JPH0815500A - 核反応ターゲット - Google Patents
核反応ターゲットInfo
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- JPH0815500A JPH0815500A JP17161794A JP17161794A JPH0815500A JP H0815500 A JPH0815500 A JP H0815500A JP 17161794 A JP17161794 A JP 17161794A JP 17161794 A JP17161794 A JP 17161794A JP H0815500 A JPH0815500 A JP H0815500A
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- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 長時間のビーム照射連続運転を可能にするこ
と。 【構成】 ビームダクト１と直交して円筒部材１１を取
付け、同部材の側面開口部が同ダクトに連通している。
円筒部材にターゲット蒸着円筒体１２が平行移動、回転
移動可能に嵌合しており、同円筒体の内部には冷却水が
通流する。円筒体の表面に形成した平面部１６にターゲ
ット材蒸着面１５が設けられている。同蒸着面は、円筒
体の軸方向にビーム径の例えば数倍程度の長さに亘って
設け、また、円筒体の周囲に複数箇所設ける。ビーム照
射により蒸着面のターゲット材が消耗すると、円筒体を
平行移動させて蒸着面の別の部分にビームを当てる。一
つの蒸着面のターゲット材が消耗すると、円筒体を回転
移動させて別のターゲット材蒸着面にビームを照射す
る。
と。 【構成】 ビームダクト１と直交して円筒部材１１を取
付け、同部材の側面開口部が同ダクトに連通している。
円筒部材にターゲット蒸着円筒体１２が平行移動、回転
移動可能に嵌合しており、同円筒体の内部には冷却水が
通流する。円筒体の表面に形成した平面部１６にターゲ
ット材蒸着面１５が設けられている。同蒸着面は、円筒
体の軸方向にビーム径の例えば数倍程度の長さに亘って
設け、また、円筒体の周囲に複数箇所設ける。ビーム照
射により蒸着面のターゲット材が消耗すると、円筒体を
平行移動させて蒸着面の別の部分にビームを当てる。一
つの蒸着面のターゲット材が消耗すると、円筒体を回転
移動させて別のターゲット材蒸着面にビームを照射す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ターゲット材に加速ビ
ームを照射し、核反応により粒子、例えば中性子を発生
させる核反応ターゲットに関する。
ームを照射し、核反応により粒子、例えば中性子を発生
させる核反応ターゲットに関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来の核反応ターゲット、先に出
願した実願平５−５３２０号に係る核反応ターゲットの
断面図であり、図４はその外観の斜視図である。真空チ
ャンバを構成するビームダクト１のフランジ２と冷却フ
ランジ３との間に、ターゲット材４が固着された冷却板
５がシール用のＯリング６，７を介在させて取り付けら
れている。冷却フランジ３のビームダクト１側には凹部
８が形成されており、同凹部は冷媒供給口９と同排出口
１０に連通している。冷却フランジの冷媒供給口９から
の冷媒、例えば冷却水は、冷却フランジの凹部８と冷却
板５とで形成される空所を通り、排出口１０へと流れ、
ビーム照射に伴うターゲット材４の発熱を除去する。タ
ーゲット材４が固着されている、例えば銅板でできた冷
却板５の背面に直接冷却水を流しているから、ターゲッ
ト材の発熱を効果的に除去することができ、冷却板の厚
さを変えることで冷却能力を容易に変更することができ
る。
願した実願平５−５３２０号に係る核反応ターゲットの
断面図であり、図４はその外観の斜視図である。真空チ
ャンバを構成するビームダクト１のフランジ２と冷却フ
ランジ３との間に、ターゲット材４が固着された冷却板
５がシール用のＯリング６，７を介在させて取り付けら
れている。冷却フランジ３のビームダクト１側には凹部
８が形成されており、同凹部は冷媒供給口９と同排出口
１０に連通している。冷却フランジの冷媒供給口９から
の冷媒、例えば冷却水は、冷却フランジの凹部８と冷却
板５とで形成される空所を通り、排出口１０へと流れ、
ビーム照射に伴うターゲット材４の発熱を除去する。タ
ーゲット材４が固着されている、例えば銅板でできた冷
却板５の背面に直接冷却水を流しているから、ターゲッ
