JPH08168632A - ガス処理装置 - Google Patents

ガス処理装置

Info

Publication number
JPH08168632A
JPH08168632A JP7202436A JP20243695A JPH08168632A JP H08168632 A JPH08168632 A JP H08168632A JP 7202436 A JP7202436 A JP 7202436A JP 20243695 A JP20243695 A JP 20243695A JP H08168632 A JPH08168632 A JP H08168632A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
gas
treatment
treatment liquid
processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7202436A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3389372B2 (ja
Inventor
Hajime Takahashi
高橋  元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JIEKUSU KK
Original Assignee
JIEKUSU KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JIEKUSU KK filed Critical JIEKUSU KK
Priority to JP20243695A priority Critical patent/JP3389372B2/ja
Publication of JPH08168632A publication Critical patent/JPH08168632A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3389372B2 publication Critical patent/JP3389372B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】効率よくガスの処理を行うことができるガス処
理装置を提供する。 【解決手段】ガスGと液とを接触させて処理する装置1
において、液槽2に投入された処理液Wに出し入れさ
れ、この処理液Wの液面上に浮上した際、処理液Wが付
着されて表面に処理液膜を形成する液膜形成部材22を
備え、この処理液膜に前記処理液W上を通過するガスG
を接触させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガス処理装置に
関し、詳しくは、液体によるガス処理を効率よく行うこ
とができる処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、焼却炉等から発生する塩化水
素ガス等の有毒ガスは、環境及び安全の観点から脱塩化
水素処理等が施されて排出されるようになっている。例
えば、この脱塩化水素処理においては、ガスを液中に吹
き込む気泡かくはん槽が用いられる。この気泡かくはん
槽は、大きなインペラで排ガスを吸引して、処理液に排
ガスを吹き込むものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、塩化水素等を
含む腐食性の高い排ガスは、インペラの使用期間を著し
く短縮したり、高価な腐食防止処理等を施す必要がある
ため、初期コストが著しく高くなるという欠点があっ
た。また、特に、小規模な焼却炉の排ガス処理施設にお
いては、大規模なスプレー塔、濡れ壁塔等によることも
また、コスト面から困難であった。そこで、本発明は、
効率よくガスの処理を行うことができるガス処理装置を
提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記技術的課題を解決す
るため、本発明者は、液槽に満たした処理液の上方をガ
スを通過させることとし、処理液に出し入れして表面に
処理液を付着・分散させた液膜形成部材をガス通気路に
介在させることにより、あるいは、処理液に出し入れし
てガス通気路に処理液をシャワーする処理液シャワー部
材を設けることにより、処理液とガスとを接触させうる
ことを見い出し、以下の発明を完成した。
【0005】すなわち、請求項1に記載の発明は、ガス
と液とを接触させて処理する装置において、液槽に投入
された処理液に出し入れされ、この処理液の液面上に浮
上した際、処理液が付着されて表面に処理液膜を形成す
る液膜形成部材を備え、この処理液膜に前記処理液上を
通過するガスを接触させることを特徴とするガス処理装
置である。請求項2に記載の発明は、請求項1におい
て、前記液膜形成部材は、多孔体であることを特徴とす
る。請求項3に記載の発明は、ガスと液とを接触させて
処理する装置において、液槽に投入された処理液に出し
入れされ、この処理液の液面上に浮上した際、処理液を
流下あるいは放出させる処理液シャワー部材を備え、流
下あるいは放出される処理液に液槽内の処理液上を通過
するガスを接触させることを特徴とするガス処理装置で
ある。請求項4に記載の発明は、請求項1又は請求項2
において、前記液膜形成部材には、液膜形成部材の処理
液への出し入れに伴って出し入れされ、液面上に浮上し
た際、処理液を流下あるいは放出させる処理液シャワー
部材を備えたことを特徴とする。請求項5に記載の発明
は、請求項1において、前記液膜形成部材は、前記処理
液の上方で水平軸まわりに回転するとともに、回転に伴
い処理液に出し入れされるようにしたメッシュ状体であ
り、この液膜形成部材を複数個設けるとともに、各液膜
形成部材には、その液膜形成部材の回転に伴い、液面上
に浮上した液膜形成部材の表面に処理液を流下あるいは
放出させる処理液シャワー部材を備えたことを特徴とす
る。請求項6に記載の発明は、ガスと液とを接触させて
処理する装置であって、液槽に投入された処理液に出し
入れされ、この処理液の液面上に浮上した際、処理液が
付着されて表面に処理液膜を形成する液膜形成部材を備
え、この処理液膜に前記処理液上を通過するガスを接触
させて泡を発生させることを特徴とする。請求項7に記
載の発明は、請求項1、請求項2、請求項3、請求項
4、請求項5又は請求項6において、前記液槽は、前記
処理液に接触した後のガスを吹き込むバブリング槽であ
ることを特徴とする。請求項8に記載の発明は、ガスと
液とを接触させて処理する装置であって、処理液が投入
された液槽と、この処理液液面下の位置されるガス吹き
出し開口を有するガス通気管と、このガス通気管により
前記処理液に吹き込まれ液面側に移動するガスが接触し
通過するように前記処理液中に設けた多孔状の気液接触
部材と、この気液接触部材を設けた処理液の液面の上方
に設けた障壁体、とを有することを特徴とする。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
この発明は、ガスと液とを効率よく接触させ、ガスから
目的成分を溶解分離する吸収、あるいは液から可溶成分
