JPH08162402A - 照明光学装置 - Google Patents

照明光学装置

Info

Publication number
JPH08162402A
JPH08162402A JP6323928A JP32392894A JPH08162402A JP H08162402 A JPH08162402 A JP H08162402A JP 6323928 A JP6323928 A JP 6323928A JP 32392894 A JP32392894 A JP 32392894A JP H08162402 A JPH08162402 A JP H08162402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light source
illumination
optical
energy distribution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6323928A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Komatsuda
秀基 小松田
Tetsuo Kikuchi
哲男 菊池
Hideo Hirose
秀男 広瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP6323928A priority Critical patent/JPH08162402A/ja
Publication of JPH08162402A publication Critical patent/JPH08162402A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 たとえばランプの輝点移動の影響を受けて光
束のエネルギ分布が変化しても所望の照度均一性を維持
することのできる照明光学装置を提供すること。 【構成】 本発明においては、物体上を均一に照明する
ための照明光学装置において、照明光を供給する光源手
段と、前記光源手段からの照明光を集光して空間的に離
れた位置に光源像を形成する像形成手段と、前記光源像
からの照明光を集光するコレクターレンズと、前記コレ
クターレンズからの光束に基づいて複数の光源像を形成
するオプティカルインテグレータと、前記オプティカル
インテグレータにより形成された複数の光源像からの光
束を集光して前記物体上を重畳的に照明するコンデンサ
ーレンズとを備え、前記オプティカルインテグレータの
前記光源手段側の光路中には、光束のエネルギ分布を光
拡散作用により均一化するための光拡散手段が設けられ
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は照明光学装置に関し、例
えば半導体素子または液晶表示素子等を製造するための
露光装置において転写用のパターンが形成されたマスク
やレチクル等を均一な照度で照明するための照明光学装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】高集積半導体素子等の製造用露光装置に
使用されるこの種の照明光学装置では、被照明物体面上
における優れた照度均一性が要求される。このため、従
来のこの種の照明光学装置では、フライアイレンズのよ
うなオプティカルインテグレータを介して重畳的に照明
する装置が採用されている。すなわち、フライアイレン
ズに入射する光束をフライアイレンズを構成する複数の
レンズエレメントにより二次元的に分割し、分割された
これらの光束を被照明物体面において重ねる。こうし
て、被照明物体面上での照度分布の均一性を数パーセン
ト以内の変動に抑えることが可能である。
【0003】最近、パターンの微細化に伴い、マスク
(以下、レチクルを含む)に対する照度の不均一性に起
因する微細パターンの線幅のばらつきが顕在化してお
り、より高い照度均一性が要求されている。また、光源
ランプの使用時間の経過に伴う照度均一性の変動が指摘
されている。そして、この照度均一性の変動の原因とし
て、ランプの高輝度化に伴う輝点の移動が考えられてい
る。
【0004】露光装置の高スループット化の要求によ
り、被照明物体面において求められる照度は年々増大し
続けている。しかしながら、Straubelの定理に
より、被露光面(ウエハ等)に達する光束の開き具合す
なわち立体角と被露光面の面積との積が、光源の面積と
光源からの光束の立体角との積よりも小さい場合、光源
からの光束を介在する光学系においてすべて取り込むこ
とができないことが知られている。
【0005】このため、露光装置において被露光面の照
度を上げるには、ランプの輝点のサイズを大きくするこ
となく且つ光源ランプからの光線の広がり角を広げるこ
となく、ランプの輝点から放出される時間当たりのエネ