ト材の発熱を効果的に除去することができ、冷却板の厚
さを変えることで冷却能力を容易に変更することができ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、生物に照射
する中性子を発生させる場合、ターゲット材４は中性子
のエネルギー幅をできるだけ狭くするために薄くしなけ
ればならず、ターゲット材に照射する水素イオンビーム
の電流量を大きして中性子発生量を多くすると、ターゲ
ット材の寿命が短くなり、極端な場合には、ターゲット
材は１時間位で消耗してしまう。したがって、新しいタ
ーゲット材の冷却板５と交換するために、頻繁にビーム
ダクト１の真空を破ることになる。
する中性子を発生させる場合、ターゲット材４は中性子
のエネルギー幅をできるだけ狭くするために薄くしなけ
ればならず、ターゲット材に照射する水素イオンビーム
の電流量を大きして中性子発生量を多くすると、ターゲ
ット材の寿命が短くなり、極端な場合には、ターゲット
材は１時間位で消耗してしまう。したがって、新しいタ
ーゲット材の冷却板５と交換するために、頻繁にビーム
ダクト１の真空を破ることになる。
【０００４】また、中性子を発生させる場合には、ター
ゲット材４として、冷却板５にリチウムを蒸着するが、
リチウムは空気中で酸化してしまうから、蒸着後、表面
に真空拡散ポンプ油を塗って酸化を防止している。そし
て、この状態で、リチウムが蒸着された冷却板５をビー
ムダクト１に取付け、真空引きを行いながらヒータで加
熱し、酸化防止用の油を除去して、リチウム蒸着面を露
出させている。
ゲット材４として、冷却板５にリチウムを蒸着するが、
リチウムは空気中で酸化してしまうから、蒸着後、表面
に真空拡散ポンプ油を塗って酸化を防止している。そし
て、この状態で、リチウムが蒸着された冷却板５をビー
ムダクト１に取付け、真空引きを行いながらヒータで加
熱し、酸化防止用の油を除去して、リチウム蒸着面を露
出させている。
【０００５】このように、ターゲット材４を設けた冷却
板５の製作は面倒なものであり、それをビームダクト１
に取り付けて使用可能の状態にするにも、かなりの手間
と時間を必要とする。
板５の製作は面倒なものであり、それをビームダクト１
に取り付けて使用可能の状態にするにも、かなりの手間
と時間を必要とする。
【０００６】本発明は、真空チャンバを構成するビーム
ダクトを開けずに、新しいターゲット蒸着面に簡単に変
更することができ、長時間の連続運転を可能にする核反
応ターゲットの提供を目的とするものである。
ダクトを開けずに、新しいターゲット蒸着面に簡単に変
更することができ、長時間の連続運転を可能にする核反
応ターゲットの提供を目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、核反応ターゲ
ットにおいて、ビームダクトに連通し、直交して取り付
けられた円筒部材と、この円筒部材に嵌合し、表面部に
ターゲット材蒸着面が設けられており、内部に冷媒が通
流するターゲット蒸着円筒体とを備えて構成されている
ことを主たる特徴とするものである。
ットにおいて、ビームダクトに連通し、直交して取り付
けられた円筒部材と、この円筒部材に嵌合し、表面部に
ターゲット材蒸着面が設けられており、内部に冷媒が通
流するターゲット蒸着円筒体とを備えて構成されている
ことを主たる特徴とするものである。
【０００８】また本発明は、上記ターゲット材蒸着面が
ターゲット蒸着円筒体の周囲に複数箇所設けられている
ことを特徴とするものである。
ターゲット蒸着円筒体の周囲に複数箇所設けられている
ことを特徴とするものである。
【０００９】さらに本発明は、上記ターゲット材蒸着面
がターゲット蒸着円筒体の表面に形成された平面部に設
けられていることを特徴とするものである。
がターゲット蒸着円筒体の表面に形成された平面部に設
けられていることを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】円筒部材に嵌合しているターゲット蒸着円筒体
のターゲット材蒸着面にビームダクトからのビームを照
射する。ビーム照射による発熱は円筒体内部に通流する
冷却水で除去される。運転に伴い蒸着面のターゲット材
が消耗すると、ターゲット蒸着円筒体を移動させて、未
照射蒸着面にビームを当てる。
のターゲット材蒸着面にビームダクトからのビームを照
射する。ビーム照射による発熱は円筒体内部に通流する
冷却水で除去される。運転に伴い蒸着面のターゲット材
が消耗すると、ターゲット蒸着円筒体を移動させて、未
照射蒸着面にビームを当てる。
【００１１】ターゲット材蒸着面がターゲット蒸着円筒
