JPH08165525A - グラス被膜が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
グラス被膜が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な方向性電磁鋼板の製造方法Info
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- JPH08165525A JPH08165525A JP6309163A JP30916394A JPH08165525A JP H08165525 A JPH08165525 A JP H08165525A JP 6309163 A JP6309163 A JP 6309163A JP 30916394 A JP30916394 A JP 30916394A JP H08165525 A JPH08165525 A JP H08165525A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気特性、被膜特性ともに良好な方向性電磁
鋼板を得る。 【構成】 比表面積が２０ｍ2 ／ｇ以上、Ｓ量が０．０
５〜１．２％のＭｇＯに、Ｈ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選
ばれる塩素化合物を添加して、焼鈍分離剤中のＣｌ量を
０．０１〜０．０６％になるように調整した焼鈍分離剤
を（４〜４８）×１０-4ｇ／ｍ2 塗布する。仕上げ焼鈍
８００℃までの雰囲気ガスのＰ H2 O ／Ｐ H2 は０．２
５以下とすることが望ましい。
鋼板を得る。 【構成】 比表面積が２０ｍ2 ／ｇ以上、Ｓ量が０．０
５〜１．２％のＭｇＯに、Ｈ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選
ばれる塩素化合物を添加して、焼鈍分離剤中のＣｌ量を
０．０１〜０．０６％になるように調整した焼鈍分離剤
を（４〜４８）×１０-4ｇ／ｍ2 塗布する。仕上げ焼鈍
８００℃までの雰囲気ガスのＰ H2 O ／Ｐ H2 は０．２
５以下とすることが望ましい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は方向性電磁鋼板の製造に
際し、最終仕上げ焼鈍工程において、均一で優れた被膜
性能を持つグラス被膜を形成すると共に、優れた磁気特
性を得るための方向性電磁鋼板の製造方法に関する。
際し、最終仕上げ焼鈍工程において、均一で優れた被膜
性能を持つグラス被膜を形成すると共に、優れた磁気特
性を得るための方向性電磁鋼板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、方向性電磁鋼板はＳｉ２．５〜
４．０％を含有する素材スラブを熱延し、焼鈍と１回又
は中間焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終板厚とされ
る。次いで、連続焼鈍炉においてＨ2 或いはＮ2 ＋Ｈ2
雰囲気中でＰ H2 O ／Ｐ H2 を制御して脱炭焼鈍を行
い、脱炭、一次再結晶及びＳｉＯ2 を主成分とする酸化
層形成処理を行う。その後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤をスラリー状としてコーティングロール等により
鋼板に塗布し、乾燥後、コイルに巻取り最終仕上げ焼鈍
を行い、通常は絶縁被膜剤処理とヒートフラットニング
を行って最終製品とされる。
４．０％を含有する素材スラブを熱延し、焼鈍と１回又
は中間焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終板厚とされ
る。次いで、連続焼鈍炉においてＨ2 或いはＮ2 ＋Ｈ2
雰囲気中でＰ H2 O ／Ｐ H2 を制御して脱炭焼鈍を行
い、脱炭、一次再結晶及びＳｉＯ2 を主成分とする酸化
層形成処理を行う。その後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍
分離剤をスラリー状としてコーティングロール等により
鋼板に塗布し、乾燥後、コイルに巻取り最終仕上げ焼鈍
を行い、通常は絶縁被膜剤処理とヒートフラットニング
を行って最終製品とされる。
【０００３】この方向性電磁鋼板は〈００１〉軸を持つ
（１１０）〈００１〉結晶が高温の二次再結晶で優先的
に成長し、鋼中にインヒビターとして分散しているＡｌ
Ｎ，ＭｎＳ等によって、その成長を抑えられている他の
結晶を侵食するために（１１０）〈００１〉結晶が優先
的に成長するものと考えられている。従って、優れた方
向性電磁鋼板を製造するためには、鋼中インヒビターＡ
ｌＮ，ＭｎＳ等の分散状態とこれらの分解までの制御が
重要である。特に、最終仕上げ焼鈍においてインヒビタ
ーは脱炭焼鈍で形成した鋼板表面の酸化膜、焼鈍分離剤
及び最終仕上げ焼鈍での熱サイクルや雰囲気ガス条件に
より影響を受ける。
（１１０）〈００１〉結晶が高温の二次再結晶で優先的
に成長し、鋼中にインヒビターとして分散しているＡｌ
Ｎ，ＭｎＳ等によって、その成長を抑えられている他の
結晶を侵食するために（１１０）〈００１〉結晶が優先
的に成長するものと考えられている。従って、優れた方
向性電磁鋼板を製造するためには、鋼中インヒビターＡ
ｌＮ，ＭｎＳ等の分散状態とこれらの分解までの制御が
重要である。特に、最終仕上げ焼鈍においてインヒビタ
ーは脱炭焼鈍で形成した鋼板表面の酸化膜、焼鈍分離剤
及び最終仕上げ焼鈍での熱サイクルや雰囲気ガス条件に
より影響を受ける。
【０００４】これらの中でとりわけ焼鈍分離剤に用いる
グラス被膜形成剤のＭｇＯの反応性は、グラス被膜形成
を介してのインヒビターの挙動に影響が大きい。これ
は、ＭｇＯの粒子の純度、活性度、粒度等の物性値が最
終焼鈍での昇温過程における脱炭酸化膜の変化やグラス
被膜の形成反応開始温度、成長速度、コイル板間の雰囲
気酸化度等に多大な影響をもたらして、グラス被膜の形
成状態等によって鋼中インヒビターの安定性に影響を与
えるからである。
グラス被膜形成剤のＭｇＯの反応性は、グラス被膜形成
を介してのインヒビターの挙動に影響が大きい。これ
は、ＭｇＯの粒子の純度、活性度、粒度等の物性値が最
終焼鈍での昇温過程における脱炭酸化膜の変化やグラス
被膜の形成反応開始温度、成長速度、コイル板間の雰囲
気酸化度等に多大な影響をもたらして、グラス被膜の形
成状態等によって鋼中インヒビターの安定性に影響を与
えるからである。
【０００５】仕上げ焼鈍におけるグラス被膜形成反応
は、焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍で形成されたＳｉＯ
2 主体の酸化膜と反応して通常グラス被膜と呼ぶフォル
ステライト被膜を形成する（２ＭｇＯ＋ＳｉＯ2 →Ｍｇ
2 ＳｉＯ4 ）。又、この際、鋼中インヒビターとしてＡ
ｌＮを用いる場合にはフォルステライト被膜直下付近に
Ａｌ2 Ｏ3 とＭｇＯ，ＳｉＯ2 等によるスピネル構造の
化合物を形成する。
は、焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍で形成されたＳｉＯ
2 主体の酸化膜と反応して通常グラス被膜と呼ぶフォル
ステライト被膜を形成する（２ＭｇＯ＋ＳｉＯ2 →Ｍｇ
2 ＳｉＯ4 ）。又、この際、鋼中インヒビターとしてＡ
ｌＮを用いる場合にはフォルステライト被膜直下付近に
Ａｌ2 Ｏ3 とＭｇＯ，ＳｉＯ2 等によるスピネル構造の
化合物を形成する。
【０００６】このグラス被膜形成においては、ＭｇＯと
