JPH08161736A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH08161736A JPH08161736A JP29859394A JP29859394A JPH08161736A JP H08161736 A JPH08161736 A JP H08161736A JP 29859394 A JP29859394 A JP 29859394A JP 29859394 A JP29859394 A JP 29859394A JP H08161736 A JPH08161736 A JP H08161736A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magnetic recording
- magnetic
- layer
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 3
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019222 CoCrPt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温多湿下においてもヘッド汚れの少ない、
優れた磁気記録媒体を提供する。 【構成】 非磁性基板上に磁性層、保護層、及び潤滑層
を順次形成してなる磁気記録媒体の製造方法において、
潤滑層を形成する前に、５５℃以上９０℃以下の温純水
で洗浄することにより、優れた潤滑性、耐摩耗性を有
し、耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。
優れた磁気記録媒体を提供する。 【構成】 非磁性基板上に磁性層、保護層、及び潤滑層
を順次形成してなる磁気記録媒体の製造方法において、
潤滑層を形成する前に、５５℃以上９０℃以下の温純水
で洗浄することにより、優れた潤滑性、耐摩耗性を有
し、耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、情報産業等で利用され
る高記録密度の磁気記録媒体の製造方法に関するもので
ある。
る高記録密度の磁気記録媒体の製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】情報産業等で利用される高記録密度の磁
気記録媒体の代表的な例である薄膜型磁気記録媒体は、
通常、磁性金属またはその合金をメッキ、蒸着またはス
パッタリング法等によって非磁性基板上に披着して製造
される。実際の使用時においては磁気ヘッドと磁気記録
媒体とが高速で接触摺動するので、摩耗損傷を受けた
り、磁気特性の劣化を起こしたりする。
気記録媒体の代表的な例である薄膜型磁気記録媒体は、
通常、磁性金属またはその合金をメッキ、蒸着またはス
パッタリング法等によって非磁性基板上に披着して製造
される。実際の使用時においては磁気ヘッドと磁気記録
媒体とが高速で接触摺動するので、摩耗損傷を受けた
り、磁気特性の劣化を起こしたりする。
【０００３】このような欠点を解決する方法として、磁
性層上に保護膜や潤滑層を設けることによって接触摺動
の際の静／動摩擦を極力低減させ、耐摩耗性を向上させ
ることが提案されている。保護膜としては、炭素質膜、
酸化物膜、窒化物膜及びホウ化物膜等が利用される。
性層上に保護膜や潤滑層を設けることによって接触摺動
の際の静／動摩擦を極力低減させ、耐摩耗性を向上させ
ることが提案されている。保護膜としては、炭素質膜、
酸化物膜、窒化物膜及びホウ化物膜等が利用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】磁気記録媒体は、その
使用時においてディスク媒体が停止状態から急速に回転
加速され、これに伴い、浮上ヘッドスライダに浮力が与
えられてヘッドは浮上する。使用後に電源が切断される
とディスク媒体を回転させているモータが停止し、ヘッ
ドと媒体とが高速で接触を起こして摺動する。
使用時においてディスク媒体が停止状態から急速に回転
加速され、これに伴い、浮上ヘッドスライダに浮力が与
えられてヘッドは浮上する。使用後に電源が切断される
とディスク媒体を回転させているモータが停止し、ヘッ
ドと媒体とが高速で接触を起こして摺動する。
【０００５】ところが、近年、面記録密度を高めるため
にヘッドの低浮上化とディスク回転の高速化が求められ
て要る。媒体基板はより平滑になる方向にある。動摩擦
係数を低減するために液体潤滑膜を設けることは非常に
有効であるが、液体潤滑膜を厚くしていくと、ヘッドと
ディスクとの間に液体潤滑剤の表面張力によるマイクロ
メニスカスが形成されて、吸着現象(sticking)が生じる
ことが知られている。このため静摩擦係数が増加し、往
々にしてヘッドがディスクに張り付いたまま動作不能と
なることが指摘されている。
にヘッドの低浮上化とディスク回転の高速化が求められ
て要る。媒体基板はより平滑になる方向にある。動摩擦
係数を低減するために液体潤滑膜を設けることは非常に
有効であるが、液体潤滑膜を厚くしていくと、ヘッドと
ディスクとの間に液体潤滑剤の表面張力によるマイクロ
メニスカスが形成されて、吸着現象(sticking)が生じる
ことが知られている。このため静摩擦係数が増加し、往
々にしてヘッドがディスクに張り付いたまま動作不能と
なることが指摘されている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、高温多湿下においてもヘッド汚れの少ない
優れた磁気記録媒体を得ることを特徴とする。本発明に
より得られた磁気記録媒体は、コンポジットヘッド、ミ
グヘッドおよび薄膜ヘッドにも適応できる。以下、本発
明を詳細に説明する。
製造方法は、高温多湿下においてもヘッド汚れの少ない