を放出回収する放散の効率を高めるものである。ここで
吸収とは、ガス混合物中から、目的とするある成分を液
体中に溶解分離する操作をいい、例えば物理的吸収過程
は、気相と液相とを接触させ、気液界面での可溶成分の
液相への移動により生じる。また、ガス中の反応成分と
液中の反応成分の化学反応によって生成物を生じさせ分
離するものも含まれる。また、本発明は、放散にも適用
することができる。放散と吸収は物質の移動方向が異な
るのみで、気−液界面における物質移動の観点からは同
様に取り扱うことができるからである。
【0007】前記処理液とは、ガス中の成分を物理吸収
又は反応吸収する液をいい、また、ガスに放出する可溶
成分を溶解した液をいう。本発明は、この処理液に出し
入れされる液膜形成部材の表面に形成した液膜とガスと
を接触させるものである。
【0008】そして、この液膜の形成は、この液膜形成
部材の処理液への出し入れにより行われる。このため、
液膜形成部材は、処理液を付着・保持しやすく、処理液
の液膜が形成しやすい表面を有することが必要である。
また、できるだけ、ガスとの接触面積が大きいことが好
ましい。したがって、処理液が付着しやすい材質のもの
や、微細構造を有するものの他、例えば、メッシュ状
体、スリット、孔部を有する板状体等の多孔体、溝や凹
部を有するプレート等が液膜形成部材として挙げられ
る。なお、液膜形成部材が、メッシュ状体を含む多孔体
の場合には、孔部においても、孔部を塞ぐように液膜が
形成され、この部分の液膜をガスが通過・接触する場合
には、効率的に処理液とガスが接触される。
【0009】また、このような液膜形成部材で同一形状
のものを2枚以上重ねたり、あるいは異なる形状のもの
を2枚以上重ねたりして一体の液膜形成部材とすること
もできる。この液膜形成部材によれば、液膜を形成しや
すくしてガスとの接触効率(接触面積)を高めることが
できる。したがって、ガス処理量あるいは液体処理量の
スケールアップが容易である。一方、処理液において
も、液膜形成部材に処理液を付着しやすいように、粘度
等を設定することが好ましい。
【0010】このように、処理液の上方において、表面
に処理液の液膜を有する液膜形成部材に、ガスが突き当
たると、ガスと処理液とが接触され、気−液界面におい
て、溶解成分の移動、あるいは反応が生じる。液膜形成
部材とガスとの接触は、できるだけ多くのガスが液膜形
成部材と接触できるようにするのが好ましい。すなわ
ち、ガスの通気方向に対して直角に液膜形成部材を配設
することにより、浮上した液膜形成部材の表面の処理液
と、大量のガスとを短時間に効率よく接触させることが
できる。この場合、ガスの通気方向は上下であっても、
水平状であってもよいが、処理液に水面に沿って水平状
にガスの通気路を設けると、この処理液に対して出たり
入ったりする液膜形成部材を通気路に沿って、複数個並
列させるのが容易である。また、液膜形成部材の設置個
数によって、ガスと処理液との接触面積を変化させるこ
とができる。したがって、液膜形成部材を多く設けるこ
とにより、ガス等の処理量のスケールアップが可能であ
る。
【0011】また、ガスの通気路において、周囲に障壁
板を配し、通気路の外周側を通過するガスの液膜との接
触を促進することもできる。さらに、ガスの通気を遮断
する遮蔽板を設け、その遮蔽板によって、ガスの通気方
向を液膜に接触しやすいように制御して、効率よく、ガ
スを液膜形成部材の液膜と接触させることができる。例
えば、ガスの通気方向が水平状である場合、ガスの通気
方向に対して直角に、水平軸まわりに回転する遮蔽板を
配し、所定位置に配設された液膜形成部材により形成さ
れる液膜と効率よく接触させることができる。
【0012】かかる液膜形成部材の処理液への出し入れ
により、処理液液面上の液膜形成部材には、その表面に
液膜が形成され、また、処理液液面下の液膜形成部材で
は、その表面においてガスと接触した処理液が洗われ
る。このように、常に、液膜形成成部材の表面には、新
たな処理液膜が付与される。また、液膜形成部材の処理
液への出し入れは、上下往復運動、回転運動により行う
ことができる。上下往復運動による場合は、例えば、ク
ランクや連結ロッドを用いることができ、回転運動によ
る場合は、処理液面に沿って水平回転軸を設け、ベルト
やチェーン等を用いてモータにより駆動することができ
る。
【0013】前記出し入れを回転により行う場合には、
回転数の大小により、ガスと処理液膜との接触面積を調
整することが容易である。この場合、回転数を大きくし
て、ガスと処理液膜との接触面積を大きくすることによ
り、ガス処理量あるいは液体処理量のスケールアップが
容易である。
【0014】ガスと処理液とをガスの通気路において接
触させるには、他に、処理液から出し入れすることによ
り、処理液を液面上で、流下あるいは放出させる処理液
シャワー部材により、通気路において処理液によるフィ
ルターを形成して、このフィルターにガスを突き当てる
ことができる。この方法においても、処理液シャワー部
材から流下・放出される処理液に有効にガスと接触させ
るためには、ガスの通気路を障壁板等により遮断等して
ガスの通気をフィルターに接触しやすいように制御して
処理液のフィルターに接触する時間が長くなるようにす
ることが好ましい。また、処理液シャワー部材による処
理液のシャワー量を調整することにより、ガス等の処理
量スケールアップが容易である。
【0015】かかる処理液シャワー部材は、処理液への
出し入れにより、処理液を処理液の液面上に汲み上げる
ことができ、汲み上げた処理液を流下・放出させること
ができることが必要である。したがって、例えば、樋状
の容器の底部に流下孔を貫設したものが挙げられ、この
ような処理液シャワー部材を、上下動あるいは回転運動
させることにより、流下孔から、重力や遠心力により処
理液を流下・放出させ処理液の液面上のガスの通気路に
処理液をフィルター状に介在させることができる。ま
た、単に、樋状容器の開口が、回転等に伴って下方に指
向され、容器内の処理液が溢れるようにすることもでき
る。
【0016】さらに、このような処理液シャワー部材
と、液膜形成部材とを組み合わせることにより、より効
果的に、処理液をガスの通気路に介在させることができ
る。すなわち処理液シャワー部材により液膜形成部材に
処理液を流下・放出させることにより、より多くの処理
液を液膜形成部材表面上に付着させることができる。こ
の結果、ガス等の処理量のスケールアップを容易に行え
る。また、液膜表面と、処理液シャワー部材による処理
液のフィルターとの双方により目的成分が捕捉される。
この結果、ガス等の処理量のスケールアップを容易に行
える。
【0017】また、液槽内の処理液の上方の空間で処理
されたガスが、処理部の後方に設けたインペラで強制吸
引される場合は、インペラに直接接触するガスは、既に
処理液との接触により腐食性等の高い成分が低減されて
いるため、長期間安定して使用が可能であり、また、腐
食防止性等の高い素材や、腐食防止処理等を施す必要が
ないものとなっている。
【0018】さらに、インペラで強制吸引したガスを、
同じ液槽内の処理液中に吹き込むことができる。これに
よれば、確実に目的成分をガスから除去等することがで
きるとともに、特に、同一の液槽で再処理するため、ガ
