JPH08161784A - 光ディスク及びその検査方法 - Google Patents
光ディスク及びその検査方法Info
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- JPH08161784A JPH08161784A JP6297418A JP29741894A JPH08161784A JP H08161784 A JPH08161784 A JP H08161784A JP 6297418 A JP6297418 A JP 6297418A JP 29741894 A JP29741894 A JP 29741894A JP H08161784 A JPH08161784 A JP H08161784A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- area
- slider
- protective film
- film
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フライング方式を用いた光ディスクシステム
において、ローディングを繰り返し行っても記録情報に
破損が生じることがなく、製品の信頼性の大幅な向上を
図ることが可能となる光ディスクを提供する。 【構成】 保護膜４の成膜領域Ｃを、記録層２の成膜領
域Ａ内における情報記録領域ａよりスライダ５のディス
ク径方向の幅ｔ以上に矢印Ｍで示すディスク内周側に広
く形成して光磁気ディスクを構成する。
において、ローディングを繰り返し行っても記録情報に
破損が生じることがなく、製品の信頼性の大幅な向上を
図ることが可能となる光ディスクを提供する。 【構成】 保護膜４の成膜領域Ｃを、記録層２の成膜領
域Ａ内における情報記録領域ａよりスライダ５のディス
ク径方向の幅ｔ以上に矢印Ｍで示すディスク内周側に広
く形成して光磁気ディスクを構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面に保護膜が形成さ
れてなる光ディスク、例えば光磁気ディスクに関するも
のであり、さらにはその検査方法に関する。
れてなる光ディスク、例えば光磁気ディスクに関するも
のであり、さらにはその検査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、光ディスク、例えば光磁気ディ
スクは、透明基盤上に記録層が形成され、この記録層を
被覆するように再生時に用いるための反射膜が成膜さ
れ、さらにこの反射膜を被覆するように保護膜が成膜さ
れ構成されている。
スクは、透明基盤上に記録層が形成され、この記録層を
被覆するように再生時に用いるための反射膜が成膜さ
れ、さらにこの反射膜を被覆するように保護膜が成膜さ
れ構成されている。
【０００３】ところで、上記光磁気ディスクの記録層の
記録可能な領域（以下、記録領域と記す）に情報を記録
するに際して、光磁気ディスク表面との接触による摩耗
損傷を回避するために、フライング方式、すなわち光磁
気ディスクの高速回転時に磁気ディスク表面に発生する
空気流によって磁気コアに設けられた磁極部を光磁気デ
ィスク面より微小間隔（いわゆるフライングハイト）を
有して浮上走行させるように構成したいわゆる浮上型磁
気ヘッド装置を用いることが提案されている。
記録可能な領域（以下、記録領域と記す）に情報を記録
するに際して、光磁気ディスク表面との接触による摩耗
損傷を回避するために、フライング方式、すなわち光磁
気ディスクの高速回転時に磁気ディスク表面に発生する
空気流によって磁気コアに設けられた磁極部を光磁気デ
ィスク面より微小間隔（いわゆるフライングハイト）を
有して浮上走行させるように構成したいわゆる浮上型磁
気ヘッド装置を用いることが提案されている。
【０００４】光磁気ディスクの径方向に移動可能なヘッ
ドアームに、板バネとして働くサスペンションを有する
支持部材を取り付けてなるものであり、前記支持部材に
は、磁気コアと、駆動コイルを巻装したコイルボビン
と、光磁気ディスクに対する浮上部材であるスライダと
を一体化した磁気ヘッド部が取り付けられ、さらに、前
記コイルボビンには、フレキシブルプリント基板が接続
される。したがって、このフレキシブルプリント基板を
介して、浮上型磁気ヘッド装置の外部から情報信号が電
気信号として駆動コイルに供給される。
ドアームに、板バネとして働くサスペンションを有する
支持部材を取り付けてなるものであり、前記支持部材に
は、磁気コアと、駆動コイルを巻装したコイルボビン
と、光磁気ディスクに対する浮上部材であるスライダと
を一体化した磁気ヘッド部が取り付けられ、さらに、前
記コイルボビンには、フレキシブルプリント基板が接続
される。したがって、このフレキシブルプリント基板を
介して、浮上型磁気ヘッド装置の外部から情報信号が電
気信号として駆動コイルに供給される。
