JPH08160626A - 露光方法及びその装置 - Google Patents
露光方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH08160626A JPH08160626A JP6329785A JP32978594A JPH08160626A JP H08160626 A JPH08160626 A JP H08160626A JP 6329785 A JP6329785 A JP 6329785A JP 32978594 A JP32978594 A JP 32978594A JP H08160626 A JPH08160626 A JP H08160626A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- substrate
- flexible substrate
- guide roller
- line scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 長尺なフレキシブル基板に対して露光を行う
際に、生産性の向上を図り、また露光不良が生じないよ
うにする。 【構成】 フレキシブル基板２はガイドローラ４にガイ
ドされつつ矢印Ｃ方向に搬送される。ビーム発生部１２
から発生された露光ビーム１２ａは、露光データに基づ
いてオンオフするシャッター部１３を経た後、ライン走
査部１４により、ガイドローラ４上においてフレキシブ
ル基板２の搬送方向に対して直交する方向にライン走査
される。この場合、露光のためにフレキシブル基板２を
一旦停止させる必要がなく、したがって生産性の向上を
図ることができる。また、ガイドローラ４上におけるフ
レキシブル基板２に撓みが生じないようにすることがで
き、したがってフレキシブル基板２の撓みに起因する露
光不良が生じないようにすることができる。
際に、生産性の向上を図り、また露光不良が生じないよ
うにする。 【構成】 フレキシブル基板２はガイドローラ４にガイ
ドされつつ矢印Ｃ方向に搬送される。ビーム発生部１２
から発生された露光ビーム１２ａは、露光データに基づ
いてオンオフするシャッター部１３を経た後、ライン走
査部１４により、ガイドローラ４上においてフレキシブ
ル基板２の搬送方向に対して直交する方向にライン走査
される。この場合、露光のためにフレキシブル基板２を
一旦停止させる必要がなく、したがって生産性の向上を
図ることができる。また、ガイドローラ４上におけるフ
レキシブル基板２に撓みが生じないようにすることがで
き、したがってフレキシブル基板２の撓みに起因する露
光不良が生じないようにすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はフォトリソグラフィに
おける露光方法及びその装置に関し、特に、長尺なフレ
キシブル基板等に対する露光方法及びその装置に関す
る。
おける露光方法及びその装置に関し、特に、長尺なフレ
キシブル基板等に対する露光方法及びその装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】フォトリソグラフィにより例えば基板の
上面に所定の配線パターンを形成する方法の１つとし
て、基板の上面全体に銅等からなる配線パターン形成用
層を形成し、その上面全体にフォトレジスト膜を形成
し、所定パターンのフォトマスクを用いて露光し、次い
で現像することによりフォトレジストパターンを形成
し、次いでこのフォトレジストパターンをマスクとして
エッチングを行うことにより配線パターンを形成し、次
いでフォトレジストパターンを除去し、かくして基板の
上面に所定の配線パターンを形成する方法がある。
上面に所定の配線パターンを形成する方法の１つとし
て、基板の上面全体に銅等からなる配線パターン形成用
層を形成し、その上面全体にフォトレジスト膜を形成
し、所定パターンのフォトマスクを用いて露光し、次い
で現像することによりフォトレジストパターンを形成
し、次いでこのフォトレジストパターンをマスクとして
エッチングを行うことにより配線パターンを形成し、次
いでフォトレジストパターンを除去し、かくして基板の
上面に所定の配線パターンを形成する方法がある。
【０００３】ところで、基板として長尺なフレキシブル
基板を用い、この長尺なフレキシブル基板に対して露光
を行う場合には、フレキシブル基板をロールツウロール
で間歇的に搬送し、停止状態にあるフレキシブル基板の
所定の個所を露光ステージ上に位置させ、その上にフォ
トマスクを配置し、この状態で露光を行っている。
基板を用い、この長尺なフレキシブル基板に対して露光
を行う場合には、フレキシブル基板をロールツウロール
で間歇的に搬送し、停止状態にあるフレキシブル基板の
所定の個所を露光ステージ上に位置させ、その上にフォ
トマスクを配置し、この状態で露光を行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このような露光方法では、フレキシブル基板の搬送を一
旦停止させ、その停止している間に露光を行うことにな