ス処理装置をコンパクト化することができる。また、液
槽が一つで足りるため、処理後の液のリサイクル処理も
簡易にかつコンパクトに行うことができる。
【0019】なお、ガスと接触した処理後の液は、同じ
液槽に流下され、液槽の下方には、処理により生成した
沈殿物等が堆積される。このように、沈殿物を含んだ下
層の液を沈殿槽に自然流下され、沈殿槽で沈殿物を捕捉
できるフィルターを通過することにより、沈殿物が除去
された処理液を再び、液槽の上層に戻すことにより、処
理後の液を排出することなく、リサイクル使用すること
が容易である。これは、バブリング槽と処理槽とを1つ
の液槽により兼用するため、リサイクル液の取り出し
と、投入が容易に行えるためである。
【0020】このように、本発明では、処理液上のガス
通気路において、処理液を介在させるものである。すな
わち、処理液の液面に沿った水平状のガス通気路におい
て、ガスと処理液とを接触させるものである。したがっ
て、従来の鉛直型のガス処理装置とは異なり、処理液の
介在位置とガスの通気制御により、より一層効率的な接
触が可能となっている。一方、従来のように重力による
移動を利用しないため、強制的にガスを移送するインペ
ラ等が必要となるが、インペラの手前にこの処理液とガ
スとを接触させることにより、インペラの腐食や劣化を
防止して安定性等を確保するとができる。
【0021】本発明において、処理液に適度な粘性があ
る場合がある。例えば、処理すべきガスが塩化水素等を
含む酸性のガスであり、中和処理のための処理液がアル
カリ性である場合、処理液にグリセリンが含まれている
場合、あるいは処理液に界面活性剤が含まれている場合
等がある。かかる場合、液膜形成部材に形成された液膜
にガスが接触して、通過する際には、効率的に処理液と
ガスとが接触されるとともに、ガスの液膜の通過によ
り、ガスを含んだ処理液の泡が発生する。こうして発生
した泡は、ガスの通気路を移動する。
【0022】この泡の発生により、処理液とガスとはよ
り効率的に接触される。すなわち、泡に取り込まれたガ
スは泡の内表面で処理液と広い表面積で接触され、泡が
形成されている間は、処理液とガスとの接触が継続され
る。また、泡の外表面でもガスと処理液とは広い表面積
で接触されることになる。
【0023】発生する泡の大きさが小さいほど、泡の発
生による処理液とガスとの接触表面積は増大し、効率的
な接触が可能となる。したがって、発生する泡の大きさ
を小さくするように液膜形成部材を形成することが好ま
しい。このためには、例えば、液膜形成部材の孔部を小
さく設けたり、処理液への出し入れの回数を多くした
り、処理液の粘性を調整することができる。
【0024】また、液膜形成部材でガスを処理した後、
さらに、このガスを処理液に吹き込むことにより、ガス
と処理液との反応が十分に行われる。この処理液へのガ
スの吹き込みの際、処理液中には多くの泡が発生し、い
わゆるバブリングされることになる。このバブリングに
より、ガスは処理液とさらに十分に接触されるのである
が、処理液中のガスが処理液から再び液面上に上昇し
て、空気中に放散されようとする際、水面近くの処理液
中に気液接触部材を設け、この気液接触部材と接触し、
通過させることにより、ガスは再び、処理液と泡を形成
し、あるいは、処理液の飛沫とともに液面付近に放散さ
れる。これらの泡や飛沫は、液槽の壁面等に衝突し、泡
においては、あるいは自然に消泡され、ガスのみが空気
中に放散されていくことになる。この際、処理液とガス
とは、処理液中だけでなく、処理液の液面に近接した液
面上方でも、効率よく接触されることになる。
【0025】この気液接触部材は、多孔状であればよ
く、孔を有する板状体や、メッシュ状体等を用いること
ができる。気液接触部材は、処理液に吹き込まれたガス
が空気中に放散されようとする際に接触、通過できるよ
う、処理液水面近くに設けることが好ましいが、処理液
にガスを吹き込むための通気管の形状やその他の事情を
考慮して適切な位置に設けることができる。
【0026】さらに、特に、これらの泡や飛沫が指向す
る位置に、障壁体を設けることにより、これらの泡や飛
沫をこの障壁体に衝突させて泡を消泡させ、飛沫を付着
させ、障壁体の表面を処理液で濡らすことにより、処理
液の液面とこの障壁体の間で十分に処理液と接触して処
理されたガスのみを空気中へと放散させることができ
る。
【0027】また、障壁体は、水面付近で発生した泡や
飛沫を衝突させることができる形状であればよく、単な
る板状体の他、凹凸や、凹部を有する板状体、多孔体、
網状体等とすることができる。また、障壁体は、水面付
近で発生した泡や飛沫を効率よく衝突させることができ
る位置に設けることが好ましく、処理槽の形状や、排気
口の位置等を考慮して適切な位置に設けることができ
る。具体的には、処理液の液面に沿って平行に設けた
り、ガスの排気口付近に、ガスの排気される方向に、ガ
スが突き当たるように設けるこもできる。
【0028】
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、ガスの
通気路において、液膜形成部材表面において効率的にガ
スと処理液とを接触させることができる。したがって、
短い通気路においても、ガスから効果的に目的成分が溶
解分離され、また液から可溶成分がガスに放散される。
請求項2に記載の発明によれば、液膜形成部材が多孔体
であるため、孔部に形成された液膜をガスが通過するこ
とにより、より効率的にガスと処理液とが接触される。
請求項3に記載の発明によれば、処理液シャワー部材に
より、ガスの通気路において処理液のフィルターを形成
するため、ガスと処理液と効率的に接触させることがで
きる。請求項4に記載の発明によれば、液膜形成部材及
び処理液シャワー部材とにより、ガス通気路において処
理液を介在させることができるため、より多くの処理液
とガスとを接触させることができる。請求項5に記載の
発明によれば、液膜形成部材がメッシュ状体であり、メ
ッシュ孔部に液膜が形成されるとともに、この液膜に対
して、処理液シャワー部材により、処理液がさらに付着
されるため、液膜を通過しようとするガスと処理液との
接触が効率的に行われる。請求項6に記載の発明によれ
ば、泡の発生により、より効率的にガスと処理液とを接
触させることができる。請求項7に記載の発明によれ
ば、処理液と接触した後のガスを同一の液槽をバブリン
グ槽として使用し、この処理液中に吹き込むため、ガス
から確実に目的成分を吸収し、またガスに目的成分を放
散することができるとともに、処理装置の全体をコンパ
クト化することができる。請求項8に記載の発明によれ
ば、処理液中への気液接触部材の設置により、ガスが液
面上に放散される際、この気液接触部材と接触、通過し
て、処理液が泡状あるいは飛沫状になるために、液面上
でも、効率よく処理液とガスとが接触される。さらに、
この気液接触部材を設けた処理液の液面上に障壁体を設
けたことにより、泡や飛沫となった処理液が障壁体に接
触して、消泡され、さらには付着されることにより、処
理液の液面と障壁体との間で、ガスと処理液との接触が
促進される。
【0029】
【実施例】
(実施例1)以下に、本発明の一実施例を図1ないし図
4に基づいて説明する。図1には、本発明を具現化した