【０００５】なお、磁気コアとコイルボビンとスライダ
との一体化は以下のようになされる。スライダは、磁気
コアを収容する枠状のホルダー部が設けられて構成され
ている。ここで、ホルダー部の底面は、光磁気ディスク
表面に対向して微小間隔（いわゆるフライングハイト）
を有して浮上走行するように構成されている。上記の如
きスライダのホルダー部に、コイルボビンを組み込んだ
磁気コアを、光磁気ディスクに磁界を印加するための磁
極部が媒体対向面（ホルダー部の底面）に臨むように組
み込み固定する。
との一体化は以下のようになされる。スライダは、磁気
コアを収容する枠状のホルダー部が設けられて構成され
ている。ここで、ホルダー部の底面は、光磁気ディスク
表面に対向して微小間隔（いわゆるフライングハイト）
を有して浮上走行するように構成されている。上記の如
きスライダのホルダー部に、コイルボビンを組み込んだ
磁気コアを、光磁気ディスクに磁界を印加するための磁
極部が媒体対向面（ホルダー部の底面）に臨むように組
み込み固定する。
【０００６】上記の浮上型磁気ヘッド装置を用いる場
合、光磁気ディスクのローディング時に当該光磁気ディ
スク表面にスライダがランディングすることになるた
め、光磁気ディスク表面にランディング領域を設ける必
要がある。この場合具体的には、上記光磁気ディスク
を、図４に示すように、透明基盤１０１上に記録層１０
２を成膜領域Ｆにスパッタ成膜法等により形成し、この
成膜領域Ｆ上に再生時に用いるための反射膜１０３を成
膜した成膜領域Ｇを介してＵＶレジン等の紫外線硬化型
の塗料をスピンコート法等により塗布することにより保
護膜１０４を成膜領域Ｈに成膜し構成する。
合、光磁気ディスクのローディング時に当該光磁気ディ
スク表面にスライダがランディングすることになるた
め、光磁気ディスク表面にランディング領域を設ける必
要がある。この場合具体的には、上記光磁気ディスク
を、図４に示すように、透明基盤１０１上に記録層１０
２を成膜領域Ｆにスパッタ成膜法等により形成し、この
成膜領域Ｆ上に再生時に用いるための反射膜１０３を成
膜した成膜領域Ｇを介してＵＶレジン等の紫外線硬化型
の塗料をスピンコート法等により塗布することにより保
護膜１０４を成膜領域Ｈに成膜し構成する。
【０００７】そして、ランディング領域は、光磁気ディ
スク表面のディスク内周側の所定箇所に設けるのが一般
的である。すなわち、上記光磁気ディスク表面において
は、スライダ１０５の表面に設けられた磁極部１０５ａ
が記録層の成膜領域Ｆ内の情報記録領域ｆを移動するた
めの当該スライダ１０５の浮上領域Ｊを設けて保護膜１
０４の成膜領域Ｈと同一範囲とし、当該浮上領域Ｅ内の
内周端近傍にスライダ１０５のランディング領域Ｉを設
ける。
スク表面のディスク内周側の所定箇所に設けるのが一般
的である。すなわち、上記光磁気ディスク表面において
は、スライダ１０５の表面に設けられた磁極部１０５ａ
が記録層の成膜領域Ｆ内の情報記録領域ｆを移動するた
めの当該スライダ１０５の浮上領域Ｊを設けて保護膜１
０４の成膜領域Ｈと同一範囲とし、当該浮上領域Ｅ内の
内周端近傍にスライダ１０５のランディング領域Ｉを設
ける。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、スライ
ダ１０５の磁極部１０５ａから当該スライダ１０５のデ
ィスク外周側の端面及び内周側の端面までの距離をそれ
ぞれｔ１，ｔ２とすると、記録層Ｆの記録領域ａよりデ
ィスク外周側へｄ１，ディスク内周側へｔ２だけ広い範
囲が保護膜１０４の成膜領域Ｈ、すなわちランディング
領域Ｉとされている。したがって、光磁気ディスクのロ
ーディング時にスライダ１０５がランディング領域Ｉ内
にランディングする際に、スライダ１０５と当該ランデ
ィング領域Ｆ内の保護膜１０４と必然的に接触し、その
ために保護膜１０３のみならず下層の反射層１０３や記
録層１０２に破損が生じる危険性が高い。
ダ１０５の磁極部１０５ａから当該スライダ１０５のデ
ィスク外周側の端面及び内周側の端面までの距離をそれ
ぞれｔ１，ｔ２とすると、記録層Ｆの記録領域ａよりデ
ィスク外周側へｄ１，ディスク内周側へｔ２だけ広い範
囲が保護膜１０４の成膜領域Ｈ、すなわちランディング
領域Ｉとされている。したがって、光磁気ディスクのロ
ーディング時にスライダ１０５がランディング領域Ｉ内
にランディングする際に、スライダ１０５と当該ランデ
ィング領域Ｆ内の保護膜１０４と必然的に接触し、その
ために保護膜１０３のみならず下層の反射層１０３や記
録層１０２に破損が生じる危険性が高い。
【０００９】このように、浮上型磁気ヘッド装置を用い
る光磁気ディスクを使用する場合、記録層１０２が傷付
き記録情報の一部が破壊されることにより情報保護の信
頼性が著しく低下するという深刻な問題がある。
る光磁気ディスクを使用する場合、記録層１０２が傷付
き記録情報の一部が破壊されることにより情報保護の信