ルギー量を増大させなければならない。換言すれば、被
露光面の照度を上げるために、ランプの高輝度化が要求
される。
【0006】この種の露光装置の光源には、超高圧水銀
ランプが多く使用されている。ところで、超高圧水銀ラ
ンプでは、輝点からの光線の広がり角がランプ形状に基
づいてほぼ規定されている。したがって、超高圧水銀ラ
ンプにおいて高輝度化を図るには、輝点の大きさを変え
ることなくランプへの入力電力を増大させる必要があ
る。ただし、投影光学系の色収差補正が可能な露光波長
の輝線幅を保ったまま入力電力を上げなければならな
い。しかしながら、超高圧水銀ランプの極間の距離当た
りの電位差を大きくすると、露光波長の輝線幅が広がっ
てしまう。
【0007】このため、例えば単に電流量を増加させる
方法が考えられる。しかしながら、この方法によると、
電極が損傷を受け易くなり、ランプの使用時間の経過に
伴う輝点移動が大きくなる。また、極間の距離を広げる
ことにより極間の距離当たりの電位差を大きくすること
なく極間の電位差を大きくし、且つ陰極の先端の面積を
小さくすることにより電流密度を高くして極間の距離を
広げることに伴う輝点の拡大を制御する方法もある。し
かしながら、この方法では、陰極のジュール熱発生によ
るダメージが大きくなる。その結果、電極が摩耗し易
く、ランプの使用時間の経過に伴う輝点移動が大きくな
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように、上述の従
来の照明光学装置では、光源ランプの使用時間の経過に
伴って輝点が大きく移動するので、フライアイレンズに
対する光線の入射経路が変化し、フライアイレンズに入
射する光束の強度分布が変わってしまう。その結果、ラ
ンプ寿命内において所望の照度均一性を維持することが
できないという不都合があった。
【0009】なお、ランプの輝点移動の影響を軽減する
対策として、フライアイレンズを構成するレンズエレメ
ントの数を数倍に増やすことによって、フライアイレン
ズの積分効果を上げる方法も考えられる。しかしなが
ら、各レンズエレメントが小粒化(微小化)して製造が
困難になるばかりでなく、エレメント数が増えることに
より製造コストが増大してしまう。
【0010】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、たとえばランプの輝点移動の影響を受けて光
束のエネルギ分布が変化しても所望の照度均一性を維持
することのできる照明光学装置を提供することを目的と
する。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、物体上を均一に照明するための
照明光学装置において、照明光を供給する光源手段と、
前記光源手段からの照明光を集光して空間的に離れた位
置に光源像を形成する像形成手段と、前記光源像からの
照明光を集光するコレクターレンズと、前記コレクター
レンズからの光束に基づいて複数の光源像を形成するオ
プティカルインテグレータと、前記オプティカルインテ
グレータにより形成された複数の光源像からの光束を集
光して前記物体上を重畳的に照明するコンデンサーレン
ズとを備え、前記オプティカルインテグレータの前記光
源手段側の光路中には、光束のエネルギ分布を光拡散作
用により均一化するための光拡散手段が設けられている
ことを特徴とする照明光学装置を提供する。
【0012】本発明の好ましい態様によれば、前記光拡
散手段は、前記オプティカルインテグレータの前記光源
手段側に隣接して位置決めされている。また、前記物体
上における照明光の照度分布に応じて、前記オプティカ
ルインテグレータの光軸に対して前記光拡散手段を傾斜
させるための傾斜手段を備えているのが好ましい。
【0013】
【作用】フライアイレンズを使用した照明光学装置にお
いては、光源からの光束をフライアイレンズにより二次
元的に矩形状に分割する。そして、矩形状に分割された
それぞれの光束をコンデンサーレンズにより被照明物体
面上に重ねることによって、被照明物体面を効率良く均
一に照明する。図2は、フライアイレンズの作用および
光束のエネルギ分布が変化したときの照度均一性の変動
を説明する図である。なお、図2においてフライアイレ
ンズの作用を明瞭に示すために、フライアイレンズを3
層状に簡素構成している。
【0014】図2に示すように、フライアイレンズに入
射する光束は、一般に中心の強いガウス型のエネルギー
分布を有する。このようなエネルギー分布は、光源から
の光束を集光して光源像を形成するための楕円鏡の特性
に基づいている。図2(a)のようなエネルギ分布を有
する光束がフライアイレンズ6に入射すると、各レンズ
エレメント6a〜6cの射出端にそれぞれ光源像が形成
される。各光源像からの光は、コンデンサーレンズ9を
介して被照明物体面10上においてそれぞれ重なる。
【0015】すなわち、レンズエレメント6a〜6cの