るので、生産性が悪いという問題があった。また、露光
を行うときに露光ステージ上に位置するフレキシブル基
板が撓むことがあるが、このような場合には、露光焦点
が部分的に合わなくなり、露光不良が生じることがある
という問題があった。なお、前者の生産性が悪いという
問題は、基板がガラス基板等のハード基板である場合も
同様であった。この発明の目的は、生産性の向上を図る
ことができる露光方法及びその装置を提供することにあ
る。また、この発明の他の目的は、フレキシブル基板の
撓みに起因する露光不良が生じないようにすることがで
きる露光方法及びその装置を提供することにある。
このような露光方法では、フレキシブル基板の搬送を一
旦停止させ、その停止している間に露光を行うことにな
るので、生産性が悪いという問題があった。また、露光
を行うときに露光ステージ上に位置するフレキシブル基
板が撓むことがあるが、このような場合には、露光焦点
が部分的に合わなくなり、露光不良が生じることがある
という問題があった。なお、前者の生産性が悪いという
問題は、基板がガラス基板等のハード基板である場合も
同様であった。この発明の目的は、生産性の向上を図る
ことができる露光方法及びその装置を提供することにあ
る。また、この発明の他の目的は、フレキシブル基板の
撓みに起因する露光不良が生じないようにすることがで
きる露光方法及びその装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明に係
る露光方法は、基板を搬送しながら、該基板の搬送方向
に対して直交する方向に露光ビームを露光データに基づ
いてライン走査することにより、露光を行うようにした
ものである。請求項３記載の発明に係る露光方法は、長
尺なフレキシブルに対する露光ビームによるライン走査
位置を、フレキシブル基板の搬送をガイドするガイドロ
ーラ上としたものである。請求項４記載の発明に係る露
光装置は、基板を搬送する基板搬送手段と、該基板搬送
手段によって搬送される基板の搬送方向に対して直交す
る方向に露光ビームを露光データに基づいてライン走査
して露光を行う露光手段とを具備したものである。請求
項７記載の発明に係る露光装置は、基板搬送手段が、フ
レキシブル基板の搬送をガイドするガイドローラを有
し、該ガイドローラ上において露光ビームによるライン
走査が行われるようにしたものである。
る露光方法は、基板を搬送しながら、該基板の搬送方向
に対して直交する方向に露光ビームを露光データに基づ
いてライン走査することにより、露光を行うようにした
ものである。請求項３記載の発明に係る露光方法は、長
尺なフレキシブルに対する露光ビームによるライン走査
位置を、フレキシブル基板の搬送をガイドするガイドロ
ーラ上としたものである。請求項４記載の発明に係る露
光装置は、基板を搬送する基板搬送手段と、該基板搬送
手段によって搬送される基板の搬送方向に対して直交す
る方向に露光ビームを露光データに基づいてライン走査
して露光を行う露光手段とを具備したものである。請求
項７記載の発明に係る露光装置は、基板搬送手段が、フ
レキシブル基板の搬送をガイドするガイドローラを有
し、該ガイドローラ上において露光ビームによるライン
走査が行われるようにしたものである。
【０００６】
【作用】請求項１または４記載の発明によれば、基板を
搬送しながら、該フレキシブル基板の搬送方向に対して
直交する方向に露光ビームを露光データに基づいてライ
ン走査することにより、露光を行うようにしているの
で、露光のために基板を一旦停止させる必要がなく、し
たがって生産性の向上を図ることができる。また、請求
項３または７記載の発明によれば、フレキシブル基板の
搬送をガイドするガイドローラ上において露光ビームに
よるライン走査が行われることになるので、ガイドロー
ラ上におけるフレキシブル基板に撓みが生じないように
することができ、したがってフレキシブル基板の撓みに
起因する露光不良が生じないようにすることができる。
搬送しながら、該フレキシブル基板の搬送方向に対して
直交する方向に露光ビームを露光データに基づいてライ
ン走査することにより、露光を行うようにしているの
で、露光のために基板を一旦停止させる必要がなく、し
たがって生産性の向上を図ることができる。また、請求
項３または７記載の発明によれば、フレキシブル基板の
搬送をガイドするガイドローラ上において露光ビームに
よるライン走査が行われることになるので、ガイドロー
ラ上におけるフレキシブル基板に撓みが生じないように
することができ、したがってフレキシブル基板の撓みに
起因する露光不良が生じないようにすることができる。
【０００７】
【実施例】図１（Ａ）はこの発明の一実施例における露
光装置の概略構成を示したものである。この露光装置で
は、供給ローラ１から繰り出されたフレキシブル基板２
は、前段側搬送ローラ（スプロケットホイール）３、ガ
イドローラ４及び後段側搬送ローラ（スプロケットホイ
ール）５を順次経た後、巻取ローラ６に巻き取られるよ
うになっている。
光装置の概略構成を示したものである。この露光装置で
は、供給ローラ１から繰り出されたフレキシブル基板２