頼性が著しく低下するという深刻な問題がある。
【００１０】本発明は、上述の課題に鑑みてなされたも
のであり、フライング方式を用いた光ディスクシステム
において、ローディングを繰り返し行っても記録情報に
破損が生じることがなく、製品の信頼性の大幅な向上を
図ることを可能とする光ディスクを提供し、さらにそれ
に伴って保護膜の表面状態を検査する際に生じがちな測
定不良を防止して正確な判定を可能とし、製品の信頼性
の大幅な向上を図ることができる上記光ディスクの判定
方法を提供することを目的とする。
のであり、フライング方式を用いた光ディスクシステム
において、ローディングを繰り返し行っても記録情報に
破損が生じることがなく、製品の信頼性の大幅な向上を
図ることを可能とする光ディスクを提供し、さらにそれ
に伴って保護膜の表面状態を検査する際に生じがちな測
定不良を防止して正確な判定を可能とし、製品の信頼性
の大幅な向上を図ることができる上記光ディスクの判定
方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の対象となるもの
は、基盤上のそれぞれ所定の成膜領域に記録層及び当該
記録層を被覆する保護膜が成膜されてなり、ディスク面
と微小間隔をもって浮上走行するスライダを有する浮上
型磁気ヘッド装置を用いる光ディスク、主に光磁気ディ
スクであり、さらに、当該光ディスクの保護膜の表面状
態を評価する光ディスクの検査方法を対象とする。
は、基盤上のそれぞれ所定の成膜領域に記録層及び当該
記録層を被覆する保護膜が成膜されてなり、ディスク面
と微小間隔をもって浮上走行するスライダを有する浮上
型磁気ヘッド装置を用いる光ディスク、主に光磁気ディ
スクであり、さらに、当該光ディスクの保護膜の表面状
態を評価する光ディスクの検査方法を対象とする。
【００１２】本発明に係る光ディスクは、上記保護膜の
成膜領域が上記記録層の成膜領域内における情報記録領
域より上記スライダのディスク径方向の幅以上にディス
ク内周側に広く形成されてなることを特徴とするもので
ある。すなわち、上記光ディスクにおいては、保護膜の
成膜領域の内周端が情報記録領域の内周端よりスライダ
のディスク径方向の幅以上にディスク内周側に形成され
ている。
成膜領域が上記記録層の成膜領域内における情報記録領
域より上記スライダのディスク径方向の幅以上にディス
ク内周側に広く形成されてなることを特徴とするもので
ある。すなわち、上記光ディスクにおいては、保護膜の
成膜領域の内周端が情報記録領域の内周端よりスライダ
のディスク径方向の幅以上にディスク内周側に形成され
ている。
【００１３】このとき、情報記録領域の内周端と保護膜
の成膜領域の内周端との間に、ローディング時にスライ
ダが当該光ディスク表面に接触する箇所であるランディ
ング領域が形成されることになる。
の成膜領域の内周端との間に、ローディング時にスライ
ダが当該光ディスク表面に接触する箇所であるランディ
ング領域が形成されることになる。
【００１４】また、上記保護膜としては、紫外線硬化型
の塗料を塗布し、紫外線を照射することにより形成され
るものを主に想定している。
の塗料を塗布し、紫外線を照射することにより形成され
るものを主に想定している。
【００１５】さらに、上記光ディスクにおいては、記録
層と保護膜との間に反射膜が成膜され、当該反射膜の成
膜領域の内周端をランディング領域の内周端と保護膜の
成膜領域の内周端との間に形成することが望ましい。す
なわちこの場合、ディスク内周側において、ランディン
グ領域より広く且つ保護膜の成膜領域より狭い領域に亘
って上記反射膜が成膜されていることになる。
層と保護膜との間に反射膜が成膜され、当該反射膜の成
膜領域の内周端をランディング領域の内周端と保護膜の
成膜領域の内周端との間に形成することが望ましい。す
なわちこの場合、ディスク内周側において、ランディン
グ領域より広く且つ保護膜の成膜領域より狭い領域に亘
って上記反射膜が成膜されていることになる。
【００１６】このとき、反射膜の外周端における記録層
の被覆幅をスライダ表面の磁界を印加するための磁極部
から上記スライダのディスク外周側の端面までの距離以
上に形成することが望ましい。
の被覆幅をスライダ表面の磁界を印加するための磁極部
から上記スライダのディスク外周側の端面までの距離以
上に形成することが望ましい。
【００１７】さらに、本発明においては、上記光ディス
ク表面に成膜された反射膜の成膜領域に対して、当該成
膜領域上の検査点に入射光を照射し、その反射光を測定
して保護膜の表面状態を評価することを特徴とするもの
である。すなわち、保護膜の表面に凹凸が存在している
と、この箇所を検査点が走査する際に反射光が散乱され
て測定強度はその分弱くなる。この性質を利用して上記
表面状態を判定する。
ク表面に成膜された反射膜の成膜領域に対して、当該成
