合は、同一平面上でなくても少なくとも同一部材
上に取付けるようにすることが精度を低下させない方法
である。Lens block 2 for holding the imaging lens 8
By disposing 3, the pinholes 13 and 18, and the pins 20 and 22 for mounting these members on the same surface of the same member, it is possible to set the processing accuracy and the molding accuracy in the mounting portion to be high. The flatness and the positional accuracy of the mounting portion can be maintained with high accuracy. As in the embodiment, the lens holding member 23 and the pinholes 13 and 18
The method of mounting the same on the same plane of the base 10, which is the same member, is the best in terms of accuracy, but when it is not possible to mount on the same plane of the same member due to the configuration and structure of the device, the same plane Even if it is not above, it is a method of mounting on at least the same member so that the accuracy is not deteriorated.
【0087】次に、本発明の第十一の実施例を図15及
び図16に基づいて説明する(請求項11記載の発明に
対応する)。なお、前記各実施例と同一部分についての
説明は省略し、その同一部分については同一符号を用い
る。Next, an eleventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 15 and 16 (corresponding to the invention of claim 11). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0088】結像レンズ8を保持するレンズブロック2
3が設置されたベース10(構成部材)には、そのベー
ス10の下面側の中央長手方向に沿って、高剛性手段と
しての補強用チャンネル31が取付けられている。この
補強用チャンネル31は、結像レンズ8の重さに十分耐
えられるだけの構造となっている。Lens block 2 for holding the imaging lens 8
A reinforcing channel 31 as a high-rigidity means is attached to the base 10 (constituent member) on which 3 is installed along the central longitudinal direction on the lower surface side of the base 10. The reinforcing channel 31 has a structure sufficient to withstand the weight of the imaging lens 8.
【0089】結像レンズ8のレンズ光軸Cの調整を行う
前の段階では、ベース10のたわみはなくある程度の精
度を保っているが、結像レンズ8を装置本体1に設置す
ると、そのレンズによる重量が加わってベース10の中
央付近が凹状に湾曲してしまう。そこで、ベース10に
結像レンズ8の重さに十分耐えられるだけの補強用チャ
ンネル31を施すことによって、べース10の面精度を
常に安定して保つことができ、これにより、たわみによ
る光軸調整精度の低下を防ぐことができる。なお、高剛
性手段としては、補強用チャンネル31のような補強手
段に限るものではなく、結像レンズ8の重さに十分耐え
うる高剛性手段であれば、その方式、方法は問わない。
また、実施例のように、補強用チャンネル31でレンズ
ブロック23の設置部だけでなく、ピンホール13,1
8等の調整用部材やミラー7,CCD9等の主要な本体
構成部材などの設置部も併せて補強すれば、結像レンズ
8の光軸調整がさらに高精度になるだけでなく、読取り
光学系全般の調整精度も向上する。At the stage before the adjustment of the optical axis C of the lens of the imaging lens 8, there is no deflection of the base 10 and the accuracy is maintained to some extent. Due to the added weight, the vicinity of the center of the base 10 is curved in a concave shape. Therefore, by providing the base 10 with the reinforcing channel 31 sufficient to withstand the weight of the imaging lens 8, the surface accuracy of the base 10 can be always kept stable. It is possible to prevent deterioration of axis adjustment accuracy. The high-rigidity means is not limited to the reinforcement means such as the reinforcement channel 31, and any method and method may be used as long as the high-rigidity means can withstand the weight of the imaging lens 8.
Further, as in the embodiment, not only the installation portion of the lens block 23 but also the pinholes 13 and 1 are provided by the reinforcing channel 31.
If the adjustment parts such as 8 and the installation parts such as the main body constituent members such as the mirror 7 and the CCD 9 are also reinforced, not only the optical axis adjustment of the imaging lens 8 becomes more precise, but also the reading optical system. Overall adjustment accuracy is also improved.
【0090】次に、本発明の第十二の実施例を図17に
基づいて説明する(請求項12記載の発明に対応す
る)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a twelfth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 17 (corresponding to the invention of claim 12). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0091】結像レンズ8の出射側の装置本体1の外部
にはピンホール27が配置されており、このピンホール
27には光束規制部材移動調整手段としての位置調整機
構32が取付けられている。この位置調整機構32は、
ピンホール27をZ軸方向(調整仮想光軸方向)に移動
させる。A pinhole 27 is arranged outside the apparatus main body 1 on the exit side of the imaging lens 8, and a position adjusting mechanism 32 as a light flux regulating member movement adjusting means is attached to the pinhole 27. . This position adjusting mechanism 32
The pinhole 27 is moved in the Z-axis direction (adjustment virtual optical axis direction).
【0092】結像レンズ8の焦点距離と、ピンホール2
7との位置関係によって、投影される回折パターンKが
ボヤけて見ずらくなり、明確に位置や形状が判断できな
い場合がある。このような場合、結像レンズ8の焦点距
離を変えたり、むやみに光軸方向に移動させたりするこ
とはできない。そこで、結像レンズ8の出射側に配置し
たピンホール27を光軸方向に移動させることによっ
て、明確な回折パターンKを作成するようにした。これ
により、光軸調整の精度を向上させることができる。The focal length of the imaging lens 8 and the pinhole 2
Depending on the positional relationship with 7, the projected diffraction pattern K may be blurred and difficult to see, and the position and shape may not be clearly determined. In such a case, the focal length of the image forming lens 8 cannot be changed or unnecessarily moved in the optical axis direction. Therefore, a clear diffraction pattern K is created by moving the pinhole 27 arranged on the exit side of the imaging lens 8 in the optical axis direction. Thereby, the accuracy of the optical axis adjustment can be improved.
【0093】また、このような位置調整機構32に、前
述した位置調整機構30(図14参照)のようなシフト
(X,Y方向)や傾き(Xθ,Yθ方向)を調整する機
構を付加させることにより、光軸調整の精度を一段と向
上させることができる。また、結像レンズ8の入射側の
装置本体1の外部には、小孔38を有するピンホール3
7が配置されており、このピンホール37をシフト
(X,Y方向)に移動させる開口部中心位置調整手段と
しての位置調整機構39を付加させることによって、光
軸調整の精度をさらに一段と向上させることができる。
また、実施例では、結像レンズ8の入射側にレーザ光源
12を設置して調整しているが、逆の配置、すなわち、
結像レンズ8の出射側にレーザ光源12を設置して調整
する場合は、入射側のピンホールに位置調整機構32と
同様な機構を取付ければよい。Further, a mechanism for adjusting the shift (X, Y directions) and the inclination (Xθ, Yθ directions) like the above-mentioned position adjusting mechanism 30 (see FIG. 14) is added to the position adjusting mechanism 32. As a result, the accuracy of the optical axis adjustment can be further improved. Further, the pinhole 3 having a small hole 38 is provided outside the apparatus main body 1 on the incident side of the imaging lens 8.
7 is arranged, and by adding a position adjusting mechanism 39 as an opening center position adjusting means for moving the pinhole 37 in the shift (X, Y directions), the accuracy of the optical axis adjustment is further improved. be able to.
Further, in the embodiment, the laser light source 12 is installed and adjusted on the incident side of the imaging lens 8, but the reverse arrangement, that is,
When the laser light source 12 is installed on the emitting side of the imaging lens 8 for adjustment, a mechanism similar to the position adjusting mechanism 32 may be attached to the pinhole on the incident side.
【0094】次に、本発明の第十三の実施例を図18に
基づいて説明する(請求項13記載の発明に対応す
る)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a thirteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 18 (corresponding to the invention of claim 13). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0095】ピンホール27の後方の光路上には、パタ
ーン表示手段として受光モニタ33(以下、CCDカメ
ラという)が配置されている。このCCDカメラ33に
は、受光した回折パターンKを画面に映すためのディス
プレイ34と、回折パターンKの状態を解析する解析装
置35とが接続されている。On the optical path behind the pinhole 27, a light receiving monitor 33 (hereinafter referred to as a CCD camera) is arranged as pattern display means. A display 34 for displaying the received diffraction pattern K on the screen and an analysis device 35 for analyzing the state of the diffraction pattern K are connected to the CCD camera 33.
【0096】前述したような観測板15では、投影され
る回折パターンKの位置ズレ量(幅)を一般にスケール
を当てて計るため、主観的評価による調整となってしま
い、調整精度が低下するおそれがある。そこで、回折パ
ターンKをCCDカメラ33に検出させることによっ
て、パターン状態を客観的評価で調整することができ、
これにより、調整精度の信頼性を一段と高めることがで
きる。In the observation plate 15 as described above, since the amount of positional deviation (width) of the projected diffraction pattern K is generally measured by applying a scale, adjustment is performed by subjective evaluation, and the adjustment accuracy may be deteriorated. There is. Therefore, by making the CCD camera 33 detect the diffraction pattern K, the pattern state can be adjusted by objective evaluation,
As a result, the reliability of adjustment accuracy can be further improved.
【0097】次に、本発明の第十四の実施例を図19に
基づいて説明する(請求項14記載の発明に対応す
る)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a fourteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 19 (corresponding to the invention of claim 14). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0098】観測板15には、投影位置移動調整手段と
しての位置調整機構36が取付けられている。この位置
調整機構36は、観測板15を調整仮想光軸方向に移動
させる。A position adjusting mechanism 36 as a projection position movement adjusting means is attached to the observation plate 15. The position adjusting mechanism 36 moves the observation plate 15 in the adjustment virtual optical axis direction.
【0099】投影される回折パターンKの大きさは、投
影される位置が遠くなると大きくなり、逆に近くなると
小さくなる。また、調整時に、回折パターンKを大きく
し過ぎると光量劣化によりパターンがボヤケてしまい、
逆に小さ過ぎるとパターン状態の差を判断できなくな
る。このような点を考慮して、投影される回折パターン
Kが光量的にも大きさ的にも最適となるように観測板1
5を光軸方向に移動させる。具体的には、回折パターン
Kの光量と大きさを観察しながら、調整に適したパター
ン状態となるように、位置調整機構36により観測板1
5をZ方向に移動させる。これにより、光軸調整精度を
向上させることができる。また、光軸方向だけでなく、
シフト(X,Y方向)や傾き(Xθ,Yθ方向)の調整
もできるようにすれば、回折パターンKの投影状態をさ
らに向上させることができる。ここでは、位置調整機構
36により観測板15を移動させるようにしたが、その
観測板15の代わりに受光モニタ33をZ方向に移動さ
せるようにしてもよい。The size of the projected diffraction pattern K increases as the projected position increases, and decreases when the projected position decreases. Further, if the diffraction pattern K is made too large at the time of adjustment, the pattern will be blurred due to deterioration of the light quantity,
On the contrary, if it is too small, it becomes impossible to judge the difference in pattern state. Considering these points, the observation plate 1 is designed so that the projected diffraction pattern K is optimal in terms of light quantity and size.
5 is moved in the optical axis direction. Specifically, while observing the light quantity and size of the diffraction pattern K, the observation plate 1 is adjusted by the position adjusting mechanism 36 so that the pattern state is suitable for adjustment.
5 is moved in the Z direction. Thereby, the optical axis adjustment accuracy can be improved. In addition to the optical axis direction,
If the shift (X, Y directions) and the inclination (Xθ, Yθ directions) can be adjusted, the projection state of the diffraction pattern K can be further improved. Although the observation plate 15 is moved by the position adjusting mechanism 36 here, the light receiving monitor 33 may be moved in the Z direction instead of the observation plate 15.