ガス処理装置1内を側方視した場合のガスの通気状態が
示され、図2には、この装置1全体における通気状態を
上視した図が示されている。この装置1は、液槽2と、
処理室8と、吸引部26とから形成されている。
【0030】液槽2は、上方に開口した大きな容器状に
形成されており、内部には、処理液Wが所定の高さまで
投入されている。液槽2の処理液Wは、リサイクル可能
に、底部付近に設けた排出口(図示せず)から、排出可
能となっている。一方、液槽2の上方には、リサイクル
され、使用可能となった処理液Wを投入するための供給
口(図示せず)も形成されている。
【0031】図2に示すように、このように形成された
液槽2の上方の一部は、液槽2の幅とほぼ同様の長さの
略半円筒形のドーム6により、覆われて、処理室8が形
成されている。この処理室8は、処理しようとするガス
Gを導入して通気させる通気路10を形成し、この通気
路10においてガスGと処理液Wとを接触させるための
ものである。処理室8を形成するドーム6の一側の上方
には、ガスを導入するためのガス供給口12が上方に開
口されている。このガス供給口12には、排ガスを発生
する装置からのガスGが導入されるようになっている。
【0032】ドーム6の内壁には、ほぼ等間隔で内壁に
沿ってリング状の障壁14がガスGの通気方向に沿って
複数個形成されている。この障壁14は、ガス通路10
内のガスGを処理室8に滞留させて、処理液Wによる捕
捉の効果を高めるために形成されている。処理室8の中
央部には、ドーム6の軸方向に沿って水平状の回転軸1
6が貫通されており、この回転軸16は、図示しない駆
動部に連結され、処理液Wの水面より上方で回転される
ようになっている。
【0033】この回転軸16には、図3に示すように、
放射状に4個の処理液シャワー部材18を有する羽根車
17が、各障壁14の間に納まるような位置に取り付け
られている。羽根車17に設けた4個の処理液シャワー
部材18は、回転軸16の回転により、液槽2内の処理
液Wへの浸漬と、処理液Wからの浮上を交互に繰り返す
ように形成されている。この処理液シャワー部材18
は、処理液Wに浸漬され浮上される際に、処理液Wを処
理液W上のガス通気路10に汲み上げられるように樋状
に形成されている。
【0034】すなわち、図3に示すように、各処理液シ
ャワー部材18は、回転方向に開口する断面略コの字状
の樋状に形成されている。また、樋状部18aの底部1
9には、樋状部18a内に汲み上げた処理液Wを樋状部
18aの開口が下方に向いて開口から処理液Wを流下さ
せる前に、徐々に流下・放出させることができるよう
に、スリット状の流下孔20が開口されている。この流
下孔20により、処理液Wの水面上に処理液シャワー部
材18が浮上すると同時に、重力により樋状部18aの
底部19から、処理液Wの流下が可能となり、また、遠
心力によって流下孔20から、処理液Wが放出される。
すなわち、この処理液シャワー部材18により、ガス通
路10に処理液Wが介在されることになる。
【0035】このように形成した処理液シャワー部材1
8の裏側、すなわちガスGの吸引側には、処理液シャワ
ー部材18に一体に、通気されるガスGが突き当たるよ
うに、軸方向に垂直に設けられた液膜形成部材22が形
成されている。この液膜形成部材22は、金属製で、処
理液シャワー部材18の長さをほぼ半径とする円形状の
メッシュ状体であり、水平軸16の回転により、処理液
Wに出し入れされ、処理液W面上の浮上した際には、そ
のメッシュ部22aに、処理液Wを付着・保持して、孔
部に液膜を形成するようになっている。
【0036】さらに、このメッシュ部22aには、樋状
部18aの流下孔20から流下等させられる処理液Wを
受け止めて、一時的に処理液Wを液膜としてガス通路1
0に保持することができるようになっている。
【0037】このように、本実施例において、液膜形成
部材22は、其自体の処理液Wへの出し入れで表面に処
理液Wの液膜を形成するのみならず、樋状部18aによ
り汲み上げられ、流下放出させた処理液Wを、そのまま
液槽2内に落下させるのでなく、ガス通気路10に保持
して、ガスGと処理液Wとの接触の機会をより多く確保
するためのものである。
【0038】したがって、液膜形成部材22の形態とし
ては、樋状部18aの流下孔20から処理液Wを付着保
持しやすく、またガスGとの接触面積が大きい方が好ま
しい。一方、反応によりガスGを捕捉した処理液Wが、
再び、液槽2内の処理液Wに浸漬される場合には、速や
かに、液槽2内の処理液Wで洗われるような形態のもの
が好ましい。このような液膜形成部材の形態としては、
例えばメッシュ状、スリット状等の多孔板、小さな凹部
を形成した板状、細長い溝部を形成した板状等がある。
【0039】このように液膜形成部材22と処理液シャ
ワー部材18とにより形成された羽根車17が、複数
個、ドーム6の内壁の障壁14間に設けられている。さ
らに、図2に示すように、ガスGの吸引先には、ガスG
をバブリングするために液槽2の反対側に移送するため
の吸引部26が設けられている。
【0040】吸引部26は、ガスGを液槽2の処理室8
の反対側に移送するためのパイプ27と、そのパイプ2
7の一部に設けられ、ガス供給口12から導入されるガ
スGを強制的に吸引して、ガス通路10を通過させ、処
理液Wにバブリングさせるためのインペラ28とから形
成されている。パイプ27の先端は、液槽2の処理液W
の水面下に位置されて、インペラ28により吸引された
ガスGを処理液W内にバブリングさせることができるよ
うになっている。
【0041】次に、このように形成した装置1により、
塩化水素を含む排ガスを処理する工程について説明す
る。まず、図示しない反応装置において発生したガスG
は、ガス供給口12を通じて、処理室8内に導入され
る。ガスGは、図2に示す処理室8の先にあるインペラ
28に強制吸気されて、処理室8を介して間接的に導入
される。すなわち、多量に腐食性の高いガスGを直接吸
入するものではないため、インペラ28の腐食は低減さ
れ、長期間使用できるようになるとともに、腐食防止の
ためのコストを低減することができる。
【0042】処理室8内に導入されたガスGは、障壁1
4に突き当たりながら、ゆっくりと処理室8内を移送さ
れる。すなわち、図4に示すように、回転軸16を所定
回転数に駆動させ、液膜形成部材22と処理液シャワー
部材18とを所定の方向に回転させることにより、樋状
部18aにより、処理室8内のガス通気路10に処理液
Gが汲み上げられ、流下孔20からガス通気路10に流
下・放出されるとともに、流下等させられた処理液W
は、液膜形成部材22の表面に拡散され付着される。そ
して、処理液Wは、直接、あるいは液膜形成部材22の
表面でガスGと接触し、ガスGを捕捉して状態で、再
び、液槽2内の処理液Wに浸されて洗われ、捕捉された
ガス成分は、液槽2内に蓄積されていく。
【0043】このようにして、複数枚の処理液シャワー
部材18と液膜形成部材22に突き当たり、また通過し
て、ガスGから塩化水素が処理液Wに捕捉されていく。
本実施例においては、液膜形成部材22をメッシュ状体
としたため、流下・放出せられた処理液Wは、メッシュ
状体の孔部や棒状部に保持され、また、ガスGは、この