膜領域上の検査点に入射光を照射し、その反射光を測定
して保護膜の表面状態を評価することを特徴とするもの
である。すなわち、保護膜の表面に凹凸が存在している
と、この箇所を検査点が走査する際に反射光が散乱され
て測定強度はその分弱くなる。この性質を利用して上記
表面状態を判定する。
【００１８】かかる表面状態の評価としては、例えば、
いくつかの光ディスクのサンプルに対して、上記保護膜
の表面に存在する突起部の高さと、いわゆる最大うねり
ＷCM，ＷEM及び中心線うねりＷCA，ＷEAからなる表面う
ねり（ＪＩＳ Ｂ ０６１０では、機械表面からランダ
ムに抜き取った各部分におけるＷCM，ＷEM，ＷCA，及び
ＷEAのそれぞれの算術平均値）とを触針法により測定す
る。そして、同一のサンプルに対して上記の反射光強度
測定を行って両測定値の相関をとる。この相関に基づい
て、各光ディスクの反射光強度測定を行うことにより上
記突起部の高さ及び最大うねりＷCM，ＷEM及び中心線う
ねりＷCA，ＷEAを判定する。
いくつかの光ディスクのサンプルに対して、上記保護膜
の表面に存在する突起部の高さと、いわゆる最大うねり
ＷCM，ＷEM及び中心線うねりＷCA，ＷEAからなる表面う
ねり（ＪＩＳ Ｂ ０６１０では、機械表面からランダ
ムに抜き取った各部分におけるＷCM，ＷEM，ＷCA，及び
ＷEAのそれぞれの算術平均値）とを触針法により測定す
る。そして、同一のサンプルに対して上記の反射光強度
測定を行って両測定値の相関をとる。この相関に基づい
て、各光ディスクの反射光強度測定を行うことにより上
記突起部の高さ及び最大うねりＷCM，ＷEM及び中心線う
ねりＷCA，ＷEAを判定する。
【００１９】
【作用】本発明に係る光ディスクにおいては、保護膜の
成膜領域が上記記録層の成膜領域内における情報記録領
域より上記スライダのディスク径方向の幅以上にディス
ク内周側に広く形成されている。この広く形成された部
分、すなわち、情報記録領域の内周端と保護膜の成膜領
域の内周端との間の箇所に上記スライダのランディング
領域を設ける場合、当該光ディスクのローディング時に
おいて保護膜上の下層に情報記録領域の無い部分にラン
ディングすることになる。したがって、ランディングの
際に上記スライダによって万一保護膜に若干の損傷が生
じたとしても、記録層の情報記録領域には影響がなく、
情報破壊が抑止される。
成膜領域が上記記録層の成膜領域内における情報記録領
域より上記スライダのディスク径方向の幅以上にディス
ク内周側に広く形成されている。この広く形成された部
分、すなわち、情報記録領域の内周端と保護膜の成膜領
域の内周端との間の箇所に上記スライダのランディング
領域を設ける場合、当該光ディスクのローディング時に
おいて保護膜上の下層に情報記録領域の無い部分にラン
ディングすることになる。したがって、ランディングの
際に上記スライダによって万一保護膜に若干の損傷が生
じたとしても、記録層の情報記録領域には影響がなく、
情報破壊が抑止される。
【００２０】さらに、本発明に係る光ディスクの検査方
法においては、反射膜の成膜領域の内周端がランディン
グ領域の内周端と保護膜の成膜領域の内周端との間に形
成されてなる光ディスク表面に成膜された反射膜の成膜
領域に対して、当該成膜領域上の検査点に入射光を照射
し、その反射光を検出してその強度を測定することによ
り保護膜の表面状態を評価する。この場合、上記検査点
は保護膜の成膜領域の略々全域に亘って走査することに
なるが、上記反射膜がスライダのランディング領域下ま
で成膜されているために、上記スライダの浮上領域の略
々全域に亘って同一条件にて測定を行うことができ、各
検査点からの反射光強度は保護膜の表面状態のみに依存
することになる。したがって、検査領域である上記スラ
イダの浮上領域の全域に亘って反射率水準が一定に保た
れる。
法においては、反射膜の成膜領域の内周端がランディン
グ領域の内周端と保護膜の成膜領域の内周端との間に形
成されてなる光ディスク表面に成膜された反射膜の成膜
領域に対して、当該成膜領域上の検査点に入射光を照射
し、その反射光を検出してその強度を測定することによ
り保護膜の表面状態を評価する。この場合、上記検査点
は保護膜の成膜領域の略々全域に亘って走査することに
なるが、上記反射膜がスライダのランディング領域下ま
で成膜されているために、上記スライダの浮上領域の略
々全域に亘って同一条件にて測定を行うことができ、各
検査点からの反射光強度は保護膜の表面状態のみに依存
することになる。したがって、検査領域である上記スラ
イダの浮上領域の全域に亘って反射率水準が一定に保た
れる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明に係る光ディスク及びその検査
方法について、磁界変調型の光磁気ディスクに適用した
具体的な実施例を図面を参照しながら詳細に説明する。
方法について、磁界変調型の光磁気ディスクに適用した
