JPH08167497A - プラズマ溶射トーチ - Google Patents
プラズマ溶射トーチInfo
- Publication number
- JPH08167497A JPH08167497A JP6307482A JP30748294A JPH08167497A JP H08167497 A JPH08167497 A JP H08167497A JP 6307482 A JP6307482 A JP 6307482A JP 30748294 A JP30748294 A JP 30748294A JP H08167497 A JPH08167497 A JP H08167497A
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- JP
- Japan
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- plasma
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- plasma jet
- cathode
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 効率よく溶射粉体を加熱するプラズマ溶射ト
ーチを得る。 【構成】 基端部が拡大した径のプラズマジェット流路
を持つとともにその周囲に冷却水通路を持つ陽極１、プ
ラズマジェット流路の基端部の径とほぼ同径の穴を持つ
とともに同穴の先端部に導通する周囲ガス通路を持ち前
先が陽極の基端に同軸に結合された絶縁体４、同軸に作
動ガス・溶射粉体混合路を持つとともにその周囲に冷却
水路を持ち前部が絶縁体の周囲ガス通路近くまで同軸に
密着挿入された陰極台６、同陰極台の先端に基端が同軸
に結合され外径が陽極のプラズマジェット流路の基部径
よりも小さい筒形の陰極を設ける。
ーチを得る。 【構成】 基端部が拡大した径のプラズマジェット流路
を持つとともにその周囲に冷却水通路を持つ陽極１、プ
ラズマジェット流路の基端部の径とほぼ同径の穴を持つ
とともに同穴の先端部に導通する周囲ガス通路を持ち前
先が陽極の基端に同軸に結合された絶縁体４、同軸に作
動ガス・溶射粉体混合路を持つとともにその周囲に冷却
水路を持ち前部が絶縁体の周囲ガス通路近くまで同軸に
密着挿入された陰極台６、同陰極台の先端に基端が同軸
に結合され外径が陽極のプラズマジェット流路の基部径
よりも小さい筒形の陰極を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は溶射粉体を効率よく加熱
するようにしたプラズマ溶射トーチに関する。
するようにしたプラズマ溶射トーチに関する。
【０００２】
【従来の技術】陽極と陰極との間に電流を流して発生さ
せたプラズマをジェットとして噴出させるとともに、同
ジェットに溶射粉体を供給して被加工物表面に溶射皮膜
を形成するプラズマ溶射トーチとしては、従来一般的な
ものとして図２の縦断面図に示すものが知られている。
すなわち図２において、銅製の陽極２１の軸線上には基
部が拡大した径のプラズマジェット流路２３が開口され
ており、この陽極２１の基部側には穴を持つ絶縁体２４
が同軸に固着されている。この絶縁体２４の穴に、先端
にタングステン製の陰極２５を取付けた陰極電流導入部
２６が挿入され、陰極２５が陽極２１の基端部（プラズ
マ発生チャンバーａ）内に配置されている。
せたプラズマをジェットとして噴出させるとともに、同
ジェットに溶射粉体を供給して被加工物表面に溶射皮膜
を形成するプラズマ溶射トーチとしては、従来一般的な
ものとして図２の縦断面図に示すものが知られている。
すなわち図２において、銅製の陽極２１の軸線上には基
部が拡大した径のプラズマジェット流路２３が開口され
ており、この陽極２１の基部側には穴を持つ絶縁体２４
が同軸に固着されている。この絶縁体２４の穴に、先端
にタングステン製の陰極２５を取付けた陰極電流導入部
２６が挿入され、陰極２５が陽極２１の基端部（プラズ
マ発生チャンバーａ）内に配置されている。
【０００３】また絶縁体２４には、先端がプラズマジェ