ＳｉＯ2 の反応は純水系においては１６００℃近い高温
でなければ反応が生じず、酸化膜の性状（成分、形成状
態）、仕上げ焼鈍条件の制御（ヒートサイクル、雰囲気
ガス）と共に焼鈍分離剤の性状として不純物の調整、粒
径、粒子形状、表面状態、活性度等を制御して仕上げ焼
鈍工程において如何に低温から均一なグラス被膜形成を
行わせるかが優れたグラス被膜と良好な磁気特性を得る
ための重要なカギとなる。このように方向性電磁鋼板の
商品価値を決定する上で重要なグラス被膜と磁気特性に
対して焼鈍分離剤ＭｇＯの影響が大きいことから、Ｍｇ
Ｏ品質の改善は方向性電磁鋼板製造技術上重要な課題と
なってきている。
ＳｉＯ2 の反応は純水系においては１６００℃近い高温
でなければ反応が生じず、酸化膜の性状（成分、形成状
態）、仕上げ焼鈍条件の制御（ヒートサイクル、雰囲気
ガス）と共に焼鈍分離剤の性状として不純物の調整、粒
径、粒子形状、表面状態、活性度等を制御して仕上げ焼
鈍工程において如何に低温から均一なグラス被膜形成を
行わせるかが優れたグラス被膜と良好な磁気特性を得る
ための重要なカギとなる。このように方向性電磁鋼板の
商品価値を決定する上で重要なグラス被膜と磁気特性に
対して焼鈍分離剤ＭｇＯの影響が大きいことから、Ｍｇ
Ｏ品質の改善は方向性電磁鋼板製造技術上重要な課題と
なってきている。
【０００７】焼鈍分離剤に使用するＭｇＯは、一般的に
はＭｇＣｌ2 或いは海水等を原料として、先ず、Ｃａ
（ＯＨ）2 との反応によりＭｇ（ＯＨ）2 結晶を調整
し、純度等の調整の目的で圧縮洗浄等によって１回又は
洗浄と結晶調整を挟む２回以上の焼成によってＭｇＯと
され、必要に応じて粉砕、分級等による粒度調整を行っ
て製品とされる。ＭｇＯの性状の中でグラス被膜形成と
これに関連してインヒビターの安定性ひいては磁気特性
に影響する因子としては、ＭｇＯの純度、粒度、活性
度、鋼板への密着性等が主なものであるが、鋼板に塗布
される際には、水和の進行度合い、粒子の水スラリー中
の分散状態、塗布量等がある。このため、優れたグラス
被膜と磁気特性を有する方向性電磁鋼板を得るために
は、これらの条件を最適にすることが重要である。
はＭｇＣｌ2 或いは海水等を原料として、先ず、Ｃａ
（ＯＨ）2 との反応によりＭｇ（ＯＨ）2 結晶を調整
し、純度等の調整の目的で圧縮洗浄等によって１回又は
洗浄と結晶調整を挟む２回以上の焼成によってＭｇＯと
され、必要に応じて粉砕、分級等による粒度調整を行っ
て製品とされる。ＭｇＯの性状の中でグラス被膜形成と
これに関連してインヒビターの安定性ひいては磁気特性
に影響する因子としては、ＭｇＯの純度、粒度、活性
度、鋼板への密着性等が主なものであるが、鋼板に塗布
される際には、水和の進行度合い、粒子の水スラリー中
の分散状態、塗布量等がある。このため、優れたグラス
被膜と磁気特性を有する方向性電磁鋼板を得るために
は、これらの条件を最適にすることが重要である。
【０００８】前述のように通常、ＭｇＯは必要に応じて
反応促進剤として配合する少量の添加剤と共に水に懸濁
させてスラリー状として鋼板に塗布される。この際、Ｍ
ｇＯの製造条件によっては、例えば、高活性の場合、水
との混合撹拌条件によってはＭｇＯ→Ｍｇ（ＯＨ）2 と
なる水和反応が生じ、コイル内（板間）に水分を持ち込
む結果、板間露点を高め且つコイル長手方向及び幅方向
において雰囲気状態を不均一にする問題がある。このた
め、仕上げ焼鈍昇温過程において不均一で、過剰な追加
酸化を生じさせ、スケール、ガスマーク、ピンホール、
変色等の重度の被膜欠陥を引き起こす。ところが、この
高水和による問題点を解決するための手段としては、一
般的には、高温焼成による方法が採用される。
反応促進剤として配合する少量の添加剤と共に水に懸濁
させてスラリー状として鋼板に塗布される。この際、Ｍ
ｇＯの製造条件によっては、例えば、高活性の場合、水
との混合撹拌条件によってはＭｇＯ→Ｍｇ（ＯＨ）2 と
なる水和反応が生じ、コイル内（板間）に水分を持ち込
む結果、板間露点を高め且つコイル長手方向及び幅方向
において雰囲気状態を不均一にする問題がある。このた
め、仕上げ焼鈍昇温過程において不均一で、過剰な追加
酸化を生じさせ、スケール、ガスマーク、ピンホール、
変色等の重度の被膜欠陥を引き起こす。ところが、この
高水和による問題点を解決するための手段としては、一
般的には、高温焼成による方法が採用される。
【０００９】この方法を開示したものとして、例えば、
特開昭５５−７３８２３号公報がある。このように焼成
温度を上げることで得られた低活性ＭｇＯでは、水和性
の低下は得られるが活性（反応性）や付着性が低下する
欠点がある。又、特開昭６２−１５６２２６号公報には
ＭｇＯ粒子の最表面層を活性化処理する方法が提案され
ている。この方法では、高温焼成したＭｇＯの最表面層
のみを気相中で処理して水和層を形成するものである。
これによりグラス被膜と磁気特性のかなりの向上が見ら
れている。
特開昭５５−７３８２３号公報がある。このように焼成
温度を上げることで得られた低活性ＭｇＯでは、水和性
の低下は得られるが活性（反応性）や付着性が低下する
欠点がある。又、特開昭６２−１５６２２６号公報には
ＭｇＯ粒子の最表面層を活性化処理する方法が提案され
ている。この方法では、高温焼成したＭｇＯの最表面層
のみを気相中で処理して水和層を形成するものである。
これによりグラス被膜と磁気特性のかなりの向上が見ら
れている。
【００１０】更に、焼鈍分離剤中への添加剤によるグラ
ス被膜及び磁性の改善技術として、特公平２−５８２０
号公報にはＳｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物の１種又は
２種以上をＭｇＯ：１００重量部に対して０．０２〜
１．５重量部添加する方法が提案されている。これによ
り、添加剤化合物が鋼板表面の酸化層成分のＳｉＯ2 リ
ッチ化と緻密化をもたらし、仕上げ焼鈍において追加酸
化の抑制と反応促進効果をもたらして優れた鉄損特性と
グラス被膜が得られるものである。又、特開平３−１２
０３７６号公報には前記のような塩化物の添加技術の改
善技術としてＭｇ，Ｎａ，Ｋ及びＣａから選択された金
属塩化物をＭｇＯへ添加すれば硫酸アンチモン、メタ珪
酸ナトリウムの併用なしに磁気特性の改善効果が得られ
ることが示されている。
ス被膜及び磁性の改善技術として、特公平２−５８２０
号公報にはＳｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｒの塩化物の１種又は
２種以上をＭｇＯ：１００重量部に対して０．０２〜
１．５重量部添加する方法が提案されている。これによ
り、添加剤化合物が鋼板表面の酸化層成分のＳｉＯ2 リ
ッチ化と緻密化をもたらし、仕上げ焼鈍において追加酸
化の抑制と反応促進効果をもたらして優れた鉄損特性と
グラス被膜が得られるものである。又、特開平３−１２
０３７６号公報には前記のような塩化物の添加技術の改
善技術としてＭｇ，Ｎａ，Ｋ及びＣａから選択された金
属塩化物をＭｇＯへ添加すれば硫酸アンチモン、メタ珪
酸ナトリウムの併用なしに磁気特性の改善効果が得られ
ることが示されている。
【００１１】このように、これらのＭｇＯ性状を改善す
ることでグラス被膜形成反応が改善され、効果が得られ
ている。しかし、鋼成分、脱炭焼鈍条件や最終仕上げ焼
鈍条件によっては被膜特性や磁気特性が不安定になる場
合があり、未だ十分な技術とはいえず、更なる技術改善
が望まれているところである。
ることでグラス被膜形成反応が改善され、効果が得られ