【0100】次に、本発明の第十五の実施例を図17に
基づいて説明する(請求項15記載の発明に対応す
る)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a fifteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 17 (corresponding to the invention of claim 15). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0101】結像レンズ8の出射側に配置されたピンホ
ール27の小孔28の径は、開口部可変手段としての可
変機構(図示せず)によって可変自在とされている。The diameter of the small hole 28 of the pinhole 27 arranged on the exit side of the imaging lens 8 is made variable by a variable mechanism (not shown) as an opening variable means.
【0102】ピンホール27の小孔28が投影される回
折パターンKの最終的な光量と大きさとを決める役割を
担っている。この場合、回折パターンKの光量は小孔2
8の径に比例し、逆に回折パターンKの大きさは小孔2
8の径に反比例するという関係がある。そこで、観測板
15に投影される回折パターンKの状態を見ながら、そ
の回折パターンKが光軸調整に最適な光量と大きさとに
なるように、可変機構を用いて小孔28の径を可変す
る。これにより、回折パターンKの光量と大きさとを自
由に、かつ、微妙にコントロールすることができる。ま
た、このような可変機構を結像レンズ8の入射側に配置
されるピンホール37に取付け、その小孔38を可変す
ることによりコントロール範囲をさらに広げることがで
きる。また、可変機構は小孔径の大きさだけでなく、そ
の形状も可変可能とすれば、さらに自由なコントロール
ができるため、調整し易い任意の回折パターン形状で結
像レンズ8の光軸調整を行うことができる。The small hole 28 of the pinhole 27 plays a role of determining the final light amount and size of the diffraction pattern K projected. In this case, the light quantity of the diffraction pattern K is small.
The size of the diffraction pattern K is proportional to the diameter of 8
There is a relationship that is inversely proportional to the diameter of 8. Therefore, while observing the state of the diffraction pattern K projected on the observation plate 15, the diameter of the small hole 28 is changed by using a variable mechanism so that the diffraction pattern K has the optimum light amount and size for the optical axis adjustment. To do. Thereby, the light quantity and size of the diffraction pattern K can be freely and delicately controlled. Further, such a variable mechanism can be attached to the pinhole 37 arranged on the incident side of the imaging lens 8 and the small hole 38 can be changed to further expand the control range. In addition, if the variable mechanism can change not only the size of the small hole diameter but also its shape, more flexible control can be performed, so that the optical axis of the imaging lens 8 is adjusted with an arbitrary diffraction pattern shape that is easy to adjust. be able to.
【0103】次に、本発明の第十六の実施例を図19に
基づいて説明する(請求項16記載の発明に対応す
る)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a sixteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 19 (corresponding to the invention of claim 16). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0104】ピンホール27の小孔28の大きさと、こ
の小孔28から観測板15までの投影距離とを可変する
開口部・投影位置可変手段が設けられている。この場
合、開口部・投影位置可変手段としては、例えば、小孔
28の大きさを可変する前記第十五の実施例の可変機構
(開口部可変手段)と、投影距離を可変する前記第十四
の実施例の位置調整機構36(投影位置移動調整手段)
とを組み合わせて構成することができる。An opening / projection position varying means is provided for varying the size of the small hole 28 of the pinhole 27 and the projection distance from the small hole 28 to the observation plate 15. In this case, as the opening / projection position changing means, for example, the changing mechanism (opening changing means) of the fifteenth embodiment for changing the size of the small hole 28 and the tenth changing means for changing the projection distance. Position adjusting mechanism 36 (projection position movement adjusting means) of the fourth embodiment
And can be combined.
【0105】可変機構や位置調整機構36を単独で用い
て調整したのでは、限定した装置の場合には良いが、別
の装置の別の結像レンズの調整には対応仕切れない。こ
の場合、回折パターンKの光量と大きさとを決定してい
る要素としては、レーザパワー、ピンホール27,37
の小孔28,38、レンズ出射側のピンホール位置、回
折パターンKの投影位置などがあり、このような中から
少なくとも、ピンホールの小孔と回折パターンKの投影
位置とを同時に可変調整することによって、コントロー
ル範囲を広げ、どんな装置に対しても臨機応変に対応さ
せる必要がある。そこで、可変機構を用いてピンホール
27の小孔28の径を可変すると同時に、位置調整機構
36を用いて観測板15をZ方向に移動させる。すなわ
ち、観測板15に投影される回折パターンKの状態を見
ながら、小孔28の径と観測板15の位置の調整を同時
にかつバランスをとりながら行う。これにより、光軸調
整のコントロール範囲を一段と広げ、どんな装置に対し
ても臨機応変に対応させることができるため、常に最適
な状態の回折パターンKを用いて結像レンズ8の光軸調
整を行うことができる。If the variable mechanism or the position adjusting mechanism 36 is used alone for adjustment, it is good for a limited device, but it cannot be adjusted for another imaging lens of another device. In this case, the laser power and the pinholes 27 and 37 are factors that determine the light quantity and size of the diffraction pattern K.
And the projection position of the diffraction pattern K. At least the pinholes of the pinhole and the projection position of the diffraction pattern K are variably adjusted at the same time. Therefore, it is necessary to expand the control range and flexibly respond to any device. Therefore, the diameter of the small hole 28 of the pinhole 27 is changed by using the variable mechanism, and at the same time, the observation plate 15 is moved in the Z direction by using the position adjusting mechanism 36. That is, while observing the state of the diffraction pattern K projected on the observation plate 15, the diameter of the small hole 28 and the position of the observation plate 15 are adjusted simultaneously and in balance. As a result, the control range of the optical axis adjustment can be further expanded, and any apparatus can be flexibly accommodated. Therefore, the optical axis of the imaging lens 8 is always adjusted using the diffraction pattern K in the optimum state. be able to.
【0106】次に、本発明の第十七の実施例を図20に
基づいて説明する(請求項17記載の発明に対応す
る)。なお、前記各実施例と同一部分についての説明は
省略し、その同一部分については同一符号を用いる。Next, a seventeenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 20 (corresponding to the invention of claim 17). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0107】光軸調整用テーブル40上には、結像レン
ズ8を保持したベース10を位置決めする位置決め手段
としてのピン41が固定されている。これらピン41に
はベース10が着脱自在に取付けられている。ベース1
0上にはレンズブロック23(図9参照)を介して結像
レンズ8が保持されている。また、光軸調整用テーブル
40上には、光軸調整を行うための光学部材、すなわ
ち、レーザ光源12、ピンホール27,37、観測板1
5等が配置されている。On the optical axis adjusting table 40, a pin 41 as a positioning means for positioning the base 10 holding the imaging lens 8 is fixed. The base 10 is detachably attached to these pins 41. Base 1
The imaging lens 8 is held on the lens 0 via a lens block 23 (see FIG. 9). Further, on the optical axis adjusting table 40, optical members for adjusting the optical axis, that is, the laser light source 12, the pinholes 27 and 37, the observation plate 1 are provided.
5 etc. are arranged.
【0108】結像レンズ8の光軸調整中にベース10が
動いたりした場合や、量産時に同一結像レンズ8の光軸
調整を何台も行わなくてはならない場合に、一々光軸調
整用の光学部材(レーザ光源12やピンホール27,3
7等)を再調整していたのでは、作業時間がかかり過
ぎ、その度毎に測定精度がばらついてしまう。そこで、
光軸調整用テーブル40を用いて光軸調整作業を行うよ
うにした。具体的には、まず、光軸調整用テーブル40
上に光軸調整用の光学部材を配置させる。次に、結像レ
ンズ8のレンズ光軸Cを調整するための環境設定(光学
部材の位置設定)を行う。この最初の環境設定が終了し
たら、装置の機種が変わらない限りその設定後の状態を
維持する。次に、その設定後の状態で、回折パターンK
により結像レンズ8のレンズ光軸Cの調整を行う。この
光軸調整の終了後に、ピン41に位置決めされたベース
10をテーブル40から外す。そして、再調整時ならば
再度同一のベース10を、量産時ならば別のベース10
を、それぞれテーブル40のピン41により所定位置に
設置し、結像レンズ8のレンズ光軸の調整を行う。従っ
て、このようなことから、2度目以降の光軸調整に際し
ては、環境設定の必要がないため、調整作業効率が格段
に向上し、調整毎の精度バラツキも極力押えることがで
きる。実施例では、テーブル40に対してベース10を
位置決めしているが、テーブル40に対する位置決め部
材は装置本体1の構成部材であれば特に限定はしない。
また、請求項5記載の位置決め手段(ピン20,22の
代替として)にピン41を用いれば、さらに調整精度は
向上する。When the base 10 moves during the adjustment of the optical axis of the imaging lens 8, or when the optical axes of the same imaging lens 8 must be adjusted in mass production, the optical axes are adjusted one by one. Optical members (laser light source 12 and pinholes 27, 3
(7) is readjusted, it takes too much working time, and the measurement accuracy varies each time. Therefore,
The optical axis adjustment work was performed using the optical axis adjustment table 40. Specifically, first, the optical axis adjustment table 40
An optical member for adjusting the optical axis is arranged on the top. Next, environment setting (position setting of the optical member) for adjusting the lens optical axis C of the imaging lens 8 is performed. After the initial environment setting is completed, the state after the setting is maintained unless the device type is changed. Next, in the state after the setting, the diffraction pattern K
The lens optical axis C of the imaging lens 8 is adjusted by. After completion of the optical axis adjustment, the base 10 positioned on the pin 41 is removed from the table 40. Then, when the readjustment is performed, the same base 10 is used again, and when the mass production is performed, another base 10 is used again.
Are set at predetermined positions by the pins 41 of the table 40, and the lens optical axis of the imaging lens 8 is adjusted. Therefore, from the above, it is not necessary to set the environment for the second and subsequent optical axis adjustments, so that the adjustment work efficiency is remarkably improved and the accuracy variation between the adjustments can be suppressed as much as possible. In the embodiment, the base 10 is positioned with respect to the table 40, but the positioning member with respect to the table 40 is not particularly limited as long as it is a constituent member of the apparatus body 1.
Further, if the pin 41 is used as the positioning means (as an alternative to the pins 20 and 22) according to claim 5, the adjustment accuracy is further improved.
【0109】次に、本発明の第十八の実施例を図21及
び図22に基づいて説明する(請求項18記載の発明に
対応する)。なお、前記各実施例と同一部分についての
説明は省略し、その同一部分については同一符号を用い
る。Next, an eighteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 21 and 22 (corresponding to the invention of claim 18). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0110】本実施例は、回折パターンKを用いた結像
レンズ8の光軸調整方法に関する。以下、装置本体1の
内部にピンホールを設置して光軸調整を行う手順を、第
一〜第三の光軸調整工程に基づいて順次説明していく。
まず、第一の光軸調整工程について述べる。図21に示
すように、ベース10に対してピンホール13,18を
位置決めし固定する。この位置決めは、ピン20をピン
ホール13,18の穴21に嵌合させることにより行う
ことができる(図9参照)。これらピンホール13,1
8の位置決めによって、小孔14,19が調整仮想光軸
Eと一致する。The present embodiment relates to a method of adjusting the optical axis of the imaging lens 8 using the diffraction pattern K. Hereinafter, a procedure for installing a pinhole inside the apparatus main body 1 to adjust the optical axis will be sequentially described based on the first to third optical axis adjusting steps.