体の周囲に複数箇所設けられているから、一つの蒸着面
について、ビーム照射によりターゲット材が消耗する
と、ターゲット蒸着円筒体をその軸方向に平行移動させ
て蒸着面の位置をずらし、そしてターゲット材が消耗し
て、その蒸着面が使用できなくなると、ターゲット蒸着
円筒体を回転移動させて別の蒸着面にビームを照射す
る。
体の周囲に複数箇所設けられているから、一つの蒸着面
について、ビーム照射によりターゲット材が消耗する
と、ターゲット蒸着円筒体をその軸方向に平行移動させ
て蒸着面の位置をずらし、そしてターゲット材が消耗し
て、その蒸着面が使用できなくなると、ターゲット蒸着
円筒体を回転移動させて別の蒸着面にビームを照射す
る。
【００１２】ターゲット材蒸着面がターゲット蒸着円筒
体の表面に形成された平面部に設けられていることによ
り、ビームは全てターゲット材蒸着面に垂直に当り、ま
た、ビーム密度の高いビーム中心部が当る円筒体部分の
肉厚は最も薄くなり、円筒体内部を流れる冷却水による
冷却作用が向上する。
体の表面に形成された平面部に設けられていることによ
り、ビームは全てターゲット材蒸着面に垂直に当り、ま
た、ビーム密度の高いビーム中心部が当る円筒体部分の
肉厚は最も薄くなり、円筒体内部を流れる冷却水による
冷却作用が向上する。
【００１３】
【実施例】本発明の実施例について図面を参照して説明
する。図１は実施例の断面図、図２は実施例の外観の斜
視図であり、図３，図４と同一符号は同等部分を示す。
真空チャンバを構成するビームダクト１と直交関係に円
筒部材１１が取り付けられており、同部材の側面開口部
がビームダクト１に連通している。この円筒部材にター
ゲット蒸着円筒体１２がその軸方向に平行移動及び回転
移動可能に嵌合している。ターゲット蒸着円筒体１２の
図示省略した両端は冷媒例えば冷却水の供給系の管路に
接続されており、ターゲット蒸着円筒体の内部には冷却
水が通流する。円筒部材１１の上下端部付近にＯリング
１３を配置溝１４に嵌め、ビームダクト内を真空シール
している。
する。図１は実施例の断面図、図２は実施例の外観の斜
視図であり、図３，図４と同一符号は同等部分を示す。
真空チャンバを構成するビームダクト１と直交関係に円
筒部材１１が取り付けられており、同部材の側面開口部
がビームダクト１に連通している。この円筒部材にター
ゲット蒸着円筒体１２がその軸方向に平行移動及び回転
移動可能に嵌合している。ターゲット蒸着円筒体１２の
図示省略した両端は冷媒例えば冷却水の供給系の管路に
接続されており、ターゲット蒸着円筒体の内部には冷却
水が通流する。円筒部材１１の上下端部付近にＯリング
１３を配置溝１４に嵌め、ビームダクト内を真空シール
している。
【００１４】ターゲット蒸着円筒体１２の表面部には、
ターゲット材の蒸着面１５が設けられており、これは、
パイプの表面に平滑な平面部１６を形成し、この平面部
にターゲット材、例えば中性子を発生させる場合にはリ
チウムを蒸着して形成される。図１にはターゲット蒸着
円筒体１２の表面を一部示してある。このターゲット材
蒸着面１５は、円筒体１２の軸方向に、例えば照射ビー
ム径の数倍程度の長さに亘って設けられており、そし
て、円筒体１２の周囲に複数箇所、例えば９０度間隔で
４箇所に設け、ターゲット材蒸着部は多面構造体になっ
ている。ターゲット蒸着円筒体１２はパイプもしくは丸
棒を加工して製作されており、丸棒の場合、ターゲット
材の蒸着面１５の形成と共に冷却水を通す孔を穿削加工
する。
ターゲット材の蒸着面１５が設けられており、これは、
パイプの表面に平滑な平面部１６を形成し、この平面部
にターゲット材、例えば中性子を発生させる場合にはリ
チウムを蒸着して形成される。図１にはターゲット蒸着
円筒体１２の表面を一部示してある。このターゲット材
蒸着面１５は、円筒体１２の軸方向に、例えば照射ビー
ム径の数倍程度の長さに亘って設けられており、そし
て、円筒体１２の周囲に複数箇所、例えば９０度間隔で
４箇所に設け、ターゲット材蒸着部は多面構造体になっ
ている。ターゲット蒸着円筒体１２はパイプもしくは丸
棒を加工して製作されており、丸棒の場合、ターゲット
材の蒸着面１５の形成と共に冷却水を通す孔を穿削加工
する。
【００１５】ターゲット蒸着円筒体１２のターゲット材
蒸着面１５にビームダクト１から導入されるビームを照
射し、例えば中性子を発生させ、ビーム照射による発熱
は円筒体内部に通流する冷却水で除去される。運転に伴
い蒸着面１５のターゲット材が消耗すると、ターゲット
蒸着円筒体１２をその軸方向に矢印ａで示すように平行
移動させて、その蒸着面の別の部分にビームが当るよう
