JPH08162575A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

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JPH08162575A
JPH08162575A JP6303347A JP30334794A JPH08162575A JP H08162575 A JPH08162575 A JP H08162575A JP 6303347 A JP6303347 A JP 6303347A JP 30334794 A JP30334794 A JP 30334794A JP H08162575 A JPH08162575 A JP H08162575A
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JP
Japan
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chip
semiconductor device
semiconductor
wiring board
semiconductor chip
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Application number
JP6303347A
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English (en)
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Osamu Ito
修 伊東
Masakatsu Goto
正克 後藤
Tsukio Funaki
月夫 船木
Takayuki Uda
隆之 宇田
Toshihiko Sato
俊彦 佐藤
Tetsuya Hayashida
哲哉 林田
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Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/10Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition
    • H10W74/15Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition on active surfaces of flip-chip devices, e.g. underfills
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • HELECTRICITY
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Abstract

(57)【要約】 【目的】オンパック実装で、半導体チップをフェース・
アップで信号の入出力端子が上側になるように多層配線
基板に固着させ、当該チップのパッド電極部と多層配線
基板上の配線とをワイヤーボンディングにより電気的に
接続し、レジンで封止する構造では、放熱性及び多ピン
化への対応に問題があった。 【構成】チップ1をバンプ電極2を介して実装用基板3
上にフリップチップ実装し、チップ1の裏面に直接放熱
器4を取付け封止5する。 【効果】放熱性が向上し、多ピン化にも対応できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置およびその
製造方法に関し、特に、半導体チップよりの熱を効率良
く放熱することのできる技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置におけるオンパック
(OMPAC)実装技術は、一般に、多層配線基板に半
導体チップをフェース・アップですなわち信号の入出力
端子部(電極部)が上側になるように固着させ、当該チ
ップの電極部と当該多層配線基板上の配線とを金線など
のワイヤーで電気的に接続する所謂ワイヤーボンディン
グで電気的に接続し、樹脂(レジン)により当該チップ
やボンディングワイヤーを被覆してこれらを外的環境か
ら保護するという封止方法が採用されていた。
【0003】尚、当該半導体装置について述べた文献の
例としては、例えば工業調査会発行「電子材料」198
2年9月号P49〜54、同1982年8月号P69〜
74および同1984年8月号P68〜73が挙げられ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、当該実装技
術では、半導体チップからの発熱が、それを被覆してい
るレジンを通して行われることになり、レジンはその熱
抵抗が高いので、高パワーの半導体素子を有するチップ
を実装することは困難であった。
【0005】また、当該実装におけるワイヤーボンディ
ングは、電極数の増加に伴いピッチも狭くなってワイヤ
ー間の短絡などを生じ多ピン化への対応において無理を
生じてきている。
【0006】本発明は、上記問題点を解決することを目
的とする。
【0007】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0009】上記目的を達成するため、本発明では、半
導体チップをそのバンプ電極と称される突起電極を介し
て実装用基板上にフリップチップ実装し、当該チップの
裏面に直接ヒートシンクなどの放熱器を取付けするよう
にしたものである。
【0010】
【作用】上記手段によれば、半導体チップからの発熱
は、直接、ヒートシンクなどの放熱器を通して放熱する
ことができるので、大型で高パワーの半導体素子を有す
るチップをOMPAC実装することができ、また、バン
プ電極による電気的接続をとるので、ワイヤーボンディ
ングにより生じる問題点を解消して多ピン化への対応に
おいても優れたものとすることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。