ている。しかし、鋼成分、脱炭焼鈍条件や最終仕上げ焼
鈍条件によっては被膜特性や磁気特性が不安定になる場
合があり、未だ十分な技術とはいえず、更なる技術改善
が望まれているところである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は低水和で
且つ高反応性の焼鈍分離剤の実現に到達すべく、低水和
ＭｇＯの反応性向上策について膨大な研究と実験を行っ
て検討した。その結果、粒子径が小さくＳ量を所定量含
有したＭｇＯの製造過程及び／又はスラリー調整段階で
塩素化合物により塩素量を所定量に調整した焼鈍分離剤
を塗布するに際し、鋼板表面積当たりの塩素目付け量が
所定量になるように塗布することでグラス被膜の反応性
が良好で、被膜特性と磁気特性の極めて良好な方向性電
磁鋼板が得られることを見いだした。
且つ高反応性の焼鈍分離剤の実現に到達すべく、低水和
ＭｇＯの反応性向上策について膨大な研究と実験を行っ
て検討した。その結果、粒子径が小さくＳ量を所定量含
有したＭｇＯの製造過程及び／又はスラリー調整段階で
塩素化合物により塩素量を所定量に調整した焼鈍分離剤
を塗布するに際し、鋼板表面積当たりの塩素目付け量が
所定量になるように塗布することでグラス被膜の反応性
が良好で、被膜特性と磁気特性の極めて良好な方向性電
磁鋼板が得られることを見いだした。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は焼鈍分離剤で使
用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の
構成を要旨とする。 （１）Ｓｉ２．５〜４．０重量％（以下％と略記）含有
する方向性電磁鋼板素材を公知の方法で処理し、最終板
厚の冷延板とし、脱炭焼鈍してＳｉＯ2 主成分の酸化被
膜を形成し、焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上げ焼鈍を行
った後、絶縁被膜剤を塗布してヒートフラットニングを
行うことからなる、方向性電磁鋼板の製造方法におい
て、前記焼鈍分離剤の塗布工程で、比表面積が２０ｍ2
／ｇ以上、Ｓ量が０．０５〜１．２％のＭｇＯにそのＭ
ｇＯの製造過程及び／又は焼鈍分離剤のスラリー調整段
階でＨ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，
Ｗ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる塩素化合物を添加
して焼鈍分離剤中のＣｌ量を０．０１〜０．０６％にな
るように調整した焼鈍分離剤を鋼板１ｍ2 当たりの塩素
化合物量がＣｌとして（４〜４８）×１０-4ｇ／ｍ2 の
範囲になるように塗布することを特徴とするグラス被膜
が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な方向性電磁鋼板
の製造方法。
用するＭｇＯの従来技術における解決策として、以下の
構成を要旨とする。 （１）Ｓｉ２．５〜４．０重量％（以下％と略記）含有
する方向性電磁鋼板素材を公知の方法で処理し、最終板
厚の冷延板とし、脱炭焼鈍してＳｉＯ2 主成分の酸化被
膜を形成し、焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上げ焼鈍を行
った後、絶縁被膜剤を塗布してヒートフラットニングを
行うことからなる、方向性電磁鋼板の製造方法におい
て、前記焼鈍分離剤の塗布工程で、比表面積が２０ｍ2
／ｇ以上、Ｓ量が０．０５〜１．２％のＭｇＯにそのＭ
ｇＯの製造過程及び／又は焼鈍分離剤のスラリー調整段
階でＨ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，
Ｗ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる塩素化合物を添加
して焼鈍分離剤中のＣｌ量を０．０１〜０．０６％にな
るように調整した焼鈍分離剤を鋼板１ｍ2 当たりの塩素
化合物量がＣｌとして（４〜４８）×１０-4ｇ／ｍ2 の
範囲になるように塗布することを特徴とするグラス被膜
が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な方向性電磁鋼板
の製造方法。
【００１４】（２）（１）記載の方法において、仕上げ
焼鈍における昇温時８００℃までの雰囲気ガスのＰ H2
O ／Ｐ H2 を０．２５以下として焼鈍することを特徴と
するグラス被膜が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な
方向性電磁鋼板の製造方法。これにより、従来技術では
実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上
や、従来の塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発に成功し
た。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下においてグラス被
膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘って良好
な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。
焼鈍における昇温時８００℃までの雰囲気ガスのＰ H2
O ／Ｐ H2 を０．２５以下として焼鈍することを特徴と
するグラス被膜が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な
方向性電磁鋼板の製造方法。これにより、従来技術では
実現できなかったＭｇＯ表面水和層による反応性向上
や、従来の塩化物添加技術を凌ぐ技術の開発に成功し
た。即ち、広範囲の仕上げ焼鈍条件下においてグラス被
膜が均一で、磁気特性がコイル全面、全長に亘って良好
な方向性電磁鋼板を得ることに成功した。
【００１５】本発明の適用にあたっては、出発材として
はＳｉ２．５〜４．０％含む珪素鋼スラブを公知の方法
で熱延し、１回又は焼鈍を挟む２回以上の冷延を行い、
最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍を行って表面にＳｉＯ2
を主成分とする酸化膜を形成したいわゆる脱炭焼鈍板が
用いられる。この鋼板に、前記特定塩素或いは塩素化合
物により塩素含有量を微量に調整したＭｇＯをスラリー
として均一に微細分散した後、連続ラインにおいてコー
ティングロール等で鋼板表面積当たりの塩素量を一定量
になるよう塗布し、１５０〜４００℃（板温度）程度の
温度で乾燥し、コイルに巻取られる。この際、焼鈍分離
剤ＭｇＯには、グラス被膜形成の反応促進補助剤、板間
露点調整剤、インヒビター強化補助剤として、酸化物、
ほう素化合物、硫黄化合物、窒素化合物等が鋼成分や処
理条件に応じて添加配合される。
はＳｉ２．５〜４．０％含む珪素鋼スラブを公知の方法
で熱延し、１回又は焼鈍を挟む２回以上の冷延を行い、
最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍を行って表面にＳｉＯ2
を主成分とする酸化膜を形成したいわゆる脱炭焼鈍板が
用いられる。この鋼板に、前記特定塩素或いは塩素化合
物により塩素含有量を微量に調整したＭｇＯをスラリー
として均一に微細分散した後、連続ラインにおいてコー
ティングロール等で鋼板表面積当たりの塩素量を一定量
になるよう塗布し、１５０〜４００℃（板温度）程度の