ット流路２３基部に通ずるように作動ガス供給路２７が
設けられており、一方陽極２１の先端部寄りには、先端
がプラズマジェット流路２３の出口（噴口ｂ）寄りにほ
ぼ直角に通ずるように溶射粉体供給通路２８が設けられ
ている。更に陽極２１には冷却水通路２９が設けられ
て、その冷却水入口部が陽極電流導入部３０に形成され
ており、陰極電流導入部２６にも陽極２１の冷却水通路
２９と通じた冷却水通路３１が設けられている。
ット流路２３基部に通ずるように作動ガス供給路２７が
設けられており、一方陽極２１の先端部寄りには、先端
がプラズマジェット流路２３の出口（噴口ｂ）寄りにほ
ぼ直角に通ずるように溶射粉体供給通路２８が設けられ
ている。更に陽極２１には冷却水通路２９が設けられ
て、その冷却水入口部が陽極電流導入部３０に形成され
ており、陰極電流導入部２６にも陽極２１の冷却水通路
２９と通じた冷却水通路３１が設けられている。
【０００４】このようなプラズマ溶射トーチによりプラ
ズマ溶射を行うにあたっては、まず陽極２１及び陰極２
５を冷却するために、冷却水通路２９，３１に冷却水を
流すとともに作動ガス供給通路２７からプラズマ発生チ
ャンバ２２へ、Ａｒガス，Ｈｅガス，Ｎ2 ガス、または
これらの混合ガスなどの作動ガスを流す。次に直流電源
より陽極２１に正、陰極２５に負の印加電圧を加え、続
いて高周波電源より陽極２１と陰極２５との間に高周波
電圧を印加して両電極２１，２５間に火花放電を発生さ
せる。
ズマ溶射を行うにあたっては、まず陽極２１及び陰極２
５を冷却するために、冷却水通路２９，３１に冷却水を
流すとともに作動ガス供給通路２７からプラズマ発生チ
ャンバ２２へ、Ａｒガス，Ｈｅガス，Ｎ2 ガス、または
これらの混合ガスなどの作動ガスを流す。次に直流電源
より陽極２１に正、陰極２５に負の印加電圧を加え、続
いて高周波電源より陽極２１と陰極２５との間に高周波
電圧を印加して両電極２１，２５間に火花放電を発生さ
せる。
【０００５】この火花放電により、先に印加されている
直流電源からの印加電圧によって陽極２１と陰極２５と
の間にプラズマが発生し、プラズマ発生チャンバａには
高温プラズマが充満し、プラズマジェット噴口ｂから高
温高速のプラズマジェットとして噴出する。このとき電
流を徐々に増してプラズマジェットが安定したのち、溶
射粉体供給路２８から溶射粉体を、プラズマ発生チャン
バａのプラズマジェット噴口ｂ寄りに供給する。プラズ
マジェットに供給された溶射粉体の粒子は昇温され、加
速されて高温高速のプラズマジェットと一緒に噴出す
る。
直流電源からの印加電圧によって陽極２１と陰極２５と
の間にプラズマが発生し、プラズマ発生チャンバａには
高温プラズマが充満し、プラズマジェット噴口ｂから高
温高速のプラズマジェットとして噴出する。このとき電
流を徐々に増してプラズマジェットが安定したのち、溶
射粉体供給路２８から溶射粉体を、プラズマ発生チャン
バａのプラズマジェット噴口ｂ寄りに供給する。プラズ
マジェットに供給された溶射粉体の粒子は昇温され、加
速されて高温高速のプラズマジェットと一緒に噴出す
る。
【０００６】しかしながら、このようなプラズマ溶射ト
ーチにおいては、溶射粉体の供給がプラズマジェット噴
口ｂの近くで、かつ噴出方向に対してほぼ直交するの
で、供給された溶射粉体の粒子の加熱の効率が悪い上
に、粒子が均一に加熱，加速されることがなく、プラズ
マジェット中に昇温，加速が不十分で、エネルギーの低
い粒子が多数存在することになり、従って溶射皮膜の緻
密度，強度及び密着性が低下する。
ーチにおいては、溶射粉体の供給がプラズマジェット噴
口ｂの近くで、かつ噴出方向に対してほぼ直交するの
で、供給された溶射粉体の粒子の加熱の効率が悪い上
に、粒子が均一に加熱，加速されることがなく、プラズ
マジェット中に昇温，加速が不十分で、エネルギーの低
い粒子が多数存在することになり、従って溶射皮膜の緻
密度，強度及び密着性が低下する。
【０００７】また金属とセラミックの混合皮膜の形成に
あたっても、上述と同様に溶射粉体供給路２８に金属，
セラミックの２種の溶射粉体を供給する。供給された金
属，セラミックの２種の溶射粉体は密度、粒径及び融点