First, the first optical axis adjusting step will be described. As shown in FIG. 21, the pinholes 13 and 18 are positioned and fixed to the base 10. This positioning can be performed by fitting the pin 20 into the holes 21 of the pin holes 13 and 18 (see FIG. 9). These pinholes 13, 1
Due to the positioning of 8, the small holes 14 and 19 coincide with the adjusted virtual optical axis E.
【0111】次に、第二の光軸調整工程について述べ
る。図22に示すように、ピンホール13,18から離
れた前後の位置に、位置調整機構29が付設されたレー
ザ光源12と、観測板15とを配置する。この状態で、
レーザ光源12からのレーザ光をピンホール18,13
の小孔19,14に向けて出射し、これにより発生した
回折パターンKを観測板15に投影させる。そして、そ
の投影された回折パターンKが同心円状の均等な光量分
布をもつ綺麗な回折パターンK(図3参照)であるか否
かを調べる。同心円状の綺麗な回折パターンKであれば
光軸調整は不要であり、そうでなければレーザ光の光軸
Dの調整を行う。この光軸の調整は、観測板15上の回
折パターンKを見ながら、位置調整機構29を用いてレ
ーザ光源12をシフト(X,Y方向)、傾き(Xθ,Y
θ方向)の方向に移動させて行う。このような調整を行
うことにより、小孔14,19の中心を結ぶ線にレーザ
光の光軸Dを一致させ、これにより調整仮想光軸Eを実
際に目に見える状態にする。ここまでの工程で、結像レ
ンズ8のレンズ光軸Cを調整するための環境作りが完了
する。Next, the second optical axis adjusting step will be described. As shown in FIG. 22, the laser light source 12 provided with the position adjusting mechanism 29 and the observation plate 15 are arranged at the front and rear positions separated from the pinholes 13 and 18. In this state,
The laser light from the laser light source 12 is applied to the pinholes 18, 13
The light is emitted toward the small holes 19 and 14, and the diffraction pattern K generated thereby is projected on the observation plate 15. Then, it is checked whether or not the projected diffraction pattern K is a beautiful diffraction pattern K (see FIG. 3) having a concentric circular uniform light amount distribution. If the diffraction pattern K is a clean concentric circle, the optical axis adjustment is not necessary. If not, the optical axis D of the laser light is adjusted. To adjust the optical axis, the laser light source 12 is shifted (X, Y directions) and tilted (Xθ, Y) using the position adjusting mechanism 29 while looking at the diffraction pattern K on the observation plate 15.
(θ direction). By performing such an adjustment, the optical axis D of the laser light is made to coincide with the line connecting the centers of the small holes 14 and 19, whereby the adjusted virtual optical axis E is actually visible. The process up to this point completes the creation of an environment for adjusting the lens optical axis C of the imaging lens 8.
【0112】次に、第三の光軸調整工程について述べ
る。ここでは、結像レンズ8のレンズ光軸Cの調整を行
う。まず、結像レンズ8をピンホール13とピンホール
18との間の所定の位置に取付ける。この取付けは、結
像レンズ8を保持したレンズブロック23がピン22と
嵌合することにより行うことができる(図9参照)。そ
して、レーザ光源12からのレーザ光を照射して結像レ
ンズ8を介在させた時の回折パターンKを観測板15に
投影し、この投影された回折パターンKが、結像レンズ
8を介在させる前の同心円状の綺麗な回折パターンKと
同一か否かを調べる。同一なパターンであれば調整せ
ず、そうでない場合は、レンズ光軸Cの調整を行う。こ
の調整は、回折パターンKを観察しながら、その回折パ
ターンKが結像レンズ8を介在させる前のパターン状態
と一致するように(ただし、光量や径が変化する場合を
考慮)、図示しない結像レンズ光軸調整手段(第一の実
施例)を用いて、結像レンズ8のシフト(X、Y)、傾
き(Xθ,Yθ)方向への調整を行うことによって実行
される。この場合、レーザ光が2つの小孔14,19の
中心を通過すれば、必ず同一位置に投影されて綺麗なパ
ターンを形成するため、レンズ光軸Cの調整は、投影さ
れる回折パターンKの形状だけに注目して調整を行えば
よい。この調整終了後、結像レンズ8をZ方向(光軸方
向)以外は動かないようにして固定する。これにより、
結像レンズ8のレンズ光軸Cは調整仮想光軸Eと一致す
ることになり、光軸調整作業が完了する。そして、ピン
ホール13,18をベース10から取外すことにより、
次の工程、例えば、ミラー7,CCD9等の実際の光学
部材の装置本体1への取付けを行うことができる。上述
したような第一〜第三の光軸調整工程の手順に従って光
軸調整を行うことによって、高精度の調整作業をスムー
ズにしかも効率的に行うことができる。Next, the third optical axis adjusting step will be described. Here, the lens optical axis C of the imaging lens 8 is adjusted. First, the imaging lens 8 is attached at a predetermined position between the pinholes 13 and 18. This attachment can be performed by fitting the lens block 23 holding the imaging lens 8 with the pin 22 (see FIG. 9). Then, the diffraction pattern K obtained by irradiating the laser light from the laser light source 12 with the imaging lens 8 interposed is projected onto the observation plate 15, and the projected diffraction pattern K causes the imaging lens 8 to be interposed. It is checked whether it is the same as the beautiful concentric diffraction pattern K before. If the pattern is the same, the adjustment is not performed. If not, the lens optical axis C is adjusted. This adjustment is performed while observing the diffraction pattern K so that the diffraction pattern K coincides with the pattern state before interposing the imaging lens 8 (however, in consideration of the case where the light amount and the diameter change), not shown. This is executed by adjusting the image forming lens 8 in the shift (X, Y) and tilt (Xθ, Yθ) directions using the image lens optical axis adjusting means (first embodiment). In this case, if the laser light passes through the centers of the two small holes 14 and 19, it is always projected at the same position to form a beautiful pattern. Therefore, the lens optical axis C is adjusted by adjusting the projected diffraction pattern K. It suffices to make adjustments by paying attention to only the shape. After this adjustment is completed, the imaging lens 8 is fixed so as not to move except in the Z direction (optical axis direction). This allows
The lens optical axis C of the imaging lens 8 coincides with the adjusted virtual optical axis E, and the optical axis adjustment work is completed. Then, by removing the pinholes 13 and 18 from the base 10,
The next step, for example, attachment of actual optical members such as the mirror 7 and the CCD 9 to the apparatus main body 1 can be performed. By performing the optical axis adjustment according to the procedure of the first to third optical axis adjusting steps as described above, the highly accurate adjustment work can be smoothly and efficiently performed.
【0113】次に、本発明の第十九の実施例を図23〜
図26に基づいて説明する(請求項19記載の発明に対
応する)。なお、前記各実施例と同一部分についての説
明は省略し、その同一部分については同一符号を用い
る。Next, a nineteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
Description will be given based on FIG. 26 (corresponding to the invention of claim 19). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0114】本実施例は、回折パターンKを用いた結像
レンズ8の光軸調整方法に関する。以下、装置本体1の
内部及び外部にピンホールを設置して光軸調整を行う手
順を、第一〜第四の光軸調整工程に基づいて順次説明し
ていく。まず、第一及び第二の光軸調整工程は、ピンホ
ール13,18を装置本体1の内部に配置する場合の作
業工程であり、前述した第十八の実施例の第一及び第二
の光軸調整工程と同じ作業内容であるため、ここでの説
明は省略する。The present embodiment relates to a method of adjusting the optical axis of the imaging lens 8 using the diffraction pattern K. Hereinafter, the procedure for installing the pinholes inside and outside the apparatus body 1 to adjust the optical axis will be sequentially described based on the first to fourth optical axis adjusting steps. First, the first and second optical axis adjusting steps are work steps when the pinholes 13 and 18 are arranged inside the apparatus main body 1, and the first and second optical axis adjusting steps of the eighteenth embodiment described above. Since the work content is the same as that of the optical axis adjusting step, description thereof is omitted here.
【0115】次に、第三の光軸調整工程について述べ
る。ここでは、ピンホール27,37を、前記ピンホー
ル13,18を配置した場所とは異なる場所、例えば、
装置本体1の外部に配置させて調整を行う工程である。
すなわち、まず、図23に示すように、位置調整機構3
9を備えたピンホール37を、装置本体1の外部のピン
ホール18とレーザ光源12との間の所定位置に配置さ
せる。なお、一般に装置本体1の内外部を問わずピンホ
ールを設置して調整する場合には、必ず、基準となる光
と一つ以上の基準となるピンホールとが必要であり、こ
のようなことから、ここではピンホール13,18をそ
のまま設置しておいた。また、光量減少をなくすため
に、どちらか一方のピンホールを取外す場合には、ピン
ホール37に近い側のピンホール18を取外すようにす
る。そして、このようにピンホール37を配置した状態
で、レーザ光源12からのレーザ光をピンホール37,
18,13に向けて照射し、観測板15上に回折パター
ンKを投影させる。この投影された回折パターンKが同
心円状の綺麗な回折パターンKと一致しているか否かを
判断し、一致していなければ調整を行う。この調整は、
回折パターンを観察しながら、ピンホール37を位置調
整機構39を用いてシフト(X,Y)方向に動かして小
孔38の位置調整を行うことにより実行され、この調整
後に固定する。これにより、ピンホール37の小孔38
の中心は、レーザ光の光軸Dすなわち調整仮想光軸Eと
一致する。Next, the third optical axis adjusting step will be described. Here, the pinholes 27 and 37 are different from the place where the pinholes 13 and 18 are arranged, for example,
It is a step of arranging it outside the apparatus main body 1 for adjustment.
That is, first, as shown in FIG. 23, the position adjusting mechanism 3
The pinhole 37 provided with 9 is arranged at a predetermined position between the laser light source 12 and the pinhole 18 outside the apparatus main body 1. In general, when installing and adjusting the pinholes both inside and outside the apparatus body 1, it is always necessary to provide a reference light and one or more reference pinholes. Therefore, here, the pinholes 13 and 18 are installed as they are. Further, in order to eliminate the decrease in the amount of light, when either one of the pinholes is removed, the pinhole 18 closer to the pinhole 37 is removed. Then, with the pinhole 37 arranged in this manner, the laser light from the laser light source 12 is applied to the pinhole 37,
It irradiates 18 and 13, and the diffraction pattern K is projected on the observation plate 15. It is judged whether or not the projected diffraction pattern K coincides with the beautiful concentric circular diffraction pattern K, and if they do not coincide, the adjustment is performed. This adjustment is
This is performed by moving the pinhole 37 in the shift (X, Y) direction using the position adjusting mechanism 39 while observing the diffraction pattern to adjust the position of the small hole 38, and then fixing after this adjustment. As a result, the small hole 38 of the pinhole 37
The center of is coincident with the optical axis D of the laser light, that is, the adjusted virtual optical axis E.
【0116】次に、図24に示すように、位置調整機構
30を備えたピンホール27を、装置本体1の外部のピ
ンホール13と観測板15との間の所定位置に配置させ
る。このピンホール27における位置調整は、位置調整
機構30を用いることによって前述したピンホール37
の場合と同様にして行うことができ、最終的にピンホー
ル27の小孔28の中心は、調整仮想光軸Eと一致す
る。上述したような一連の調整によって4個のピンホー
ル13,18,27,37の小孔14,19,28,3
8の中心を、調整仮想光軸Eに一致させることができ
る。その後、図25に示すように、装置本体1の外部に
配置されるピンホール27,37だけを残し、装置本体
1の内部のピンホール13,18を両方とも取り除く。
ただし、ピンホール13,18は、必要に応じてどちら
か一方を取外すか、そのまま残しておいてもよい。ここ
までの工程で、結像レンズ8のレンズ光軸Cを調整する
ための環境作りが完了する。Next, as shown in FIG. 24, the pinhole 27 having the position adjusting mechanism 30 is arranged at a predetermined position between the pinhole 13 outside the apparatus main body 1 and the observation plate 15. The position of the pinhole 27 is adjusted by using the position adjusting mechanism 30.