光源像からの光は、被照明物体面10上においてそれぞ
れ照度分布A〜Cを呈する。したがって、全体として、
被照明物体面10上における照度分布Dはほぼ均一にな
る。換言すれば、図2(a)に示すようなエネルギ分布
を有する光束に対して、レンズエレメント6a〜6cを
介した被照明物体面10上における照度分布がほぼ均一
になるように、他の光学部品が調整されている。
【0016】ところが、ランプの使用時間の経過に伴っ
て輝点移動が発生し、図2(b)に示すように、フライ
アイレンズ6に入射する光束のエネルギー分布が変化す
ると、レンズエレメント6a〜6cの光源像からの光に
よる照度分布A’〜C’もそれぞれ変化する。その結
果、全体として、被照明物体面10上における照度分布
D’は均一性を維持することができなくなる。
【0017】ここで、フライアイレンズを構成する各レ
ンズエレメントが無限小であれば、すなわち無限数のレ
ンズエレメントによりフライアイレンズを構成していれ
ば、どのようなエネルギ分布の光束が入射しようと、す
なわちどのようにエネルギ分布が変化しても、被照明物
体面において完全な照度均一性が得られ且つ維持される
はずである。
【0018】しかしながら、製造コスト等の関係から、
現実のフライアイレンズは通常100個前後のレンズエ
レメントを縦横に配列して構成されている。このため、
フライアイレンズに入射する光束のエネルギー分布が変
化すると、被照明物体面の照度分布が変化してしまう。
すなわち、ランプの輝点移動の影響を受けて照度均一性
を維持することができなくなってしまう。このため、本
発明では、たとえば光源の輝点移動に起因して光源から
の光束のエネルギ分布が大きく変化しても、フライアイ
レンズに入射する光束のエネルギー分布が実質的に変化
しないような構成を採用している。
【0019】図3は、本発明の動作原理を説明する図で
ある。図3では、フライアイレンズの光源側に光拡散板
11が設けられている点だけが図2と構成的に相違して
いる。本発明では、光拡散板11によって入射光線の方
向を微小面積ごとに無作為に折り曲げることによって、
フライアイレンズ6に入射する光束のエネルギー分布を
ある程度均一化する。なお、光拡散板11は、表面散乱
タイプでも内部拡散タイプでもよい。ただし、光量の損
失を防ぐために、光拡散板11から放射される光線の角
度がフライアイレンズの開口数以下であるのが好まし
い。
【0020】このように、本発明では、光拡散板11の
作用により中心の強いエネルギ分布を有する光源からの
光束が、ある程度均一なエネルギ分布を有する光束に変
換される。すなわち、図3(a)に示すように、中心の
強いエネルギー分布12を有する光束が光拡散板11を
介してある程度均一なエネルギー分布14を有する光束
に変換される。ある程度均一なエネルギー分布14を有
する光束は、フライアイレンズ6を介して被照明物体面
10をほぼ均一な照度で照明する。
【0021】そして、ランプの使用時間の経過に伴って
輝点移動が発生し、光拡散板11に入射する光束のエネ
ルギー分布が図3(b)の参照符号13で示すように変
化しても、フライアイレンズ6に入射する光束のエネル
ギー分布15は図3(a)のエネルギ分布14と同様に
ある程度均一である。したがって、被照明物体面10上
における照度分布は均一性をほぼ維持することが可能に
なる。
【0022】すなわち、本発明では、光源の輝点移動に
起因して光束のエネルギ分布が大きく変化しても、光拡
散作用によりフライアイレンズに入射する光束のエネル
ギー分布はある程度均一で変動が少ない。したがって、
光源の輝点移動の影響を実質的に受けることなく、照度
分布の均一性を維持することができる。
【0023】また、光学部品の偏心等に起因して、被照
明物体面10の照度分布に傾斜ムラがあるような場合、
光拡散板11を光軸に対して適宜傾斜させて傾斜ムラを
補正することが可能である。図4は、照度分布の傾斜ム
ラを補正する動作原理を説明する図である。図4に示す
ように、光源からの光束が光軸に関して対称なエネルギ
分布12を有する場合でも、光拡散板11を図中時計回
りに回転させて光軸に対して適宜傾斜させることによ
り、図示のようにレンズエレメント6aに入射する光束
のエネルギが大きくレンズエレメント6cに入射する光
束のエネルギが少ないような光軸に関して非対称なエネ
ルギ分布16を得ることができる。
【0024】このように、非対称なエネルギ分布16を
有する光束をフライアイレンズ6に入射させることによ
り、被照明物体面10においても光軸に関して非対称な
照度分布D''を得ることができる。換言すれば、光拡散
板11を光軸に対して適宜傾斜させて傾斜ムラを補正す
ることが可能となる。なお、光源とフライアイレンズと
の間に平行平面板を付設し、この平行平面板を、あるい
はこの平行平面板および光拡散板を光軸に対して適宜傾