が異なるため、溶射粉体の供給をプラズマジェット噴口
ｂの近くで、かつ噴出方向に対してほぼ直交して行う
と、それぞれの粒子の昇温，加速がより不均一になり、
従って混合溶射皮膜の混合比率の不安定、緻密度，強度
及び密着性が低下する。
あたっても、上述と同様に溶射粉体供給路２８に金属，
セラミックの２種の溶射粉体を供給する。供給された金
属，セラミックの２種の溶射粉体は密度、粒径及び融点
が異なるため、溶射粉体の供給をプラズマジェット噴口
ｂの近くで、かつ噴出方向に対してほぼ直交して行う
と、それぞれの粒子の昇温，加速がより不均一になり、
従って混合溶射皮膜の混合比率の不安定、緻密度，強度
及び密着性が低下する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のものは、溶
射粉体の粒子の加熱の効率が悪い上に、粒子が均一に加
熱，加速されないという問題点があった。
射粉体の粒子の加熱の効率が悪い上に、粒子が均一に加
熱，加速されないという問題点があった。
【０００９】本発明はこれらの問題点を解決することを
技術的課題とする。
技術的課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため次の手段を講ずる。
するため次の手段を講ずる。
【００１１】すなわち、プラズマ溶射トーチとして、基
端部が拡大した径のプラズマジェット流路を持つととも
にその周囲に冷却水通路を持つ陽極と、上記プラズマジ
ェット流路の基端部の径とほぼ同径の穴を持つとともに
同穴の先端部に導通する周囲ガス通路を持ち先端が上記
陽極の基端に同軸に結合された絶縁体と、同軸に作動ガ
ス・溶射粉体混合路を持つとともにその周囲に冷却水路
を持ち前部が上記絶縁体の周囲ガス通路近くまで同軸に
密着挿入された陰極台と、同陰極台の先端に基端が同軸
に結合され外径が上記陽極のプラズマジェット流路の基
部の径よりも小さい筒形の陰極とを設ける。
端部が拡大した径のプラズマジェット流路を持つととも
にその周囲に冷却水通路を持つ陽極と、上記プラズマジ
ェット流路の基端部の径とほぼ同径の穴を持つとともに
同穴の先端部に導通する周囲ガス通路を持ち先端が上記
陽極の基端に同軸に結合された絶縁体と、同軸に作動ガ
ス・溶射粉体混合路を持つとともにその周囲に冷却水路
を持ち前部が上記絶縁体の周囲ガス通路近くまで同軸に
密着挿入された陰極台と、同陰極台の先端に基端が同軸
に結合され外径が上記陽極のプラズマジェット流路の基
部の径よりも小さい筒形の陰極とを設ける。
【００１２】
【作用】本発明において、陰極台と陽極間に電圧が印加
され、作動ガス・溶射粉体混合路から作動ガスが送られ
ると、陽極と陰極間（陽極の径の大きいプラズマジェッ
ト流路部）でプラズマが発生する。このとき周囲ガス通
路からプラズマ安定化ガスが供給されるとプラズマが安
定する。その後、作動ガス・溶射粉体混合路から作動ガ
スおよび溶射粉体の混合が送られると、これらは陰極の
先端からプラズマ中に供給され・そこで溶射粉体は急速
に昇温されて高温高速のプラズマジェットとともにプラ
ズマジェットと流路出口から噴出される。
され、作動ガス・溶射粉体混合路から作動ガスが送られ
ると、陽極と陰極間（陽極の径の大きいプラズマジェッ
ト流路部）でプラズマが発生する。このとき周囲ガス通
路からプラズマ安定化ガスが供給されるとプラズマが安
定する。その後、作動ガス・溶射粉体混合路から作動ガ
スおよび溶射粉体の混合が送られると、これらは陰極の
先端からプラズマ中に供給され・そこで溶射粉体は急速
に昇温されて高温高速のプラズマジェットとともにプラ
ズマジェットと流路出口から噴出される。
【００１３】このようにして、安定なプラズマが得られ
るとともに、溶射粉体は陰極の先端、すなわち陽極のプ
ラズマジェット流路の基部からプラズマに軸方向に供給
されるので、効率よくかつ均一に加熱される。
るとともに、溶射粉体は陰極の先端、すなわち陽極のプ
ラズマジェット流路の基部からプラズマに軸方向に供給
されるので、効率よくかつ均一に加熱される。
【００１４】
【実施例】上記本発明の一実施例を図１により説明す