This can be performed in the same manner as in the above case, and finally the center of the small hole 28 of the pinhole 27 coincides with the adjusted virtual optical axis E. Through the series of adjustments described above, the small holes 14, 19, 28, 3 of the four pinholes 13, 18, 27, 37 are formed.
The center of 8 can be aligned with the adjusted virtual optical axis E. After that, as shown in FIG. 25, only the pinholes 27 and 37 arranged outside the apparatus body 1 are left, and both the pinholes 13 and 18 inside the apparatus body 1 are removed.
However, either one of the pinholes 13 and 18 may be removed or left as it is, as required. The process up to this point completes the creation of an environment for adjusting the lens optical axis C of the imaging lens 8.
【0117】次に、第四の光軸調整工程について述べ
る。ここでは、図26に示すように、結像レンズ8を所
定の位置に取付け、レンズ光軸Cの調整作業を行う。こ
の作業内容は、前述した第十九の実施例の第三の光軸調
整工程と同じであるため、ここでの説明は省略する。光
軸調整が終了したら、光軸方向以外は動かないようにし
て固定し、結像レンズ8のレンズ光軸Cの調整作業を完
了させる。この場合、ピンホール27,37は装置本体
1の外部に配置されているため、ピンホール間隔を広く
とることができ、これにより、光軸調整精度をかなり高
く設定することができる。上述したように、装置内部の
みにピンホール13,18を配置するのみならず、装置
外部にピンホール27,37を配置し、第一〜第四の光
軸調整工程の手順に従って光軸調整を行うことによっ
て、高精度の調整作業を一段とスムーズにしかも効率的
に行うことができる。Next, the fourth optical axis adjusting step will be described. Here, as shown in FIG. 26, the imaging lens 8 is attached at a predetermined position and the lens optical axis C is adjusted. The details of this work are the same as those of the third optical axis adjusting step of the nineteenth embodiment described above, and therefore the description thereof is omitted here. When the optical axis adjustment is completed, the optical axis C is fixed so as not to move except in the optical axis direction, and the adjustment work of the lens optical axis C of the imaging lens 8 is completed. In this case, since the pinholes 27 and 37 are arranged outside the apparatus main body 1, the pinhole interval can be widened, whereby the optical axis adjustment accuracy can be set to be considerably high. As described above, not only the pinholes 13 and 18 are arranged only inside the apparatus, but the pinholes 27 and 37 are arranged outside the apparatus, and the optical axis adjustment is performed according to the procedure of the first to fourth optical axis adjusting steps. By doing so, highly accurate adjustment work can be performed more smoothly and efficiently.
【0118】次に、本発明の第二十の実施例について説
明する(請求項20記載の発明に対応する)。なお、前
記各実施例と同一部分についての説明は省略し、その同
一部分については同一符号を用いる。Next, a twentieth embodiment of the present invention will be described (corresponding to the invention of claim 20). It should be noted that the description of the same parts as those in the above-mentioned respective embodiments is omitted, and the same reference numerals are used for the same parts.
【0119】本実施例は、結像レンズ8の光軸調整方法
に関連し、前述した各種の光軸調整工程(請求項18,
請求項19記載の発明)の他に、新たに本体組付工程を
付加したものである。この本体組付工程とは、少なくと
も光軸調整に必要な最小限度の部材を、光軸調整工程に
より光軸調整を行う前の段階で装置本体1の内部に組付
けることをいう。This embodiment relates to a method for adjusting the optical axis of the imaging lens 8, and relates to the various optical axis adjusting steps described above (claim 18,
In addition to the invention described in claim 19, a main body assembling step is newly added. The main body assembling step means assembling at least the minimum number of members required for the optical axis adjustment inside the apparatus main body 1 before the optical axis adjustment is performed in the optical axis adjusting step.
【0120】以下、本体組付工程の具体的な動作につい
て説明する。まず、光軸調整工程に入る前の段階で、少
なくとも光軸調整作業に必要な結像レンズ8とピンホー
ル13,18とをベース10上に組付ける。この必要最
小限度の組付けを行った後、光軸調整工程において、回
折パターンを用いて光軸調整のための環境作りを行い、
さらに結像レンズ8のレンズ光軸Cの調整を行う。この
光軸調整終了後、結像レンズ8、ピンホール13,18
以外の残った全ての部材を装置本体1に組付ける。以上
により、本体組付工程及び光軸調整工程の一連の工程が
完了する。The specific operation of the main body assembling process will be described below. First, at a stage before entering the optical axis adjusting step, at least the imaging lens 8 and the pinholes 13 and 18 required for the optical axis adjusting work are assembled on the base 10. After performing this necessary minimum assembly, in the optical axis adjustment process, create an environment for optical axis adjustment using the diffraction pattern,
Further, the lens optical axis C of the imaging lens 8 is adjusted. After completion of the optical axis adjustment, the imaging lens 8 and the pinholes 13 and 18
All the remaining members other than the above are assembled to the apparatus main body 1. By the above, a series of steps of the main body assembling step and the optical axis adjusting step are completed.
【0121】一般に、結像レンズ8の光軸調整は、その
装置における光学系、電送系、機構系等の部材を組付
け、ほぼ完成に近い状態にしてから実行される場合が多
く、この完成に近い状態にしてから光軸調整を行うので
は、調整の基準となるレーザ光がそれら部材に遮光され
たり、装置本体1内にピンホールを設置するためのスペ
ースがなくなってしまう場合がある。そこで、装置を設
計する段階で、装置本体1の構造を光軸調整と各部材の
組付け手順のことまでを考慮した構造とし、上述したよ
うに、レンズ光軸Cの調整の邪魔にならない程度の必要
最小限度の部材(結像レンズ8、ピンホール13,18
等)を装置本体1に組付けた後に、光軸調整を行うよう
にし、調整終了後、その他全ての部材を装置本体1に組
付けるようにしたので、調整作業を一段とスムーズに行
うことができるようになり、これにより作業効率を一段
と向上させることができる。In general, the optical axis adjustment of the imaging lens 8 is often performed after the members such as the optical system, the electric transmission system, and the mechanical system in the apparatus are assembled and the state is almost completed. If the optical axis adjustment is performed after setting the optical axis to a state close to the above condition, the laser beam that is the reference for the adjustment may be blocked by these members, or there may be no space for installing the pinhole in the apparatus body 1. Therefore, at the stage of designing the device, the structure of the device main body 1 is made a structure in consideration of the optical axis adjustment and the assembly procedure of each member, and as described above, it does not interfere with the adjustment of the lens optical axis C. The minimum necessary components (imaging lens 8, pinholes 13 and 18)
Etc.) is assembled to the apparatus body 1 and the optical axis is adjusted, and after the adjustment is completed, all the other members are assembled to the apparatus body 1, so that the adjustment work can be performed more smoothly. As a result, work efficiency can be further improved.
【0122】次に、本発明の第二十一の実施例について
説明する(請求項21記載の発明に対応する)。なお、
前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、その
同一部分については同一符号を用いる。The twenty-first embodiment of the present invention will now be described (corresponding to the invention of claim 21). In addition,
The description of the same parts as those of the above-described embodiments will be omitted, and the same reference numerals will be used for the same parts.
【0123】本実施例は、結像レンズ8の光軸調整方法
に関連し、前述した各種の光軸調整工程(請求項18,
請求項19記載の発明)の他に、新たに本体組付工程を
付加したものである。この本体組付工程とは、装置本体
1の構成部材のうち、少なくとも結像レンズ8とCCD
9とレーザ光源12の光束を遮光してしまう部材として
のミラー7とを着脱自在とし、これら着脱自在とされた
部材を除くほとんど全ての構成部材を、光軸調整工程に
より結像レンズ8の光軸調整を行う前の段階で装置本体
1の内部に組付けることをいう。This embodiment relates to a method for adjusting the optical axis of the imaging lens 8, and relates to the various optical axis adjusting steps described above (claim 18,
In addition to the invention described in claim 19, a main body assembling step is newly added. This main body assembling step means at least the imaging lens 8 and the CCD among the components of the main body 1 of the apparatus.
9 and the mirror 7 as a member for blocking the light flux of the laser light source 12 are made detachable, and almost all the constituent members except these detachable members are light-transmitted by the imaging lens 8 by the optical axis adjusting process. Assembling inside the apparatus main body 1 before the axis adjustment.
【0124】以下、本体組付工程の具体的な動作につい
て説明する。まず、光軸調整工程に入る前の段階で、図
1に示すように、着脱自在とされたミラー7、結像レン
ズ8、CCD9以外のほとんど全ての構成部材を装置本
体1の内部に組付ける。ただし、これら最初に組付けら
れる部材はレーザ光の通過や、ピンホール13,18、
ミラー7、結像レンズ8、CCD9等の着脱を妨げない
ような形状、構造とされている。このほとんど全ての部
材を組付けた後、光軸調整工程において、ピンホール1
3,18、結像レンズ8を装置本体1の内部に設置し、
回折パターンを用いて光軸調整のための環境作りを行
い、さらに結像レンズ8のレンズ光軸Cの調整を行う。
この光軸調整終了後に、ピンホール13,18を取外
し、ミラー7とCCD9との装置本体1への組付けを行
うことによって、一連の工程が完了する。The specific operation of the main body assembling process will be described below. First, before entering the optical axis adjusting step, as shown in FIG. 1, almost all the constituent members other than the detachable mirror 7, the imaging lens 8 and the CCD 9 are assembled inside the apparatus main body 1. . However, these first assembled members are the ones through which the laser light passes, the pinholes 13 and 18,
It has a shape and structure that does not hinder the attachment and detachment of the mirror 7, the imaging lens 8, the CCD 9, and the like. After assembling almost all the members, in the optical axis adjustment process, the pinhole 1
3, 18, the imaging lens 8 is installed inside the apparatus main body 1,
An environment for adjusting the optical axis is created using the diffraction pattern, and then the lens optical axis C of the imaging lens 8 is adjusted.
After completion of the optical axis adjustment, the pinholes 13 and 18 are removed, and the mirror 7 and the CCD 9 are assembled to the apparatus main body 1 to complete a series of steps.