は、前段側搬送ローラ（スプロケットホイール）３、ガ
イドローラ４及び後段側搬送ローラ（スプロケットホイ
ール）５を順次経た後、巻取ローラ６に巻き取られるよ
うになっている。
【０００８】また、この露光装置は、露光制御部１１、
ビーム発生部１２、シャッター部１３、ライン走査部１
４、基板搬送駆動部１５等を備えている。このうち露光
制御部１１は、全体の回路制御を行うほかに、ＣＡＤ(C
ompute Aided Design)等から設計データを直接供給さ
れ、または該設計データに基づいて作成された磁気テー
プを介して供給され、この供給された設計データとフレ
キシブル基板２の搬送速度とに基づいて露光データを作
成するようになっている。露光データを設計データとフ
レキシブル基板２の搬送速度とに基づいて作成するの
は、後で図１（Ｂ）を参照しながら説明するように、矢
印Ｃ方向に搬送されているフレキシブル基板２の搬送方
向に対して直交する方向に露光ビーム１２ａをライン走
査するからであり、つまりフレキシブル基板２自体に対
しては、その搬送方向に対して直交してライン走査され
る露光ビーム１２ａのライン走査速度と、このライン走
査方向に対して直交して搬送されるフレキシブル基板２
の搬送速度との合成速度に対応して露光する必要がある
ためである。
ビーム発生部１２、シャッター部１３、ライン走査部１
４、基板搬送駆動部１５等を備えている。このうち露光
制御部１１は、全体の回路制御を行うほかに、ＣＡＤ(C
ompute Aided Design)等から設計データを直接供給さ
れ、または該設計データに基づいて作成された磁気テー
プを介して供給され、この供給された設計データとフレ
キシブル基板２の搬送速度とに基づいて露光データを作
成するようになっている。露光データを設計データとフ
レキシブル基板２の搬送速度とに基づいて作成するの
は、後で図１（Ｂ）を参照しながら説明するように、矢
印Ｃ方向に搬送されているフレキシブル基板２の搬送方
向に対して直交する方向に露光ビーム１２ａをライン走
査するからであり、つまりフレキシブル基板２自体に対
しては、その搬送方向に対して直交してライン走査され
る露光ビーム１２ａのライン走査速度と、このライン走
査方向に対して直交して搬送されるフレキシブル基板２
の搬送速度との合成速度に対応して露光する必要がある
ためである。
【０００９】ビーム発生部１２は、紫外光を発生するＨ
ｅ・Ｃｄレーザ等からなり、露光制御部１１からの制御
信号に基づいて露光ビーム（紫外光）１２ａを発生する
ようになっている。シャッター部１３は、ビーム発生部
１２から発生された露光ビーム１２ａの通過と遮断を、
露光制御部１１から供給される露光データに基づいて制
御するようになっている。ライン走査部１４は、露光制
御部１１からの制御信号に基づいて、図１（Ｂ）に示す
ように、シャッター部１３を通過した露光ビーム１２ａ
をガイドローラ４上においてフレキシブル基板２の矢印
Ｃで示す搬送方向に対して直交する方向にライン走査す
るようになっている。この場合のライン走査は、一方向
ライン走査の繰り返しとなっている。基板搬送駆動部１
５は、モータやチェーン等からなり、露光制御部１１か
らの制御信号に基づいて両搬送ローラ３、５を同期させ
て所定の方向に回転させるようになっている。
ｅ・Ｃｄレーザ等からなり、露光制御部１１からの制御
信号に基づいて露光ビーム（紫外光）１２ａを発生する
ようになっている。シャッター部１３は、ビーム発生部
１２から発生された露光ビーム１２ａの通過と遮断を、
露光制御部１１から供給される露光データに基づいて制
御するようになっている。ライン走査部１４は、露光制
御部１１からの制御信号に基づいて、図１（Ｂ）に示す
ように、シャッター部１３を通過した露光ビーム１２ａ
をガイドローラ４上においてフレキシブル基板２の矢印
Ｃで示す搬送方向に対して直交する方向にライン走査す
るようになっている。この場合のライン走査は、一方向
ライン走査の繰り返しとなっている。基板搬送駆動部１
５は、モータやチェーン等からなり、露光制御部１１か
らの制御信号に基づいて両搬送ローラ３、５を同期させ
て所定の方向に回転させるようになっている。
【００１０】さて、この露光装置で露光を行う場合に
は、まず、基板搬送駆動部１５の駆動により両搬送ロー
ラ３、５が同期して所定の方向に回転し、これに伴いフ
レキシブル基板２がガイドローラ４にガイドされつつ矢
印Ｃ方向に所定の搬送速度で搬送されているとする。そ
して、ビーム発生部１２から露光ビーム１２ａが発生さ
れると、シャッター部１３は、この発生された露光ビー
ム１２ａの通過と遮断を、露光制御部１１から供給され
る露光データに基づいて制御する。また、ライン走査部
１４は、露光制御部１１からの制御信号に基づいて、図
１（Ｂ）に示すように、シャッター部１３を通過した露
光ビーム１２ａをガイドローラ４上においてフレキシブ
ル基板２の矢印Ｃで示す搬送方向に対して直交する方向
にライン走査する。かくして、露光が行われることにな
る。
は、まず、基板搬送駆動部１５の駆動により両搬送ロー
ラ３、５が同期して所定の方向に回転し、これに伴いフ