孔部を通過可能であるため、処理液WがガスGの通路に
多く存在されて、ガスGとの接触機会が多くなり、保持
された処理液Wの界面における目的成分の捕捉率を高め
ることができる。
【0044】そして、処理液Wと接触後のガスGは、同
じ液槽2内にバブリングさせられることにより、ガスG
から完全に、目的成分を除去することができる。
【0045】このようにして、ガスGから目的成分が除
去されるが、処理液W内において蓄積された反応生成物
は、液槽2の下方に沈下していくことになる。したがっ
て、反応生成物を含む液槽2の下方の液を排出口により
自然流下により排出して、沈殿槽に導き、沈殿槽内のフ
ィルターを通過させるとにより、反応生成物を除去した
処理液を再び、圧送ポンプで液槽2内に戻して、処理液
Wはリサイクルされる。
【0046】このように、本装置1においては、処理液
Wも排出されることなく、かつ液槽2が一つであるため
に、処理液Wを簡易にかつ有効にリサイクルできるもの
となっている。
【0047】なお、本実施例については、液膜形成部材
と処理液シャワー部材とを併せて有する装置について説
明したが、本発明はこれに限定するものでなく、液膜形
成部材のみを処理室内に有する装置であっても、また、
処理液シャワー部材のみを処理室内に有する装置であっ
ても、効率的にガス通気路において、ガスGと処理液W
とを接触させることができる。
【0048】また、図5に示すように、水平軸まわりに
回転する羽根車30を、液膜形成部材32としての、例
えばメッシュ状体と、遮蔽体34とから設けることもで
きる。この場合、液膜形成部材32をガスGの通気方向
に対して直角に設けることなく、液膜形表面32aをガ
ス通気方向に沿って設けられている。すなわち、液膜形
成部材32とともに水平軸まわりに回転する遮蔽体34
に、ガスGが突き当たるようにし、ガスGの通気を液膜
形成部材32の表面32aに指向させることにより、処
理液WとガスGとを効率的に接触させることができる。
加えて、遮蔽体34の外周の一部に側部35を設けるこ
とにより、この側部35が、遮蔽体34に突き当たった
ガスGを有効に表面32aに指向させるようになってい
る。また、処理液Wを汲み上げて液膜形成部材32に流
下するようにすることで、有効に処理液Wの液膜が形成
されるようになっている。なお、この図に示す場合、遮
蔽体34表面においても処理液Wが付着され、この表面
においてもガスGと処理液とが接触されるようになって
いる。したがって、この遮蔽体34をガスGの通気を遮
蔽するとともに、液膜を効果的に形成可能に設けること
により、液膜形成部材32としても効果的に機能させる
ことができる。
【0049】さらに、図6に示すように、実施例1と同
様の処理液シャワー部材38とこの処理液シャワー部材
38を前後に挟むようにして設けた各4枚の遮蔽部材4
1、43とからなる遮蔽体40、42とから羽根車36
が形成されている。このように設けた羽根車36を、処
理液上のガス通気路において、水平軸まわりに回転させ
て、前後の遮蔽体40、42との間に、処理液Wのシャ
ワーによるフィルターを形成する。一方、前後の遮蔽体
40、42により、これらの遮蔽体40、42間で、ガ
スGの通路を図6に示すように屈曲させて、処理液Wの
シャワーと接触する区間を長く設けるようにして、捕捉
の効率化を図っている。また、各遮蔽体40、42表面
においても処理液WとガスGとは接触され、遮蔽体4
0、42は、液膜処理部材としても機能も併せ有してい
るといえる。したがって、この遮蔽体40、42の表面
を、遮蔽体としての機能を保持させつつ、液膜の形成に
適するように設けることにより、より一層処理液Wとガ
スGとの接触の効率化を図るとができる。
【0050】また、上述の液膜形成部材22及び処理液
シャワー部材18は、ともに、回転運動に伴った処理液
Wに出し入れされるものであったが、本発明はこれに限
るものではない。単に、シリンダ等により処理液Wの水
面を上下する樋状容器であって、底部に流下孔を設けた
処理液シャワー部材でもよく、同様に、処理液Wの水面
を単に上下することにより、液膜を表面に形成できる多
孔体であってもよい。
【0051】また、液膜形成部材を回転運動に伴って処
理液Wに出し入れする場合には、周速の関係上、液膜形
成部材の中心部に近くなるのに従い、回転速度が遅くな
り、この部分がガスが通過しやすい状態となり、ガス通
過量が多くなる。したがって、ガスと処理液との接触を
均一化するために、液膜形成部材の回転運動の中心部付
近において、外周側よりも、接触面積を大きくなるよう
にすることが好ましい。すなわち、液膜形成部材の回転
運動の中心部付近において、外周側よりも、より孔部が
小さくなるように、あるいは孔部が多くなるようにする
ことができる。例えば、図7(a)に示すように放射状
の網状体の液膜形成部材50としたり、図7(b)に示
すように、網状体の中心部に、さらに別の網状体52a
を当てた液膜形成部材52としたりすることができる。
なお、これらの液膜形成部材50、52にも、シャワー
部材を備えることが可能である。
【0052】さらに、シャワー部材60は、図8に示す
ように構成することもできる。このシャワー部材60に
よって液膜形成部材62の表面に供給される処理液Wに
より、液膜形成部材62のガスG等による腐食が抑制さ
れる。特に、このシャワー部材60により供給される処
理液Wが、ガスGとの接触が行われている液槽2から直
接供給されているものではなく、一旦沈殿槽を経ている
等、他の液槽を介して処理液Wである場合には、ガスG
との接触が行われている液槽2中の処理液Wの冷却作用
も奏する。
【0053】また、処理室8内での処理液WとガスGと
の接触をさらに効率よく行うためには、処理室8の内壁
面を利用することができる。例えば、図9に示すよう
に、処理室8の内壁面を処理液Wで濡らすように、内壁
面に沿って処理液Wを供給し、流下させることのできる
手段を設けることができる。この手段は、処理室8の内
壁面に沿ってパイプ70を設け、このパイプ70に処理
液Wを流通させるとともに、パイプ70に設けた流下孔
から、処理液Wを内壁に沿って流下させようとするもの
である。これにより、処理室8の内壁面においてもガス
Gと処理液Wとが接触されるようになるとともに、内壁
面のガスGによる腐食も防止することができるようにな
る。
【0054】(実施例2)次に、本発明を具現化したさ
らに一つの実施例について説明する。本実施例のガス処
理装置90は、実施例1とほぼ同様であるが、羽根車8
0がメッシュ状の液膜形成部材82のみから形成され、
シャワー部材を備えていない点、及び処理室108を通
過したガスGを処理室108の反対側の液槽102の部
分、すなわち、ガスGにより処理液Wをバブリングさせ
るバブリング部100に、気液接触部材120及び障壁
体140を備える点で異なっている。
【0055】図10に示すように、本実施例の処理室1
08においては、羽根車80が、図3に示す実施例1の
液膜形成部材22と同様のメッシュ状の液膜形成部材8
2からなり、シャワー部材を備えていない点のみが実施
例1と異なっており、他部分の構成は、実施例1と同様
であり、処理室108を通過したガスGは、パイプ11
0及びインペラ112により、バブリング部100に送
られるようになっている。