に、ビーム照射蒸着面をずらす。このようにして一つの
蒸着面１５のターゲット材が消耗してしまうと、ターゲ
ット蒸着円筒体１２を矢印ｂで示すように回転移動させ
て、別の蒸着面１５にビームを当てる。したがって、ビ
ームが当るターゲット蒸着面を容易に変更することがで
き、核反応ターゲットを長時間、連続して運転できる。
蒸着面１５にビームダクト１から導入されるビームを照
射し、例えば中性子を発生させ、ビーム照射による発熱
は円筒体内部に通流する冷却水で除去される。運転に伴
い蒸着面１５のターゲット材が消耗すると、ターゲット
蒸着円筒体１２をその軸方向に矢印ａで示すように平行
移動させて、その蒸着面の別の部分にビームが当るよう
に、ビーム照射蒸着面をずらす。このようにして一つの
蒸着面１５のターゲット材が消耗してしまうと、ターゲ
ット蒸着円筒体１２を矢印ｂで示すように回転移動させ
て、別の蒸着面１５にビームを当てる。したがって、ビ
ームが当るターゲット蒸着面を容易に変更することがで
き、核反応ターゲットを長時間、連続して運転できる。
【００１６】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成した
ので、円筒部材に嵌合しているターゲット蒸着円筒体の
表面部にターゲット材蒸着面が設けられているから、ビ
ームを照射した蒸着面部のターゲット材が消耗すると、
ターゲット蒸着円筒体を移動させ、ビームが当るターゲ
ット蒸着面を容易にずらして変更することができ、ビー
ムダクト（真空チャンバ）を開けずに、核反応ターゲッ
トを連続して長時間運転することができる。
ので、円筒部材に嵌合しているターゲット蒸着円筒体の
表面部にターゲット材蒸着面が設けられているから、ビ
ームを照射した蒸着面部のターゲット材が消耗すると、
ターゲット蒸着円筒体を移動させ、ビームが当るターゲ
ット蒸着面を容易にずらして変更することができ、ビー
ムダクト（真空チャンバ）を開けずに、核反応ターゲッ
トを連続して長時間運転することができる。
【００１７】ビーム照射によるターゲット材蒸着面の発
熱はターゲット蒸着円筒体の内部に通流する冷却水で除
去することができ、ターゲット材蒸着部と冷却部が円筒
体によって一体的に構成されていると共に、冷却水供給
系の管路とターゲット蒸着円筒体との結合も容易であ
り、核反応ターゲット全体の構造が簡素化され、低コス
トで製作することができる。
熱はターゲット蒸着円筒体の内部に通流する冷却水で除
去することができ、ターゲット材蒸着部と冷却部が円筒
体によって一体的に構成されていると共に、冷却水供給
系の管路とターゲット蒸着円筒体との結合も容易であ
り、核反応ターゲット全体の構造が簡素化され、低コス
トで製作することができる。
【００１８】ターゲット材蒸着面をターゲット蒸着円筒
体の周囲に複数箇所設けることにより、一つの蒸着面に
ついて、ビーム照射によりターゲット材が消耗すると、
ターゲット蒸着円筒体をその軸方向に平行移動して蒸着
面の位置をずらし、ターゲット材が消耗して、その蒸着
面が使用できなくなると、ターゲット蒸着円筒体を回転
移動させて別の蒸着面にビームを照射することができ、
一層、核反応ターゲットを長時間連続して運転できる。
体の周囲に複数箇所設けることにより、一つの蒸着面に
ついて、ビーム照射によりターゲット材が消耗すると、
ターゲット蒸着円筒体をその軸方向に平行移動して蒸着
面の位置をずらし、ターゲット材が消耗して、その蒸着
面が使用できなくなると、ターゲット蒸着円筒体を回転
移動させて別の蒸着面にビームを照射することができ、
一層、核反応ターゲットを長時間連続して運転できる。
【００１９】ターゲット材蒸着面がターゲット蒸着円筒
体の表面に形成された平面部に設けられていることによ
り、ビームは全てターゲット材蒸着面に垂直に当り、ま
た、ビーム密度の高いビーム中心部が当る円筒体部分の
肉厚は最も薄くなり、円筒体内部を流れる冷却水による
冷却作用が向上する。そして、ターゲット蒸着面を平面
部に設けることにより、ターゲット蒸着円筒体の蒸着面
以外の部分は、同円筒体が嵌合している円筒部材の内面
に接触させることができ、Ｏリングと合わせて真空シー
ル機能が向上する。
体の表面に形成された平面部に設けられていることによ
り、ビームは全てターゲット材蒸着面に垂直に当り、ま
た、ビーム密度の高いビーム中心部が当る円筒体部分の
肉厚は最も薄くなり、円筒体内部を流れる冷却水による
冷却作用が向上する。そして、ターゲット蒸着面を平面
部に設けることにより、ターゲット蒸着円筒体の蒸着面
以外の部分は、同円筒体が嵌合している円筒部材の内面
に接触させることができ、Ｏリングと合わせて真空シー