【0125】一般に、結像レンズ8の光軸調整は、最初
にレンズ光軸Cを調整した後で本格的な装置本体1の組
付けを行うため、どんなに高精度にレンズ光軸Cの調整
を行っていても、調整後の装置本体1には組付け時の外
力や光学部材、部品の自重等が加わり、これにより歪が
発生し、組付け後の装置本体1の実使用時に光軸ズレが
生じてしまう場合がある。そこで、上述したように、実
使用レベル又はそれに近い状態にまで装置本体1を組付
け、装置本体1に発生する歪等の悪さを全て出させた状
態にして、レンズ光軸Cの光軸調整を行うようにしたの
で、結像レンズ8のレンズ光軸Cの実質的な位置決めを
一段と高精度に行うことができる。また、着脱自在な部
材は実施例のように結像レンズ8、CCD9、レーザ光
源12の光束を遮光してしまう部材としてのミラー7だ
けでなく、光軸調整時に作業者の邪魔となる部材なども
着脱可能(ただし、歪等の悪さに影響を与えない程度の
部材の着脱)とすれば、調整作業効率は一層向上する。In general, the optical axis of the imaging lens 8 is adjusted in such a manner that the lens optical axis C is first adjusted and then the apparatus main body 1 is assembled in earnest. Even if the adjustment is performed, the device main body 1 after adjustment is subjected to external force at the time of assembling, optical members, own weight of parts, etc., which causes distortion, and the optical axis shifts when the device main body 1 after assembly is actually used. May occur. Therefore, as described above, the optical axis adjustment of the lens optical axis C is performed by assembling the apparatus main body 1 to the actual use level or in a state close to the actual use level to bring out any badness such as distortion generated in the apparatus main body 1. Therefore, the lens optical axis C of the imaging lens 8 can be substantially positioned with higher accuracy. Further, the detachable member is not only the mirror 7 as a member for blocking the light flux of the imaging lens 8, the CCD 9 and the laser light source 12 as in the embodiment, but also a member that interferes with the operator when adjusting the optical axis. If the attachment / detachment is possible (however, the attachment / detachment of a member that does not affect the deterioration such as distortion), the adjustment work efficiency is further improved.
【0126】次に、本発明の第二十二の実施例について
説明する(請求項22記載の発明に対応する)。なお、
前記各実施例と同一部分についての説明は省略し、その
同一部分については同一符号を用いる。Next, a twenty-second embodiment of the present invention will be described (corresponding to the invention of claim 22). In addition,
The description of the same parts as those of the above-described embodiments will be omitted, and the same reference numerals will be used for the same parts.
【0127】本実施例は、前述した第二十一の実施例で
述べた結像レンズ8の光軸調整方法に関連する。装置本
体1の構成部材のうち、光軸調整時にレーザ光源12か
らのレーザ光を遮光してしまう部材に開口部が形成され
ており、ここではその開口部に前記レーザ光を通過させ
て光軸調整を行うようにした。例えばこの場合、遮光し
てしまう部材とは、前述した側板24a,24b(図1
1参照)やミラー7(図1参照)に該当し、また、開口
部とは、側板24a,24bの小孔25,26(図11
参照)の位置に形成される3〜5mm程度の穴(図示せ
ず)に該当する。この開口部は、レーザ光が通過するだ
けの小さな径とされている。この場合、レーザ光を遮光
してしまう部材に、遮光しないように開口部を設けるに
は、他の部材に影響のない程度の最低限の径の大きさに
限定すべきである。この径の大きさとしては、上述した
ように3〜5mm程度であればよい。This example relates to the optical axis adjusting method of the imaging lens 8 described in the twenty-first example. Among the constituent members of the apparatus main body 1, an opening is formed in a member that shields the laser light from the laser light source 12 at the time of adjusting the optical axis. Here, the laser light is passed through the opening to allow the optical axis to pass. I made adjustments. For example, in this case, the member that blocks light is the side plates 24a and 24b (see FIG. 1).
1) and the mirror 7 (see FIG. 1), and the opening means the small holes 25, 26 (see FIG. 11) of the side plates 24a, 24b.
It corresponds to a hole (not shown) of about 3 to 5 mm formed at the position (see). This opening has a small diameter that allows the laser light to pass therethrough. In this case, in order to provide an opening in a member that blocks the laser light so as not to block the laser light, the diameter should be limited to the minimum size that does not affect other members. The size of this diameter may be about 3 to 5 mm as described above.
【0128】一般に、レーザ光源12からのレーザ光の
通過を妨げることのないような形状とするために、その
通過光路にある部材に逃げ部や大きな穴を設けたり、構
成部材の一部を省略するのでは、調整精度の低下、装置
本体1の剛性の低下、装置機能の低下などの原因とな
る。そこで、遮光してしまう部材にレーザ光を通すだけ
の最低限の大きさの開口部を形成することによって、装
置本体1を実際に使用する状態にして結像レンズ8の光
軸調整を行うことができる。また、これにより調整精
度、剛性、機能等の低下を防ぐことができる。Generally, in order to make the shape such that the passage of the laser light from the laser light source 12 is not obstructed, a relief part or a large hole is provided in the member in the passing optical path, or a part of the constituent members is omitted. Doing so may cause a decrease in adjustment accuracy, a decrease in rigidity of the apparatus body 1, a decrease in apparatus function, and the like. Therefore, the optical axis of the imaging lens 8 is adjusted by forming the opening of the minimum size that allows the laser light to pass through the member that shields light so that the apparatus body 1 is actually used. You can In addition, this can prevent deterioration of adjustment accuracy, rigidity, function, and the like.
【0129】なお、これまで述べてきた全ての実施例で
は、光束規制部材(ピンホール13,16,18,2
7,37)の微小開口部を小孔14,17,19,2
8,38としたが、この円形の形状に限るものではな
く、例えば、縦長又は横長のスリットや矩形状のもので
あってもよい。また、光軸調整方法としては、結像レン
ズ8の調整仮想光軸Eに全て厳格に一致させるようなや
り方であるが、その一致させる精度の割合は装置自体の
性能、仕様等によって決められるものであり、必ずしも
厳格に設定する必要はない。また、光軸調整用の光学部
材の配置位置を、実施例とは反対の位置(結像レンズ8
の入射側と射出側に配置した位置とは逆の位置)に設置
しても同様な調整を行うことができる。さらに、回折パ
ターンKを用いた結像レンズ8のレンズ光軸Cの調整方
法は、原稿読取装置に限定されるものではなく、結像レ
ンズ8を備えた高品位、高精度な装置に適用できる。In all the embodiments described above, the light flux regulating member (pinholes 13, 16, 18, 2) is used.
(7,37) the small openings to the small holes 14,17,19,2
However, the shape is not limited to this circular shape, and may be, for example, a vertically long or horizontally long slit or a rectangular shape. Further, the optical axis adjusting method is a method in which all the adjustment virtual optical axes E of the imaging lens 8 are strictly matched, but the ratio of the matching accuracy is determined by the performance and specifications of the apparatus itself. Therefore, it is not always necessary to set it strictly. In addition, the arrangement position of the optical member for adjusting the optical axis is set to a position (imaging lens 8
The same adjustment can be carried out even if they are installed at positions (opposite to the positions on the incident side and the exit side). Furthermore, the method of adjusting the lens optical axis C of the imaging lens 8 using the diffraction pattern K is not limited to the document reading device, but can be applied to a high-quality and highly accurate device including the imaging lens 8. .
【0130】[0130]
【発明の効果】請求項1記載の発明は、波動光照明手段
と光束を規制する微小開口部を有する光束規制部材とを
結像レンズの調整仮想光軸上に配置させ、これより発生
した回折パターンをパターン表示手段に受光して表示さ
せ、この表示された回折パターンをもとに結像レンズ光
軸調整手段によって結像レンズのレンズ光軸を移動調整
することによって、結像レンズを調整仮想光軸上に介在
させたときの回折パターンと介在させないときの回折パ
ターンとを一致させるようにしたので、結像レンズのレ
ンズ光軸を調整仮想光軸すなわち設計位置に一致させる
ことができ、これにより、実際の原稿読取り時に、読取
り光束の光軸が結像レンズのレンズ光軸に対して斜めか
ら入射して光軸ズレが生じるようなことがなくなるた
め、結像性能すなわち画像品質を一段と高めることがで
き、高品位な原稿読取装置を提供することができる。According to the first aspect of the invention, the wave light illuminating means and the light flux regulating member having a minute aperture for regulating the light flux are arranged on the adjusted virtual optical axis of the imaging lens, and the diffraction generated by this is arranged. The pattern display means receives and displays the pattern, and the imaging lens optical axis adjusting means moves and adjusts the lens optical axis of the imaging lens based on the displayed diffraction pattern to adjust the imaging lens. Since the diffraction pattern when it is interposed on the optical axis and the diffraction pattern when it is not interposed are made to coincide with each other, the lens optical axis of the imaging lens can be made to coincide with the adjusted virtual optical axis, that is, the design position. This prevents the optical axis of the reading light beam from being obliquely incident on the lens optical axis of the imaging lens during actual document reading, thus causing optical axis misalignment. Image quality can be the increase further, it is possible to provide a high-quality document reading apparatus.
【0131】請求項2記載の発明は、結像レンズの入出
射の何れか一方側に配設した波動光照明手段とは反対側
の調整仮想光軸上に配置された少なくとも2つの光束規
制部材を用いて回折パターンによる結像レンズの光軸調
整を行うようにしたので、回折パターンが投影されるパ
ターン表示手段の基準位置からのズレ量を考慮すること
なく、回折パターンの形状が一致するか否かを判断する
ことによってレンズ光軸の調整を行うことができ、これ
により、結像レンズの光軸調整の精度を一段と向上させ
ることができる。According to a second aspect of the present invention, at least two light flux regulating members are arranged on the adjusted virtual optical axis on the side opposite to the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Since the optical axis of the imaging lens is adjusted by using the diffraction pattern, whether the shapes of the diffraction patterns match without considering the amount of deviation from the reference position of the pattern display means on which the diffraction pattern is projected. The lens optical axis can be adjusted by determining whether or not it is possible to further improve the accuracy of the optical axis adjustment of the imaging lens.
【0132】請求項3記載の発明は、結像レンズの入出
射の何れか一方側に配設した波動光照明手段と同じ側の
調整仮想光軸上に光束規制部材を配置して回折パターン
による結像レンズの光軸調整を行うようにしたので、光
軸調整の基準となる波動光照明手段の位置を常にチェッ
クすることができ、これにより、結像レンズの光軸調整
を高精度にしかもバラツキなく安定して行うことができ
る。According to the third aspect of the present invention, the light flux regulating member is arranged on the adjustment virtual optical axis on the same side as the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens, and the diffraction pattern is used. Since the optical axis of the imaging lens is adjusted, it is possible to always check the position of the wave light illuminating means, which serves as a reference for the optical axis adjustment, and thus the optical axis of the imaging lens can be adjusted with high accuracy. It can be performed stably without variation.
【0133】請求項4記載の発明は、結像レンズの略像
面位置又はその像面距離と略等しい位置に少なくとも1
つの光束規制部材を配置して結像レンズの光軸調整を行
うようにしたので、結像レンズのわずかな光軸ズレを許
容するような装置に適応した調整を行うことができ、必
要以上の調整が不要となり、これにより、個々の装置に
対して最適な品位性能を最適なコストで提供することが
できる。According to a fourth aspect of the present invention, at least 1 is provided at a position substantially equal to the image plane position of the imaging lens or the image plane distance thereof.
Since the two light flux regulating members are arranged to adjust the optical axis of the imaging lens, it is possible to perform the adjustment suitable for the device that allows the slight deviation of the optical axis of the imaging lens. No adjustment is required, which makes it possible to provide optimum quality performance for individual devices at optimum cost.
【0134】請求項5記載の発明は、位置決め手段を用
いて少なくとも2つの光束規制部材で形成される各微小
開口部の中心を結ぶ線を結像レンズの調整仮想光軸に一
致又は略一致させるようにしたので、光軸調整の基準と
なる調整仮想光軸を簡単にしかも高精度に設定できると
共に実際に目に見える状態とすることができ、これによ
り、結像レンズの光軸調整の高精度化及び位置決め調整
の作業効率化を図ることができる。According to the fifth aspect of the present invention, the line connecting the centers of the minute apertures formed by at least two light flux regulating members is made to coincide or substantially coincide with the adjusted virtual optical axis of the imaging lens by using the positioning means. As a result, the adjusted virtual optical axis, which is the reference for the optical axis adjustment, can be set easily and with high accuracy, and can be made visible in reality. It is possible to improve accuracy and work efficiency of positioning adjustment.
【0135】請求項6記載の発明は、回折パターンを発
生させる微小開口部を装置本体に形成して結像レンズの
光軸調整を行うようにしたので、光束規制部材を本体内
部に設置することなしに何時でも結像レンズの光軸調整
や調整後の光軸チェック等を簡単に行うことができ、こ
れにより、光軸調整の作業効率化を図ることができると
共に、装置のメンテナンス性や信頼性を向上させること
ができる。According to the sixth aspect of the present invention, since the minute opening for generating the diffraction pattern is formed in the apparatus main body to adjust the optical axis of the imaging lens, the light flux regulating member should be installed inside the main body. Without adjusting the optical axis, the optical axis of the imaging lens can be easily adjusted and the optical axis can be checked after adjustment. This makes it possible to improve the work efficiency of the optical axis adjustment, and maintainability and reliability of the device. It is possible to improve the sex.
【0136】請求項7記載の発明は、光束規制部材を装
置本体外部に配設して結像レンズの光軸調整を行うよう
にしたので、光束規制部材を装置本体内部に組付ける場
合に比べて作業効率を大幅に向上させることができ、ま
た、複数個の光束規制部材を配設するような場合におい
ても設置間隔を広くとることができるため、結像レンズ
の光軸調整を一段と高精度に行うことができる。According to the seventh aspect of the invention, since the light flux regulating member is arranged outside the main body of the apparatus to adjust the optical axis of the imaging lens, compared with the case where the light flux regulating member is assembled inside the main body of the apparatus. Work efficiency can be significantly improved, and the installation interval can be widened even when a plurality of light flux regulating members are arranged, so that the optical axis of the imaging lens can be adjusted with higher accuracy. Can be done.
【0137】請求項8記載の発明は、波動光照明手段か
ら発せられる光束の光軸を結像レンズの調整仮想光軸に
一致又は略一致させるように、波動光光軸調整手段を用
いて波動光照明手段の光束の光軸を調整するようにした
ので、波動光照明手段の位置設定や、設定位置からズレ
た時などに素早くしかも高精度に対応させることがで
き、これにより、結像レンズの光軸調整の高精度化及び
作業の効率化を一段と図ることができる。According to the present invention, the wave light optical axis adjusting means is used so that the optical axis of the light beam emitted from the wave light illuminating means coincides or substantially coincides with the adjusted virtual optical axis of the imaging lens. Since the optical axis of the luminous flux of the light illuminating means is adjusted, it is possible to quickly and highly accurately respond to the position setting of the wave light illuminating means or when the wave light illuminating means is displaced from the set position. It is possible to further improve the precision of the optical axis adjustment and the work efficiency.
【0138】請求項9記載の発明は、微小開口部の中心
位置を結像レンズの調整仮想光軸に一致又は略一致させ
るように、開口部中心位置調整手段を用いて微小開口部
の中心位置を調整するようにしたので、その中心位置調
整が容易で簡単に高精度な位置決めを行うことができ、
これにより、結像レンズの光軸調整の高精度化及び作業
の効率化を一段と図ることができる。According to a ninth aspect of the invention, the center position of the minute opening is adjusted by using the opening center position adjusting means so that the center position of the minute opening coincides with or substantially coincides with the adjustment virtual optical axis of the imaging lens. Since it is adjusted, the center position can be easily adjusted and high-accuracy positioning can be performed easily.
As a result, it is possible to further improve the accuracy of the optical axis adjustment of the imaging lens and the efficiency of the work.
【0139】請求項10記載の発明は、少なくとも光束
規制部材と結像レンズを保持するレンズ保持部材とを、
装置本体の少なくともベース等の同一構成部材上に配設
したので、取付け部の加工精度や成形精度の高精度化を
図ることができ、これにより、少なくとも光束規制部材
と結像レンズの相対的な位置を高精度に保つことができ
る。According to a tenth aspect of the present invention, at least a light flux regulating member and a lens holding member for holding the imaging lens are provided.
Since they are arranged on at least the same constituent member such as the base of the apparatus main body, it is possible to improve the processing accuracy and the molding accuracy of the mounting portion. The position can be maintained with high accuracy.
【0140】請求項11記載の発明は、結像レンズを保
持するレンズ保持部材が設置される構成部材(ベース
等)のその設置部及びその周辺部に、高剛性手段を施し
たので、結像レンズ等の自重による構成部材(ベース
等)のたわみを防止することができ、これにより、結像
レンズの構成部材への組付け前後における光軸調整の精
度を常に安定して保つことができる。According to the eleventh aspect of the invention, high rigidity means is applied to the installation portion and its peripheral portion of the component member (base or the like) on which the lens holding member for holding the imaging lens is installed. It is possible to prevent the component members (base, etc.) from being deflected by the weight of the lens or the like, and thus it is possible to constantly maintain the accuracy of the optical axis adjustment before and after the assembly of the imaging lens to the component members.
【0141】請求項12記載の発明は、光束規制部材移
動調整手段を用いて結像レンズの入出射の何れか一方側
に配設した波動光照明手段とは反対側の調整仮想光軸上
に配設された光束規制部材を調整仮想光軸方向に移動調
整するようにしたので、投影される回折パターンのボケ
をなくしパターン状態を明確に判断することができ、こ
れにより、結像レンズの光軸調整の高精度化を一段と図
ることができる。According to the twelfth aspect of the present invention, the light flux regulating member movement adjusting means is used to arrange on the adjusting virtual optical axis on the side opposite to the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Since the provided light flux regulating member is moved and adjusted in the adjustment virtual optical axis direction, it is possible to eliminate blurring of the projected diffraction pattern and to clearly determine the pattern state. It is possible to further improve the accuracy of axis adjustment.
【0142】請求項13記載の発明は、回折パターンを
受光して表示するパターン表示手段として受光モニタを
用いたので、客観的評価によって結像レンズの光軸調整
を行うことができ、これにより、結像レンズの光軸調整
の精度を向上させると共に、作業の効率化を図ることが
できる。According to the thirteenth aspect of the invention, since the light receiving monitor is used as the pattern display means for receiving and displaying the diffraction pattern, the optical axis of the imaging lens can be adjusted by objective evaluation. The accuracy of the optical axis adjustment of the imaging lens can be improved and the work efficiency can be improved.
【0143】請求項14記載の発明は、投影位置移動調
整手段を用いてパターン表示手段を調整仮想光軸方向に
移動調整するようにしたので、投影される回折パターン
を光量、大きさ共に最適な状態にすることができ、これ
により、結像レンズの光軸調整の高精度化を図ることが
できる。According to the fourteenth aspect of the invention, since the pattern display means is moved and adjusted in the adjustment virtual optical axis direction by using the projection position movement adjusting means, the projected diffraction pattern is optimal for both the light quantity and the size. The optical axis of the imaging lens can be adjusted with high accuracy.
【0144】請求項15記載の発明は、開口部可変手段
により少なくとも光束規制部材の微小開口部の大きさを
可変するようにしたので、回折パターンの光量と大きさ
とを微妙にコントロールして投影される回折パターンを
最適な状態に設定することができ、これにより、結像レ
ンズの光軸調整の精度を一段と向上させることができ
る。According to the fifteenth aspect of the present invention, since at least the size of the minute aperture of the light flux regulating member is varied by the aperture varying means, the light quantity and size of the diffraction pattern are delicately controlled and projected. The diffraction pattern can be set to an optimum state, and thus the accuracy of the optical axis adjustment of the imaging lens can be further improved.
【0145】請求項16記載の発明は、開口部・投影位
置可変手段により少なくとも光束規制部材の微小開口部
の大きさと、この微小開口部からパターン表示手段まで
の投影距離とを可変するようにしたので、回折パターン
の光量と大きさとのコントロール範囲を拡大してどのよ
うな装置のレンズにも臨機応変に対応することができ、
これにより、投影される回折パターンを常に最適な状態
にして結像レンズの光軸調整を行うことができる。According to the sixteenth aspect of the invention, at least the size of the minute opening of the light flux regulating member and the projection distance from the minute opening to the pattern display means are changed by the opening / projection position changing means. Therefore, it is possible to flexibly respond to the lens of any device by expanding the control range of the light amount and size of the diffraction pattern,
This makes it possible to adjust the optical axis of the imaging lens while always keeping the projected diffraction pattern in an optimum state.
【0146】請求項17記載の発明は、光軸調整用テー
ブル上に、結像レンズの光軸調整を行うための少なくと
も波動光照明手段と、結像レンズを保持した装置本体の
構成部材(ベース等)を位置決めする位置決め手段とを
配設するようにしたので、最初の光軸調整を行った後の
2回目以降は、構成部材を位置決め手段に固定して単に
結像レンズの移動調整を行うだけでよく、各調整毎の精
度バラツキも極めて押えることができ、これにより、量
産時や再調整時など同じ結像レンズの光軸調整を何度も
行う場合に、調整作業効率を大幅に向上させることがで
きる。According to a seventeenth aspect of the present invention, at least the wave light illuminating means for adjusting the optical axis of the imaging lens on the optical axis adjusting table, and the component member (base) of the apparatus main body holding the imaging lens. And the like) are arranged so that after the first optical axis adjustment, after the second time, the constituent members are fixed to the positioning means and the movement of the imaging lens is simply adjusted. The accuracy variation between adjustments can be greatly suppressed, which greatly improves the adjustment work efficiency when the optical axis of the same imaging lens is adjusted many times during mass production or readjustment. Can be made.
【0147】請求項18記載の発明は、光束規制部材を
装置本体内部に配置させた状態で、第一〜第三の光軸調
整工程に従って順次回折パターンを用いた結像レンズの
光軸調整を行うようにしたので、光軸調整作業をスムー
ズにかつ効率的に行え、所望とする光軸精度を容易に誰
でも達成することができ、これにより、作業が簡単で高
精度な結像レンズの光軸調整方法を実現することができ
る。According to the eighteenth aspect of the present invention, the optical axis adjustment of the imaging lens using the diffraction patterns is sequentially performed according to the first to third optical axis adjustment steps in a state where the light flux regulating member is arranged inside the apparatus main body. Since the optical axis adjustment work is performed smoothly and efficiently, anyone can easily achieve the desired optical axis accuracy, which makes the operation of the imaging lens easy and highly accurate. An optical axis adjusting method can be realized.
【0148】請求項19記載の発明は、第一の光束規制
部材を装置本体内部に配置させ、第二の光束規制部材を
装置本体内部又は外部に配置させた状態で、第一〜第四
の光軸調整工程に従って順次回折パターンを用いた結像
レンズの光軸調整を行うようにしたので、光軸調整作業
をスムーズにかつ効率的に行え、所望とする光軸精度を
容易に誰でも達成することができ、これにより、作業が
簡単でさらに高精度な結像レンズの光軸調整方法を実現
することができる。According to a nineteenth aspect of the present invention, the first to fourth light flux regulating members are arranged inside the apparatus body, and the second light flux regulating member is arranged inside or outside the apparatus body. Since the optical axis of the imaging lens is adjusted sequentially using the diffraction pattern according to the optical axis adjustment process, the optical axis adjustment work can be performed smoothly and efficiently, and anyone can easily achieve the desired optical axis accuracy. As a result, it is possible to realize a method of adjusting the optical axis of the imaging lens that is easy and highly accurate.