レキシブル基板２がガイドローラ４にガイドされつつ矢
印Ｃ方向に所定の搬送速度で搬送されているとする。そ
して、ビーム発生部１２から露光ビーム１２ａが発生さ
れると、シャッター部１３は、この発生された露光ビー
ム１２ａの通過と遮断を、露光制御部１１から供給され
る露光データに基づいて制御する。また、ライン走査部
１４は、露光制御部１１からの制御信号に基づいて、図
１（Ｂ）に示すように、シャッター部１３を通過した露
光ビーム１２ａをガイドローラ４上においてフレキシブ
ル基板２の矢印Ｃで示す搬送方向に対して直交する方向
にライン走査する。かくして、露光が行われることにな
る。
【００１１】このように、この露光装置では、長尺なフ
レキシブル基板２を搬送しながら、該フレキシブル基板
２の搬送方向に対して直交する方向に露光ビーム１２ａ
を露光データに基づいてライン走査することにより、露
光を行うようにしているので、露光のためにフレキシブ
ル基板２を一旦停止させる必要がなく、したがって生産
性の向上を図ることができる。また、フレキシブル基板
２の搬送をガイドするガイドローラ４上において露光ビ
ーム１２ａによるライン走査が行われるようにしている
ので、ガイドローラ４上におけるフレキシブル基板２に
撓みが生じないようにすることができ、したがってフレ
キシブル基板２の撓みに起因する露光不良が生じないよ
うにすることができる。さらに、露光パターンを変更す
る場合には、露光制御部１１に供給する設計データを変
更して、露光データを再度作成すればよく、容易に対応
することができる。
レキシブル基板２を搬送しながら、該フレキシブル基板
２の搬送方向に対して直交する方向に露光ビーム１２ａ
を露光データに基づいてライン走査することにより、露
光を行うようにしているので、露光のためにフレキシブ
ル基板２を一旦停止させる必要がなく、したがって生産
性の向上を図ることができる。また、フレキシブル基板
２の搬送をガイドするガイドローラ４上において露光ビ
ーム１２ａによるライン走査が行われるようにしている
ので、ガイドローラ４上におけるフレキシブル基板２に
撓みが生じないようにすることができ、したがってフレ
キシブル基板２の撓みに起因する露光不良が生じないよ
うにすることができる。さらに、露光パターンを変更す
る場合には、露光制御部１１に供給する設計データを変
更して、露光データを再度作成すればよく、容易に対応
することができる。
【００１２】なお、図示していないが、フレキシブル基
板２に一定の間隔で位置検出用マークを設け、この位置
検出用マークに露光ビーム１２ａを照射し、その反射光
を受光素子で検出し、この検出結果に基づいてフレキシ
ブル基板２の搬送速度を制御するようにしてもよい。
板２に一定の間隔で位置検出用マークを設け、この位置
検出用マークに露光ビーム１２ａを照射し、その反射光
を受光素子で検出し、この検出結果に基づいてフレキシ
ブル基板２の搬送速度を制御するようにしてもよい。
【００１３】また、上記実施例では、長尺なフレキシブ
ル基板２を搬送しながら露光する場合について説明した
が、ガラス基板等のハード基板を搬送しながら露光する
ようにすることもよい。この場合、基板搬送手段として
は、ころコンベヤ等を用いることになる。
ル基板２を搬送しながら露光する場合について説明した
が、ガラス基板等のハード基板を搬送しながら露光する
ようにすることもよい。この場合、基板搬送手段として
は、ころコンベヤ等を用いることになる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１または４
記載の発明によれば、基板を搬送しながら、該基板の搬
送方向に対して直交する方向に露光ビームを露光データ
に基づいてライン走査することにより、露光を行うよう
にしているので、露光のために基板を一旦停止させる必
要がなく、したがって生産性の向上を図ることができ
る。また、請求項３または７記載の発明によれば、フレ
キシブル基板の搬送をガイドするガイドローラ上におい
て露光ビームによるライン走査が行われるようにしてい
るので、ガイドローラ上におけるフレキシブル基板に撓
みが生じないようにすることができ、したがってフレキ
シブル基板の撓みに起因する露光不良が生じないように
することができる。
記載の発明によれば、基板を搬送しながら、該基板の搬
送方向に対して直交する方向に露光ビームを露光データ
に基づいてライン走査することにより、露光を行うよう
にしているので、露光のために基板を一旦停止させる必
要がなく、したがって生産性の向上を図ることができ
る。また、請求項３または７記載の発明によれば、フレ
キシブル基板の搬送をガイドするガイドローラ上におい
て露光ビームによるライン走査が行われるようにしてい
るので、ガイドローラ上におけるフレキシブル基板に撓
みが生じないようにすることができ、したがってフレキ
シブル基板の撓みに起因する露光不良が生じないように
することができる。
【図１】（Ａ）はこの発明の一実施例における露光装置
の概略構成図、（Ｂ）は露光状態を説明するために示す
一部の斜視図。
の概略構成図、（Ｂ）は露光状態を説明するために示す
一部の斜視図。