【0056】また、本実施例では、図11に示すよう
に、処理室108の反対側のバブリング部100におい
て、処理液W中で開口するパイプ110の先端よりも上
方の液面に近接した液面下に、液面に沿ってメッシュ状
の気液接触部材120が設けられている。気液接触部材
120は、本実施例では、金属製のメッシュ状体である
が、ガスGが通過できる孔部を有するものであればよ
く、金属板体に多数の孔を開口させたものであってもよ
い。気液接触部材120は、図示はしないが、この気液
接触部材120は、脚部により液槽の底面に立設されて
いても、あるいはブラケットによって、液槽102の壁
面に固定されることにより、液面に沿って配設されてい
てもよい。この気液接触部材120は、本実施例では、
バブリンブ部100の液面のほぼ全域にわたって配置さ
れているが、これに限定するものではなく、特に、ガス
Gが液面上に抜けやすい部分にのみ設けることもでき
る。さらに、液面に対して必ずしも平行に設ける必要も
なく、液面に対して斜状に設けることもできる。
【0057】次に、障壁体140は、この気液接触部材
120を液面を挟んで覆うように設けられている。すな
わち、気液接触部材120が設けられた液面の上方に液
面にほぼ平行にかつ近接した状態で設置されている。こ
の障壁体140は、本実施例では、金属製の板体からな
り、気液接触部材120よりもやや小形状に形成されて
いる(図12参照)。
【0058】次に、このように処理室108及びバブリ
ング部100を設けたガス処置装置における塩化水素含
有排ガスの処理について説明する。図10に示すよう
に、本実施例においても、実施例1と同様に、ガスG
は、処理室108上方のガス供給口92から処理室10
8内に導入され、複数連設された羽根車80を強制的に
通過する。各羽根車80は、実施例1と同様に、回転に
より、処理液Wに出し入れされ、処理液W上に浮上して
いる液膜形成部材82のメッシュには、処理液Wの膜が
形成される。
【0059】そして、処理室108に導入されたガスG
は、この液膜を通過することにより、処理室108を通
過する。ここに、本実施例では、実施例1と同様に、ア
ルカリ性の処理液Wでしかも粘性を付与するべくグリセ
リンが配合されているため、この液膜をガスGが通過す
ると、処理液Wの泡Bが発生する。しかも、本実施例で
は、シャワー部材を備えていないため、発生した泡B
は、シャワー部材のまく処理液により消泡されることな
くそのまま維持され、あるいは消泡と発生を繰り返しな
がら、処理室108内を移動される(図10参照)。
【0060】この処理液Wの泡Bの発生により、泡中に
おいても、ガスGと処理液Wは接触され、また、泡Bの
外表面においても、ガスGと処理液Wは接触されるた
め、泡Bの存在により、処理室108を、常に、ガスG
と処理液Wとが接触状態を維持しながら、移動されると
いう状態が形成される。また、泡Bが消泡と発生を繰り
返しながら処理室108に存在されることは、処理室1
08の処理液W上の空間において処理液Wが高濃度で存
在することであり、この結果、ガスGと処理液Wとの効
率よい接触が達成される。
【0061】さらに、図11に示すように、パイプ11
0を通じて、インペラ112により吸引されたガスG
は、バブリング部100に吹き込まれる。この際、パイ
プ110の吹き出し開口110aは、処理液Wの液面よ
り下の位置にあるため、ガスGは、吹き込みの際、確実
に処理液Wと接触される。そして、このガスGは、本実
施例においては、処理液Wとの溶解性及び比重等との関
係から、処理液Wの液面側に浮上し、液面に近接した位
置において、気液接触部材120に接触する。気液接触
部材120とガスGとの接触により、液面では、処理液
Wの泡あるいは飛沫が発生する。この泡あるいは飛沫
は、さらに、その上方にある障壁体140の下面に衝突
され、その結果、障壁体140の下面側には常に、処理
液Wが付着した状態が形成される。そして、ガスGが、
この障壁体140の下面に沿って側方に移動していく
間、この液面と障壁体140の下面との間でガスGは効
率よく処理液Wと接触されることになる。
【0062】次いで、この障壁体140の側方まで移動
したガスGは、さらに、上方へと開口部150を指向し
て移動し、煙突等を介して大気中に放出される。
【0063】このようにして、本実施例のガス処理装置
においては、ガスGは、処理室108及びバブリング部
100において処理液Wとの接触が繰り返されている。
したがって、充分に処理がされたガスGを放出すること
ができる。さらに、処理液Wが泡Bの状態で、処理室1
08やパイプ110をガスが移動されることは、これら
の内部のガスGによる腐食が有効に防止されることにも
なり、装置の寿命や、腐食防止のための処理にかかるコ
スト及び腐食を受けにくい材料を使用することによるコ
ストアップを排除することができる。
【0064】なお、本実施例では、障壁体140を処理
液Wの液面に沿って平行に設けたが、本発明はこれに限
定するものではい。すなわち、図12に示すように、障
壁体140を処理液Wの液面から出る泡や飛沫が接触で
きるように、バブリング部110内に斜め状に設けるこ
ともできる。かかる障壁体140の設置位置や形状、大
きさは、バブリング部100の形状や、開口部150の
位置や形状等によって適宜選択することができる。
【0065】(実施例3)次に、本発明を具現化したさ
らに一つの実施例について説明する。図13には、本発
明を具現化したガス処理装置200を側方視図が示され
ている。この処理装置200は、処理室210を主体と
して構成され、処理室210を通過したガスGは、その
後、さらに図示しないバブリング槽にて処理される。
【0066】この処理室210は実施例1と同様に、バ
ブリング槽と兼用する液槽211の上方の一部を略半円
筒形のドーム212で覆われて形成されている。この結
果、処理室210では、処理液Wの液面に沿って処理し
ようとするガスGの通気路214が形成されている。こ
の通気路214には、液面に沿って水平状の1本の回転
軸216が取り付けられ、この回転軸216は図示しな
い駆動部に連結され、処理液Wの液面より上方で回転さ
れるようになっている。また、この処理室210を形成
するドーム212の一側の上方には、ガスGを導入する
ためのガス供給口218が開口され、また他方には、ガ
スGの排出口220が開口されている。
【0067】このガス供給口218の付近の処理室21
0内には、半分が処理液Wに浸漬状態となっている回転
羽根230が取り付けられている。この回転羽根230
は、3枚の大きな板状翼232から形成されており、そ
れぞれの板状翼232は、回転軸216の下方側に位置
した際には、処理液Wに浸漬され、処理液Wで洗われる
ようになっている。そして、回転軸216の回転によ
り、処理液Wを処理室210内に液滴状にはね上げるよ
うになっている。
【0068】ドーム212の内壁には、ほぼ等間隔でリ
ング状の障壁240が通気路214に沿って6個形成さ
れている。この障壁240は、通気路214に対してほ
ぼ直角状となるように形成されている。
【0069】さらに、この障壁240間には、回転軸2
16に取り付けられた羽根車250が5個取り付けられ
ている。この羽根車250は、本発明における液膜形成