【0149】請求項20記載の発明は、まず、最初に本
体組付工程に従って少なくとも結像レンズの光軸調整に
必要な最小限度の部材の組付けを行い、その後、光軸調
整工程に従って結像レンズの光軸調整を行った後に、装
置本体内部に残り全ての構成部材の組付けを行うように
したので、光軸調整作業をスムーズに行い、作業効率を
一段と向上させることができる。According to the twentieth aspect of the invention, first, at least the minimum number of members necessary for adjusting the optical axis of the imaging lens is assembled according to the main body assembling step, and then the imaging is performed according to the optical axis adjusting step. After adjusting the optical axis of the lens, all the remaining constituent members are assembled inside the main body of the apparatus, so that the optical axis adjustment work can be performed smoothly and the work efficiency can be further improved.
【0150】請求項21記載の発明は、結像レンズの光
軸調整を行う光軸調整工程に入る前の本体組付工程にお
いて、装置本体の構成部材のうち、少なくとも結像レン
ズと受光手段と光軸調整時に波動光照明手段の光束を遮
光してしまう部材とを除くほとんど全ての構成部材を装
置本体内部に組付けるようにしたので、その組付け後の
光軸調整工程において結像レンズの光軸調整を行う段階
では、装置本体の重量を実使用レベル又はそれに近い状
態に設定して調整を行うことができ、これにより、装置
本体に発生する歪等の悪さを全て出させた状態にするこ
とができるため、結像レンズの光軸の実質的な位置決め
を一段と高精度に行うことができる。According to a twenty-first aspect of the invention, in the main body assembling step before the optical axis adjusting step for adjusting the optical axis of the image forming lens, at least the image forming lens and the light receiving means among the constituent members of the apparatus main body. Since almost all the constituent members except the member that shields the luminous flux of the wave light illuminating means during the optical axis adjustment are assembled inside the apparatus main body, in the optical axis adjusting step after the assembly, the imaging lens At the stage of adjusting the optical axis, the weight of the device body can be set to the actual usage level or a state close to it, so that the adjustment can be performed in a state where all the badness such as distortion generated in the device body is brought out. Therefore, the substantial positioning of the optical axis of the imaging lens can be performed with higher accuracy.
【0151】請求項22記載の発明は、装置本体の構成
部材のうち、光軸調整時に波動光照明手段からの光束を
遮光してしまう部材に開口部を形成し、この開口部に波
動光照明手段の光束を導くようにしたので、装置本体を
実際に使用する状態に近づけた状態にして結像レンズの
高精度な光軸調整を行うことができ、また、これにより
装置本体の剛性の低下や光軸調整精度の低下をなくすこ
とができる。According to a twenty-second aspect of the present invention, among the constituent members of the apparatus main body, an opening is formed in a member that shields the light beam from the wave light illumination means at the time of adjusting the optical axis, and the wave light illumination is provided in this opening. Since the light flux of the means is guided, it is possible to adjust the optical axis of the imaging lens with high accuracy while the apparatus body is brought close to the state of actual use, and this reduces the rigidity of the apparatus body. It is possible to eliminate the deterioration of the optical axis adjustment accuracy.
【図1】第一の実施例である結像レンズの光軸調整の光
学系を示す光路図である。FIG. 1 is an optical path diagram showing an optical system for adjusting an optical axis of an imaging lens which is a first embodiment.
【図2】原稿読取装置の読取光学系の構成を示す正面図
である。FIG. 2 is a front view showing the configuration of a reading optical system of the document reading device.
【図3】同心円状の正常な回折パターンの形状を示す模
式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a shape of a normal concentric diffraction pattern.
【図4】非対称な回折パターンの形状を示す模式図であ
る。FIG. 4 is a schematic diagram showing the shape of an asymmetric diffraction pattern.
【図5】第二の実施例を示す光路図である。FIG. 5 is an optical path diagram showing a second embodiment.
【図6】第三の実施例を示す光路図である。FIG. 6 is an optical path diagram showing a third embodiment.
【図7】第三の実施例の他の構成例を示す光路図であ
る。FIG. 7 is an optical path diagram showing another configuration example of the third embodiment.
【図8】第四の実施例を示す光路図である。FIG. 8 is an optical path diagram showing a fourth embodiment.
【図9】第五の実施例及び第十の実施例を示す光路図で
ある。FIG. 9 is an optical path diagram showing a fifth embodiment and a tenth embodiment.
【図10】ベース面上の形状を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a shape on a base surface.
【図11】第六の実施例を示す光路図である。FIG. 11 is an optical path diagram showing a sixth embodiment.
【図12】第七の実施例を示す光路図である。FIG. 12 is an optical path diagram showing a seventh embodiment.
【図13】第八の実施例を示す光路図である。FIG. 13 is an optical path diagram showing an eighth embodiment.
【図14】第九の実施例を示す光路図である。FIG. 14 is an optical path diagram showing a ninth embodiment.
【図15】第十一の実施例を示す光路図である。FIG. 15 is an optical path diagram showing an eleventh embodiment.
【図16】ベース面上の形状を示す平面図である。FIG. 16 is a plan view showing a shape on a base surface.
【図17】第十二の実施例及び第十五の実施例を示す光
路図である。FIG. 17 is an optical path diagram showing a twelfth embodiment and a fifteenth embodiment.
【図18】第十三の実施例を示す光路図である。FIG. 18 is an optical path diagram showing a thirteenth embodiment.
【図19】第十四の実施例及び第十六の実施例を示す光
路図である。FIG. 19 is an optical path diagram showing a fourteenth embodiment and a sixteenth embodiment.
【図20】第十七の実施例を示す光路図である。FIG. 20 is an optical path diagram showing a seventeenth embodiment.
【図21】第十八の実施例である結像レンズの光軸調整
方法を示す光路図である。FIG. 21 is an optical path diagram showing a method of adjusting the optical axis of the imaging lens of the eighteenth embodiment.
【図22】図21に続く光軸調整方法を示す光路図であ
る。22 is an optical path diagram showing the optical axis adjusting method following FIG.
【図23】第十九の実施例である結像レンズの光軸調整
方法を示す光路図である。FIG. 23 is an optical path diagram showing a method of adjusting the optical axis of the imaging lens of the nineteenth embodiment.
【図24】図23に続く光軸調整方法を示す光路図であ
る。FIG. 24 is an optical path diagram showing the optical axis adjusting method following FIG. 23.
【図25】図24に続く光軸調整方法を示す光路図であ
る。25 is an optical path diagram showing the optical axis adjusting method following FIG.
【図26】図25に続く光軸調整方法を示す光路図であ
る。26 is an optical path diagram showing the optical axis adjusting method following FIG. 25. FIG.
2 照明手段 4 原稿 7 ミラー 8 結像レンズ 9 受光手段 10 ベース 12 波動光照明手段 13 光束規制部材 14 微小開口部 15 パターン表示手段 16,18 光束規制部材 20 位置決め手段 25,26 微小開口部 27 光束規制部材 29 波動光光軸調整手段 30 開口部中心位置調整手段 31 高剛性手段 32 光束規制部材移動調整手段 33 受光モニタ 36 投影位置移動調整手段 39 開口部中心位置調整手段 40 テーブル 41 位置決め手段 A 光束 B 光軸 K 回折パターン E 調整仮想光軸 2 Illuminating means 4 Original document 7 Mirror 8 Imaging lens 9 Light receiving means 10 Base 12 Wave light illuminating means 13 Light flux regulating member 14 Micro aperture 15 Pattern display means 16, 18 Luminous flux regulating member 20 Positioning means 25, 26 Micro aperture 27 Luminous flux Regulation member 29 Wave light optical axis adjusting means 30 Opening center position adjusting means 31 High rigidity means 32 Luminous flux regulating member movement adjusting means 33 Light receiving monitor 36 Projection position movement adjusting means 39 Opening center position adjusting means 40 Table 41 Positioning means A Luminous flux B optical axis K diffraction pattern E adjustment virtual optical axis
Claims (22)
により前記原稿の読取情報を含んだ光束を結像レンズに
導き、この結像レンズにより結像された光束を受光手段
に結像させることにより前記原稿の読取情報を読取る原
稿読取装置において、前記結像レンズの入出射の何れか
一方側の調整仮想光軸上に波動光を発する波動光照明手
段を配設し、前記結像レンズの入出射の前記波動光照明
手段とは反対側の前記調整仮想光軸上に前記波動光照明
手段から発せられた前記波動光を規制する微小開口部を
有する光束規制部材を配設し、この光束規制部材により
発生した回折パターンを受光して表示するパターン表示
手段を設け、前記結像レンズをそのレンズ光軸が調整自
在となるように支持する結像レンズ光軸調整手段を設け
たことを特徴とする原稿読取装置。1. A document is illuminated by an illuminating means, a light flux containing read information of the document is guided to an imaging lens by this illumination, and the light flux imaged by the imaging lens is focused on a light receiving means. In the document reading device for reading the read information of the document, a wave light illuminating means for emitting wave light is disposed on the adjusted virtual optical axis of either the entrance side or the exit side of the image forming lens, and the image forming lens of the image forming lens is provided. A light flux restricting member having a minute opening for restricting the wave light emitted from the wave light illumination means is disposed on the adjusted virtual optical axis on the side opposite to the wave light illumination means for entrance and exit. A pattern display means for receiving and displaying a diffraction pattern generated by the regulating member is provided, and an imaging lens optical axis adjusting means for supporting the imaging lens so that the lens optical axis thereof is adjustable is provided. To Document reader.
レンズの入出射の何れか一方側に配設した波動光照明手
段とは反対側の調整仮想光軸上に配設したことを特徴と
する請求項1記載の原稿読取装置。2. At least two light flux regulating members are arranged on an adjusted virtual optical axis on the side opposite to the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. The document reading apparatus according to claim 1, wherein
何れか一方側に配設した波動光照明手段と同じ側の調整
仮想光軸上に配設したことを特徴とする請求項1又は2
記載の原稿読取装置。3. The light flux regulating member is arranged on the adjusted virtual optical axis on the same side as the wave light illuminating means arranged on either side of the entrance and exit of the imaging lens. Or 2
The document reading device described.
レンズの略像面位置又はその像面距離と略等しい位置に
配設したことを特徴とする請求項1,2又は3記載の原
稿読取装置。4. The document reading apparatus according to claim 1, wherein at least one light flux regulating member is arranged at a position substantially equal to an image plane position of the imaging lens or a position substantially equal to an image plane distance thereof. apparatus.
れる各微小開口部の中心を結ぶ線と結像レンズの調整仮
想光軸とを一致又は略一致させる位置決め手段を、装置
本体に取付けたことを特徴とする請求項1,2,3又は
4記載の原稿読取装置。5. A positioning means for attaching or substantially aligning a line connecting the centers of the respective minute apertures formed by at least two light flux regulating members with the adjusted virtual optical axis of the imaging lens is attached to the apparatus main body. The document reading device according to claim 1, 2, 3, or 4.
小開口部を、結像レンズの調整仮想光軸と交差する位置
の装置本体に形成したことを特徴とする請求項1,2,
3又は4記載の原稿読取装置。6. A fine aperture for restricting a light flux from the wave light illuminating means is formed in the apparatus main body at a position intersecting with the adjusted virtual optical axis of the imaging lens.
The document reading device described in 3 or 4.