具体的な実施例を図面を参照しながら詳細に説明する。
【００２２】上記光磁気ディスクは、基盤上のそれぞれ
所定の成膜領域に記録層及び当該記録層を被覆する保護
膜が成膜されてなり、ディスク面と微小間隔をもって浮
上走行するスライダを有する浮上型磁気ヘッド装置を用
いて記録及び／又は再生を行うものである。
所定の成膜領域に記録層及び当該記録層を被覆する保護
膜が成膜されてなり、ディスク面と微小間隔をもって浮
上走行するスライダを有する浮上型磁気ヘッド装置を用
いて記録及び／又は再生を行うものである。
【００２３】本実施例の光磁気ディスクは、高い記録密
度化及びアクセス化を可能とするいわゆるフライング方
式を採用した光磁気ディスクシステムに適用するもので
ある。この光磁気ディスクシステムにおいては、浮上型
磁気ヘッド装置を用い、上記光磁気ディスクの下部に設
けられた光ピックアップの対物レンズからレーザ光を当
該光磁気ディスクに照射して記録及び再生を行う。
度化及びアクセス化を可能とするいわゆるフライング方
式を採用した光磁気ディスクシステムに適用するもので
ある。この光磁気ディスクシステムにおいては、浮上型
磁気ヘッド装置を用い、上記光磁気ディスクの下部に設
けられた光ピックアップの対物レンズからレーザ光を当
該光磁気ディスクに照射して記録及び再生を行う。
【００２４】上記浮上型磁気ヘッド装置は、光磁気ディ
スクの径方向に移動可能なヘッドアームに、板バネとし
て働くサスペンションを有する支持部材を取り付けてな
るものであり、前記支持部材には、磁気コアと、駆動コ
イルを巻装したコイルボビンと、光磁気ディスクに対す
る浮上部材であるスライダとを一体化した磁気ヘッド部
が取り付けられ、さらに、前記コイルボビンには、フレ
キシブルプリント基板が接続される。したがって、この
フレキシブルプリント基板を介して、浮上型磁気ヘッド
装置の外部から情報信号が電気信号として駆動コイルに
供給される。
スクの径方向に移動可能なヘッドアームに、板バネとし
て働くサスペンションを有する支持部材を取り付けてな
るものであり、前記支持部材には、磁気コアと、駆動コ
イルを巻装したコイルボビンと、光磁気ディスクに対す
る浮上部材であるスライダとを一体化した磁気ヘッド部
が取り付けられ、さらに、前記コイルボビンには、フレ
キシブルプリント基板が接続される。したがって、この
フレキシブルプリント基板を介して、浮上型磁気ヘッド
装置の外部から情報信号が電気信号として駆動コイルに
供給される。
【００２５】なお、磁気コアとコイルボビンとスライダ
との一体化は以下のようになされる。スライダは、磁気
コアを収容する枠状のホルダー部が設けられて構成され
ている。ここで、ホルダー部の底面は、光磁気ディスク
表面に対向して微小間隔（いわゆるフライングハイト）
を有して浮上走行するように構成されている。上記の如
きスライダのホルダー部に、コイルボビンを組み込んだ
磁気コアを、光磁気ディスクに磁界を印加するための磁
極部が媒体対向面（ホルダー部の底面）に臨むように組
み込み固定する。
との一体化は以下のようになされる。スライダは、磁気
コアを収容する枠状のホルダー部が設けられて構成され
ている。ここで、ホルダー部の底面は、光磁気ディスク
表面に対向して微小間隔（いわゆるフライングハイト）
を有して浮上走行するように構成されている。上記の如
きスライダのホルダー部に、コイルボビンを組み込んだ
磁気コアを、光磁気ディスクに磁界を印加するための磁
極部が媒体対向面（ホルダー部の底面）に臨むように組
み込み固定する。
【００２６】上記光磁気ディスクは、図１に示すよう
に、透明基盤１上に記録層２が成膜領域Ａにスパッタ成
膜され、この成膜領域Ａ上に再生時に用いるための反射
膜３が成膜領域Ｂに成膜され、更にこの成膜領域Ｂ上に
ＵＶレジン等の紫外線硬化型の塗料がスピンコート法等
により塗布されて保護膜４が成膜領域Ｃに成膜され構成
されている。
に、透明基盤１上に記録層２が成膜領域Ａにスパッタ成
膜され、この成膜領域Ａ上に再生時に用いるための反射
膜３が成膜領域Ｂに成膜され、更にこの成膜領域Ｂ上に
ＵＶレジン等の紫外線硬化型の塗料がスピンコート法等
により塗布されて保護膜４が成膜領域Ｃに成膜され構成
されている。
【００２７】そして特に、上記光磁気ディスクにおいて
は、保護膜４の成膜領域Ｃが記録層２の成膜領域Ａ内に
おける情報記録領域ａよりスライダ５のディスク径方向
の幅ｔ以上に矢印Ｍで示すディスク内周側に広く形成さ
れている。すなわち、上記光磁気ディスクにおいては、
保護膜４の成膜領域Ｃの内周端４ａが情報記録領域ａの
内周端２ａよりスライダ２のディスク径方向の幅Ｅ以上
にディスク内周側に形成されている。なお、スライダ５
の浮上時において、当該スライダ５の表面の所定箇所に
設けられた磁極部５ａが情報記録領域ａ内を移動して情
報記録領域ａの所定箇所に記録を行う。またこの場合、