斜させて傾斜ムラを補正することも可能である。
【0025】
【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明
する。図1は、本発明の実施例にかかる照明光学装置の
構成を模式的に説明する図である。図1の照明光学装置
は、たとえば水銀ランプのような光源1を備えている。
光源1は、たとえばg線、h線、i線等の輝線を有する
光束を出力する。なお、光源1の輝点21は、後述する
楕円鏡2の第1焦点位置に位置決めされている。
【0026】光源1より射出された光束は楕円鏡2によ
りミラー3を介して集光され、楕円鏡2の第2焦点位置
に光源像22を形成する。光源像22から発散する光束
は、コレクターレンズ4を介した後、バンドパスフィル
タ5に入射する。バンドパスフィルタ5では、入射光束
からたとえば露光光として水銀の輝線436nm(g
線)、365nm(i線)等を選択する。なお、バンド
パスフィルタ5を通過した光束は、楕円鏡2の特性によ
り中心の強いエネルギ分布を有する。
【0027】バンドパスフィルタ5で選択された特定波
長の光束は、光散乱板11を介してある程度均一なエネ
ルギ分布を有する光束に変換される。こうして、エネル
ギ分布がある程度均一に変換された光束は、多数のレン
ズエレメントを縦横に配列することによって構成された
フライアイレンズ6に入射する。そして、フライアイレ
ンズ6に入射した光束は集光され、その射出側面には光
源像22の多数の二次光源像が形成される。
【0028】フライアイレンズ6の射出側面に形成され
た複数の二次光源像からの光束は、その直後に配置され
た開口絞り7により整形される。整形された複数の光源
像からの光束は、ミラー8で反射されコンデンサーレン
ズ9で集光された後、たとえばマスクのような被照明物
体面10を重畳的に均一照明する。なお、光散乱板11
から放射される光線の角度がフライアイレンズ6の開口
数以下であれば、光散乱板11以降の光学系に全ての光
束を導くことができる。このため、本実施例の構成によ
り光伝達に関する効率が低下することはない。
【0029】なお、本実施例では、オプティカルインテ
グレータとしてフライアイレンズを用いた例を示してい
る。しかしながら、たとえば本出願人名義の特開平2−
48627号に開示の内面反射型オプティカルインテグ
レータをフライアイレンズに代えて使用することもでき
る。
【0030】
【効果】以上説明したように、本発明の照明光学装置で
は、たとえば光拡散板によってエネルギ分布をある程度
均一にした光束をフライアイレンズのようなオプティカ
ルインテグレータに入射するので、たとえば輝点移動等
に起因して光源からの光束のエネルギ分布が大きく変化
しても、被照明物体面の照度分布の均一性をほぼ維持す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例にかかる照明光学装置の構成を
模式的に説明する図である。
【図2】フライアイレンズの作用および光束のエネルギ
分布が変化したときの照度均一性の変動を説明する図で
ある。
【図3】本発明の動作原理を説明する図である。
【図4】本発明における照度分布の傾斜ムラを補正する
動作原理を説明する図である。
【符号の説明】
1 光源 2 楕円鏡 3、8 ミラー 4 コレクターレンズ 5 バンドパスフィルタ 6 フライアイレンズ 7 開口絞り 9 コンデンサーレンズ 10 被照明物体面 11 光拡散板

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 物体上を均一に照明するための照明光学
    装置において、 照明光を供給する光源手段と、 前記光源手段からの照明光を集光して空間的に離れた位
    置に光源像を形成する像形成手段と、 前記光源像からの照明光を集光するコレクターレンズ
    と、 前記コレクターレンズからの光束に基づいて複数の光源
    像を形成するオプティカルインテグレータと、 前記オプティカルインテグレータにより形成された複数
    の光源像からの光束を集光して前記物体上を重畳的に照
    明するコンデンサーレンズとを備え、 前記オプティカルインテグレータの前記光源手段側の光
    路中には、光束のエネルギ分布を光拡散作用により均一
    化するための光拡散手段が設けられていることを特徴と
    する照明光学装置。
  2. 【請求項2】 前記光拡散手段は、前記オプティカルイ
    ンテグレータの前記光源手段側に隣接して位置決めされ
    ていることを特徴とする請求項1に記載の照明光学装
    置。
  3. 【請求項3】 前記物体上における照明光の照度分布に
    応じて、前記オプティカルインテグレータの光軸に対し
    て前記光拡散手段を傾斜させるための傾斜手段を備えて
    いることを特徴とする請求項1または2に記載の照明光
    学装置。
JP6323928A 1994-12-01 1994-12-01 照明光学装置 Pending JPH08162402A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6323928A JPH08162402A (ja) 1994-12-01 1994-12-01 照明光学装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6323928A JPH08162402A (ja) 1994-12-01 1994-12-01 照明光学装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08162402A true JPH08162402A (ja) 1996-06-21

Family

ID=18160199

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6323928A Pending JPH08162402A (ja) 1994-12-01 1994-12-01 照明光学装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08162402A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015007044A1 (zh) * 2013-07-17 2015-01-22 京东方科技集团股份有限公司 曝光装置和曝光方法
JP6463542B1 (ja) * 2018-07-25 2019-02-06 株式会社栗原工業 干渉縞の検査装置、干渉縞の検査方法、及び干渉縞を用いた検査方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015007044A1 (zh) * 2013-07-17 2015-01-22 京东方科技集团股份有限公司 曝光装置和曝光方法
JP6463542B1 (ja) * 2018-07-25 2019-02-06 株式会社栗原工業 干渉縞の検査装置、干渉縞の検査方法、及び干渉縞を用いた検査方法
TWI729442B (zh) * 2018-07-25 2021-06-01 日商栗原工業股份有限公司 干涉條紋的檢查裝置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4077619B2 (ja) 照明の設定が変更可能な照明系、該照明系を用いて照明を調整する方法、euv投影露光装置、及び、マイクロエレクトロニクス部品の製造方法
KR101562073B1 (ko) 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
KR101391384B1 (ko) 조명 광학 장치, 노광 장치 및 노광 방법
JPH086175A (ja) 照明システム
JP3576685B2 (ja) 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JPS60218635A (ja) 照明装置
JP2002075824A (ja) 複数の光源を使用する照明装置、照明制御装置及び方法、並びに、露光装置
JP2021047444A (ja) 照明装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法
JPS62115719A (ja) 照明光学系
JP2004055856A (ja) 照明装置、それを用いた露光装置及びデバイス製造方法
JPH08203803A (ja) 露光装置
JPH08162402A (ja) 照明光学装置
JP2001033875A (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JP3879142B2 (ja) 露光装置
JP2914035B2 (ja) 輪帯光束形成方法および照明光学装置
JPH11354424A (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JPS6380243A (ja) 露光装置用照明光学装置
JP3209220B2 (ja) 露光方法及び半導体素子の製造方法
JP3563888B2 (ja) 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JPS61251858A (ja) 照明光学系
JP2000164500A (ja) 露光装置、露光方法および露光装置の製造方法
JP2998691B2 (ja) 半導体露光装置の照明光学系
JPH08203807A (ja) 投影露光装置
JPH09326352A (ja) 照明光学装置
JPH04256944A (ja) 照明装置及び投影露光装置