レンズの調整仮想光軸上でかつ装置本体外部の位置に配
設したことを特徴とする請求項1,2,3又は4記載の
原稿読取装置。7. The document according to claim 1, wherein at least one light flux regulating member is arranged at a position on the adjusted virtual optical axis of the imaging lens and outside the apparatus main body. Reader.
部を通過する波動光照明手段の光束の光軸とが一致又は
略一致するように、前記波動光照明手段の光束の光軸を
調整する波動光光軸調整手段を設けたことを特徴とする
請求項1,2,3,4,5,6又は7記載の原稿読取装
置。8. The optical axis of the luminous flux of the wave light illumination means so that the adjusted virtual optical axis of the imaging lens and the optical axis of the luminous flux of the wave light illumination means passing through the minute opening coincide or substantially coincide with each other. 8. The document reading apparatus according to claim 1, further comprising: a wave light optical axis adjusting means for adjusting.
部の中心位置とが一致又は略一致するように、前記微小
開口部の中心位置を調整する開口部中心位置調整手段を
設けたことを特徴とする請求項1,2,3,4,5,
6,7又は8記載の原稿読取装置。9. An opening center position adjusting means for adjusting the center position of the minute opening is provided so that the adjustment virtual optical axis of the imaging lens and the center position of the minute opening coincide or substantially coincide with each other. Claims 1, 2, 3, 4, 5, characterized in that
The document reading device according to 6, 7, or 8.
を保持するレンズ保持部材とを、装置本体の少なくとも
同一構成部材上に配設したことを特徴とする請求項1,
2,3,4,5,6,7,8又は9記載の原稿読取装
置。10. The at least light flux regulating member and the lens holding member for holding the imaging lens are arranged on at least the same constituent member of the apparatus main body.
The document reading device described in 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 or 9.
が設置される装置本体の構成部材のその設置部及びその
周辺部に、高剛性手段を施したことを特徴とする請求項
1,2,3,4,5,6,7,8,9又は10記載の原
稿読取装置。11. A high-rigidity means is provided at the installation portion and the peripheral portion of the constituent member of the apparatus main body in which the lens holding member for holding the imaging lens is installed. The document reading device according to 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, or 10.
配設した波動光照明手段とは反対側の調整仮想光軸上に
配設された光束規制部材を調整仮想光軸方向に移動させ
る光束規制部材移動調整手段を設けたことを特徴とする
請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,10又は
11記載の原稿読取装置。12. A light flux regulating member arranged on an adjusted virtual optical axis on the side opposite to the wave light illumination means arranged on one side of the entrance and exit of the imaging lens is moved in the adjusted virtual optical axis direction. 12. The document reading apparatus according to claim 1, further comprising a light flux regulating member movement adjusting means for controlling the movement.
ーン表示手段として受光モニタを用いたことを特徴とす
る請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,
11又は12記載の原稿読取装置。13. A light receiving monitor is used as a pattern display means for receiving and displaying a diffraction pattern, and the light receiving monitor is used as a pattern display means.
11. The document reading device according to item 11 or 12.
に移動させ投影位置を調整する投影位置移動調整手段を
設けたことを特徴とする請求項1,2,3,4,5,
6,7,8,9,10,11,12又は13記載の原稿
読取装置。14. A projection position movement adjusting means for adjusting the projection position by moving the pattern display means in the adjustment virtual optical axis direction.
The document reading device according to 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12 or 13.
の大きさを可変する開口部可変手段を設けたことを特徴
とする請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,1
0,11,12,13又は14記載の原稿読取装置。15. An aperture varying means for varying the size of at least the minute aperture of the light flux regulating member is provided. , 1
The document reading device according to 0, 11, 12, 13 or 14.
の大きさと、この微小開口部からパターン表示手段まで
の投影距離とを可変する開口部・投影位置可変手段を設
けたことを特徴とする請求項1,2,3,4,5,6,
7,8,9,10,11,12,13,14又は15記
載の原稿読取装置。16. An aperture / projection position varying means for varying at least the size of the minute opening of the light flux regulating member and the projection distance from the minute opening to the pattern display means. 1, 2, 3, 4, 5, 6,
The document reading device according to 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14 or 15.
波動光照明手段と、この波動光照明手段の光束の光軸と
結像レンズの調整仮想光軸とが一致又は略一致するよう
に前記結像レンズを保持した装置本体の構成部材を位置
決めする位置決め手段とを配設し、前記構成部材を前記
光軸調整用テーブルに対して着脱自在としたことを特徴
とする請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,1
1,12,13,14,15又は16記載の原稿読取装
置。17. The optical axis adjusting table is so constructed that at least the wave light illuminating means and the optical axis of the light flux of the wave light illuminating means and the adjusted virtual optical axis of the imaging lens are matched or substantially matched. 4. Positioning means for positioning the constituent member of the apparatus main body holding the image lens is provided, and the constituent member is attachable to and detachable from the optical axis adjusting table. , 4,5,6,7,8,9,1
The document reading device according to 1, 12, 13, 14, 15 or 16.
部を有する光束規制部材の前記微小開口部の中心とが一
致又は略一致するように、前記光束規制部材を装置本体
内部に位置決めする第一の光軸調整工程と、前記微小開
口部の中心と波動光を発する波動光照明手段の光軸とが
一致又は略一致するように、前記波動光照明手段の位置
を回折パターンを用いて調整し位置決めする第二の光軸
調整工程と、前記結像レンズを前記調整仮想光軸上に配
置させこの結像レンズを介在させる前の前記回折パター
ンと介在させた後の回折パターンとを比較し両方の回折
パターンが一致又は略一致するように前記結像レンズの
光軸調整を行う第三の光軸調整工程とからなることを特
徴とする結像レンズの光軸調整方法。18. The light flux regulating member is positioned inside the apparatus main body such that the adjusted virtual optical axis of the imaging lens and the center of the fine aperture of the light flux regulating member having the minute aperture coincide or substantially coincide with each other. The position of the wave light illumination means is adjusted by using a diffraction pattern so that the first optical axis adjusting step and the optical axis of the wave light illumination means for emitting the wave light coincide with or substantially coincide with the center of the minute opening. Comparing the second optical axis adjusting step of adjusting and positioning with the diffraction pattern before the interposition of the imaging lens with the imaging lens arranged on the adjusted virtual optical axis and after the interposition. And a third optical axis adjusting step of adjusting the optical axis of the imaging lens so that the two diffraction patterns are matched or substantially matched with each other.
部を有する第一の光束規制部材の前記微小開口部の中心
とが一致又は略一致するように、前記第一の光束規制部
材を装置本体内部に位置決めする第一の光軸調整工程
と、前記第一の光束規制部材の前記微小開口部の中心と
波動光を発する波動光照明手段の光軸とが一致又は略一
致するように、前記波動光照明手段の位置を回折パター
ンを用いて調整して位置決めする第二の光軸調整工程
と、前記第一の光束規制部材が配設された位置とは異な
る前記調整仮想光軸上の前記装置本体内部又は装置本体
外部に第二の光束規制部材を配設し、この第二の光束規
制部材の微小開口部の中心と前記波動光照明手段の光束
の光軸とが一致又は略一致するように、前記第二の光束
規制部材の位置を調整して位置決めする第三の光軸調整
工程と、前記結像レンズを前記調整仮想光軸上に配置さ
せこの結像レンズを介在させる前の前記回折パターンと
介在させた後の回折パターンとを比較し前記両方の回折
パターンが一致又は略一致するように前記結像レンズの
光軸調整を行う第四の光軸調整工程とからなることを特
徴とする結像レンズの光軸調整方法。19. The first light flux regulating member is adjusted so that the adjusted virtual optical axis of the imaging lens and the center of the minute light flux regulating member having the minute aperture coincide with or substantially coincide with each other. In order that the first optical axis adjusting step of positioning inside the apparatus main body and the center of the minute opening of the first light flux regulating member and the optical axis of the wave light illuminating means that emits wave light may coincide or substantially coincide with each other. A second optical axis adjusting step of adjusting and positioning the position of the wave light illuminating means by using a diffraction pattern, and an adjustment virtual optical axis different from the position where the first light flux regulating member is provided. A second light flux regulating member is disposed inside or outside the device body, and the center of the minute opening of the second light flux regulating member and the optical axis of the light flux of the wave light illuminating means coincide or are substantially the same. Adjust the position of the second light flux regulating member so that they match. The third optical axis adjusting step of positioning by positioning the image forming lens is arranged on the adjusted virtual optical axis, and the diffraction pattern before the interposing of the image forming lens and the diffraction pattern after the interposing are compared. A fourth optical axis adjusting step of adjusting the optical axis of the imaging lens so that the two diffraction patterns are matched or substantially matched with each other.
の部材を、光軸調整工程により光軸調整を行う前の段階
で装置本体内部に組付ける本体組付工程を設けたことを
特徴とする請求項18又は19記載の結像レンズの光軸
調整方法。20. A main body assembling step is provided for assembling at least a minimum number of members required for the optical axis adjustment inside the apparatus main body before performing the optical axis adjustment in the optical axis adjusting step. The optical axis adjusting method for an imaging lens according to claim 18 or 19.
も結像レンズと受光手段と光軸調整時に波動光照明手段
の光束を遮光してしまう部材とを着脱自在とし、これら
着脱自在とされた部材を除く構成部材を、光軸調整工程
により光軸調整を行う前の段階で装置本体内部に組付け
る本体組付工程を設けたことを特徴とする請求項18又
は19記載の結像レンズの光軸調整方法。21. Among the constituent members of the apparatus main body, at least the imaging lens, the light receiving means, and the member that blocks the light flux of the wave light illuminating means at the time of adjusting the optical axis are detachable, and these detachable members. 20. The optical system according to claim 18, further comprising a main body assembling step of assembling the components other than the above into the inside of the main body of the apparatus before the optical axis is adjusted by the optical axis adjusting step. Axis adjustment method.
時に波動光照明手段からの光束を遮光してしまう部材に
開口部を形成し、この開口部に前記光束を通過させて光
軸調整を行うようにしたことを特徴とする請求項21記
載の結像レンズの光軸調整方法。22. Among the constituent members of the apparatus main body, an opening is formed in a member that shields the light flux from the wave light illumination means at the time of adjusting the optical axis, and the light flux is passed through this opening to adjust the optical axis. 22. The method of adjusting an optical axis of an imaging lens according to claim 21, wherein
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6272076A JPH08154155A (en) | 1994-09-29 | 1994-11-07 | Document reading apparatus and optical axis adjusting method for imaging lens |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23556094 | 1994-09-29 | ||
| JP6-235560 | 1994-09-29 | ||
| JP6272076A JPH08154155A (en) | 1994-09-29 | 1994-11-07 | Document reading apparatus and optical axis adjusting method for imaging lens |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08154155A true JPH08154155A (en) | 1996-06-11 |
Family
ID=26532198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6272076A Pending JPH08154155A (en) | 1994-09-29 | 1994-11-07 | Document reading apparatus and optical axis adjusting method for imaging lens |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08154155A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002044785A3 (en) * | 2000-11-28 | 2003-04-03 | Honda Motor Co Ltd | Method of and apparatus for adjusting optical component, and optical unit |
-
1994
- 1994-11-07 JP JP6272076A patent/JPH08154155A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002044785A3 (en) * | 2000-11-28 | 2003-04-03 | Honda Motor Co Ltd | Method of and apparatus for adjusting optical component, and optical unit |
| US7119895B2 (en) | 2000-11-28 | 2006-10-10 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of and apparatus for adjusting optical component, and optical unit |
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