スライダ５の浮上領域Ｅは反射膜３の成膜領域Ｂと一致
することになる。
は、保護膜４の成膜領域Ｃが記録層２の成膜領域Ａ内に
おける情報記録領域ａよりスライダ５のディスク径方向
の幅ｔ以上に矢印Ｍで示すディスク内周側に広く形成さ
れている。すなわち、上記光磁気ディスクにおいては、
保護膜４の成膜領域Ｃの内周端４ａが情報記録領域ａの
内周端２ａよりスライダ２のディスク径方向の幅Ｅ以上
にディスク内周側に形成されている。なお、スライダ５
の浮上時において、当該スライダ５の表面の所定箇所に
設けられた磁極部５ａが情報記録領域ａ内を移動して情
報記録領域ａの所定箇所に記録を行う。またこの場合、
スライダ５の浮上領域Ｅは反射膜３の成膜領域Ｂと一致
することになる。
【００２８】このとき、情報記録領域ａの内周端２ａと
保護膜４の成膜領域Ｃの内周端２ａとの間にローディン
グ時にスライダ２が当該光磁気ディスク表面に接触する
箇所であるランディング領域Ｄが形成されることにな
る。ここでは当該ランディング領域Ｄは内周端２ａと反
射膜３の成膜領域Ｂの内周端３ａとの間の領域とされて
いる。したがってこの場合、光磁気ディスクのローディ
ング時には、このランディング領域Ｄ内にスライダ５が
ランディングすることになる。
保護膜４の成膜領域Ｃの内周端２ａとの間にローディン
グ時にスライダ２が当該光磁気ディスク表面に接触する
箇所であるランディング領域Ｄが形成されることにな
る。ここでは当該ランディング領域Ｄは内周端２ａと反
射膜３の成膜領域Ｂの内周端３ａとの間の領域とされて
いる。したがってこの場合、光磁気ディスクのローディ
ング時には、このランディング領域Ｄ内にスライダ５が
ランディングすることになる。
【００２９】ここで、若干の記録容量の犠牲は生じる
が、保護膜４の成膜領域Ｃを記録層２の成膜領域Ａ内に
おける情報記録領域ａより上記スライダ５のディスク径
方向の幅以上に矢印Ｎで示すディスク外周側に広く形成
し、スライダ５のランディング領域を光磁気ディスク表
面のディスク外周側の所定箇所に設けることも考えられ
る。
が、保護膜４の成膜領域Ｃを記録層２の成膜領域Ａ内に
おける情報記録領域ａより上記スライダ５のディスク径
方向の幅以上に矢印Ｎで示すディスク外周側に広く形成
し、スライダ５のランディング領域を光磁気ディスク表
面のディスク外周側の所定箇所に設けることも考えられ
る。
【００３０】さらに、上記光磁気ディスクにおいては、
反射膜３の成膜領域Ｂの内周端３ａがランディング領域
Ｄの内周端ｄと保護膜４の成膜領域Ｃの内周端４ａとの
間に形成されている。すなわちこの場合、ディスク内周
側において、ランディング領域Ｄより広く且つ保護膜４
の成膜領域Ｃより狭い領域に亘って上記反射膜３が成膜
されていることになる。ここで、図２に示すように、反
射膜３の外周端３ｂにおける記録層２の被覆幅ｓがスラ
イダ５の表面の磁極部５ａからスライダ５のディスク外
周側の端面５ｂまでの距離ｔ１以上となるように形成さ
れている。
反射膜３の成膜領域Ｂの内周端３ａがランディング領域
Ｄの内周端ｄと保護膜４の成膜領域Ｃの内周端４ａとの
間に形成されている。すなわちこの場合、ディスク内周
側において、ランディング領域Ｄより広く且つ保護膜４
の成膜領域Ｃより狭い領域に亘って上記反射膜３が成膜
されていることになる。ここで、図２に示すように、反
射膜３の外周端３ｂにおける記録層２の被覆幅ｓがスラ
イダ５の表面の磁極部５ａからスライダ５のディスク外
周側の端面５ｂまでの距離ｔ１以上となるように形成さ
れている。
【００３１】このように、本実施例の光磁気ディスクに
おいては、保護膜４の成膜領域Ｃが上記記録層２の成膜
領域内Ａにおける情報記録領域ａより上記スライダ５の
ディスク径方向の幅以上にディスク内周側に広く形成さ
れている。この広く形成された部分、すなわち、情報記
録領域ａの内周端２ａと保護膜４の成膜領域Ｃの内周端
４ａとの間の箇所にスライダ５のランディング領域Ｄを
設ける場合、当該光磁気ディスクのローディング時にお
いて保護膜４上の下層に情報記録領域あ’の無い部分に
ランディングすることになる。したがって、ランディン
グの際にスライダ５によって万一保護膜４に若干の損傷
が生じたとしても、記録層２の情報記録領域ａには影響
がなく、情報破壊が抑止される。
おいては、保護膜４の成膜領域Ｃが上記記録層２の成膜
領域内Ａにおける情報記録領域ａより上記スライダ５の
ディスク径方向の幅以上にディスク内周側に広く形成さ
れている。この広く形成された部分、すなわち、情報記
録領域ａの内周端２ａと保護膜４の成膜領域Ｃの内周端
４ａとの間の箇所にスライダ５のランディング領域Ｄを
設ける場合、当該光磁気ディスクのローディング時にお
いて保護膜４上の下層に情報記録領域あ’の無い部分に
ランディングすることになる。したがって、ランディン
グの際にスライダ５によって万一保護膜４に若干の損傷
が生じたとしても、記録層２の情報記録領域ａには影響