る。陽極１は銅製の円柱形で、同軸に基端部が拡大（プ
ラズマ発生チャンバａ）した径のプラズマジェット流路
３を持つ。この周囲に冷却水通路１０が設けられ、外側
面に径方向の入口と出口があり、これが陽極電流導入部
１１と兼用になっている。
る。陽極１は銅製の円柱形で、同軸に基端部が拡大（プ
ラズマ発生チャンバａ）した径のプラズマジェット流路
３を持つ。この周囲に冷却水通路１０が設けられ、外側
面に径方向の入口と出口があり、これが陽極電流導入部
１１と兼用になっている。
【００１５】絶縁体４は陽極１と同径の円柱形で、陽極
１のプラズマジェット流路３の基端部の径とほぼ同径の
穴ｃがあけられている。また先端部に先端部が径方向に
向き穴ｃに導通する周囲ガス通路９が設けられている。
この絶縁体４はその先端が陽極１の基端に同軸に結合さ
れている。
１のプラズマジェット流路３の基端部の径とほぼ同径の
穴ｃがあけられている。また先端部に先端部が径方向に
向き穴ｃに導通する周囲ガス通路９が設けられている。
この絶縁体４はその先端が陽極１の基端に同軸に結合さ
れている。
【００１６】陰極台６は先端部が穴ｃと同径で基端部の
径が大きい段差の円柱形で、同軸に先端部が絞られ先端
が開で、基端が閉の作動ガス・溶射粉体混合路７が設け
られている。また混合路７の内面にはら旋状の溝ｄが切
られている。さらに混合路７の基端に導通する作動ガス
通路１３と溶射粉体通路１４が設けられている。
径が大きい段差の円柱形で、同軸に先端部が絞られ先端
が開で、基端が閉の作動ガス・溶射粉体混合路７が設け
られている。また混合路７の内面にはら旋状の溝ｄが切
られている。さらに混合路７の基端に導通する作動ガス
通路１３と溶射粉体通路１４が設けられている。
【００１７】混合路７の周囲には冷却水通路１２が設け
られ、基部側面に径方向の入口と出口が配置され、陰極
電流導入部１５と兼用になっている。
られ、基部側面に径方向の入口と出口が配置され、陰極
電流導入部１５と兼用になっている。
【００１８】陰極台６の前部はその先端が周囲ガス通路
９の近くに達するまで、絶縁体４の基端部から穴ｃに密
着挿入される。
９の近くに達するまで、絶縁体４の基端部から穴ｃに密
着挿入される。
【００１９】陰極台６の先端にはプラズマジェット流路
３の基部の径よりも小さい径の筒形のタングステン製の
陰極５の基端が同軸に取付けられている。
３の基部の径よりも小さい径の筒形のタングステン製の
陰極５の基端が同軸に取付けられている。
【００２０】このようなプラズマ溶射トーチによりプラ
ズマ溶射を行うにあたり、まず陽極１及び陰極５を冷却
するために冷却水通路１０，１２に冷却水を流すととも
に作動ガス・溶射粉体の混合路７を介して陰極５の穴
（作動ガス及び溶射粉体供給路８）からプラズマ発生チ
ャンバａへ、例えばＡｒガス約２５ l／min の流量で作
動ガスを流す。次に直流電源より陽極１に正，陰極５に
負の印加電圧を加え、続いて高周波電源より、陽極１と
陰極５との間に高周波電圧を印加して両電極１，５間に
火花放電を発生させる。
ズマ溶射を行うにあたり、まず陽極１及び陰極５を冷却
するために冷却水通路１０，１２に冷却水を流すととも
に作動ガス・溶射粉体の混合路７を介して陰極５の穴
（作動ガス及び溶射粉体供給路８）からプラズマ発生チ
ャンバａへ、例えばＡｒガス約２５ l／min の流量で作
動ガスを流す。次に直流電源より陽極１に正，陰極５に
負の印加電圧を加え、続いて高周波電源より、陽極１と
陰極５との間に高周波電圧を印加して両電極１，５間に
火花放電を発生させる。
【００２１】この火花放電により、先に印加されている
直流電源からの印加電圧によって陽極１と陰極５との間
にプラズマが発生し、プラズマ発生チャンバａには高温
プラズマが充満し、プラズマジェット噴口ｂから高温高
速のプラズマジェットとして噴出する。このとき電流を
徐々に増して、例えば約７００Ａとし、次に周囲ガス通
路９から、例えばＮ2 ガス約１．５ l/minを流すと、電
流，電圧は約７００Ａ，約３８Ｖとなりプラズマジェッ
トが安定する。
直流電源からの印加電圧によって陽極１と陰極５との間
にプラズマが発生し、プラズマ発生チャンバａには高温