優れた磁気記録媒体を得ることを特徴とする。本発明に
より得られた磁気記録媒体は、コンポジットヘッド、ミ
グヘッドおよび薄膜ヘッドにも適応できる。以下、本発
明を詳細に説明する。
【０００７】本発明を適用する磁気記録媒体として、非
磁性基板としては、通常、ニッケル・リン層を設けたア
ルミニウム合金板またはガラス基板が用いられるが、そ
のほかにもセラミック基板、カーボン基板、樹脂基板等
を用いることもできる。磁性層としては、必要に応じて
下引層を設けた後、例えばＣｏまたはＣｏＰ系合金、Ｃ
ｏＮｉＰ系合金、ＣｏＮｉＣｒ系合金、ＣｏＮｉＰｔ系
合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＴａ系合金等
のＣｏ合金等を無電解メッキ法、スパッタリング法等に
より形成される。磁性層の膜厚は、磁気記録媒体として
要求される特性により決定され、通常、２００〜１５０
０Åである。薄膜磁性層上の保護膜は、必ずしも不可欠
のものではなく、磁性膜の硬度や弾性率等の物理物性を
鑑みて、必要に応じて形成される。保護膜としては炭素
質膜、酸化物膜、窒化物膜、ホウ化物膜等が用いられ、
スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ
重合法等により形成される。保護膜として好ましく用い
られるのは、無定形炭素、水素化カーボン等の炭素質膜
であり、通常、５０〜５００Å、好適には、１００〜３
００Åの膜厚で用いられる。また必要に応じて紫外線照
射等の保護膜表面処理を施すこともできる。
磁性基板としては、通常、ニッケル・リン層を設けたア
ルミニウム合金板またはガラス基板が用いられるが、そ
のほかにもセラミック基板、カーボン基板、樹脂基板等
を用いることもできる。磁性層としては、必要に応じて
下引層を設けた後、例えばＣｏまたはＣｏＰ系合金、Ｃ
ｏＮｉＰ系合金、ＣｏＮｉＣｒ系合金、ＣｏＮｉＰｔ系
合金、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＣｏＣｒＰｔＴａ系合金等
のＣｏ合金等を無電解メッキ法、スパッタリング法等に
より形成される。磁性層の膜厚は、磁気記録媒体として
要求される特性により決定され、通常、２００〜１５０
０Åである。薄膜磁性層上の保護膜は、必ずしも不可欠
のものではなく、磁性膜の硬度や弾性率等の物理物性を
鑑みて、必要に応じて形成される。保護膜としては炭素
質膜、酸化物膜、窒化物膜、ホウ化物膜等が用いられ、
スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ
重合法等により形成される。保護膜として好ましく用い
られるのは、無定形炭素、水素化カーボン等の炭素質膜
であり、通常、５０〜５００Å、好適には、１００〜３
００Åの膜厚で用いられる。また必要に応じて紫外線照
射等の保護膜表面処理を施すこともできる。
【０００８】形成した保護膜表面を、温純水で洗浄した
のち潤滑層を形成する。保護膜表面に存在する水溶性不
純物が、保護膜と潤滑剤との結合力を弱め、ディスク駆
動時に潤滑剤がヘッドに転写されるものと考えられる。
潤滑層を形成する前にディスク表面の不純物を温純水で
洗浄して不純物を溶出させて取り除くことで、清浄な表
面に潤滑層を形成させることができる。保護膜と潤滑剤
との結合力が弱い部分がなくなり、ＣＳＳを行ってもヘ
ッドが汚れることが無くなると考えられる。常温常湿の
みでなく高温多湿のような過酷な環境下でもヘッド汚れ
が少ないディスクを得ることができる。洗浄方法として
は、ディスクを温純水に浸漬したのち乾燥する。温純水
の温度としては、ディスクを浸漬したのちその表面が乾
く温度が必要であり、純水が沸騰しない温度の範囲内
で、５５℃以上９０℃以下が適当である。温純水で洗浄
する工程と併せて超音波洗浄を施してもよい。
のち潤滑層を形成する。保護膜表面に存在する水溶性不
純物が、保護膜と潤滑剤との結合力を弱め、ディスク駆
動時に潤滑剤がヘッドに転写されるものと考えられる。
潤滑層を形成する前にディスク表面の不純物を温純水で
洗浄して不純物を溶出させて取り除くことで、清浄な表
面に潤滑層を形成させることができる。保護膜と潤滑剤
との結合力が弱い部分がなくなり、ＣＳＳを行ってもヘ
ッドが汚れることが無くなると考えられる。常温常湿の
みでなく高温多湿のような過酷な環境下でもヘッド汚れ
が少ないディスクを得ることができる。洗浄方法として
は、ディスクを温純水に浸漬したのち乾燥する。温純水
の温度としては、ディスクを浸漬したのちその表面が乾
く温度が必要であり、純水が沸騰しない温度の範囲内
で、５５℃以上９０℃以下が適当である。温純水で洗浄
する工程と併せて超音波洗浄を施してもよい。
【０００９】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。 実施例１ アルミニウム合金の基板上にスパッタリング法によりク
ロム下地層（５００Å）、コバルト合金の磁性薄膜（６
００Å）および炭素質保護膜（２６０Å）を形成し、テ
ープクリーニング処理を施した直径３．５インチの磁気
ディスクを、温度６５℃の温純水に３０秒間浸漬、乾燥
した。このディスクにパーフルオロポリエーテル潤滑層
（Ｆｏｍｂｌｉｎｅ Ｚ Ｄｏｌ／２０００）を形成
し、グライド処理を行った。
明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。 実施例１ アルミニウム合金の基板上にスパッタリング法によりク
ロム下地層（５００Å）、コバルト合金の磁性薄膜（６
００Å）および炭素質保護膜（２６０Å）を形成し、テ
ープクリーニング処理を施した直径３．５インチの磁気
ディスクを、温度６５℃の温純水に３０秒間浸漬、乾燥
した。このディスクにパーフルオロポリエーテル潤滑層
（Ｆｏｍｂｌｉｎｅ Ｚ Ｄｏｌ／２０００）を形成
し、グライド処理を行った。
【００１０】グライド処理を行ったディスクについて、
温度３２°Ｃ、相対湿度８０％の環境下でＣＳＳ試験を
行ったところ、ヘッドの汚れはほとんど見られなかっ
た。ＣＳＳ試験については周速３６００ｒｐｍの薄膜ヘ
ッドスライダ（材質：Ａｌ 2 ０3 ＴｉＣ）を用いて行な
った。スピンドルへ１０秒間通電した後、２４秒間電源
を切断する計３４秒をＣＳＳ１サイクルとし、ＣＳＳサ
イクルを２００００回行なった。
温度３２°Ｃ、相対湿度８０％の環境下でＣＳＳ試験を
行ったところ、ヘッドの汚れはほとんど見られなかっ
た。ＣＳＳ試験については周速３６００ｒｐｍの薄膜ヘ
ッドスライダ（材質：Ａｌ 2 ０3 ＴｉＣ）を用いて行な
った。スピンドルへ１０秒間通電した後、２４秒間電源
を切断する計３４秒をＣＳＳ１サイクルとし、ＣＳＳサ
イクルを２００００回行なった。
【００１１】実施例２ テープクリーニング処理を施した後、温度７３℃の温純
水に浸漬すること以外は、実施例１と同様にして得た磁
気ディスクを、ＣＳＳ試験を行ったところ、ヘッドの汚
れはほとんど見られなかった。 比較例１ テープクリーニング処理を施した後、温度２５℃の純水
に浸漬すること以外は、実施例１と同様にして得た磁気
ディスクを、ＣＳＳ試験を行ったところ、ヘッド全体に
激しい汚れが見られた。
水に浸漬すること以外は、実施例１と同様にして得た磁
気ディスクを、ＣＳＳ試験を行ったところ、ヘッドの汚
れはほとんど見られなかった。 比較例１ テープクリーニング処理を施した後、温度２５℃の純水
に浸漬すること以外は、実施例１と同様にして得た磁気
ディスクを、ＣＳＳ試験を行ったところ、ヘッド全体に
激しい汚れが見られた。
【００１２】比較例２ 実施例１とテープクリーニングまで同様の処理を行った
ディスクを用い、潤滑層を形成し、グライド処理を行っ
たディスクについて、実施例１と同様にＣＳＳ試験を行
なったところ、ヘッド全体に激しい汚れが見られた。
ディスクを用い、潤滑層を形成し、グライド処理を行っ
たディスクについて、実施例１と同様にＣＳＳ試験を行
なったところ、ヘッド全体に激しい汚れが見られた。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、薄膜で優れた潤滑性・
耐摩耗性を有し、長期間にわたり優れた耐久性を維持す
ることができる信頼性の高い磁気記録媒体が得られ、Ｃ
ＳＳ試験においてもヘッドの汚れを低減することがで
き、長期にわたり信頼性の高い磁気記録媒体を得ること
ができる。
耐摩耗性を有し、長期間にわたり優れた耐久性を維持す
ることができる信頼性の高い磁気記録媒体が得られ、Ｃ
ＳＳ試験においてもヘッドの汚れを低減することがで
き、長期にわたり信頼性の高い磁気記録媒体を得ること
ができる。
Claims (2)
- 【請求項１】非磁性基板上に磁性層、保護層及び潤滑層
を順次形成してなる磁気記録媒体の製造方法において、
潤滑層を形成する前に、５５℃以上９０℃以下の温純水
で洗浄することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 - 【請求項２】潤滑層を形成する前に、超音波洗浄するこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29859394A JPH08161736A (ja) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29859394A JPH08161736A (ja) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08161736A true JPH08161736A (ja) | 1996-06-21 |
Family
ID=17861748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29859394A Pending JPH08161736A (ja) | 1994-12-01 | 1994-12-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08161736A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999014746A1 (en) * | 1997-09-17 | 1999-03-25 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| US6316062B1 (en) | 1997-09-17 | 2001-11-13 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| US6680112B1 (en) | 1999-06-29 | 2004-01-20 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium and production process thereof |
| JP2009087456A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| WO2011125990A1 (ja) * | 2010-04-06 | 2011-10-13 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1994
- 1994-12-01 JP JP29859394A patent/JPH08161736A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999014746A1 (en) * | 1997-09-17 | 1999-03-25 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| US6316062B1 (en) | 1997-09-17 | 2001-11-13 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| US6468602B2 (en) | 1997-09-17 | 2002-10-22 | Showa Denko K.K. | Method of manufacturing a magnetic recording medium |
| US6680112B1 (en) | 1999-06-29 | 2004-01-20 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium and production process thereof |
| JP2009087456A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| WO2011125990A1 (ja) * | 2010-04-06 | 2011-10-13 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2011222062A (ja) * | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970005351B1 (ko) | 박막 금속합금 자기기록 디스크 및 그의 제조방법 | |
| US6245417B1 (en) | Magnetic recording medium comprising multilayered carbon-containing protective overcoats | |
| US6238780B1 (en) | Magnetic recording medium comprising multilayered carbon-containing protective overcoats | |
| US6136421A (en) | Magneto-resistance recording media comprising multilayered protective overcoats | |
| JP3965277B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| US6083626A (en) | Magnetic storage member comprising a carbon layer and directly overcoated fluorolubricant layer | |
| WO1988002168A1 (en) | Magnetic data storage media | |
| JPH08161736A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| US6572958B1 (en) | Magnetic recording media comprising a silicon carbide corrosion barrier layer and a c-overcoat | |
| US6537686B1 (en) | Magneto-resistance recording media comprising a silicon nitride corrosion barrier layer and a C-overcoat | |
| JPWO1999046765A1 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| US6517956B1 (en) | Magneto-resistance recording media comprising aluminum nitride corrosion barrier layer and a c-overcoat | |
| US6322880B1 (en) | Magneto-resistance recording media comprising a foundation layer and a C-overcoat | |
| JPH0554373A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3934697B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| EP1136987A1 (en) | Magnetic recording and reproducing device | |
| JPS5939809B2 (ja) | 磁気記憶体 | |
| JP2001028117A (ja) | ディスク媒体 | |
| JP3460381B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| US9117476B1 (en) | Magnetic media on a plastic substrate | |
| JPH0684168A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01211216A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS63117311A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH04285727A (ja) | 磁気ディスク装置 | |
| JPS63281220A (ja) | 磁気ディスク |