がなく、情報破壊が抑止される。
【００３２】ところで、上記光磁気ディスクの製造工程
において、上記保護膜４の表面状態を検査する必要があ
り、この場合、以下に示す検査装置を用いる。この検査
装置１１は、図３に示すように、レーザ光源１２と検出
手段１３とから構成されている。検査時においては、レ
ーザ光源１２から保護膜４の成膜領域Ｄ上の所定検査点
Ｐに入射光Ｌ１を照射し、当該検査点にて反射した反射
光Ｌ２を検出手段１３にて検出する。この検出された反
射光Ｌ２の強度を測定することにより、反射膜３の成膜
領域Ｂ上の各検出点Ｐの表面状態を評価する。
において、上記保護膜４の表面状態を検査する必要があ
り、この場合、以下に示す検査装置を用いる。この検査
装置１１は、図３に示すように、レーザ光源１２と検出
手段１３とから構成されている。検査時においては、レ
ーザ光源１２から保護膜４の成膜領域Ｄ上の所定検査点
Ｐに入射光Ｌ１を照射し、当該検査点にて反射した反射
光Ｌ２を検出手段１３にて検出する。この検出された反
射光Ｌ２の強度を測定することにより、反射膜３の成膜
領域Ｂ上の各検出点Ｐの表面状態を評価する。
【００３３】このとき、保護膜４の表面に凹凸が存在し
ていると、この箇所を検査点Ｐが走査する際に反射光Ｌ
２が散乱されて測定強度はその分弱くなる。この性質を
利用して上記表面状態を判定する。かかる表面状態の評
価としては、例えば、いくつかの光ディスクのサンプル
に対して、上記保護膜の表面に存在する突起部の高さ
と、いわゆる最大うねりＷCM，ＷEM及び中心線うねりＷ
CA，ＷEAからなる表面うねり（ＪＩＳ Ｂ ０６１０で
は、機械表面からランダムに抜き取った各部分における
ＷCM，ＷEM，ＷCA，及びＷEAのそれぞれの算術平均値）
とを触針法により測定する。そして、同一のサンプルに
対して上記の反射光強度測定を行って両測定値の相関を
とる。この相関に基づいて、各光ディスクの反射光強度
測定を行うことにより上記突起部の高さ及び最大うねり
ＷCM，ＷEM及び中心線うねりＷCA，ＷEAを判定する。
ていると、この箇所を検査点Ｐが走査する際に反射光Ｌ
２が散乱されて測定強度はその分弱くなる。この性質を
利用して上記表面状態を判定する。かかる表面状態の評
価としては、例えば、いくつかの光ディスクのサンプル
に対して、上記保護膜の表面に存在する突起部の高さ
と、いわゆる最大うねりＷCM，ＷEM及び中心線うねりＷ
CA，ＷEAからなる表面うねり（ＪＩＳ Ｂ ０６１０で
は、機械表面からランダムに抜き取った各部分における
ＷCM，ＷEM，ＷCA，及びＷEAのそれぞれの算術平均値）
とを触針法により測定する。そして、同一のサンプルに
対して上記の反射光強度測定を行って両測定値の相関を
とる。この相関に基づいて、各光ディスクの反射光強度
測定を行うことにより上記突起部の高さ及び最大うねり
ＷCM，ＷEM及び中心線うねりＷCA，ＷEAを判定する。
【００３４】このように、上記検査方法においては、上
記検査点Ｐは保護膜４の成膜領域Ｄの略々全域に亘って
走査することになるが、上記反射膜３がスライダ５のラ
ンディング領域Ｄ下まで成膜されているために、上記ス
ライダ５の浮上領域Ｅの略々全域に亘って同一条件にて
測定を行うことができ、各検査点Ｐからの反射光強度は
保護膜４の表面状態のみに依存することになる。
記検査点Ｐは保護膜４の成膜領域Ｄの略々全域に亘って
走査することになるが、上記反射膜３がスライダ５のラ
ンディング領域Ｄ下まで成膜されているために、上記ス
ライダ５の浮上領域Ｅの略々全域に亘って同一条件にて
測定を行うことができ、各検査点Ｐからの反射光強度は
保護膜４の表面状態のみに依存することになる。
【００３５】したがって、検査領域であるスライダ５の
浮上領域Ｅの全域に亘って反射率水準が一定に保たれ、
保護膜４の表面状態の検査を上記の如く簡便な光学的手
法により安定且つ容易に行うことが可能となり、高品質
の光磁気ディスク製品を提供することができる。
浮上領域Ｅの全域に亘って反射率水準が一定に保たれ、
保護膜４の表面状態の検査を上記の如く簡便な光学的手
法により安定且つ容易に行うことが可能となり、高品質
の光磁気ディスク製品を提供することができる。
【００３６】
【発明の効果】本発明に係る光ディスクによれば、フラ
イング方式を用いた光ディスクシステムにおいて、ロー
ディングを繰り返し行っても記録情報に破損が生じるこ
とがなく、製品の信頼性の大幅な向上を図ることが可能
となる。さらに、本発明に係る光ディスクの検査方法に
よれば、保護膜の表面状態を検査する際に生じがちな測
定不良を防止して正確な判定が可能となり、製品の信頼
性の大幅な向上を図ることができる。
イング方式を用いた光ディスクシステムにおいて、ロー
ディングを繰り返し行っても記録情報に破損が生じるこ
とがなく、製品の信頼性の大幅な向上を図ることが可能
となる。さらに、本発明に係る光ディスクの検査方法に