２ フレキシブル基板 ３、５ 搬送ローラ（スプロケットホイール） ４ ガイドローラ １１ 露光制御部 １２ ビーム発生部 １２ａ 露光ビーム １３ シャッター部 １４ ライン走査部 １５ 基板搬送駆動部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｇ Ｈ
Claims (7)
- 【請求項１】 基板を搬送しながら、該基板の搬送方向
に対して直交する方向に露光ビームを露光データに基づ
いてライン走査することにより、露光を行うようにした
ことを特徴とする露光方法。 - 【請求項２】 前記基板は長尺なフレキシブル基板であ
ることを特徴とする請求項１記載の露光方法。 - 【請求項３】 前記露光ビームによるライン走査位置
は、前記フレキシブル基板の搬送をガイドするガイドロ
ーラ上であることを特徴とする請求項２記載の露光方
法。 - 【請求項４】 基板を搬送する基板搬送手段と、該基板
搬送手段によって搬送される前記基板の搬送方向に対し
て直交する方向に露光ビームを露光データに基づいてラ
イン走査して露光を行う露光手段とを具備することを特
徴とする露光装置。 - 【請求項５】 前記露光手段は、露光ビームを発生する
ビーム発生部と、該ビーム発生部から発生された露光ビ
ームの通過と遮断を露光データに基づいて制御するシャ
ッター部と、該シャッター部を通過した露光ビームを前
記基板の搬送方向に対して直交する方向にライン走査す
るライン走査部とからなることを特徴とする請求項４記
載の露光装置。 - 【請求項６】 前記基板は長尺なフレキシブル基板であ
ることを特徴とする請求項４または５記載の露光方法。 - 【請求項７】 前記基板搬送手段は、前記フレキシブル
基板の搬送をガイドするガイドローラを有し、該ガイド
ローラ上において露光ビームによるライン走査が行われ
るようにしたことを特徴とする請求項６記載の露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6329785A JPH08160626A (ja) | 1994-12-06 | 1994-12-06 | 露光方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6329785A JPH08160626A (ja) | 1994-12-06 | 1994-12-06 | 露光方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08160626A true JPH08160626A (ja) | 1996-06-21 |
Family
ID=18225241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6329785A Pending JPH08160626A (ja) | 1994-12-06 | 1994-12-06 | 露光方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08160626A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012053436A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-03-15 | Ushio Inc | 光照射装置および光照射方法 |
| JP2012093692A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-05-17 | Ushio Inc | 光照射装置および光照射方法 |
| CN102566298A (zh) * | 2010-10-08 | 2012-07-11 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
-
1994
- 1994-12-06 JP JP6329785A patent/JPH08160626A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012053436A (ja) * | 2010-08-06 | 2012-03-15 | Ushio Inc | 光照射装置および光照射方法 |
| CN102419516A (zh) * | 2010-08-06 | 2012-04-18 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置和光照射方法 |
| JP2012093692A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-05-17 | Ushio Inc | 光照射装置および光照射方法 |
| CN102566298A (zh) * | 2010-10-08 | 2012-07-11 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
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