温度で乾燥し、コイルに巻取られる。この際、焼鈍分離
剤ＭｇＯには、グラス被膜形成の反応促進補助剤、板間
露点調整剤、インヒビター強化補助剤として、酸化物、
ほう素化合物、硫黄化合物、窒素化合物等が鋼成分や処
理条件に応じて添加配合される。
【００１６】このように処理されたコイルは、最終仕上
げ焼鈍としてバッチ式、或いは連続式炉内において１１
５０〜１２００℃×２０Hrのような高温、長時間処理が
なされ、グラス被膜形成と二次再結晶及び純化が同時に
行われる。方向性電磁鋼板においては、この際のグラス
被膜の形成時期、形成量、形成状態等がインヒビターＡ
ｌＮ，ＭｎＳ等の分解速度に影響を与えたり、グラス被
膜の質、張力或いは純化反応等に影響を及ぼす結果、製
品のグラス被膜特性と磁気特性を左右するものである。
げ焼鈍としてバッチ式、或いは連続式炉内において１１
５０〜１２００℃×２０Hrのような高温、長時間処理が
なされ、グラス被膜形成と二次再結晶及び純化が同時に
行われる。方向性電磁鋼板においては、この際のグラス
被膜の形成時期、形成量、形成状態等がインヒビターＡ
ｌＮ，ＭｎＳ等の分解速度に影響を与えたり、グラス被
膜の質、張力或いは純化反応等に影響を及ぼす結果、製
品のグラス被膜特性と磁気特性を左右するものである。
【００１７】このようにして処理されたグラス被膜形成
後のコイルは、連続ラインにおいて余剰の焼鈍分離剤を
水洗により除去し、軽酸洗の後、絶縁被膜剤を塗布し、
その焼き付けと形状矯正、歪取り焼鈍を兼ねてヒートフ
ラットニングが行われ、最終製品とされる。この際、方
向性電磁鋼板はとりわけ高磁束密度材においては被膜張
力による鉄損、磁歪等の改善効果が大きいことから、仕
上げ焼鈍で形成したグラス被膜の張力効果を更に補強す
るために絶縁被膜成分としては張力付与型のものが適用
される。
後のコイルは、連続ラインにおいて余剰の焼鈍分離剤を
水洗により除去し、軽酸洗の後、絶縁被膜剤を塗布し、
その焼き付けと形状矯正、歪取り焼鈍を兼ねてヒートフ
ラットニングが行われ、最終製品とされる。この際、方
向性電磁鋼板はとりわけ高磁束密度材においては被膜張
力による鉄損、磁歪等の改善効果が大きいことから、仕
上げ焼鈍で形成したグラス被膜の張力効果を更に補強す
るために絶縁被膜成分としては張力付与型のものが適用
される。
【００１８】この張力被膜剤としては、固形分でコロイ
ダルシリカ１００重量部に対し、Ａｌ，Ｍｇ，Ｃａ等の
燐酸塩の１種又は２種以上を１３０〜２００重量部とク
ロム酸、クロム酸塩、重クロム酸塩の１種又は２種以上
をＣｒＯ3 として１２〜４０重量部配合したものを用い
るのが経済的に高張力被膜を得るのに好適である。この
後、更に鉄損を改善しようとする場合には絶縁被膜剤処
理前後において、レーザー、歯形ロール、エッチング、
局部メッキ等により圧延方向とほぼ直角方向に線状、点
状に間隔と深さをコントロールして、歪、疵、メッキ層
等を処理して磁区細分化処理が行われる。
ダルシリカ１００重量部に対し、Ａｌ，Ｍｇ，Ｃａ等の
燐酸塩の１種又は２種以上を１３０〜２００重量部とク
ロム酸、クロム酸塩、重クロム酸塩の１種又は２種以上
をＣｒＯ3 として１２〜４０重量部配合したものを用い
るのが経済的に高張力被膜を得るのに好適である。この
後、更に鉄損を改善しようとする場合には絶縁被膜剤処
理前後において、レーザー、歯形ロール、エッチング、
局部メッキ等により圧延方向とほぼ直角方向に線状、点
状に間隔と深さをコントロールして、歪、疵、メッキ層
等を処理して磁区細分化処理が行われる。
【００１９】次に本発明の限定理由を述べる。先ず、本
発明に適用されるＭｇＯとしては、ＭｇＯの比表面積は
ＢＥＴ法により測定した値で２０ｍ2 ／ｇ以上である。
本発明では、塩素化合物による塩素量が反応性向上の主
効果を生じるが、ＭｇＯの粒子サイズ、気孔率、粒子形
状等に関連して粒子の面積も重要である。２０ｍ2 ／ｇ
未満では、本発明の成分調整技術をもってしても反応性
向上効果は顕著に得られ難い。比表面積は大きい方が良
好であるが、ＭｇＯの使用段階での経時変化が避けられ
なくなる点と、スラリー調整段階での水和水分の増加を
抑えるのが困難な傾向である。
発明に適用されるＭｇＯとしては、ＭｇＯの比表面積は
ＢＥＴ法により測定した値で２０ｍ2 ／ｇ以上である。
本発明では、塩素化合物による塩素量が反応性向上の主
効果を生じるが、ＭｇＯの粒子サイズ、気孔率、粒子形
状等に関連して粒子の面積も重要である。２０ｍ2 ／ｇ
未満では、本発明の成分調整技術をもってしても反応性
向上効果は顕著に得られ難い。比表面積は大きい方が良
好であるが、ＭｇＯの使用段階での経時変化が避けられ
なくなる点と、スラリー調整段階での水和水分の増加を
抑えるのが困難な傾向である。
【００２０】これに関連して、本発明の成分では、１０
０ｍ2 ／ｇ以上になると反応過剰と思われる過酸化状の
シモフリ、ガスマーク、スケール等の発生する場合があ
るため、好ましい範囲は２０〜１００ｍ2 ／ｇである。
次に、ＭｇＯのＳ量は磁気特性とグラス被膜特性に影響
するため制限される。Ｓは仕上げ焼鈍昇温中に鋼板表面
に侵入することにより、雰囲気からの過剰Ｎの侵入を抑
え、脱窒素時におけるピンホール状被膜欠陥発生を防止
する。
０ｍ2 ／ｇ以上になると反応過剰と思われる過酸化状の
シモフリ、ガスマーク、スケール等の発生する場合があ
るため、好ましい範囲は２０〜１００ｍ2 ／ｇである。
次に、ＭｇＯのＳ量は磁気特性とグラス被膜特性に影響
するため制限される。Ｓは仕上げ焼鈍昇温中に鋼板表面
に侵入することにより、雰囲気からの過剰Ｎの侵入を抑
え、脱窒素時におけるピンホール状被膜欠陥発生を防止
する。
【００２１】又、ＭｎＳ等のサルファイドの脱Ｓを防止
して、インヒビターの補強効果をもたらす。０．０５％
未満では、このような過剰窒素による影響を阻止できな
い。又、インヒビターの補強効果ももたらさないため制
限される。一方、１．２％超になると、これらに対する
効果は得られるが、高温での過剰のＳによるグラス被膜
のエッチング作用が生じたり、極端な場合にはＭｎＳの
効果を強めすぎて二次再結晶に影響を及ぼし、細粒の発
生を生じる場合があり、磁気特性、被膜特性ともむしろ
劣化するため制限される。
して、インヒビターの補強効果をもたらす。０．０５％
未満では、このような過剰窒素による影響を阻止できな
い。又、インヒビターの補強効果ももたらさないため制
限される。一方、１．２％超になると、これらに対する
効果は得られるが、高温での過剰のＳによるグラス被膜
のエッチング作用が生じたり、極端な場合にはＭｎＳの
効果を強めすぎて二次再結晶に影響を及ぼし、細粒の発
生を生じる場合があり、磁気特性、被膜特性ともむしろ
劣化するため制限される。
【００２２】ＭｇＯ製造過程で塩素量を調整しようとす
る場合には塩素源として添加される塩素化合物はＨ，Ｌ
ｉ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｂ，
Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる塩素化合物の１種又は２種以
上の塩素化合物が添加され、最終焼成後の塩素化合物を
塩素量として０．０１０〜０．０６％となるように、焼
成条件として、温度、時間、雰囲気、炉内投入原料の
量、焼成段階での撹拌条件等を制御して行われる。
る場合には塩素源として添加される塩素化合物はＨ，Ｌ
ｉ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｂ，
Ｂｉ，Ｂの中から選ばれる塩素化合物の１種又は２種以