プラズマが充満し、プラズマジェット噴口ｂから高温高
速のプラズマジェットとして噴出する。このとき電流を
徐々に増して、例えば約７００Ａとし、次に周囲ガス通
路９から、例えばＮ2 ガス約１．５ l/minを流すと、電
流，電圧は約７００Ａ，約３８Ｖとなりプラズマジェッ
トが安定する。
【００２２】プラズマジェットが安定したのち、作動ガ
ス・溶射粉体混合路７を介して作動ガス及び溶射粉体供
給路８からプラズマ発生チャンバａへ、溶射粉体例えば
粒度分布約１０〜４０μm のＡｌ2 Ｏ3 粉体を、Ａｒガ
ス約５ l/minをキャリアガスとして約２０ g/minの流量
で供給する。プラズマに供給された溶射粉体の粒子は急
速に昇温され加速されて、高温高速のプラズマジェット
と一緒に噴出する。このときプラズマに供給される溶射
粉体はプラズマジェットの噴出方向と同一方向に供給さ
れるため、粒子の加熱，加速が均一となり、十分な緻密
度，強度及び密着性を有する高品質の溶射皮膜が形成さ
れる。また溶射粉体は作動ガス・溶射粉体の混合路７で
作動ガスとともに、ら旋状の溝ｄにより旋回され直進性
を与えられプラズマ中心に供給されるので加熱の効率が
よい。更に周囲ガス通路９から供給されるＨ2 ガスによ
り、陽極１と陰極５の距離が離れた部分でアーク点が形
成されプラズマが安定するとともに、陰極５がＨ2 ガス
により冷却されその寿命が長くなる。なおこのＨ2 ガス
により溶射粉体がプラズマの中心部に寄せられるので、
溶射粉体が陽極１内周面に付着してプラズマジェットの
流れを阻害することが防止できる。
ス・溶射粉体混合路７を介して作動ガス及び溶射粉体供
給路８からプラズマ発生チャンバａへ、溶射粉体例えば
粒度分布約１０〜４０μm のＡｌ2 Ｏ3 粉体を、Ａｒガ
ス約５ l/minをキャリアガスとして約２０ g/minの流量
で供給する。プラズマに供給された溶射粉体の粒子は急
速に昇温され加速されて、高温高速のプラズマジェット
と一緒に噴出する。このときプラズマに供給される溶射
粉体はプラズマジェットの噴出方向と同一方向に供給さ
れるため、粒子の加熱，加速が均一となり、十分な緻密
度，強度及び密着性を有する高品質の溶射皮膜が形成さ
れる。また溶射粉体は作動ガス・溶射粉体の混合路７で
作動ガスとともに、ら旋状の溝ｄにより旋回され直進性
を与えられプラズマ中心に供給されるので加熱の効率が
よい。更に周囲ガス通路９から供給されるＨ2 ガスによ
り、陽極１と陰極５の距離が離れた部分でアーク点が形
成されプラズマが安定するとともに、陰極５がＨ2 ガス
により冷却されその寿命が長くなる。なおこのＨ2 ガス
により溶射粉体がプラズマの中心部に寄せられるので、
溶射粉体が陽極１内周面に付着してプラズマジェットの
流れを阻害することが防止できる。
【００２３】また金属とセラミックの混合皮膜の形成に
あたっても、２種の溶射粉体は作動ガス・溶射粉体の混
合路７で作動ガスとともに旋回され、均一に混合されか
つ直進性を与えられプラズマ中心に供給されるので、２
種の粒子の加熱，加速が均一となり、安定した混合比
率、十分な緻密度，強度及び密着性を有する高品質の溶
射皮膜が形成される。
あたっても、２種の溶射粉体は作動ガス・溶射粉体の混
合路７で作動ガスとともに旋回され、均一に混合されか
つ直進性を与えられプラズマ中心に供給されるので、２
種の粒子の加熱，加速が均一となり、安定した混合比
率、十分な緻密度，強度及び密着性を有する高品質の溶
射皮膜が形成される。
【００２４】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
安定なプラズマが得られるとともに、溶射粉体は陰極の
先端、すなわち陽極のプラズマジェット流路の基部から
プラズマに軸方向に供給されるので、効率よくかつ均一
に加熱される。従って、高品質の溶射皮膜を省エネで形
成できるとともに粒子の加熱，加速が均一化され、また
プラズマの発生が安定化され、ひいては高品質の溶射皮
膜を得ることができる。
安定なプラズマが得られるとともに、溶射粉体は陰極の
先端、すなわち陽極のプラズマジェット流路の基部から
プラズマに軸方向に供給されるので、効率よくかつ均一
に加熱される。従って、高品質の溶射皮膜を省エネで形
成できるとともに粒子の加熱，加速が均一化され、また
プラズマの発生が安定化され、ひいては高品質の溶射皮
膜を得ることができる。
【図１】本発明の一実施例の縦断面図である。
【図２】従来例の縦断面図である。
１ 陽極 ３ プラズマジェット流路 ４ 絶縁体 ５ 陰極 ６ 陰極台 ７ 作動ガス・溶射粉体の混合路 ８ 作動ガス及び溶射粉体供給路 ９ 周囲ガス通路 １０ 冷却水通路 １１ 陽極電流導入部 １２ 冷却水通路 １３ 作動ガス通路 １４ 溶射粉体通路 １５ 陰極電流導入部
Claims (1)
- 【請求項１】 基端部が拡大した径のプラズマジェット
流路を持つとともにその周囲に冷却水通路を持つ陽極
と、上記プラズマジェット流路の基端部の径とほぼ同径
の穴を持つとともに同穴の先端部に導通する周囲ガス通
路を持ち先端が上記陽極の基端に同軸に結合された絶縁
体と、同軸に作動ガス・溶射粉体混合路を持つとともに
その周囲に冷却水路を持ち前部が上記絶縁体の周囲ガス
通路近くまで同軸に密着挿入された陰極台と、同陰極台
の先端に基端が同軸に結合され外径が上記陽極のプラズ
マジェット流路の基部径よりも小さい筒形の陰極とを備
えてなることを特徴とするプラズマ溶射トーチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6307482A JPH08167497A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | プラズマ溶射トーチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6307482A JPH08167497A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | プラズマ溶射トーチ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08167497A true JPH08167497A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=17969619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6307482A Withdrawn JPH08167497A (ja) | 1994-12-12 | 1994-12-12 | プラズマ溶射トーチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08167497A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6544597B2 (en) | 2000-06-21 | 2003-04-08 | Suzuki Motor Corporation | Mixed powder thermal spraying method |
| CN105376921A (zh) * | 2015-12-11 | 2016-03-02 | 武汉科技大学 | 一种等离子加工用的内腔供粉钨针 |
| CN106269332A (zh) * | 2016-08-19 | 2017-01-04 | 四川中物红宇科技有限公司 | 等离子体喷枪 |
| CN113134205A (zh) * | 2020-01-19 | 2021-07-20 | 山东昊星洁士新材料科技有限公司 | 一种混合射流消防系统 |
| JP2025527487A (ja) * | 2023-01-10 | 2025-08-22 | コミコ リミテッド | 大気プラズマ溶射法による高密度イットリア皮膜の製造方法およびそれを用いて製造されたイットリア溶射皮膜 |
-
1994
- 1994-12-12 JP JP6307482A patent/JPH08167497A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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