よれば、保護膜の表面状態を検査する際に生じがちな測
定不良を防止して正確な判定が可能となり、製品の信頼
性の大幅な向上を図ることができる。
【図１】本実施例の光磁気ディスクの成膜状態と、当該
光磁気ディスク表面における浮上型磁気ヘッド装置の構
成要素であるスライダの浮上領域及びランディング領域
とを模式的に示す断面図である。
光磁気ディスク表面における浮上型磁気ヘッド装置の構
成要素であるスライダの浮上領域及びランディング領域
とを模式的に示す断面図である。
【図２】上記光磁気ディスクの外周端近傍の様子を拡大
して模式的に示す断面図である。
して模式的に示す断面図である。
【図３】上記光磁気ディスクの保護膜の検査を行う様子
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図４】従来の光磁気ディスクの成膜状態と、当該光磁
気ディスク表面における浮上型磁気ヘッド装置の構成要
素であるスライダの浮上領域及びランディング領域とを
模式的に示す断面図である。
気ディスク表面における浮上型磁気ヘッド装置の構成要
素であるスライダの浮上領域及びランディング領域とを
模式的に示す断面図である。
１ 透明基盤 ２ 記録層 ２ａ 情報記録領域の内周端 ３ 反射膜 ３ａ 反射膜の成膜領域の内周端 ４ 保護膜 ４ａ 保護膜の成膜領域の内周端 Ａ 記録層の成膜領域 ａ 記録層の成膜領域内における情報記録領域 Ｂ 反射膜の成膜領域 Ｃ 保護膜の成膜領域 Ｄ ランディング領域 ｄ ランディング領域の内周端 Ｅ スライダの浮上領域 Ｐ 検査点 ｓ 記録層の被覆幅
Claims (7)
- 【請求項１】 基盤上の所定の各成膜領域に記録層及び
当該記録層を被覆する保護膜が成膜されてなり、ディス
ク面と微小間隔をもって浮上走行するスライダを有する
浮上型磁気ヘッド装置を用いる光ディスクにおいて、 上記保護膜の成膜領域が上記記録層の成膜領域内におけ
る情報記録領域より上記スライダのディスク径方向の幅
以上にディスク内周側に広く形成されてなることを特徴
とする光ディスク。 - 【請求項２】 情報記録領域の内周端と保護膜の成膜領
域の内周端との間にスライダのランディング領域が形成
されてなることを特徴とする請求項１記載の光ディス
ク。 - 【請求項３】 保護膜が紫外線硬化型の塗料よりなるこ
とを特徴とする請求項１記載の光ディスク。 - 【請求項４】 記録層と保護膜との間に反射膜が成膜さ
れてなり、当該反射膜の成膜領域の内周端がランディン
グ領域の内周端と保護膜の成膜領域の内周端との間に形
成されてなることを特徴とする請求項２記載の光ディス
ク。 - 【請求項５】 反射膜の外周端における記録層の被覆幅
がスライダ表面に設けられた磁界を印加するための磁極
部から上記スライダのディスク外周側の端面までの距離
以上であることを特徴とする請求項４記載の光ディス
ク。 - 【請求項６】 光磁気ディスクであることを特徴とする
請求項１記載の光ディスク。 - 【請求項７】 請求項４記載の光ディスク表面に成膜さ
れた反射膜の成膜領域に対して、当該成膜領域上の検査
点に入射光を照射し、その反射光を測定して保護膜の表
面状態を評価することを特徴とする光ディスクの検査方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6297418A JPH08161784A (ja) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 光ディスク及びその検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6297418A JPH08161784A (ja) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 光ディスク及びその検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08161784A true JPH08161784A (ja) | 1996-06-21 |
Family
ID=17846257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6297418A Pending JPH08161784A (ja) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 光ディスク及びその検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08161784A (ja) |
-
1994
- 1994-11-30 JP JP6297418A patent/JPH08161784A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030408 |