上の塩素化合物が添加され、最終焼成後の塩素化合物を
塩素量として０．０１０〜０．０６％となるように、焼
成条件として、温度、時間、雰囲気、炉内投入原料の
量、焼成段階での撹拌条件等を制御して行われる。
【００２３】ＭｇＯの焼成後にスラリー調整の段階で塩
素量の調整を行う場合には、Ｈ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｂの塩素化合
物の１種又は２種以上を、ＭｇＯ１００重量部当たり、
塩素量が焼鈍分離剤中に０．０１〜０．０６％になるよ
うに他の添加物と同時に拡拌、分散しスラリーとする。
塩素化合物は原料結晶のスラリー中に溶解、分散し、Ｍ
ｇＯ原料結晶表面に均一に混合分散できる。通常、Ｍｇ
Ｏの製造段階において、本発明のような塩素化合物を添
加してＭｇＯを製造する場合には、最終製品におけるＭ
ｇＯにおいては、塩素化合物の形態は、原料への添加・
分散或いは焼成段階で変化するため、形態を特定するこ
とは困難であるが、主に、次のような形態と考えられ
る。
素量の調整を行う場合には、Ｈ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｎ
ｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｂの塩素化合
物の１種又は２種以上を、ＭｇＯ１００重量部当たり、
塩素量が焼鈍分離剤中に０．０１〜０．０６％になるよ
うに他の添加物と同時に拡拌、分散しスラリーとする。
塩素化合物は原料結晶のスラリー中に溶解、分散し、Ｍ
ｇＯ原料結晶表面に均一に混合分散できる。通常、Ｍｇ
Ｏの製造段階において、本発明のような塩素化合物を添
加してＭｇＯを製造する場合には、最終製品におけるＭ
ｇＯにおいては、塩素化合物の形態は、原料への添加・
分散或いは焼成段階で変化するため、形態を特定するこ
とは困難であるが、主に、次のような形態と考えられ
る。
【００２４】即ち、（１）焼成段階で分散した塩素がＭ
ｇＯ結晶表面を覆うように付着（蒸着）したＭｇＯ・Ｃ
ｌ状をなすもの、（２）ＭｇＯ最表面の水和層の置換体
としてＭｇ（ＯＨ）2-x ・Ｃｌx のような形態をとるも
の、（３）主成分のＭｇＯと反応してＭｇＣｌ2 になる
もの、（４）基の塩素化合物の形態のままでＭｇＯ結晶
の表面或いは内部に拡散分布した存在するもの等であ
る。
ｇＯ結晶表面を覆うように付着（蒸着）したＭｇＯ・Ｃ
ｌ状をなすもの、（２）ＭｇＯ最表面の水和層の置換体
としてＭｇ（ＯＨ）2-x ・Ｃｌx のような形態をとるも
の、（３）主成分のＭｇＯと反応してＭｇＣｌ2 になる
もの、（４）基の塩素化合物の形態のままでＭｇＯ結晶
の表面或いは内部に拡散分布した存在するもの等であ
る。
【００２５】これらの塩素化合物によって、仕上げ焼鈍
過程でのＳｉＯ2 層とのグラス被膜形成反応の著しい改
善効果を生む。前記、塩素化合物を添加した原料スラリ
ーを乾燥し、焼成或いはスラリー調整段階で塩素化合物
を添加する場合には、いずれも良好なグラス被膜形成効
果が得られるが、これらの添加範囲はＭｇＯ製品中のＣ
ｌとして０．０１０〜０．０６０％である。０．０１０
％未満では、本発明の範囲のＣＡＡ値と粒子径を有する
ＭｇＯにおいても反応性改善効果が著しく低下し、グラ
ス被膜形成が遅れ、十分な被膜の厚みと密着性及び均一
性が得られないばかりか、磁性の劣化を生じる。一方、
０．０６０％超になると余剰の塩素化合物によるグラス
被膜形成後の分解・破壊が生じてグラス被膜の不均一
や、表面シール性の低下、被膜張力や密着性の低下が生
じるため制限される。最も好ましい範囲はＣｌとして
０．０１５〜０．０５０％である。この範囲では、仕上
げ焼鈍条件の広範囲で良好なグラス被膜と磁気特性が安
定して得られる。
過程でのＳｉＯ2 層とのグラス被膜形成反応の著しい改
善効果を生む。前記、塩素化合物を添加した原料スラリ
ーを乾燥し、焼成或いはスラリー調整段階で塩素化合物
を添加する場合には、いずれも良好なグラス被膜形成効
果が得られるが、これらの添加範囲はＭｇＯ製品中のＣ
ｌとして０．０１０〜０．０６０％である。０．０１０
％未満では、本発明の範囲のＣＡＡ値と粒子径を有する
ＭｇＯにおいても反応性改善効果が著しく低下し、グラ
ス被膜形成が遅れ、十分な被膜の厚みと密着性及び均一
性が得られないばかりか、磁性の劣化を生じる。一方、
０．０６０％超になると余剰の塩素化合物によるグラス
被膜形成後の分解・破壊が生じてグラス被膜の不均一
や、表面シール性の低下、被膜張力や密着性の低下が生
じるため制限される。最も好ましい範囲はＣｌとして
０．０１５〜０．０５０％である。この範囲では、仕上
げ焼鈍条件の広範囲で良好なグラス被膜と磁気特性が安
定して得られる。
【００２６】次に本発明の塩素或いは塩素化合物を含有
する焼鈍分離剤を用いる場合は、鋼板上に付着する塩素
化合物、塩素量の制御が重要であり、（４〜４８）×１
０-4ｇ／ｍ2 に制限される。０．０００４ｇ／ｍ2 未満
ではＭｇＯの脱炭酸化膜ＳｉＯ2 との反応促進効果が十
分に行われない。この場合、グラス被膜の厚みが薄くな
ったり、不均一になり、反応過程でのグラス被膜による
シール効果が減少する。このため、グラス被膜、磁気特
性の改善効果が極端に小さくなる。一方、０．００４８
ｇ／ｍ2 超になると、グラス被膜形成における余剰の塩
素化合物或いは塩素により、仕上げ焼鈍高温域でグラス
被膜や地鉄界面のエッチングにより、グラス被膜が薄く
なったり、不均一になって、被膜外観や密着性或いは磁
気特性を損なう問題が生じるため制限される。
する焼鈍分離剤を用いる場合は、鋼板上に付着する塩素
化合物、塩素量の制御が重要であり、（４〜４８）×１
０-4ｇ／ｍ2 に制限される。０．０００４ｇ／ｍ2 未満
ではＭｇＯの脱炭酸化膜ＳｉＯ2 との反応促進効果が十
分に行われない。この場合、グラス被膜の厚みが薄くな
ったり、不均一になり、反応過程でのグラス被膜による
シール効果が減少する。このため、グラス被膜、磁気特
性の改善効果が極端に小さくなる。一方、０．００４８
ｇ／ｍ2 超になると、グラス被膜形成における余剰の塩
素化合物或いは塩素により、仕上げ焼鈍高温域でグラス
被膜や地鉄界面のエッチングにより、グラス被膜が薄く
なったり、不均一になって、被膜外観や密着性或いは磁
気特性を損なう問題が生じるため制限される。
【００２７】塩素化合物を構成する金属元素によって、
塩素化合物の融点、分解温度等の差によってグラス被膜
性能や磁気特性に若干の影響を与えるが、本発明の範囲
では何れも良好な結果が得られる。鋼板表面の塩素量の
制御を行う方法としては、ＭｇＯの鋼板面への付着量や
ＭｇＯへの配合比率等がある。好ましくは、ＭｇＯと塩
素化合物の比率に応じて塗布量を変える方法がよいが、
この場合、ＭｇＯの付着量は４．０〜８．０ｇ／ｍ2 に
するのが好ましい。
塩素化合物の融点、分解温度等の差によってグラス被膜
性能や磁気特性に若干の影響を与えるが、本発明の範囲
では何れも良好な結果が得られる。鋼板表面の塩素量の
制御を行う方法としては、ＭｇＯの鋼板面への付着量や
ＭｇＯへの配合比率等がある。好ましくは、ＭｇＯと塩
素化合物の比率に応じて塗布量を変える方法がよいが、
この場合、ＭｇＯの付着量は４．０〜８．０ｇ／ｍ2 に
するのが好ましい。
【００２８】これは、４ｇ／ｍ2 未満では、塩素化合物
による低融点化が大きいため、コイルエッジが焼付く傾
向が、従来の塩素化合物を添加しない技術に比較して強
くなるためである。一方、付着量８ｇ／ｍ2 超では、塩
素化合物による被膜界面の反応促進とＭｇＯ自体からも
たらされる水分が増大し、トータルとして過酸化状態と
なって昇温過程での鋼板中のインヒビターの酸化に影響
を与え、磁気特性を劣化する場合がある。このためこの
範囲に制御して鋼板表面の塩素量の制御を行うのが望ま
しい。
による低融点化が大きいため、コイルエッジが焼付く傾
向が、従来の塩素化合物を添加しない技術に比較して強
くなるためである。一方、付着量８ｇ／ｍ2 超では、塩
素化合物による被膜界面の反応促進とＭｇＯ自体からも
たらされる水分が増大し、トータルとして過酸化状態と
なって昇温過程での鋼板中のインヒビターの酸化に影響
を与え、磁気特性を劣化する場合がある。このためこの
範囲に制御して鋼板表面の塩素量の制御を行うのが望ま
しい。
【００２９】次に、仕上げ焼鈍における昇温時のＰ H2
O ／Ｐ H2 は０．２５以下が望ましい。これは昇温時の
Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が高くなると鋼板表面の酸化膜の追加
酸化が生じ、ＳｉＯ2 量が増大し、グラス被膜が極端に
厚くなったり、グラス被膜に局所的な厚みのムラを生じ
やすいためである。これにより、被膜特性や、磁気特性
のバラツキが生じやすい。Ｐ H2 O ／Ｐ H2 の制御条件
としては、ＭｇＯの水和水分、焼鈍分離剤の塗布量、雰
囲気ガスの量、コイルの巻取り圧力等によって行われ
る。
O ／Ｐ H2 は０．２５以下が望ましい。これは昇温時の
Ｐ H2 O ／Ｐ H2 が高くなると鋼板表面の酸化膜の追加
酸化が生じ、ＳｉＯ2 量が増大し、グラス被膜が極端に
厚くなったり、グラス被膜に局所的な厚みのムラを生じ
やすいためである。これにより、被膜特性や、磁気特性
のバラツキが生じやすい。Ｐ H2 O ／Ｐ H2 の制御条件
としては、ＭｇＯの水和水分、焼鈍分離剤の塗布量、雰
囲気ガスの量、コイルの巻取り圧力等によって行われ
る。
【００３０】
〔実施例１〕重量％でＣ：０．０７８％、Ｓｉ：３．２
５％、Ｍｎ：０．０６３％、Ｓ：０．０２４％、Ａｌ：
０．０２７％、Ｎ：０．００７８％、Ｃｕ：０．０６
％、Ｓｎ：０．０１０％、残部を鉄と不可避の不純物か
らなる高磁束密度方向性電磁鋼板素材を公知の方法で熱
延、焼鈍、冷延を行い、最終板厚０．０２３mmとした。
その後、Ｎ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％、露点６７℃のウェッ
ト雰囲気中で脱炭焼鈍を行った。次いで、表１に示す、
焼成前のＭｇ（ＯＨ）2 スラリーに塩素化合物を添加し
て成分調整後焼成した比表面積３５ｍ2 ／ｇのＭｇＯの
Ｓ量と塩素量を変更してＭｇＯを製造した。
５％、Ｍｎ：０．０６３％、Ｓ：０．０２４％、Ａｌ：
０．０２７％、Ｎ：０．００７８％、Ｃｕ：０．０６
％、Ｓｎ：０．０１０％、残部を鉄と不可避の不純物か
らなる高磁束密度方向性電磁鋼板素材を公知の方法で熱
延、焼鈍、冷延を行い、最終板厚０．０２３mmとした。
その後、Ｎ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％、露点６７℃のウェッ
ト雰囲気中で脱炭焼鈍を行った。次いで、表１に示す、
焼成前のＭｇ（ＯＨ）2 スラリーに塩素化合物を添加し
て成分調整後焼成した比表面積３５ｍ2 ／ｇのＭｇＯの
Ｓ量と塩素量を変更してＭｇＯを製造した。
【００３１】このＭｇＯにＴｉＯ2 ５％とＮａ2 Ｂ4 Ｏ
7 ０．３％を配合した焼鈍分離剤を塗布乾燥後の重量で
５ｇ／ｍ2 になるように塗布量を変更し、鋼板に塗布
し、乾燥後コイルとして巻取り、１２００℃×２０Hrの
最終仕上げ焼鈍を行った。この後、絶縁被膜剤として３
０％コロイダルシリカ７０ml、５０％りん酸アルミニウ
ム５０mlからなるコーティング剤を乾燥、焼き付け後の
重量で５ｇ／ｍ2 になるように塗布し、連続炉中で８５
０℃×３０秒間のヒートフラットニング処理を行い最終
製品とした。この試験におけるグラス被膜形成状況、絶
縁被膜特性、磁気特性の結果を表２に示す。
7 ０．３％を配合した焼鈍分離剤を塗布乾燥後の重量で
５ｇ／ｍ2 になるように塗布量を変更し、鋼板に塗布
し、乾燥後コイルとして巻取り、１２００℃×２０Hrの
最終仕上げ焼鈍を行った。この後、絶縁被膜剤として３
０％コロイダルシリカ７０ml、５０％りん酸アルミニウ
ム５０mlからなるコーティング剤を乾燥、焼き付け後の
重量で５ｇ／ｍ2 になるように塗布し、連続炉中で８５
０℃×３０秒間のヒートフラットニング処理を行い最終
製品とした。この試験におけるグラス被膜形成状況、絶
縁被膜特性、磁気特性の結果を表２に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】この結果、本発明のように塩素化合物を添
加した後焼成した焼鈍分離剤を使用した場合には、光沢
がよく、厚いグラス被膜が均一に形成され、グラス被膜
張力、密着性等の被膜特性と磁気特性のいずれも非常に
良好な結果が得られた。一方、比較例の塩素化合物を含
有しない比較例１の場合には、非常にグラス被膜が薄
く、被膜特性及び磁気特性が劣る結果となった。又、塩
素化合物の多い比較例２ではグラス被膜のムラが生じ、
被膜特性、磁気特性とも本発明に比し、かなり劣る結果
となった。又、塩素含有量が本発明域でも、Ｓ含有量が
少ない場合にはグラス被膜は良好であるがやや磁性が劣
り、Ｓ含有量が本発明域より多い場合にはグラス被膜が
薄く、磁気特性も劣る結果となった。
加した後焼成した焼鈍分離剤を使用した場合には、光沢
がよく、厚いグラス被膜が均一に形成され、グラス被膜
張力、密着性等の被膜特性と磁気特性のいずれも非常に
良好な結果が得られた。一方、比較例の塩素化合物を含
有しない比較例１の場合には、非常にグラス被膜が薄
く、被膜特性及び磁気特性が劣る結果となった。又、塩
素化合物の多い比較例２ではグラス被膜のムラが生じ、
被膜特性、磁気特性とも本発明に比し、かなり劣る結果
となった。又、塩素含有量が本発明域でも、Ｓ含有量が
少ない場合にはグラス被膜は良好であるがやや磁性が劣
り、Ｓ含有量が本発明域より多い場合にはグラス被膜が
薄く、磁気特性も劣る結果となった。
【００３５】〔実施例２〕重量％でＣ：０．０５７％、
Ｓｉ：３．３０％、Ｍｎ：０．１０％、Ａｌ：０．０３
０％、Ｓ：０．００７５％、Ｎ：０．００７８％、Ｓ
ｎ：０．０５％、残部をＦｅと不可避の不純物からなる
方向性電磁鋼板スラブを公知の方法で１１５０℃の低温
で加熱後、熱延し、焼鈍と冷延により最終板厚０．２３
mmとした。このコイルを連続焼鈍ラインにおいてＮ2 ２
５％＋Ｈ2 ７５％、露点６５℃のウェット雰囲気中で８
３０℃×１１０秒間の脱炭焼鈍し、引き続き鋼中Ｎ量が
２００ppm となるようにＮ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％＋ＮＨ
3 のドライ雰囲気中で７５０℃×３０秒間の窒化処理を
行った。
Ｓｉ：３．３０％、Ｍｎ：０．１０％、Ａｌ：０．０３
０％、Ｓ：０．００７５％、Ｎ：０．００７８％、Ｓ
ｎ：０．０５％、残部をＦｅと不可避の不純物からなる
方向性電磁鋼板スラブを公知の方法で１１５０℃の低温
で加熱後、熱延し、焼鈍と冷延により最終板厚０．２３
mmとした。このコイルを連続焼鈍ラインにおいてＮ2 ２
５％＋Ｈ2 ７５％、露点６５℃のウェット雰囲気中で８
３０℃×１１０秒間の脱炭焼鈍し、引き続き鋼中Ｎ量が
２００ppm となるようにＮ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％＋ＮＨ
3 のドライ雰囲気中で７５０℃×３０秒間の窒化処理を
行った。
【００３６】この鋼板に表３に示すようにＣＡＡ４０
秒、粒子径１０μｍ以下７５％のＭｇＯ１００重量部に
対し、ＴｉＯ2 ５重量部と共に塩素化合物を添加した焼
鈍分離剤をスラリーの鋼板への塗布量を変更して塗布
し、乾燥後コイルに巻取った。次いで実施例１と同様に
最終焼鈍と絶縁被膜処理を行って最終製品とした。この
試験における製品のグラス被膜特性と磁気特性の結果を
表４に示す。
秒、粒子径１０μｍ以下７５％のＭｇＯ１００重量部に
対し、ＴｉＯ2 ５重量部と共に塩素化合物を添加した焼
鈍分離剤をスラリーの鋼板への塗布量を変更して塗布
し、乾燥後コイルに巻取った。次いで実施例１と同様に
最終焼鈍と絶縁被膜処理を行って最終製品とした。この
試験における製品のグラス被膜特性と磁気特性の結果を
表４に示す。
【００３７】
【表３】
【００３８】
【表４】
【００３９】この試験の結果、本発明の塩化物を添加し
た焼鈍分離剤を塗布した場合には添加量が０．０６％以
下で、鋼板への塩素塗布量が０．００１２２５〜０．０
０３００ｇ／ｍ2 の本発明域の場合には、いずれも良好
なグラス被膜と磁気特性が得られた。しかし、塩素量が
本発明の領域でも、焼鈍分離剤の塗布量が多い条件、即
ち鋼板面の塩素量が本発明域より多い場合には、グラス
被膜に金属斑点状のムラが生じ、密着性が悪く、磁気特
性が劣る結果となった。又、塩素化合物を添加しない場
合には、グラス被膜が極度に薄くなって磁気特性も非常
に劣る結果となった。
た焼鈍分離剤を塗布した場合には添加量が０．０６％以
下で、鋼板への塩素塗布量が０．００１２２５〜０．０
０３００ｇ／ｍ2 の本発明域の場合には、いずれも良好
なグラス被膜と磁気特性が得られた。しかし、塩素量が
本発明の領域でも、焼鈍分離剤の塗布量が多い条件、即
ち鋼板面の塩素量が本発明域より多い場合には、グラス
被膜に金属斑点状のムラが生じ、密着性が悪く、磁気特
性が劣る結果となった。又、塩素化合物を添加しない場
合には、グラス被膜が極度に薄くなって磁気特性も非常
に劣る結果となった。
【００４０】
【発明の効果】本発明はＭｇＯの製造過程或いはスラリ
ー調整段階で塩素化合物によって塩素量を特定範囲と
し、Ｓ量を調整することによって、微粒子ＭｇＯグラス
被膜形成における反応性を改善する。更に、鋼板面に付
着する塩素量を適量に制御することにより、従来の塩素
化合物添加の改善技術による方向性電磁鋼板に比較し
て、同等以上のグラス被膜と磁気特性を具備した方向性
電磁鋼板を提供し得る。
ー調整段階で塩素化合物によって塩素量を特定範囲と
し、Ｓ量を調整することによって、微粒子ＭｇＯグラス
被膜形成における反応性を改善する。更に、鋼板面に付
着する塩素量を適量に制御することにより、従来の塩素
化合物添加の改善技術による方向性電磁鋼板に比較し
て、同等以上のグラス被膜と磁気特性を具備した方向性
電磁鋼板を提供し得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石橋 希瑞 北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新日本製 鐵株式会社八幡製鐵所内 (72)発明者 山崎 幸司 北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新日本製 鐵株式会社八幡製鐵所内 (72)発明者 田中 収 北九州市戸畑区大字中原46−59 日鐵プラ ント設計株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｓｉ２．５〜４．０重量％含有する方向
性電磁鋼板素材を公知の方法で処理し、最終板厚の冷延
板とし、脱炭焼鈍してＳｉＯ2 主成分の酸化被膜を形成
し、焼鈍分離剤を塗布し、最終仕上げ焼鈍を行った後、
絶縁被膜剤を塗布してヒートフラットニングを行うこと
からなる方向性電磁鋼板の製造方法において、前記焼鈍
分離剤の塗布工程で、比表面積が２０ｍ2 ／ｇ以上、Ｓ
量が０．０５〜１．２％のＭｇＯに製造過程及び／又は
焼鈍分離剤のスラリー調整段階でＨ，Ｌｉ，Ｓｒ，Ｔ
ｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｂの中
から選ばれる塩素化合物を添加して焼鈍分離剤中のＣｌ
を０．０１〜０．０６％になるように調整した焼鈍分離
剤を、鋼板１ｍ2 当たりの塩素化合物量がＣｌとして
（４〜４８）×１０-4ｇ／ｍ2 の範囲になるように塗布
することを特徴とするグラス被膜が均一で優れ、磁気特
性の極めて良好な方向性電磁鋼板の製造方法。 - 【請求項２】 仕上げ焼鈍における昇温時８００℃まで
の雰囲気ガスのＰ H2 O ／Ｐ H2 を０．２５以下として
焼鈍することを特徴とする請求項１記載のグラス被膜が
均一で優れ、磁気特性の極めて良好な方向性電磁鋼板の
製造方法。
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6309163A JPH08165525A (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | グラス被膜が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な方向性電磁鋼板の製造方法 |
| CA002149279A CA2149279C (en) | 1994-05-13 | 1995-05-12 | Annealing separator having excellent reactivity for grain-oriented electrical steel sheet and method of use the same |
| CN95106060A CN1043056C (zh) | 1994-05-13 | 1995-05-12 | 用于硅钢片的具有良好反应性的退火隔离物及其使用方法 |
| US08/440,276 US5685920A (en) | 1994-05-13 | 1995-05-12 | Annealing separator having excellent reactivity for grain-oriented electrical steel sheet and method of use the same |
| KR1019950011676A KR0157539B1 (ko) | 1994-05-13 | 1995-05-12 | 우수한 반응성을 가진 방향성 전기강판용 아닐링 분리제 및 이의 사용방법 |
| EP95107412A EP0699771A1 (en) | 1994-05-13 | 1995-05-15 | Annealing separator having excellent reactivity for grain-oriented electrical steel sheet and method of use the same |
| US08/836,593 US5840131A (en) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Process for producing grain-oriented electrical steel sheet having excellent glass film and magnetic properties |
| CN951972014A CN1065004C (zh) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | 具有优良玻璃膜及磁性能的晶粒取向电工钢板的生产工艺 |
| KR1019970703263A KR100245032B1 (ko) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | 유리 피막과 자기 특성이 뛰어난 방향성 전자기 강판의 제조방법 |
| EP95938021A EP0789093B2 (en) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Process for producing directional electrical sheet excellent in glass coating and magnetic properties |
| DE69515892T DE69515892T3 (de) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Verfahren zur herstellung eines elektrisch direktionalen bleches mit guter glasbeschichtbarkeit und hervorragenden magnetischen eigenschaften |
| PCT/JP1995/002346 WO1996015291A1 (fr) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Procede de production de tole magnetique directive pouvant facilement etre revetue de verre et presentant d'excellentes proprietes magnetiques |
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| JP6309163A JPH08165525A (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | グラス被膜が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な方向性電磁鋼板の製造方法 |
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| JPH08165525A true JPH08165525A (ja) | 1996-06-25 |
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| JP6309163A Withdrawn JPH08165525A (ja) | 1994-05-13 | 1994-12-13 | グラス被膜が均一で優れ、磁気特性の極めて良好な方向性電磁鋼板の製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JPH08165525A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001522942A (ja) * | 1997-11-12 | 2001-11-20 | エーベーゲー ゲゼルシャフト フュル エレクトロマグネティシェ ベルクストッフェ ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電磁鋼板に焼鈍分離剤を被覆する方法 |
| KR100597772B1 (ko) * | 1998-09-18 | 2006-07-10 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 피막특성 및 자기특성이 우수한 방향성 규소강판 및 그 제조방법 |
| KR100762436B1 (ko) * | 2006-10-18 | 2007-10-02 | 주식회사 포스코 | 표면성상이 우수한 방향성 전기강판용 소둔분리제 및 이를이용한 방향성 전기강판의 제조방법 |
| WO2008047999A1 (en) * | 2006-10-18 | 2008-04-24 | Posco | Annealing separating agent for grain oriented electrical steel sheet having uniform glass film and excellent magnetic properties and method of manufacturig the same |
| JP2011099155A (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Nippon Steel Corp | 薄手方向性電磁鋼板及び張力絶縁膜被覆薄手方向性電磁鋼板 |
| WO2016085257A1 (ko) * | 2014-11-26 | 2016-06-02 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판용 소둔 분리제 조성물, 및 이를 이용한 방향성 전기강판의 제조방법 |
-
1994
- 1994-12-13 JP JP6309163A patent/JPH08165525A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001522942A (ja) * | 1997-11-12 | 2001-11-20 | エーベーゲー ゲゼルシャフト フュル エレクトロマグネティシェ ベルクストッフェ ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電磁鋼板に焼鈍分離剤を被覆する方法 |
| KR100597772B1 (ko) * | 1998-09-18 | 2006-07-10 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 피막특성 및 자기특성이 우수한 방향성 규소강판 및 그 제조방법 |
| KR100762436B1 (ko) * | 2006-10-18 | 2007-10-02 | 주식회사 포스코 | 표면성상이 우수한 방향성 전기강판용 소둔분리제 및 이를이용한 방향성 전기강판의 제조방법 |
| WO2008047999A1 (en) * | 2006-10-18 | 2008-04-24 | Posco | Annealing separating agent for grain oriented electrical steel sheet having uniform glass film and excellent magnetic properties and method of manufacturig the same |
| JP2011099155A (ja) * | 2009-11-09 | 2011-05-19 | Nippon Steel Corp | 薄手方向性電磁鋼板及び張力絶縁膜被覆薄手方向性電磁鋼板 |
| WO2016085257A1 (ko) * | 2014-11-26 | 2016-06-02 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판용 소둔 분리제 조성물, 및 이를 이용한 방향성 전기강판의 제조방법 |
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