部材であり、2枚の網状体252、254が重ねられて
一体となって形成されている。網状体252の方が網状
体254よりも大きい外形の円盤状に形成されており、
また、網状体254のメッシュは、網状体252のメッ
シュよりも小さいサイズに形成されている。このような
網状体252、254を重ねて液膜形成部材が構成され
ていると、液膜形成部材の中心側において、液膜を保持
する能力が高まっている。
【0070】この羽根車250も、回転軸216の回転
により、処理液Wへの浸漬と処理液Wからの浮上とを交
互に繰り返すように形成されている。
【0071】さらに、本実施例においては、これらの羽
根車250のそれぞれに対して処理液Wを吹き付けるシ
ャワー部材260が設けられている。このシャワー部材
260は、ドーム212の内壁の天井部分に固定して取
り付けられ、シャワー部材260から放出された処理液
Wが、処理液Wから浮上した網状体252、254に処
理液Wが吹きかかるようになっている。なお、このシャ
ワー部材260に供給される処理液Wは、図示しないポ
ンプ等により液槽から導入されるようになっている。
【0072】次に、このように形成した処理装置200
により、ガスGを処理する工程について説明する。ガス
供給口218から処理室210に導入されたガスGは、
まず、回転羽根230により、通気路214内に巻き上
げられた処理液Wの液滴と接触、あるいは、回転翼23
2の表面を濡らした処理液Wと接触する。そして、この
接触により、ガスは処理液Wによって処理される。
【0073】また、この回転羽根230により、処理液
Wの液滴が通気路214内に巻き上げられて、ドーム2
12の内壁を付着して濡らすことにより、このガス供給
口218付近のドーム212内壁の腐食等を防止でき
る。さらに、この回転羽根230により、羽根車250
の網状体252、254において処理液WとガスGとの
接触に先んじて、ガスGと処理液Wとを接触させること
ができるので、より効率的なガスG等の処理が可能とな
り、ガスG等の処理量のスケールアップも容易となる。
【0074】次に、ガスGは、そのまま、あるいは障壁
240に突き当たった後に、回転する網状体252、2
54を通過する際、その表面の処理液Wと接触する。こ
の場合の処理液は、各網状体252、254のメッシュ
で液膜を形成し、あるいは、シャワー部材260によ
り、常に、網状体252、254に付着した状態となっ
ている。
【0075】この処理装置200では、特に、網状体2
52、254が重ねられている上に、網状体254のメ
ッシュが細かく形成されているため、液膜形成部材の中
心側における処理液Wの存在量が多くなっており、外周
側に比べて、処理液Wに浸漬される面積や時間が少ない
一方、ガスGの通過量の多い中心側において、効果的に
ガスGと処理液Wとを接触させてガスGを処理すること
ができる。
【0076】このようにして、回転羽根230に接触
し、羽根車250の網状体252、254を通過したガ
スGは、処理液Wと泡を形成した状態、あるいはガスG
の状態でガス排出口220から排出される。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の装置の処理室でのガスの処理状態を
示した図である。
【図2】実施例1の装置の全体におけるガスの処理状態
を示した図である。
【図3】実施例1の装置の処理室内に配した液膜形成部
材と処理液シャワー部材とからなる羽根車を示した図で
ある。
【図4】実施例1の羽根車におけるガスと処理液との接
触状態を示す図である。
【図5】実施例1以外の羽根車の例を示す図である。
【図6】実施例1以外の羽根車の例を示す図である。
【図7】実施例1以外の液膜形成部材の例を示す図であ
る。
【図8】実施例1以外のシャワー部材を例を示す図であ
る。
【図9】処理室の内壁面を処理液で濡らすための手段の
一例を示した図である。
【図10】実施例2における処理室でのガスの処理状態
を示した図である。
【図11】実施例2のバブリング部の内部を側面視した
図である。
【図12】障壁体の設置位置の他の例を示した図であ
る。
【図13】実施例3の処理室でのガスの処理状態を示し
た図である。
【符号の説明】
1、90、200 ガス処理装置 2、102、211 液槽 22、82、250 液膜形成部材 G ガス W 処理液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01D 53/68

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ガスと液とを接触させて処理する装置にお
    いて、 液槽に投入された処理液に出し入れされ、この処理液の
    液面上に浮上した際、処理液が付着されて表面に処理液
    膜を形成する液膜形成部材を備え、 この処理液膜に前記処理液上を通過するガスを接触させ
    ることを特徴とするガス処理装置。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記液膜形成部材は、
    多孔体であることを特徴とするガス処理装置。
  3. 【請求項3】ガスと液とを接触させて処理する装置にお
    いて、 液槽に投入された処理液に出し入れされ、この処理液の
    液面上に浮上した際、処理液を流下あるいは放出させる
    処理液シャワー部材を備え、 流下あるいは放出される処理液に液槽内の処理液上を通
    過するガスを接触させることを特徴とするガス処理装
    置。
  4. 【請求項4】請求項1又は請求項2において、前記液膜
    形成部材には、液膜形成部材の前記処理液への出し入れ
    に伴って出し入れされ、液面上に浮上した際、処理液を
    流下あるいは放出させる処理液シャワー部材を備えたこ
    とを特徴とするガス処理装置。
  5. 【請求項5】請求項1において、前記液膜形成部材は、
    前記処理液の上方で水平軸まわりに回転するとともに、
    回転に伴い処理液に出し入れされるようにしたメッシュ
    状体であり、 この液膜形成部材を複数個設けるとともに、各液膜形成
    部材には、その液膜形成部材の回転に伴って出し入れさ
    れ、液面上に浮上した液膜形成部材の表面に処理液を流
    下あるいは放出させる処理液シャワー部材を備えたこと
    を特徴とするガス処理装置。
  6. 【請求項6】ガスと液とを接触させて処理する装置にお
    いて、 液槽に投入された処理液に出し入れされ、この処理液の
    液面上に浮上した際、処理液が付着されて表面に処理液
    膜を形成する液膜形成部材を備え、 この処理液膜に前記処理液上を通過するガスを接触させ
    て泡を発生させることを特徴とするガス処理装置。
  7. 【請求項7】請求項1、請求項2、請求項3、請求項
    4、請求項5又は請求項6において、前記液槽は、前記
    処理液に接触した後のガスを吹き込むバブリング槽であ
    ることを特徴とするガス処理装置。
  8. 【請求項8】ガスと液とを接触させて処理する装置であ
    って、 処理液が投入された液槽室と、 この処理液液面下の位置されるガス吹き出し開口を有す
