JPH08166392A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
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- JPH08166392A JPH08166392A JP6311859A JP31185994A JPH08166392A JP H08166392 A JPH08166392 A JP H08166392A JP 6311859 A JP6311859 A JP 6311859A JP 31185994 A JP31185994 A JP 31185994A JP H08166392 A JPH08166392 A JP H08166392A
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- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims abstract description 183
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 107
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】数μm程度の大きな凹凸と数nm程度の微小な
凹凸が混在する試料の表面の凹凸を歪み無く正確に測定
できる走査型プローブ顕微鏡を提供する。 【構成】走査型プローブ顕微鏡は、試料8を移動させる
チューブスキャナー12、カンチレバー16に支持され
たプローブ14、スキャナー12を駆動するドライバー
20、スキャナーの変位を検出する変位センサー30、
試料表面の凹凸像を形成する演算回路34、凹凸像を表
示するモニター36を有している。さらに、変位センサ
ー30から出力されるz変位信号dzから高周波成分を
除去するローパスフィルター40、ドライバー20から
出力されるz駆動信号zdrv から低周波成分を除去する
ハイパスフィルター42、低周波信号zL と高周波信号
zHを加算する加算器44、演算回路34に入力する高
さ情報の信号を選択する切換スイッチ52を有してい
る。
凹凸が混在する試料の表面の凹凸を歪み無く正確に測定
できる走査型プローブ顕微鏡を提供する。 【構成】走査型プローブ顕微鏡は、試料8を移動させる
チューブスキャナー12、カンチレバー16に支持され
たプローブ14、スキャナー12を駆動するドライバー
20、スキャナーの変位を検出する変位センサー30、
試料表面の凹凸像を形成する演算回路34、凹凸像を表
示するモニター36を有している。さらに、変位センサ
ー30から出力されるz変位信号dzから高周波成分を
除去するローパスフィルター40、ドライバー20から
出力されるz駆動信号zdrv から低周波成分を除去する
ハイパスフィルター42、低周波信号zL と高周波信号
zHを加算する加算器44、演算回路34に入力する高
さ情報の信号を選択する切換スイッチ52を有してい
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、試料の表面の凹凸を測
定する走査型プローブ顕微鏡に関する。
定する走査型プローブ顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】走査型プローブ顕微鏡は試料表面の微細
形状を原子レベルで観察できる装置として知られ、走査
型トンネル顕微鏡(STM: Scanning Tunneling Microsco
pe)と原子間力顕微鏡(AFM: Atomic Force Microscop
e)が特に良く知られている。
形状を原子レベルで観察できる装置として知られ、走査
型トンネル顕微鏡(STM: Scanning Tunneling Microsco
pe)と原子間力顕微鏡(AFM: Atomic Force Microscop
e)が特に良く知られている。
【0003】STMは、米国特許4,343,993号
などに記載されているように、導電性プローブと導電性
試料の間にバイアス電圧を印加し、プローブを試料に数
nm程度の距離に近づけた際にプローブと試料の間に流
れるトンネル電流を検出し、このトンネル電流を一定に
保つようにプローブ試料間距離を制御しながらプローブ
を試料表面に沿って走査する。トンネル電流はその大き
さがプローブ試料間距離に指数関数的に依存しており、
プローブ試料間距離の微小な変化に対しても大きく変化
するため、これに基づいて制御されるプローブの高さ情
報と試料表面に対するプローブの位置情報とから形成さ
れる試料表面の像は原子レベルの分解能を持つものとな
る。
などに記載されているように、導電性プローブと導電性
試料の間にバイアス電圧を印加し、プローブを試料に数
nm程度の距離に近づけた際にプローブと試料の間に流
れるトンネル電流を検出し、このトンネル電流を一定に
保つようにプローブ試料間距離を制御しながらプローブ
を試料表面に沿って走査する。トンネル電流はその大き
さがプローブ試料間距離に指数関数的に依存しており、
プローブ試料間距離の微小な変化に対しても大きく変化
するため、これに基づいて制御されるプローブの高さ情
報と試料表面に対するプローブの位置情報とから形成さ
れる試料表面の像は原子レベルの分解能を持つものとな
る。
【0004】またAFMは、米国特許4,724,31
8号などに記載されているように、柔軟なカンチレバー
の先端に支持したプローブを試料に数nm程度の距離ま
で近づけた際にプローブ先端と試料表面の原子間に発生
する原子間力と呼ばれる微小な力により生じるカンチレ
バーの先端の変位を検出し、この変位を一定に保つよう
にプローブと試料の間隔を制御しながらプローブを試料
表面に平行に走査する。原子間力はその大きさがプロー
ブ試料間距離の微小な変化に対しても大きく変化するた
め、これに基づいて制御されるプローブの高さ情報と試
料表面に対するプローブの位置情報とから形成される試
料表面の像は原子レベルの分解能を持つものとなる。
8号などに記載されているように、柔軟なカンチレバー
の先端に支持したプローブを試料に数nm程度の距離ま
で近づけた際にプローブ先端と試料表面の原子間に発生
する原子間力と呼ばれる微小な力により生じるカンチレ
バーの先端の変位を検出し、この変位を一定に保つよう
にプローブと試料の間隔を制御しながらプローブを試料
表面に平行に走査する。原子間力はその大きさがプロー
ブ試料間距離の微小な変化に対しても大きく変化するた
め、これに基づいて制御されるプローブの高さ情報と試
料表面に対するプローブの位置情報とから形成される試
料表面の像は原子レベルの分解能を持つものとなる。
【0005】このような走査型プローブ顕微鏡において
は、走査に関してはプローブを移動させて行なうものと
試料を移動させて行なうものとがあり、またプローブ試
料間距離の制御に関してもプローブを移動させて行なう
ものと試料を移動させて行なうものとがある。いずれの
タイプであっても、走査とプローブ試料間距離制御には
nm単位の精度で制御が可能な圧電アクチュエーターが
一般に使用される。
は、走査に関してはプローブを移動させて行なうものと
試料を移動させて行なうものとがあり、またプローブ試
料間距離の制御に関してもプローブを移動させて行なう
ものと試料を移動させて行なうものとがある。いずれの
タイプであっても、走査とプローブ試料間距離制御には
nm単位の精度で制御が可能な圧電アクチュエーターが
一般に使用される。
【0006】圧電アクチュエーターの変位すなわちプロ
ーブや試料の移動量は、通常、圧電アクチュエーターの
駆動電圧対変位の特性が線形であるものとして駆動電圧
から推定している。しかし実際には駆動電圧対変位の特
性は厳密には線形ではなくヒステリシスを有しており、
駆動電圧から推定される変位と実際の変位との間にはず
れがある。このずれは、ヒステリシスループが小さい場
合つまり変位の変動が僅かな範囲に限られる場合には、
ヒステリシスループの両端を通る近似直線とヒステリシ
スループとがほとんど重なるので十分に無視できる。し
かし、ヒステリシスループが大きい場合つまり変位の変
動が広い範囲に渡る場合には、近似直線とヒステリシス
曲線とのずれが大きくなるため、ヒステリシスによる誤
差が無視できない。
ーブや試料の移動量は、通常、圧電アクチュエーターの
駆動電圧対変位の特性が線形であるものとして駆動電圧
から推定している。しかし実際には駆動電圧対変位の特
性は厳密には線形ではなくヒステリシスを有しており、
駆動電圧から推定される変位と実際の変位との間にはず
れがある。このずれは、ヒステリシスループが小さい場
合つまり変位の変動が僅かな範囲に限られる場合には、
ヒステリシスループの両端を通る近似直線とヒステリシ
スループとがほとんど重なるので十分に無視できる。し
かし、ヒステリシスループが大きい場合つまり変位の変
動が広い範囲に渡る場合には、近似直線とヒステリシス
曲線とのずれが大きくなるため、ヒステリシスによる誤
差が無視できない。
【0007】このため最近では、圧電アクチュエーター
の変位を駆動電圧から推定するのではなく、プローブや
試料の移動量を光学的手段等により直接測定する構成の
走査型プローブ顕微鏡が提案されている。そのような走
査型プローブ顕微鏡は一例が特開平6−174460号
に開示されている。その装置は、円筒型圧電アクチュエ
ーターいわゆるチューブスキャナーを用いて試料を移動
させる構成で、試料ステージの周囲に配置した四つの二
分割フォトダイオードを利用して試料のxyz方向の移
動量を検出し、この移動量に基づいて試料表面の像を得
ている。また、試料のxy方向の移動量に基づいて、円
筒型圧電スキャナーの非線形性の補正も行なっている。
の変位を駆動電圧から推定するのではなく、プローブや
試料の移動量を光学的手段等により直接測定する構成の
走査型プローブ顕微鏡が提案されている。そのような走
査型プローブ顕微鏡は一例が特開平6−174460号
に開示されている。その装置は、円筒型圧電アクチュエ
ーターいわゆるチューブスキャナーを用いて試料を移動
させる構成で、試料ステージの周囲に配置した四つの二
分割フォトダイオードを利用して試料のxyz方向の移
動量を検出し、この移動量に基づいて試料表面の像を得
ている。また、試料のxy方向の移動量に基づいて、円
筒型圧電スキャナーの非線形性の補正も行なっている。
【0008】ここで、特開平6−174460号に代表
されるこのような構成の走査型プローブ顕微鏡について
図1を参照しながら説明する。図1に示すように、この
走査型プローブ顕微鏡は、試料8をxyz方向に移動さ
せるための円筒型圧電アクチュエーターいわゆるチュー
ブスキャナー12、カンチレバー16に支持されたプロ
ーブ14、プローブ14と試料8の間隔を一定に保つよ
うにチューブスキャナー12を駆動するz駆動手段、プ
ローブ14をxy走査するようにチューブスキャナー1
2を駆動するxy駆動手段、チューブスキャナー12の
変位を検出するスキャナー変位検出手段、試料表面の像
を形成する演算回路34、試料表面の像を表示するモニ
ター36を有している。z駆動手段はプローブ変位セン
サー18とドライバー20で構成される。xy駆動手段
は波形発生器22と波形発生器24と補正回路26とド
ライバー20とで構成される。また、スキャナー変位検
出手段はスキャナー変位センサー30とプリアンプ32
で構成される。
されるこのような構成の走査型プローブ顕微鏡について
図1を参照しながら説明する。図1に示すように、この
走査型プローブ顕微鏡は、試料8をxyz方向に移動さ
せるための円筒型圧電アクチュエーターいわゆるチュー
ブスキャナー12、カンチレバー16に支持されたプロ
ーブ14、プローブ14と試料8の間隔を一定に保つよ
うにチューブスキャナー12を駆動するz駆動手段、プ
ローブ14をxy走査するようにチューブスキャナー1
2を駆動するxy駆動手段、チューブスキャナー12の
変位を検出するスキャナー変位検出手段、試料表面の像
を形成する演算回路34、試料表面の像を表示するモニ
ター36を有している。z駆動手段はプローブ変位セン
サー18とドライバー20で構成される。xy駆動手段
は波形発生器22と波形発生器24と補正回路26とド
ライバー20とで構成される。また、スキャナー変位検
出手段はスキャナー変位センサー30とプリアンプ32
で構成される。
【0009】スキャナー変位センサー30は、チューブ
スキャナー12の自由端のx方向とy方向とz方向の変
位を検出し、その変位を示す信号はプリアンプ32で増
幅され、x変位信号dxとy変位信号dyとz変位信号
dzとして出力される。
スキャナー12の自由端のx方向とy方向とz方向の変
位を検出し、その変位を示す信号はプリアンプ32で増
幅され、x変位信号dxとy変位信号dyとz変位信号
dzとして出力される。
【0010】測定時、プローブ14と試料8の間隔は、
両者間に所定の大きさの原子間力が発生した状態となる
ように調整される。つまり、プローブ変位センサー14
の出力するプローブ変位信号zprv が予め定めた所定値
となるように調整される。
両者間に所定の大きさの原子間力が発生した状態となる
ように調整される。つまり、プローブ変位センサー14
の出力するプローブ変位信号zprv が予め定めた所定値
となるように調整される。
【0011】波形発生器22は単波形のx走査信号x
ref を生成し、これを補正回路26に出力する。波形発
生器24は単波形のy走査信号yref を生成し、これを
補正回路26に出力する。補正回路26は、チューブス
キャナー12のx方向の移動速度が一定になるように、
x変位信号dxに基づいてx走査信号xref を補正し、
補正したx走査信号xcmp をドライバー20に出力す
る。また補正回路26は、チューブスキャナー12のy
方向の移動速度が一定になるようにy変位信号dyに基
づいてy走査信号yref を補正し、補正したy走査信号
ycmp をドライバー20に出力する。ドライバー20は
補正x走査信号xcmp と補正y走査信号ycmp に基づい
てx駆動信号xdrv とy駆動信号ydrv を生成し、チュ
ーブスキャナー12に供給する。チューブスキャナー1
2はx駆動信号xdrv とy駆動信号ydrv に従って上端
がx方向とy方向に移動する。この結果、プローブ14
が試料8の表面に沿って走査される。
ref を生成し、これを補正回路26に出力する。波形発
生器24は単波形のy走査信号yref を生成し、これを
補正回路26に出力する。補正回路26は、チューブス
キャナー12のx方向の移動速度が一定になるように、
x変位信号dxに基づいてx走査信号xref を補正し、
補正したx走査信号xcmp をドライバー20に出力す
る。また補正回路26は、チューブスキャナー12のy
方向の移動速度が一定になるようにy変位信号dyに基
づいてy走査信号yref を補正し、補正したy走査信号
ycmp をドライバー20に出力する。ドライバー20は
補正x走査信号xcmp と補正y走査信号ycmp に基づい
てx駆動信号xdrv とy駆動信号ydrv を生成し、チュ
ーブスキャナー12に供給する。チューブスキャナー1
2はx駆動信号xdrv とy駆動信号ydrv に従って上端
がx方向とy方向に移動する。この結果、プローブ14
が試料8の表面に沿って走査される。
【0012】走査の間、プローブ14は試料8の表面の
凹凸に応じてz方向に変位し、その変位はプローブ変位
センサー18でモニターされる。ドライバー20は、プ
ローブ変位信号zprv を一定に保つように、チューブス
キャナー12を駆動する。これにより、プローブ14は
試料表面から一定の間隔を保ったまま表面に沿って移動
することになる。プローブ14のz方向の位置および試
料表面に対するプローブ14のx方向とy方向の位置
は、チューブスキャナー12の自由端の変位から求めら
れる。チューブスキャナー12の自由端の変位はスキャ
ナー変位センサー30により検出される。演算回路34
は、スキャナー変位センサー30の出力するx変位信号
dx、y変位信号dy、z変位信号dzに基づいて試料
表面の像を形成し、モニター36はその像を表示する。
凹凸に応じてz方向に変位し、その変位はプローブ変位
センサー18でモニターされる。ドライバー20は、プ
ローブ変位信号zprv を一定に保つように、チューブス
キャナー12を駆動する。これにより、プローブ14は
試料表面から一定の間隔を保ったまま表面に沿って移動
することになる。プローブ14のz方向の位置および試
料表面に対するプローブ14のx方向とy方向の位置
は、チューブスキャナー12の自由端の変位から求めら
れる。チューブスキャナー12の自由端の変位はスキャ
ナー変位センサー30により検出される。演算回路34
は、スキャナー変位センサー30の出力するx変位信号
dx、y変位信号dy、z変位信号dzに基づいて試料
表面の像を形成し、モニター36はその像を表示する。
【0013】この構成の走査型プローブ顕微鏡では、変
位信号dx、dy、dzは共にチューブスキャナーのヒ
ステリシスとは無関係であり、歪みの無い試料表面の像
が得られる。
位信号dx、dy、dzは共にチューブスキャナーのヒ
ステリシスとは無関係であり、歪みの無い試料表面の像
が得られる。
【0014】ここで、z方向の分解能について考える。
スキャナー変位センサー30は、装置の小型化という要
求に応えるため、一般に三軸方向の変位を同時に検出す
る構成となっており、その検出精度はそれほど高くはな
い。一方、プローブ変位センサー18は対象の変位が一
次元に限られているためスキャナー変位センサー30に
比べて精度が高い。そして、試料表面の凹凸が数nm程
度に限られる場合には、チューブスキャナー12のヒス
テリシスの影響は無視できるため、z駆動電圧zdrv に
基づいて求められる高さ情報の方が、スキャナー変位セ
ンサー30の変位信号dzに基づいて求められる高さ情
報よりも精度が高い。したがって、このように試料表面
の凹凸が数nm程度に限られる場合は、スキャナー変位
センサー30からのz変位信号dzではなく、これまで
同様、チューブスキャナー12に供給するz駆動信号z
drv に基づいて高さ情報を求める方が好ましい。
スキャナー変位センサー30は、装置の小型化という要
求に応えるため、一般に三軸方向の変位を同時に検出す
る構成となっており、その検出精度はそれほど高くはな
い。一方、プローブ変位センサー18は対象の変位が一
次元に限られているためスキャナー変位センサー30に
比べて精度が高い。そして、試料表面の凹凸が数nm程
度に限られる場合には、チューブスキャナー12のヒス
テリシスの影響は無視できるため、z駆動電圧zdrv に
基づいて求められる高さ情報の方が、スキャナー変位セ
ンサー30の変位信号dzに基づいて求められる高さ情
報よりも精度が高い。したがって、このように試料表面
の凹凸が数nm程度に限られる場合は、スキャナー変位
センサー30からのz変位信号dzではなく、これまで
同様、チューブスキャナー12に供給するz駆動信号z
drv に基づいて高さ情報を求める方が好ましい。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】このような走査型プロ
ーブ顕微鏡では、数μm程度の大きな凹凸と数nm程度
の微小な凹凸が混在する試料の凹凸像をz方向に歪み無
く求めることは難しい。なぜならば、z変位信号を高さ
情報の信号としてモニターした場合には、大きな凹凸は
歪み無く測定できるが、微小な凹凸はセンサーノイズに
埋もれて測定できず、またチューブスキャナー12のz
駆動信号zdrv を高さ情報の信号としてモニターした場
合には、すべての凹凸を測定できるが、圧電体の非直線
性のために、得られる像はz方向に歪んだものとなるか
らである。
ーブ顕微鏡では、数μm程度の大きな凹凸と数nm程度
の微小な凹凸が混在する試料の凹凸像をz方向に歪み無
く求めることは難しい。なぜならば、z変位信号を高さ
情報の信号としてモニターした場合には、大きな凹凸は
歪み無く測定できるが、微小な凹凸はセンサーノイズに
埋もれて測定できず、またチューブスキャナー12のz
駆動信号zdrv を高さ情報の信号としてモニターした場
合には、すべての凹凸を測定できるが、圧電体の非直線
性のために、得られる像はz方向に歪んだものとなるか
らである。
【0016】本発明の目的は、数μm程度の大きな凹凸
と数nm程度の微小な凹凸が混在する試料の表面を殆ど
歪み無く正確に測定できる走査型プローブ顕微鏡を提供
することである。
と数nm程度の微小な凹凸が混在する試料の表面を殆ど
歪み無く正確に測定できる走査型プローブ顕微鏡を提供
することである。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の走査型プローブ
顕微鏡は、試料表面の凹凸形状に対応して、試料表面に
垂直な方向(z方向)に変位するプローブと、プローブ
を試料表面に平行な方向(xy方向)に走査するxy走
査手段と、プローブのz方向変位を検出し、それに対応
した信号を出力するプローブ変位検出手段と、プローブ
と試料の間隔を調整するための、圧電素子からなるzア
クチュエーターと、プローブ変位検出手段の出力信号に
基づき、プローブと試料表面の間隔を一定に保つように
zアクチュエーターを駆動するz駆動信号を出力するz
ドライバーと、zアクチュエーターにより移動される物
体のz方向の位置を検出し、それに対応したz変位信号
を出力するz変位検出手段と、z駆動信号から低周波成
分を除去する低周波成分除去手段と、z変位信号から高
周波成分を除去する高周波成分除去手段と、低周波成分
除去手段の出力と高周波成分除去手段の出力を加算する
加算手段とを備えている。
顕微鏡は、試料表面の凹凸形状に対応して、試料表面に
垂直な方向(z方向)に変位するプローブと、プローブ
を試料表面に平行な方向(xy方向)に走査するxy走
査手段と、プローブのz方向変位を検出し、それに対応
した信号を出力するプローブ変位検出手段と、プローブ
と試料の間隔を調整するための、圧電素子からなるzア
クチュエーターと、プローブ変位検出手段の出力信号に
基づき、プローブと試料表面の間隔を一定に保つように
zアクチュエーターを駆動するz駆動信号を出力するz
ドライバーと、zアクチュエーターにより移動される物
体のz方向の位置を検出し、それに対応したz変位信号
を出力するz変位検出手段と、z駆動信号から低周波成
分を除去する低周波成分除去手段と、z変位信号から高
周波成分を除去する高周波成分除去手段と、低周波成分
除去手段の出力と高周波成分除去手段の出力を加算する
加算手段とを備えている。
【0018】
【作用】zドライバーはプローブ変位検出手段の出力信
号を一定に保つようにzアクチュエーターを制御する。
zドライバーが出力するz駆動信号は試料表面の数nm
程度の微小な凹凸に対応する高周波成分と数μm程度の
大きな凹凸に対応する低周波成分とを含んでおり、この
低周波成分は圧電体のヒステリシスによる歪みを含んで
いる。この低周波成分はハイパスフィルター等の低周波
成分除去手段により除去される。したがって、低周波除
去手段の出力信号は試料表面の数nm程度の微小な凹凸
を殆ど歪み無く表したものとなる。一方、z変位検出手
段が出力するz変位信号は試料表面の数μm程度の大き
な凹凸に対応する低周波成分と高い周波数のノイズ成分
とを含んでいる。このノイズ成分はローパスフィルター
等の高周波成分除去手段によって除去される。したがっ
て、高周波除去手段の出力信号は試料表面の数μm程度
の大きな凹凸を正確に表したものとなる。低周波除去手
段の出力信号と高周波除去手段の出力信号は加算手段に
より加算される。したがって、加算手段の出力信号は試
料表面の数nm程度の微小な凹凸と数μm程度の大きな
凹凸を共に正確に表したものとなる。
号を一定に保つようにzアクチュエーターを制御する。
zドライバーが出力するz駆動信号は試料表面の数nm
程度の微小な凹凸に対応する高周波成分と数μm程度の
大きな凹凸に対応する低周波成分とを含んでおり、この
低周波成分は圧電体のヒステリシスによる歪みを含んで
いる。この低周波成分はハイパスフィルター等の低周波
成分除去手段により除去される。したがって、低周波除
去手段の出力信号は試料表面の数nm程度の微小な凹凸
を殆ど歪み無く表したものとなる。一方、z変位検出手
段が出力するz変位信号は試料表面の数μm程度の大き
な凹凸に対応する低周波成分と高い周波数のノイズ成分
とを含んでいる。このノイズ成分はローパスフィルター
等の高周波成分除去手段によって除去される。したがっ
て、高周波除去手段の出力信号は試料表面の数μm程度
の大きな凹凸を正確に表したものとなる。低周波除去手
段の出力信号と高周波除去手段の出力信号は加算手段に
より加算される。したがって、加算手段の出力信号は試
料表面の数nm程度の微小な凹凸と数μm程度の大きな
凹凸を共に正確に表したものとなる。
【0019】
【実施例】本発明の実施例の走査型プローブ顕微鏡につ
いて図2と図3を用いて説明する。図2から分かるよう
に本実施例の構成は図1を用いて説明した前述の従来例
に似ており、既に説明した部材と同じ部材は図2に同一
符号で示し、以下の説明ではその詳しい説明は省略す
る。
いて図2と図3を用いて説明する。図2から分かるよう
に本実施例の構成は図1を用いて説明した前述の従来例
に似ており、既に説明した部材と同じ部材は図2に同一
符号で示し、以下の説明ではその詳しい説明は省略す
る。
【0020】図2に示すように、本実施例の走査型プロ
ーブ顕微鏡は、スキャナー12のz変位を求める構成が
図1の従来例と異なっており、従来例の構成に加えて、
プリアンプ32から出力されるz変位信号dzから高周
波成分を除去するローパスフィルター40と、ドライバ
ー20から出力されるz駆動信号zdrv から低周波成分
を除去するハイパスフィルター42と、ローパスフィル
ター40からの低周波信号zL とハイパスフィルター4
2からの高周波信号zH を加算する加算器44と、演算
回路34に入力する高さ情報の信号を選択するための切
換スイッチ52とを有している。
ーブ顕微鏡は、スキャナー12のz変位を求める構成が
図1の従来例と異なっており、従来例の構成に加えて、
プリアンプ32から出力されるz変位信号dzから高周
波成分を除去するローパスフィルター40と、ドライバ
ー20から出力されるz駆動信号zdrv から低周波成分
を除去するハイパスフィルター42と、ローパスフィル
ター40からの低周波信号zL とハイパスフィルター4
2からの高周波信号zH を加算する加算器44と、演算
回路34に入力する高さ情報の信号を選択するための切
換スイッチ52とを有している。
【0021】x方向とy方向に関する制御およびx変位
信号とy変位信号の検出は従来例と全く同じである。ま
たz方向に関する制御も従来例と同じで、z変位信号の
検出が従来例と異なる。以下ではz変位信号の検出につ
いて図3を参照しながら説明する。
信号とy変位信号の検出は従来例と全く同じである。ま
たz方向に関する制御も従来例と同じで、z変位信号の
検出が従来例と異なる。以下ではz変位信号の検出につ
いて図3を参照しながら説明する。
【0022】測定の間、ドライバー20は、プローブ変
位信号zprv を一定に保つように、チューブスキャナー
12をz方向に制御する。ドライバー20が出力するz
駆動信号zdrv は、試料表面の数nm程度の微小な凹凸
に対応する高周波成分58と、緩やかに変化する数μm
程度の大きな凹凸に対応する低周波成分60とを含んで
いる。この低周波成分60は、圧電体のヒステリシスの
影響による歪みを含んでいる。z駆動信号zdrv は、適
当なカットオフ周波数(たとえば100Hz)を持つハ
イパスフィルター42に入力され、大きな凹凸に対応す
る低周波成分60が除去され、微小な凹凸に対応する高
周波成分58からなる高周波信号zH になる。この高周
波信号zH は端子50と加算器44に供給される。
位信号zprv を一定に保つように、チューブスキャナー
12をz方向に制御する。ドライバー20が出力するz
駆動信号zdrv は、試料表面の数nm程度の微小な凹凸
に対応する高周波成分58と、緩やかに変化する数μm
程度の大きな凹凸に対応する低周波成分60とを含んで
いる。この低周波成分60は、圧電体のヒステリシスの
影響による歪みを含んでいる。z駆動信号zdrv は、適
当なカットオフ周波数(たとえば100Hz)を持つハ
イパスフィルター42に入力され、大きな凹凸に対応す
る低周波成分60が除去され、微小な凹凸に対応する高
周波成分58からなる高周波信号zH になる。この高周
波信号zH は端子50と加算器44に供給される。
【0023】一方、スキャナー変位センサー30から出
力されたz変位信号dzは、緩やかに変化する大きな凹
凸に対応する低周波成分56と、スキャナー変位センサ
ー30やプリアンプ32により生じるノイズ成分54を
含んだ信号になっている。このノイズはホワイトノイズ
のように周波数がランダムなノイズである。数ナノメー
トル程度の微小な凹凸はノイズ成分54に埋もれて見え
ない。z変位信号dzはチューブスキャナー12の実際
のz方向変位を測定したものなので、信号と変位の関係
は直線的なものである。このz変位信号dzはローパス
フィルター40に入力され、高い周波数のノイズ成分5
4が除去され、大きな凹凸に対応した低周波成分56か
らなる低周波信号zL となる。低周波信号zL は端子4
6と加算器44に供給される。
力されたz変位信号dzは、緩やかに変化する大きな凹
凸に対応する低周波成分56と、スキャナー変位センサ
ー30やプリアンプ32により生じるノイズ成分54を
含んだ信号になっている。このノイズはホワイトノイズ
のように周波数がランダムなノイズである。数ナノメー
トル程度の微小な凹凸はノイズ成分54に埋もれて見え
ない。z変位信号dzはチューブスキャナー12の実際
のz方向変位を測定したものなので、信号と変位の関係
は直線的なものである。このz変位信号dzはローパス
フィルター40に入力され、高い周波数のノイズ成分5
4が除去され、大きな凹凸に対応した低周波成分56か
らなる低周波信号zL となる。低周波信号zL は端子4
6と加算器44に供給される。
【0024】加算器44は低周波信号zL と高周波信号
zH を加算する。その加算信号zHLは、大きな凹凸に対
応する低周波成分56と微小な凹凸に対応する高周波成
分58を含んだものとなっている。高周波成分58は、
微小な凹凸に対応するチューブスキャナー12の駆動電
圧で、圧電体に固有の非直線性の影響は無視できる。従
って、加算信号zHLは、試料表面の実際の凹凸を非常に
正確に表現している。
zH を加算する。その加算信号zHLは、大きな凹凸に対
応する低周波成分56と微小な凹凸に対応する高周波成
分58を含んだものとなっている。高周波成分58は、
微小な凹凸に対応するチューブスキャナー12の駆動電
圧で、圧電体に固有の非直線性の影響は無視できる。従
って、加算信号zHLは、試料表面の実際の凹凸を非常に
正確に表現している。
【0025】演算回路34に入力する高さ情報の信号
は、切換スイッチ52により選択される。すなわち、切
換スイッチ52で端子46を選択した場合には低周波信
号zLが高さ情報の信号として演算回路34に入力さ
れ、端子48を選択した場合には加算信号zHLが高さ情
報の信号として演算回路34に入力され、端子50を選
択した場合には低周波信号zH が高さ情報の信号として
演算回路34に入力される。演算回路34は入力される
高さ情報の信号をチューブスキャナー12のx変位信号
dxとy変位信号dyに同期させて処理し、試料表面の
凹凸像を形成する。この凹凸像はモニター36に表示さ
れる。
は、切換スイッチ52により選択される。すなわち、切
換スイッチ52で端子46を選択した場合には低周波信
号zLが高さ情報の信号として演算回路34に入力さ
れ、端子48を選択した場合には加算信号zHLが高さ情
報の信号として演算回路34に入力され、端子50を選
択した場合には低周波信号zH が高さ情報の信号として
演算回路34に入力される。演算回路34は入力される
高さ情報の信号をチューブスキャナー12のx変位信号
dxとy変位信号dyに同期させて処理し、試料表面の
凹凸像を形成する。この凹凸像はモニター36に表示さ
れる。
【0026】切換スイッチ52を端子48に切り換え
て、高さ情報の信号として加算信号zHLを選択した場
合、試料表面に数nm程度の微小な凹凸と数μm程度の
大きな凹凸が混在する場合にも、上述したように加算信
号zHLの性質から分かるように、歪みの少ない試料表面
の凹凸像が得られる。
て、高さ情報の信号として加算信号zHLを選択した場
合、試料表面に数nm程度の微小な凹凸と数μm程度の
大きな凹凸が混在する場合にも、上述したように加算信
号zHLの性質から分かるように、歪みの少ない試料表面
の凹凸像が得られる。
【0027】なお、試料表面の数μm程度の大きな凹凸
だけを正確に測定したい場合には、切換スイッチ52を
端子46に切り換えて、高さ情報の信号として低周波信
号zL を選択するとよい。また、試料表面の数nm程度
の微小な凹凸だけを正確に測定したい場合には、切換ス
イッチ52を端子50に切り換えて、高さ情報の信号と
して低周波信号zL を選択するとよい。このように測定
の対象を限定した場合には、高さ情報の信号に加算器4
4によるノイズが含まれないので、この方が精度の面で
好ましい。
だけを正確に測定したい場合には、切換スイッチ52を
端子46に切り換えて、高さ情報の信号として低周波信
号zL を選択するとよい。また、試料表面の数nm程度
の微小な凹凸だけを正確に測定したい場合には、切換ス
イッチ52を端子50に切り換えて、高さ情報の信号と
して低周波信号zL を選択するとよい。このように測定
の対象を限定した場合には、高さ情報の信号に加算器4
4によるノイズが含まれないので、この方が精度の面で
好ましい。
【0028】本実施例では、x方向とy方向に関して、
スキャナー変位センサー30の出力する変位信号dxと
dyに基づいてチューブスキャナー12をフィードバッ
ク制御しているが、フィードバック制御は必ずしも行な
う必要はない。つまり、x方向とy方向はオープン制御
としてもよく、この場合、一定のタイミングでサンプリ
ングを行なった際に測定点の間隔が不均等になるという
違いが生じるだけで、試料表面の像は上述した実施例と
同様に殆ど歪み無く得られる。
スキャナー変位センサー30の出力する変位信号dxと
dyに基づいてチューブスキャナー12をフィードバッ
ク制御しているが、フィードバック制御は必ずしも行な
う必要はない。つまり、x方向とy方向はオープン制御
としてもよく、この場合、一定のタイミングでサンプリ
ングを行なった際に測定点の間隔が不均等になるという
違いが生じるだけで、試料表面の像は上述した実施例と
同様に殆ど歪み無く得られる。
【0029】また、実施例では試料を移動させるタイプ
の走査型プローブ顕微鏡を例にあげて説明したが、本発
明の技術思想はプローブを移動させるタイプの走査型プ
ローブ顕微鏡にも適用できることは勿論である。
の走査型プローブ顕微鏡を例にあげて説明したが、本発
明の技術思想はプローブを移動させるタイプの走査型プ
ローブ顕微鏡にも適用できることは勿論である。
【0030】本発明は以下に述べる技術思想を含んでお
り、この技術思想から逸脱しない範囲で変形や改良や修
正を施したものも当然の事ながら本発明に含まれる。 1. 試料の表面の凹凸形状を測定する走査型プローブ
顕微鏡であって、試料表面の凹凸形状に対応して、試料
表面に垂直な方向(z方向)に変位するプローブと、プ
ローブを試料表面に平行な方向(xy方向)に走査する
xy走査手段と、プローブのz方向変位を検出し、それ
に対応した信号を出力するプローブ変位検出手段と、プ
ローブと試料の間隔を調整するための、圧電素子からな
るzアクチュエーターと、プローブ変位検出手段の出力
信号に基づき、プローブと試料表面の間隔を一定に保つ
ようにzアクチュエーターを駆動するz駆動信号を出力
するzドライバーと、zアクチュエーターにより移動さ
れる物体のz方向の位置を検出し、それに対応したz変
位信号を出力するz変位検出手段と、z駆動信号から低
周波成分を除去する低周波成分除去手段と、z変位信号
から高周波成分を除去する高周波成分除去手段と、低周
波成分除去手段の出力と高周波成分除去手段の出力を加
算する加算手段とを備えている走査型プローブ顕微鏡。 2. 第1項において、xy走査手段は、プローブと試
料のxy方向の相対位置を変化させるための、圧電素子
からなるxyアクチュエーターと、xy走査を行なうよ
うにxyアクチュエーターを駆動するxy走査信号を出
力するxy駆動手段とを有し、走査型プローブ顕微鏡
は、xyアクチュエーターにより移動される物体のxy
方向の位置を検出し、それに対応したxy変位信号を出
力するxy変位検出手段を更に備え、xy駆動手段は、
xy走査信号を発生する走査信号発生手段と、xy変位
検出信号に基づいてxy走査信号を補正し、補正xy走
査信号を出力する補正手段と、補正xy走査信号に基づ
いてxyアクチュエーターを駆動するxyドライバーと
を含み、xyアクチュエーターとzアクチュエーターは
単一のxyzアクチュエーターを構成し、xy変位検出
手段とz変位検出手段は単一のxyz変位検出手段を構
成している、走査型プローブ顕微鏡。 3. 第2項において、xyzアクチュエーターが円筒
型圧電アクチュエーターである、走査型プローブ顕微
鏡。 4. 第2項において、走査型プローブ顕微鏡は、加算
手段から出力される加算信号と、xy変位検出手段から
出力されるxy変位信号とに基づいて、試料表面の像を
形成する演算手段を更に備えている、走査型プローブ顕
微鏡。 5. 第2項において、走査型プローブ顕微鏡は、加算
手段の出力と高周波成分除去手段の出力と低周波成分除
去手段の出力のいずれか一つと、xy変位信号とに基づ
いて、試料表面の像を形成する処理手段と、加算手段の
出力と高周波成分除去手段の出力と低周波成分除去手段
の出力のいずれか一つを選択して演算手段に入力するス
イッチ手段とを更に備えている、走査型プローブ顕微
鏡。 6. 第2項において、xyzアクチュエーターが試料
を移動させる、走査型プローブ顕微鏡。 7. 第2項において、xyzアクチュエーターがプロ
ーブを移動させる、走査型プローブ顕微鏡。
り、この技術思想から逸脱しない範囲で変形や改良や修
正を施したものも当然の事ながら本発明に含まれる。 1. 試料の表面の凹凸形状を測定する走査型プローブ
顕微鏡であって、試料表面の凹凸形状に対応して、試料
表面に垂直な方向(z方向)に変位するプローブと、プ
ローブを試料表面に平行な方向(xy方向)に走査する
xy走査手段と、プローブのz方向変位を検出し、それ
に対応した信号を出力するプローブ変位検出手段と、プ
ローブと試料の間隔を調整するための、圧電素子からな
るzアクチュエーターと、プローブ変位検出手段の出力
信号に基づき、プローブと試料表面の間隔を一定に保つ
ようにzアクチュエーターを駆動するz駆動信号を出力
するzドライバーと、zアクチュエーターにより移動さ
れる物体のz方向の位置を検出し、それに対応したz変
位信号を出力するz変位検出手段と、z駆動信号から低
周波成分を除去する低周波成分除去手段と、z変位信号
から高周波成分を除去する高周波成分除去手段と、低周
波成分除去手段の出力と高周波成分除去手段の出力を加
算する加算手段とを備えている走査型プローブ顕微鏡。 2. 第1項において、xy走査手段は、プローブと試
料のxy方向の相対位置を変化させるための、圧電素子
からなるxyアクチュエーターと、xy走査を行なうよ
うにxyアクチュエーターを駆動するxy走査信号を出
力するxy駆動手段とを有し、走査型プローブ顕微鏡
は、xyアクチュエーターにより移動される物体のxy
方向の位置を検出し、それに対応したxy変位信号を出
力するxy変位検出手段を更に備え、xy駆動手段は、
xy走査信号を発生する走査信号発生手段と、xy変位
検出信号に基づいてxy走査信号を補正し、補正xy走
査信号を出力する補正手段と、補正xy走査信号に基づ
いてxyアクチュエーターを駆動するxyドライバーと
を含み、xyアクチュエーターとzアクチュエーターは
単一のxyzアクチュエーターを構成し、xy変位検出
手段とz変位検出手段は単一のxyz変位検出手段を構
成している、走査型プローブ顕微鏡。 3. 第2項において、xyzアクチュエーターが円筒
型圧電アクチュエーターである、走査型プローブ顕微
鏡。 4. 第2項において、走査型プローブ顕微鏡は、加算
手段から出力される加算信号と、xy変位検出手段から
出力されるxy変位信号とに基づいて、試料表面の像を
形成する演算手段を更に備えている、走査型プローブ顕
微鏡。 5. 第2項において、走査型プローブ顕微鏡は、加算
手段の出力と高周波成分除去手段の出力と低周波成分除
去手段の出力のいずれか一つと、xy変位信号とに基づ
いて、試料表面の像を形成する処理手段と、加算手段の
出力と高周波成分除去手段の出力と低周波成分除去手段
の出力のいずれか一つを選択して演算手段に入力するス
イッチ手段とを更に備えている、走査型プローブ顕微
鏡。 6. 第2項において、xyzアクチュエーターが試料
を移動させる、走査型プローブ顕微鏡。 7. 第2項において、xyzアクチュエーターがプロ
ーブを移動させる、走査型プローブ顕微鏡。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、数μm程度の大きな凹
凸と数nm程度の微小な凹凸が混在する試料に対して
も、表面の凹凸を殆ど歪み無く正確に測定することので
きる走査型プローブ顕微鏡が得られる。
凸と数nm程度の微小な凹凸が混在する試料に対して
も、表面の凹凸を殆ど歪み無く正確に測定することので
きる走査型プローブ顕微鏡が得られる。
【図1】従来例の走査型プローブ顕微鏡の構成を概略的
に示している。
に示している。
【図2】本発明の走査型プローブ顕微鏡の一実施例の構
成を概略的に示している。
成を概略的に示している。
【図3】高さ情報に関与する各種信号の波形を示してい
る。
る。
12…圧電チューブスキャナー、14…プローブ、18
…プローブ変位センサー、20…ドライバー、30…ス
キャナー変位センサー、40…ローパスフィルター、4
2…ハイパスフィルター、44…加算器。
…プローブ変位センサー、20…ドライバー、30…ス
キャナー変位センサー、40…ローパスフィルター、4
2…ハイパスフィルター、44…加算器。
Claims (2)
- 【請求項1】試料表面の凹凸形状に対応して、試料表面
に垂直な方向(z方向)に変位するプローブと、 プローブを試料表面に平行な方向(xy方向)に走査す
るxy走査手段と、 プローブのz方向変位を検出し、それに対応した信号を
出力するプローブ変位検出手段と、 プローブと試料の間隔を調整するための、圧電素子から
なるzアクチュエーターと、 プローブ変位検出手段の出力信号に基づき、プローブと
試料表面の間隔を一定に保つようにzアクチュエーター
を駆動するz駆動信号を出力するzドライバーと、 zアクチュエーターにより移動される物体のz方向の位
置を検出し、それに対応したz変位信号を出力するz変
位検出手段と、 z駆動信号から低周波成分を除去する低周波成分除去手
段と、 z変位信号から高周波成分を除去する高周波成分除去手
段と、 低周波成分除去手段の出力と高周波成分除去手段の出力
を加算する加算手段とを備えている走査型プローブ顕微
鏡。 - 【請求項2】請求項1において、 xy走査手段は、プローブと試料のxy方向の相対位置
を変化させるための、圧電素子からなるxyアクチュエ
ーターと、xy走査を行なうようにxyアクチュエータ
ーを駆動するxy走査信号を出力するxy駆動手段とを
有し、 走査型プローブ顕微鏡は、xyアクチュエーターにより
移動される物体のxy方向の位置を検出し、それに対応
したxy変位信号を出力するxy変位検出手段を更に備
え、 xy駆動手段は、xy走査信号を発生する走査信号発生
手段と、xy変位検出信号に基づいてxy走査信号を補
正し、補正xy走査信号を出力する補正手段と、補正x
y走査信号に基づいてxyアクチュエーターを駆動する
xyドライバーとを含み、 xyアクチュエーターとzアクチュエーターは単一のx
yzアクチュエーターを構成し、 xy変位検出手段とz変位検出手段は単一のxyz変位
検出手段を構成している、走査型プローブ顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6311859A JPH08166392A (ja) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6311859A JPH08166392A (ja) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08166392A true JPH08166392A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=18022284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6311859A Withdrawn JPH08166392A (ja) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08166392A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010014591A (ja) * | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Mitsutoyo Corp | 微細形状測定装置 |
-
1994
- 1994-12-15 JP JP6311859A patent/JPH08166392A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010014591A (ja) * | 2008-07-04 | 2010-01-21 | Mitsutoyo Corp | 微細形状測定装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020305 |