【0012】図1(A)は、本発明の実施例を示す組立
後の半導体装置の要部構成図、同図(B)および(C)
は、それぞれ同半導体装置の製造工程の断面図、図1
(D)は、本発明の他の実施例を示す半導体装置の要部
構成図である。
【0013】図1(B)に示すように、半導体チップ1
を、そのバンプ電極2を介して、多層配線基板3上にフ
リップチップ実装する。
【0014】当該半導体チップ1は、通常、素子表面上
の信号のI/0(入/出力)端子部に形成されたバンプ
電極2を上側にして製造される。従来例では、当該半導
体チップをフェース・アップで信号のI/0(入/出
力)が上側になるように多層配線基板に固着させ、当該
チップのパッド電極部と当該多層配線基板上の配線とを
ワイヤーボンディングにより電気的に接続していたので
あるが、本発明では、当該半導体チップ1にバンプ電極
2を形成して、当該半導体チップ1を裏返して、当該バ
ンプ電極2側を下側にして、当該バンプ電極2を多層配
線基板上に溶着させ、フリップチップ実装する。
【0015】上記半導体チップ1は、例えばシリコン単
結晶基板から成り、周知の技術によってその内部には多
数の回路素子が形成され、1つの回路機能が与えられて
いる。回路素子の具体例は、例えばMOSトランジスタ
から成り、これらの回路素子によって、例えば論理回路
およびメモリの回路機能が形成されている。
【0016】バンプ電極2は、例えば、PbーSnハン
ダ、Auボール等よりなる。
【0017】多層配線基板3は、プリント配線基板ある
いはセラミック配線基板などにより構成されている。
【0018】上記のように、半導体チップ1をCCB
(Controlled Collapse Bond
ing)接続技術により多層配線基板3とバンプ電極2
を介して電気的に接続後、 図1(C)に示すように、
当該半導体チップ1の裏面に、直接、放熱器4を取付け
する。
【0019】放熱器4は、例えば、図示のような放熱用
ヒレが多数設けられた放熱フイン(ヒートシンク)によ
り構成されている。放熱器4は、例えば、金属、窒化ア
ルミニウム、炭化シリコン等からなる。
【0020】次いで、図1(A)に示すように、当該チ
ップ1と多層配線基板3との間を封止して、当該チップ
1やバンプ電極部2を外的環境から保護する。この実施
例では、これらチップ1と多層配線基板3との間に樹脂
5を充填することにより、バンプ電極2の接続部を被覆
し封止してなる例を示してある。
【0021】当該樹脂による封止は、例えばトランスフ
ァーモールドにより行うことができる。
【0022】こうして得られた半導体装置6は、半導体
チップ1からの発熱は、直接、ヒートシンク4を通して
放熱することができるので、大型で高パワーの半導体素
子を有するチップ1をOMPAC実装することができ、
また、バンプ電極2による電気的接続をとるので、ワイ
ヤーボンディングにより生じる問題点を解消して多ピン
化への対応においても優れたものとすることができる。
【0023】図2(A)〜(C)は、他の封止方法の例
を示してあり、同図(A)は、ヒートシンク4の下部を
多層配線基板3の表面に固着させることができるように
延在させてキャップ状となし、当該キャップ状のヒート
シンク4により当該チップ1と多層配線基板3との間を
封止して、当該チップ1やバンプ電極部2を外的環境か
ら保護するようにしたものである。
【0024】また、同図(B)は、ヒートシンク4の下
部に、封止用リング7を介在させ、当該チップ1と多層
配線基板3との間を封止して、当該チップ1やバンプ電
極部2を外的環境から保護するようにしたものである。
【0025】さらに、同図(C)は、多層配線基板3上
に放熱脚部8を立脚して、当該放熱脚部8の天面と当該
チップ1とを接触させ、当該放熱脚部8の上にヒートシ
ンク4を取付けてなる実施例を示す。
【0026】これら半導体装置6によっても、半導体チ
ップ1からの発熱は、直接、ヒートシンク4などからな
る放熱器を通して放熱することができるので、大型で高
パワーの半導体素子を有するチップ1をOMPAC実装
することができ、また、バンプ電極2による電気的接続
をとるので、ワイヤーボンディングにより生じる問題点
を解消して多ピン化への対応においても優れたものとす
ることができる。
【0027】図1(D)は、本発明の他の実施例を示す
半導体装置の要部構成図で、当該チップ1を複数多層配
線基板3上に上記と同様にして固着させ、同様に当該チ
ップ1やバンプ電極部2を外的環境から保護してある。
【0028】このようなマルチ・チップ・モジュール9
では、より一層発熱があり、したがって、本発明の構造
は、より一層放熱効果を発揮できる。
【0029】図3は、図1(A)に示すような半導体装
置5の多層配線基板3の下部にさらに上記と同様のバン
プ電極部10を形成して、当該バンプ電極部10を下側
にして配線基板11上に実装する方法を示している。
【0030】以上本発明者によってなされた発明を実施
例にもとずき具体的に説明したが、本発明は上記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0031】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0032】本発明によれば、半導体チップからの発熱
は、直接、ヒートシンクなどの放熱器を通して放熱する
ことができるので、大型で高パワーの半導体素子を有す
るチップをOMPAC実装することができ、また、バン
プ電極による電気的接続をとるので、ワイヤーボンディ
ングにより生じる問題点を解消して多ピン化への対応に
おいても優れたものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(A)は、本発明の実施例を示す組立後の
半導体装置の要部構成図、同図(B)および(C)は、
それぞれ同半導体装置の製造工程の断面図、図1(D)
は、本発明の他の実施例を示す半導体装置の要部構成図
である。
【図2】図2(A)〜(C)は、本発明の他の実施例を
示す半導体装置の要部構成図である。
【図3】図3は、図1の半導体装置の実装方法を示す略
断面図である。
【符合の説明】
1・・・半導体チップ 2・・・バンプ電極 3・・・多層配線基板 4・・・放熱器(ヒートシンク) 5・・・封止樹脂 6・・・半導体装置 7・・・封止用リング 8・・・放熱脚部 9・・・マルチ・チップ・モジュール 10・・・バンプ電極部 11・・・配線基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 船木 月夫 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内 (72)発明者 宇田 隆之 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 佐藤 俊彦 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 林田 哲哉 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】実装用基板上に半導体チップを当該チップ
    の突起電極を介して固着し、前記半導体チップの前記突
    起電極による接続側とは反対側の当該チップ表面に直接
    放熱器を取付けし、前記半導体チップと前記実装用基板
    との間を封止してなることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の半導体装置において、半
    導体チップと実装用基板との間に樹脂を充填することに
    より封止してなることを特徴とする、請求項1に記載の
    半導体装置。
  3. 【請求項3】請求項1に記載の半導体装置において、半
    導体チップと実装用基板との間に封止用リングを介在さ
    せることにより封止してなることを特徴とする、請求項
    1に記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】上面に突起電極が形成された半導体チップ
    を裏返して当該チップの突起電極側を下側にして当該チ
    ップを実装用基板上に電気的に接続後、当該チップの前
    記突起電極による接続側とは反対側の当該チップ表面に
    直接放熱器を取付けし、次いで、樹脂を充填することに
    よりまたは封止用リングを介在させることにより当該チ
    ップと前記実装用基板との間を封止してなることを特徴
    とする半導体装置の製造方法。
JP6303347A 1994-12-07 1994-12-07 半導体装置およびその製造方法 Pending JPH08162575A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001078138A1 (en) * 2000-04-07 2001-10-18 Advanced Micro Devices, Inc. Flip chip semiconductor device including a compliant support for supporting a heat sink
FR2868877A1 (fr) * 2004-04-13 2005-10-14 Intexys Sa Composants lasers a comportement thermique ameliore et procede de fabrication
EP2251903A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-17 Thomson Licensing, Inc. Heat sink mounting method
JP2013105878A (ja) * 2011-11-14 2013-05-30 Ibiden Co Ltd 電子部品及びその製造方法
CN109390293A (zh) * 2017-08-03 2019-02-26 日月光半导体制造股份有限公司 半导体封装装置及其制造方法
CN110634753A (zh) * 2019-09-25 2019-12-31 北京比特大陆科技有限公司 芯片焊接散热器的方法和pcb板组件

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001078138A1 (en) * 2000-04-07 2001-10-18 Advanced Micro Devices, Inc. Flip chip semiconductor device including a compliant support for supporting a heat sink
FR2868877A1 (fr) * 2004-04-13 2005-10-14 Intexys Sa Composants lasers a comportement thermique ameliore et procede de fabrication
EP2251903A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-17 Thomson Licensing, Inc. Heat sink mounting method
JP2013105878A (ja) * 2011-11-14 2013-05-30 Ibiden Co Ltd 電子部品及びその製造方法
CN109390293A (zh) * 2017-08-03 2019-02-26 日月光半导体制造股份有限公司 半导体封装装置及其制造方法
CN109390293B (zh) * 2017-08-03 2023-01-24 日月光半导体制造股份有限公司 半导体封装装置及其制造方法
CN110634753A (zh) * 2019-09-25 2019-12-31 北京比特大陆科技有限公司 芯片焊接散热器的方法和pcb板组件

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