ル機能が向上する。
【図１】本発明の実施例の断面図である。
【図２】実施例の外観の斜視図である。
【図３】従来の核反応ターゲットの断面図である。
【図４】従来の核反応ターゲットの外観を示す斜視図で
ある。
ある。
１ ビームダクト １１ 円筒部材 １２ ターゲット蒸着円筒体 １５ ターゲット材蒸着面 １６ 平面部
Claims (3)
- 【請求項１】 ビームダクトに連通し、直交して取り付
けられた円筒部材と、この円筒部材に嵌合し、表面部に
ターゲット材蒸着面が設けられており、内部に冷媒が通
流するターゲット蒸着円筒体とを備えて構成したことを
特徴とする核反応ターゲット。 - 【請求項２】 ターゲット材蒸着面がターゲット蒸着円
筒体の周囲に複数箇所設けられていることを特徴とする
請求項１記載の核反応ターゲット。 - 【請求項３】 ターゲット材蒸着面がターゲット蒸着円
筒体の表面に形成された平面部に設けられていることを
特徴とする請求項１又は２記載の核反応ターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17161794A JPH0815500A (ja) | 1994-07-01 | 1994-07-01 | 核反応ターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17161794A JPH0815500A (ja) | 1994-07-01 | 1994-07-01 | 核反応ターゲット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0815500A true JPH0815500A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15926499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17161794A Pending JPH0815500A (ja) | 1994-07-01 | 1994-07-01 | 核反応ターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0815500A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006284344A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Eng Co Ltd | 二次荷電粒子発生装置 |
| JP2007303983A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Tokyo Nuclear Services Co Ltd | ホウ素中性子捕獲療法用ターゲットの製造方法 |
| JP2011033512A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Mitsubishi Electric Corp | 中性子発生源用ターゲット |
| CN103313503A (zh) * | 2013-05-19 | 2013-09-18 | 中国科学院近代物理研究所 | 用于加速器驱动次临界核能系统的固体散裂靶 |
-
1994
- 1994-07-01 JP JP17161794A patent/JPH0815500A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006284344A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Eng Co Ltd | 二次荷電粒子発生装置 |
| JP2007303983A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Tokyo Nuclear Services Co Ltd | ホウ素中性子捕獲療法用ターゲットの製造方法 |
| JP2011033512A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Mitsubishi Electric Corp | 中性子発生源用ターゲット |
| CN103313503A (zh) * | 2013-05-19 | 2013-09-18 | 中国科学院近代物理研究所 | 用于加速器驱动次临界核能系统的固体散裂靶 |
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