    るガス通気管と、 このガス通気管により前記処理液に吹き込まれ液面側に
    移動するガスが接触し通過するように前記処理液中に設
    けた多孔状の気液接触部材と、 この気液接触部材を設けた処理液の液面の上方の処理室
    内に設けた障壁体、とを有することを特徴とするガス処
    理装置。
JP20243695A 1994-10-17 1995-08-08 ガス処理装置 Expired - Fee Related JP3389372B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20243695A JP3389372B2 (ja) 1994-10-17 1995-08-08 ガス処理装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6-250635 1994-10-17
JP25063594 1994-10-17
JP20243695A JP3389372B2 (ja) 1994-10-17 1995-08-08 ガス処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08168632A true JPH08168632A (ja) 1996-07-02
JP3389372B2 JP3389372B2 (ja) 2003-03-24

Family

ID=26513373

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20243695A Expired - Fee Related JP3389372B2 (ja) 1994-10-17 1995-08-08 ガス処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3389372B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007175617A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Morihiro Saito 焼却炉排気ガス浄化方法、及び焼却炉排気ガス浄化装置
JP2013022092A (ja) * 2011-07-16 2013-02-04 Yoshimi Shinoda 気液接触型空気洗浄器
WO2017073005A1 (ja) * 2015-10-28 2017-05-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 空気浄化装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4730079U (ja) * 1971-04-30 1972-12-05
JPS4883075A (ja) * 1972-01-26 1973-11-06
JPS5656218A (en) * 1979-10-12 1981-05-18 Toyobo Co Ltd Deodorizing apparatus
JPS6266725U (ja) * 1985-10-14 1987-04-25

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4730079U (ja) * 1971-04-30 1972-12-05
JPS4883075A (ja) * 1972-01-26 1973-11-06
JPS5656218A (en) * 1979-10-12 1981-05-18 Toyobo Co Ltd Deodorizing apparatus
JPS6266725U (ja) * 1985-10-14 1987-04-25

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007175617A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Morihiro Saito 焼却炉排気ガス浄化方法、及び焼却炉排気ガス浄化装置
JP2013022092A (ja) * 2011-07-16 2013-02-04 Yoshimi Shinoda 気液接触型空気洗浄器
WO2017073005A1 (ja) * 2015-10-28 2017-05-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 空気浄化装置
JP2017080099A (ja) * 2015-10-28 2017-05-18 パナソニックIpマネジメント株式会社 空気浄化装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3389372B2 (ja) 2003-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6391094B2 (en) Method and apparatus for removing gas from drilling mud
CN1021020C (zh) 处理含有灰尘和化学污染物的废气的方法与设备
JP3372246B2 (ja) ダイオキシンなどの,有害物質が含まれる有害ガスの浄化方法及び装置
US20110259196A1 (en) Gaseous effluent treatment apparatus
JP3389372B2 (ja) ガス処理装置
CN108067093A (zh) 空气接触式药液除臭装置
US6521027B1 (en) Air cleaner
KR102027895B1 (ko) 진공압을 이용한 와류형 기액 혼합식 스크러버 장치
WO1999020374A1 (en) Method and apparatus for processing exhaust gas of semiconductor fabrication
JP3945569B2 (ja) 現像装置
JP4128833B2 (ja) 汚染水及び有機排ガスの処理方法とその処理システム
KR200333254Y1 (ko) 이중 다공판 세트 부착형 다공판식 스크러버
KR101979002B1 (ko) 유해가스 분진 제거장치
JP2001009229A (ja) 塵埃除去装置
JP2003047952A (ja) 地下水浄化装置及び地下水浄化方法
JPH08182948A (ja) 塗料回収、分解装置
KR102533107B1 (ko) 반응형 탈취처리시스템
JPS6362527A (ja) 汚染ガスの洗浄装置
CN211753815U (zh) 一种微波诱导活性炭吸附蒸汽脱附硫化氢脱除装置
CN111282378B (zh) 一种淋洗设备及淋洗方法
JP3142880B2 (ja) 液体精製用の反応装置のバッフル
KR100350958B1 (ko) 거품에 의한 배기가스처리장치
JPH07148414A (ja) 有害ガスの無害化方法および装置
JP2002102649A (ja) ガス処理方法及びガス処理装置
KR200213645Y1 (ko) 거품에 의한 배기가스처리장치

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees